JP2885205B2 - 磁気記録媒体用潤滑剤並びにこれを用いた磁気記録媒体及び磁気記録装置 - Google Patents
磁気記録媒体用潤滑剤並びにこれを用いた磁気記録媒体及び磁気記録装置Info
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- JP2885205B2 JP2885205B2 JP30562996A JP30562996A JP2885205B2 JP 2885205 B2 JP2885205 B2 JP 2885205B2 JP 30562996 A JP30562996 A JP 30562996A JP 30562996 A JP30562996 A JP 30562996A JP 2885205 B2 JP2885205 B2 JP 2885205B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、パーフルオロポ
リエーテル系化合物からなる磁気記録媒体用潤滑剤（以
下、単に「潤滑剤」という。）、並びにこれを用いた磁
気記録媒体及び磁気記録装置に関するものである。
リエーテル系化合物からなる磁気記録媒体用潤滑剤（以
下、単に「潤滑剤」という。）、並びにこれを用いた磁
気記録媒体及び磁気記録装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、ハードディスク装置においては、
装置全体の小型化及び記録容量の増大化への要求が顕著
になるに伴い、高記録密度化を目指した技術開発が進め
られている。ヘッド・ディスク系では、ヘッドとディス
クとの距離をより短縮する、又はディスクをより高速で
回転させることにより、高記録密度化が達成される。こ
のため、ヘッドを搭載しているスライダーとディスクと
の高速接触確率が増加することにより、その結果潤滑剤
が劣化して種々の障害が誘発される問題が顕在化してき
た。
装置全体の小型化及び記録容量の増大化への要求が顕著
になるに伴い、高記録密度化を目指した技術開発が進め
られている。ヘッド・ディスク系では、ヘッドとディス
クとの距離をより短縮する、又はディスクをより高速で
回転させることにより、高記録密度化が達成される。こ
のため、ヘッドを搭載しているスライダーとディスクと
の高速接触確率が増加することにより、その結果潤滑剤
が劣化して種々の障害が誘発される問題が顕在化してき
た。
【０００３】発明者が検討した結果、潤滑剤の劣化モー
ドは次の二つに大別されることがわかった。その一つは
潤滑剤分子であるパーフルオロポリエーテルの分解であ
り、他の一つは高粘性物質の生成である。
ドは次の二つに大別されることがわかった。その一つは
潤滑剤分子であるパーフルオロポリエーテルの分解であ
り、他の一つは高粘性物質の生成である。
【０００４】パーフルオロポリエーテルが分解すると、
潤滑効果が低下し、スライダーとの高速接触による媒体
保護層の摩耗速度が増大して、やがてヘッドクラッシュ
に至る。潤滑効果を長期間保持するための手段として、
パーフルオロポリエーテルの分解を抑制する機構を付与
した潤滑剤に関しては数多くの公知例がある。例えば、
パーフルオロポリエーテルにアルキルアミンを添加した
ものについては、特開平５−２０６７５号公報、特開平
６−１４５６８７号公報、特開平７−６２３７８号公
報、特開平７−９３７４４号公報、特開平７−９３７４
５号公報等に記載されている。これらのうち、例えば特
開平７−９３７４４号公報は、パーフルオロポリエーテ
ルに長鎖アルキルアミンを添加した潤滑剤に関するもの
である。アルキルアミンとしては、直鎖、分岐の何れで
もよく、また炭素数は６以上のものが好ましいとされて
いる。この潤滑剤により、優れた潤滑性を長期に渡って
発現でき、走行性、耐摩耗性、耐久性ともに良好で高性
能化できるとされている。このような潤滑剤はオーディ
オテープやビデオテープ等の磁気テープに用いる限り、
パーフルオロポリエーテルの分解は十分に抑制され、走
行性等の高性能化が図れることが、発明者によっても確
認された。
潤滑効果が低下し、スライダーとの高速接触による媒体
保護層の摩耗速度が増大して、やがてヘッドクラッシュ
に至る。潤滑効果を長期間保持するための手段として、
パーフルオロポリエーテルの分解を抑制する機構を付与
した潤滑剤に関しては数多くの公知例がある。例えば、
パーフルオロポリエーテルにアルキルアミンを添加した
ものについては、特開平５−２０６７５号公報、特開平
６−１４５６８７号公報、特開平７−６２３７８号公
報、特開平７−９３７４４号公報、特開平７−９３７４
５号公報等に記載されている。これらのうち、例えば特
開平７−９３７４４号公報は、パーフルオロポリエーテ
ルに長鎖アルキルアミンを添加した潤滑剤に関するもの
である。アルキルアミンとしては、直鎖、分岐の何れで
もよく、また炭素数は６以上のものが好ましいとされて
いる。この潤滑剤により、優れた潤滑性を長期に渡って
発現でき、走行性、耐摩耗性、耐久性ともに良好で高性
能化できるとされている。このような潤滑剤はオーディ
オテープやビデオテープ等の磁気テープに用いる限り、
パーフルオロポリエーテルの分解は十分に抑制され、走
行性等の高性能化が図れることが、発明者によっても確
認された。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年の
ハードディスク装置では、ディスク回転数が５４００ｒ
ｐｍ、又はこれをさらに超えるものがある。このような
過酷な条件では、上記例をはじめこれまでの公知例で
は、パーフルオロポリエーテルの分解を抑制することが
できず、従って潤滑性能の低下を防止することはできな
い。
ハードディスク装置では、ディスク回転数が５４００ｒ
ｐｍ、又はこれをさらに超えるものがある。このような
過酷な条件では、上記例をはじめこれまでの公知例で
は、パーフルオロポリエーテルの分解を抑制することが
できず、従って潤滑性能の低下を防止することはできな
い。
【０００６】発明者が検討したところ、末端に水酸基を
持つパーフルオロポリエーテルにアルキルアミンを添加
した潤滑剤では、次の作用により潤滑性を長期にわたっ
て発現できたものと考えられる。つまり、摺動によって
潤滑剤中に生成した、パーフルオロポリエーテルの分解
反応の触媒となる酸性物質（主として有機カルボン酸）
を、アルキルアミンによって中和してその触媒作用を消
失させるという作用である。
持つパーフルオロポリエーテルにアルキルアミンを添加
した潤滑剤では、次の作用により潤滑性を長期にわたっ
て発現できたものと考えられる。つまり、摺動によって
潤滑剤中に生成した、パーフルオロポリエーテルの分解
反応の触媒となる酸性物質（主として有機カルボン酸）
を、アルキルアミンによって中和してその触媒作用を消
失させるという作用である。
【０００７】ところが、ハードディスク媒体では、摺動
によって生成する酸性物質（主としてフッ化水素酸）が
磁気テープの場合とは異なるためにアルキルアミンでは
十分に中和することができず、またその濃度も磁気テー
プの場合の数百から数万倍におよんでいるために十分な
中和ができなかった。このような条件においてパーフル
オロポリエーテルの分解を抑制するための真に有効な手
段については、これまで公知例は存在しなかった。
によって生成する酸性物質（主としてフッ化水素酸）が
磁気テープの場合とは異なるためにアルキルアミンでは
十分に中和することができず、またその濃度も磁気テー
プの場合の数百から数万倍におよんでいるために十分な
中和ができなかった。このような条件においてパーフル
オロポリエーテルの分解を抑制するための真に有効な手
段については、これまで公知例は存在しなかった。
【０００８】また、潤滑剤の劣化による高粘性物質の生
成は、ヘッド・ディスク系の障害発生原因として更に深
刻である。この高粘性物質は、パーフルオロポリエーテ
ルの分解物と金属イオンとの錯化合物を主成分とした潤
滑剤変性物である。この高粘性物質がスライダーに付着
すると、その空気力学的特性が変化して、スライダーの
浮上量変動、ピッチ角及びロール角変動等、浮上姿勢が
変化する。その結果、記録再生時におけるエラーレート
の増加、スライダーとディスクとの高速接触確率の増
加、スライダーエッジ部とディスクとの高速摺動等が起
こり、短時間でヘッドクラッシュに至る可能性が増加す
る。このような問題を回避するためには、スライダーと
ディスクとの高速接触によっても、高粘性物質が生成し
ない潤滑剤を用いることが極めて有効である。しかしな
がら、このような効果を有する潤滑剤に関する公知例は
存在しなかった。
成は、ヘッド・ディスク系の障害発生原因として更に深
刻である。この高粘性物質は、パーフルオロポリエーテ
ルの分解物と金属イオンとの錯化合物を主成分とした潤
滑剤変性物である。この高粘性物質がスライダーに付着
すると、その空気力学的特性が変化して、スライダーの
浮上量変動、ピッチ角及びロール角変動等、浮上姿勢が
変化する。その結果、記録再生時におけるエラーレート
の増加、スライダーとディスクとの高速接触確率の増
加、スライダーエッジ部とディスクとの高速摺動等が起
こり、短時間でヘッドクラッシュに至る可能性が増加す
る。このような問題を回避するためには、スライダーと
ディスクとの高速接触によっても、高粘性物質が生成し
ない潤滑剤を用いることが極めて有効である。しかしな
がら、このような効果を有する潤滑剤に関する公知例は
存在しなかった。
【０００９】
【発明の目的】ハードディスク装置のヘッド・ディスク
系の信頼性を確保するためには、潤滑剤の劣化を防ぐこ
とが非常に有効である。前述の通り、潤滑剤の劣化は、
パーフルオロポリエーテルの分解及び高粘性物質の生成
の二つのモードがあり、それぞれの劣化モードを抑制す
ることが本発明の目的である。
系の信頼性を確保するためには、潤滑剤の劣化を防ぐこ
とが非常に有効である。前述の通り、潤滑剤の劣化は、
パーフルオロポリエーテルの分解及び高粘性物質の生成
の二つのモードがあり、それぞれの劣化モードを抑制す
ることが本発明の目的である。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者が鋭意検討した
結果、潤滑剤分子であるパーフルオロポリエーテルの分
解には摩擦による熱分解と、ルイス酸との反応による化
学的分解とがあることがわかった。
結果、潤滑剤分子であるパーフルオロポリエーテルの分
解には摩擦による熱分解と、ルイス酸との反応による化
学的分解とがあることがわかった。
【００１１】熱分解は、約１５０℃以上の温度でパーフ
ルオロポリエーテルの主鎖のエーテル結合が解裂するこ
とにより起こる。解裂に伴って２個のフッ素が脱離する
が、このフッ素ラジカルは水分子と反応して速やかに２
分子のフッ化水素酸（ＨＦ）に変化する。化学的分解は
このＨＦとの反応により起こる。すなわち、ＨＦ中のＨ
+ が主鎖のエーテル酸素を攻撃して、エーテル解裂を引
き起こすのである。また、同様の分解反応は、スライダ
ー材料であるAl2O3-TiC との接触によっても起こる。こ
の際、熱分解の場合と同様に新たに２分子のＨＦが生成
する。すなわち、パーフルオロポリエーテルは、ひとた
び熱分解やAl2O3-TiC との接触分解がおこると、ＨＦに
よる連鎖的な化学的分解反応が引き起こされるのであ
る。
ルオロポリエーテルの主鎖のエーテル結合が解裂するこ
とにより起こる。解裂に伴って２個のフッ素が脱離する
が、このフッ素ラジカルは水分子と反応して速やかに２
分子のフッ化水素酸（ＨＦ）に変化する。化学的分解は
このＨＦとの反応により起こる。すなわち、ＨＦ中のＨ
+ が主鎖のエーテル酸素を攻撃して、エーテル解裂を引
き起こすのである。また、同様の分解反応は、スライダ
ー材料であるAl2O3-TiC との接触によっても起こる。こ
の際、熱分解の場合と同様に新たに２分子のＨＦが生成
する。すなわち、パーフルオロポリエーテルは、ひとた
び熱分解やAl2O3-TiC との接触分解がおこると、ＨＦに
よる連鎖的な化学的分解反応が引き起こされるのであ
る。
【００１２】高粘性物質は、エーテル解裂したパーフル
オロポリエーテルの断片が金属イオンと錯体を形成する
ことによって形成される。金属イオンは、磁性膜の金属
成分が媒体保護層を通して表面に拡散したり、媒体保護
層の摩耗、亀裂、剥離等によって露出した磁性膜が潤滑
剤中のＨＦと反応したりすることにより発生する。
オロポリエーテルの断片が金属イオンと錯体を形成する
ことによって形成される。金属イオンは、磁性膜の金属
成分が媒体保護層を通して表面に拡散したり、媒体保護
層の摩耗、亀裂、剥離等によって露出した磁性膜が潤滑
剤中のＨＦと反応したりすることにより発生する。
【００１３】潤滑剤分子の連鎖的な化学的分解や金属錯
体の生成を抑制するためには、ＨＦ、Al2O3-TiC 、金属
イオン等とパーフルオロポリエーテルとの反応を阻害す
ることが有効であると考えられる。
体の生成を抑制するためには、ＨＦ、Al2O3-TiC 、金属
イオン等とパーフルオロポリエーテルとの反応を阻害す
ることが有効であると考えられる。
【００１４】すなわち、スライダーとディスクとの高速
接触により潤滑剤が熱的に分解するとＨＦが生成する
が、このＨＦとの反応速度がパーフルオロポリエーテル
よりも十分大きい物質を添加することにより、ＨＦとパ
ーフルオロポリエーテルとの反応は事実上問題とならな
い程度まで抑制される。また、Al2O3-TiC の表面に吸着
する物質を添加することにより、パーフルオロポリエー
テルの接触分解が阻害される。更に、高粘性物質の生成
についても金属イオンとの錯生成定数がパーフルオロポ
リエーテルよりも十分大きい物質を添加することによ
り、金属イオンとパーフルオロポリエーテルとの反応も
事実上問題とならない程度まで抑制されると考えられ
る。
接触により潤滑剤が熱的に分解するとＨＦが生成する
が、このＨＦとの反応速度がパーフルオロポリエーテル
よりも十分大きい物質を添加することにより、ＨＦとパ
ーフルオロポリエーテルとの反応は事実上問題とならな
い程度まで抑制される。また、Al2O3-TiC の表面に吸着
する物質を添加することにより、パーフルオロポリエー
テルの接触分解が阻害される。更に、高粘性物質の生成
についても金属イオンとの錯生成定数がパーフルオロポ
リエーテルよりも十分大きい物質を添加することによ
り、金属イオンとパーフルオロポリエーテルとの反応も
事実上問題とならない程度まで抑制されると考えられ
る。
【００１５】本発明は、このような考え方に立脚してな
されたものである。すなわち、ＨＦとの反応速度がパー
フルオロポリエーテルよりも数百〜数千倍大きく、同時
に金属イオンとの錯生成定数がパーフルオロポリエーテ
ルよりも数十〜数万倍大きい物質の一般式を請求項２〜
１１に規定し、Al2O3-TiC の表面に吸着してパーフルオ
ロポリエーテルの接触を阻害する物質の一般式を請求項
２に規定し、さらにこれらの化合物をパーフルオロポリ
エーテルに添加した新規な潤滑剤を請求項１〜１１に規
定したものである。また、これらの新規な潤滑剤を用い
た磁気ディスク及び磁気ディスク装置についても請求項
１２〜１５に規定したものである。
されたものである。すなわち、ＨＦとの反応速度がパー
フルオロポリエーテルよりも数百〜数千倍大きく、同時
に金属イオンとの錯生成定数がパーフルオロポリエーテ
ルよりも数十〜数万倍大きい物質の一般式を請求項２〜
１１に規定し、Al2O3-TiC の表面に吸着してパーフルオ
ロポリエーテルの接触を阻害する物質の一般式を請求項
２に規定し、さらにこれらの化合物をパーフルオロポリ
エーテルに添加した新規な潤滑剤を請求項１〜１１に規
定したものである。また、これらの新規な潤滑剤を用い
た磁気ディスク及び磁気ディスク装置についても請求項
１２〜１５に規定したものである。
【００１６】これらの新規な潤滑剤を磁気ディスクに適
用した結果、スライダーとディスクとの高速接触が定常
的に起こる条件においても、ＨＦによるパーフルオロポ
リエーテルの連鎖的な分解が抑制され、また同時に高粘
性物質の生成も抑制されることが確認された。このこと
は、潤滑性能の観点からはＣＳＳ（コンタクト・スター
ト・アンド・ストップ）試験により摩擦係数μの変化が
小さく、また、シーク試験によりヘッドスライダーへの
高粘性物質の付着量が少なくなるという効果が確認され
た。
用した結果、スライダーとディスクとの高速接触が定常
的に起こる条件においても、ＨＦによるパーフルオロポ
リエーテルの連鎖的な分解が抑制され、また同時に高粘
性物質の生成も抑制されることが確認された。このこと
は、潤滑性能の観点からはＣＳＳ（コンタクト・スター
ト・アンド・ストップ）試験により摩擦係数μの変化が
小さく、また、シーク試験によりヘッドスライダーへの
高粘性物質の付着量が少なくなるという効果が確認され
た。
【００１７】本発明は、特に、近年盛んに研究開発が行
われているヘッドと媒体が密接して摺動するタイプのコ
ンタクトレコーディング又はニアコンタクトレコーディ
ングと呼ばれる磁気記録装置に適用した場合効果を発揮
する。すなわち、従来の浮上記録方式の磁気記録装置で
は、ディスク回転時には、ヘッドとディスクが接触しな
いことが前提とされている。しかし、コンタクトレコー
ディング又はニアコンタクトレコーディングでは、ヘッ
ドと回転中のディスク面との接触時間が連続的であるた
めにヘッドとディスクとの摩擦が大きな問題となってく
る。
われているヘッドと媒体が密接して摺動するタイプのコ
ンタクトレコーディング又はニアコンタクトレコーディ
ングと呼ばれる磁気記録装置に適用した場合効果を発揮
する。すなわち、従来の浮上記録方式の磁気記録装置で
は、ディスク回転時には、ヘッドとディスクが接触しな
いことが前提とされている。しかし、コンタクトレコー
ディング又はニアコンタクトレコーディングでは、ヘッ
ドと回転中のディスク面との接触時間が連続的であるた
めにヘッドとディスクとの摩擦が大きな問題となってく
る。
【００１８】このような条件下で、請求項１〜１１に記
載の潤滑剤を用いた場合、特に、著しい効果が得られ
る。さらに、当該潤滑剤をフロッピーディスク、オーデ
ィオテープ、ビデオテープに適用した結果、走行性、耐
摩耗性、耐久性ともに良好で高性能化を図ることができ
た。
載の潤滑剤を用いた場合、特に、著しい効果が得られ
る。さらに、当該潤滑剤をフロッピーディスク、オーデ
ィオテープ、ビデオテープに適用した結果、走行性、耐
摩耗性、耐久性ともに良好で高性能化を図ることができ
た。
【００１９】
【発明の実施の形態】本発明の主成分であるパーフルオ
ロポリエーテル系化合物の主鎖構造は、例えば次の一般
式で示されるものである。 一般式 -CF2-(O-CF2-CF2)p -(O-CF2)q -O-CF2- 一般式 F-(CF2-CF2-CF2) n -CF2-CF2- 一般式 CF3-(O-CF-(CF3)-CF2)m -(O-CF2)l - 上記p,q,n,m,l は１以上の整数を示す。
ロポリエーテル系化合物の主鎖構造は、例えば次の一般
式で示されるものである。 一般式 -CF2-(O-CF2-CF2)p -(O-CF2)q -O-CF2- 一般式 F-(CF2-CF2-CF2) n -CF2-CF2- 一般式 CF3-(O-CF-(CF3)-CF2)m -(O-CF2)l - 上記p,q,n,m,l は１以上の整数を示す。
【００２０】但し、本発明に係るパーフルオロポリエー
テルの主鎖構造は、何等これらに限定されるものではな
い。また、末端官能基の例としては、例えば -CH2OH, -
OH,-CH2COOH, -COOH, -C6H5, 縮合環基を挙げることが
できるが、何等これらに限定されるものではない。分子
量は特に限定しないが、その中心分子量が２０００から
４０００程度が好ましい。
テルの主鎖構造は、何等これらに限定されるものではな
い。また、末端官能基の例としては、例えば -CH2OH, -
OH,-CH2COOH, -COOH, -C6H5, 縮合環基を挙げることが
できるが、何等これらに限定されるものではない。分子
量は特に限定しないが、その中心分子量が２０００から
４０００程度が好ましい。
【００２１】本発明の成分のうちパーフルオロポリエー
テル以外の成分の骨格は下記のとおりである。
テル以外の成分の骨格は下記のとおりである。
【００２２】
【化１７】 〔一般式［１］中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ
6 はそれぞれ独立にフェノキシ誘導体基を示す。これら
のフェノキシ誘導体基は、置換基を有していてもよく、
水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換され
ていてもよい。〕
6 はそれぞれ独立にフェノキシ誘導体基を示す。これら
のフェノキシ誘導体基は、置換基を有していてもよく、
水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換され
ていてもよい。〕
【００２３】
【化１８】 〔一般式［２］中、Ｚは窒素原子、リン原子の何れかを
示す。また、Ｒ1 、Ｒ2、Ｒ3 はそれぞれ独立に、水素
原子、水酸基、アルキル基、アリール基の何れかを示
す。これらのアルキル基又はアリール基は、置換基を有
していてもよく、水素原子の一部又は全部がフッ素原子
によって置換されていてもよい。〕
示す。また、Ｒ1 、Ｒ2、Ｒ3 はそれぞれ独立に、水素
原子、水酸基、アルキル基、アリール基の何れかを示
す。これらのアルキル基又はアリール基は、置換基を有
していてもよく、水素原子の一部又は全部がフッ素原子
によって置換されていてもよい。〕
【００２４】
【化１９】 〔一般式［３］中、Ｚは窒素原子、リン原子の何れかを
示す。また、Ｒ1 は水素原子、水酸基、アルキル基、ア
リール基の何れかを示す。これらのアルキル基又はアリ
ール基は、置換基を有していてもよく、水素原子の一部
又は全部がフッ素原子によって置換されていてもよい。
Ｒ2 はアルキル基、アリール基の何れかを示す。このア
ルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕
示す。また、Ｒ1 は水素原子、水酸基、アルキル基、ア
リール基の何れかを示す。これらのアルキル基又はアリ
ール基は、置換基を有していてもよく、水素原子の一部
又は全部がフッ素原子によって置換されていてもよい。
Ｒ2 はアルキル基、アリール基の何れかを示す。このア
ルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕
【００２５】一般式［４］ Ｚ≡Ｒ 〔一般式［４］中、Ｚは窒素原子、リン原子の何れかを
示す。Ｒはアルキル基、アリール基の何れかを示す。こ
のアルキル基又はアリール基は、置換基を有していても
よく、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置
換されていてもよい。〕
示す。Ｒはアルキル基、アリール基の何れかを示す。こ
のアルキル基又はアリール基は、置換基を有していても
よく、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置
換されていてもよい。〕
【００２６】
【化２０】 〔一般式［５］中、Ｚはそれぞれ独立に窒素原子、リン
原子の何れかを示す。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 はそれぞ
れ独立に、水素原子、水酸基、アルキル基、アリール基
の何れかを示す。これらのアルキル基又はアリール基
は、置換基を有していてもよく、水素原子の一部又は全
部がフッ素原子によって置換されていてもよい。〕
原子の何れかを示す。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 はそれぞ
れ独立に、水素原子、水酸基、アルキル基、アリール基
の何れかを示す。これらのアルキル基又はアリール基
は、置換基を有していてもよく、水素原子の一部又は全
部がフッ素原子によって置換されていてもよい。〕
【００２７】
【化２１】 〔一般式［６］中、Ｚはそれぞれ独立に窒素原子、リン
原子の何れかを示す。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 は
それぞれ独立に、アルキル基、アリール基の何れかを示
す。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ5 は水素原子又は水酸基でも
よい。これらのアルキル基又はアリール基は、置換基を
有していてもよく、水素原子の一部又は全部がフッ素原
子によって置換されていてもよい。〕
原子の何れかを示す。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 は
それぞれ独立に、アルキル基、アリール基の何れかを示
す。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ5 は水素原子又は水酸基でも
よい。これらのアルキル基又はアリール基は、置換基を
有していてもよく、水素原子の一部又は全部がフッ素原
子によって置換されていてもよい。〕
【００２８】窒素原子、酸素原子、リン原子、イオウ原
子、の何れか１種類以上を１原子以上含む複素環化合
物、又はこの複素環化合物と他の環状化合物との縮合多
環化合物。上記複素環化合物は、例えば次のような式で
表される。NC4H4, N2C3H5, NC5H5, NC5H11, NC6H6, NC7
H7, NPC8H6, N2C1 2H8, OC4H4, OC5H5, PC4H4, PC5H5, S
C4H4, OSC3H3, AsC4H4, AsC5H5, SeC4H4,SSeC3H3, SbC4
H4, SbC5H5, TeC4H4, Te2C3H3 。但し、本発明における
複素環化合物は、何等これらに限定されるものではな
い。また、これらの基に存在してもよい置換基は、例え
ばアルキル基、アリール基、複素環基、-F, -Cl, -Br -
I, -OH, -CO, -SH, -SCH3, -NH2, -N(CH3)2,-NO, -NO2,
-NOH, -CHO, -COOH, -COOCH3, -CN, -SO, -PH2, -P(CH
3)2, -CH2OCH3等を挙げることができるが、これらに限
定されるものではない。
子、の何れか１種類以上を１原子以上含む複素環化合
物、又はこの複素環化合物と他の環状化合物との縮合多
環化合物。上記複素環化合物は、例えば次のような式で
表される。NC4H4, N2C3H5, NC5H5, NC5H11, NC6H6, NC7
H7, NPC8H6, N2C1 2H8, OC4H4, OC5H5, PC4H4, PC5H5, S
C4H4, OSC3H3, AsC4H4, AsC5H5, SeC4H4,SSeC3H3, SbC4
H4, SbC5H5, TeC4H4, Te2C3H3 。但し、本発明における
複素環化合物は、何等これらに限定されるものではな
い。また、これらの基に存在してもよい置換基は、例え
ばアルキル基、アリール基、複素環基、-F, -Cl, -Br -
I, -OH, -CO, -SH, -SCH3, -NH2, -N(CH3)2,-NO, -NO2,
-NOH, -CHO, -COOH, -COOCH3, -CN, -SO, -PH2, -P(CH
3)2, -CH2OCH3等を挙げることができるが、これらに限
定されるものではない。
【００２９】一般式［７］ Ｒ1 −Ｚ−Ｒ2 〔一般式［７］中、Ｚは酸素原子、イオウ原子の何れか
を示す。Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ独立に、水素原子、水酸
基、アルキル基、アリール基の何れかを示す。これらの
アルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕
を示す。Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ独立に、水素原子、水酸
基、アルキル基、アリール基の何れかを示す。これらの
アルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕
【００３０】一般式［８］ Ｚ＝Ｒ 〔一般式［８］中、Ｚは酸素原子、イオウ原子の何れか
を示す。Ｒはアルキル基、アリール基の何れかを示す。
アルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕
を示す。Ｒはアルキル基、アリール基の何れかを示す。
アルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕
【００３１】一般式［９］ Ｒ1 −Ｚ−Ｚ−Ｒ2 〔一般式［９］中、Ｚはそれぞれ独立に酸素原子、イオ
ウ原子の何れかを示す。Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ独立に水
素原子、水酸基、アルキル基、アリール基の何れかを示
す。これらのアルキル基又はアリール基は、置換基を有
していてもよく、水素原子の一部又は全部がフッ素原子
によって置換されていてもよい。〕
ウ原子の何れかを示す。Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ独立に水
素原子、水酸基、アルキル基、アリール基の何れかを示
す。これらのアルキル基又はアリール基は、置換基を有
していてもよく、水素原子の一部又は全部がフッ素原子
によって置換されていてもよい。〕
【００３２】一般式［１０］ Ｒ1 −Ｚ−Ｒ2 −Ｚ−
Ｒ3 〔一般式［１０］中、Ｚはそれぞれ独立に酸素原子、イ
オウ原子の何れかを示す。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 はそれぞれ
独立にアルキル基、アリール基の何れかを示す。Ｒ1 、
Ｒ3 は水素原子又は水酸基でもよい。これらのアルキル
基又はアリール基は、置換基を有していてもよく、水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。〕
Ｒ3 〔一般式［１０］中、Ｚはそれぞれ独立に酸素原子、イ
オウ原子の何れかを示す。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 はそれぞれ
独立にアルキル基、アリール基の何れかを示す。Ｒ1 、
Ｒ3 は水素原子又は水酸基でもよい。これらのアルキル
基又はアリール基は、置換基を有していてもよく、水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。〕
【００３３】上記一般式［１］〜［１０］に記載されて
いるアルキル基又はアリール基は、例えば次のような式
で示されるものである。-CH3, -CH2-CH3, -(CH2)5-CH
3,-(CH2)10-CH3, -(CH2)2 0-CH3, -(CH2)29-CH3, -
(CH2)3=C(CH3)-CH2-CH3, -(CH2)5-C(CH=CH2)2-CH2-C
H3, -(CH2)6-C(CH2-CH2-CH3)2-(CH2)3-CH(CH2-CH2-CH2
-CH3)-CH2-CH3, -CF2-CF3, -(CF2)10-CH3, -(CF2)3-
C(CH3)=CF-CF3, -(CF2)2 6-C(CF3)2-CF3, -C6H5, -C6
H4(-CH3), -C10H7, -C1 0H5(-CH2-CH3)2, -C1 4H9, -
C14H6(-CH3)(-CH=CH2)(-CH2-CH2-CH3), -C30H1 7, -C6
F5, -C10F5(-CH2-CH3)2, -C10F5(-CF2-CF3)2, -C30F
1 7 。但し、本発明におけるアルキル基又はアリール基
は、何等これらに限定されるものではない。また、これ
らの基に存在してもよい置換基は、例えばアルキル基、
アリール基、複素環基、-Cl, -Br -I, -OH, -CO, -SH,
-SCH3, -NH2, -N(CH3)2, -NO, -NO2, -NOH, -CHO, -CO
OH,-COOCH3, -CN, -SO, -PH2, -P(CH3)2, -CH2OCH3 等
を挙げることができるが、これらに限定されるものでは
ない。
いるアルキル基又はアリール基は、例えば次のような式
で示されるものである。-CH3, -CH2-CH3, -(CH2)5-CH
3,-(CH2)10-CH3, -(CH2)2 0-CH3, -(CH2)29-CH3, -
(CH2)3=C(CH3)-CH2-CH3, -(CH2)5-C(CH=CH2)2-CH2-C
H3, -(CH2)6-C(CH2-CH2-CH3)2-(CH2)3-CH(CH2-CH2-CH2
-CH3)-CH2-CH3, -CF2-CF3, -(CF2)10-CH3, -(CF2)3-
C(CH3)=CF-CF3, -(CF2)2 6-C(CF3)2-CF3, -C6H5, -C6
H4(-CH3), -C10H7, -C1 0H5(-CH2-CH3)2, -C1 4H9, -
C14H6(-CH3)(-CH=CH2)(-CH2-CH2-CH3), -C30H1 7, -C6
F5, -C10F5(-CH2-CH3)2, -C10F5(-CF2-CF3)2, -C30F
1 7 。但し、本発明におけるアルキル基又はアリール基
は、何等これらに限定されるものではない。また、これ
らの基に存在してもよい置換基は、例えばアルキル基、
アリール基、複素環基、-Cl, -Br -I, -OH, -CO, -SH,
-SCH3, -NH2, -N(CH3)2, -NO, -NO2, -NOH, -CHO, -CO
OH,-COOCH3, -CN, -SO, -PH2, -P(CH3)2, -CH2OCH3 等
を挙げることができるが、これらに限定されるものでは
ない。
【００３４】本発明の潤滑剤は先に記したパーフルオロ
ポリエーテルに対して、一般式［１］に示される化合物
を０．１〜５０ｗｔ％含有し、且つ、一般式［２］〜
［１０］に示される骨格を有する化合物の少なくとも１
種類を重量百万分率で１〜１０００００ｐｐｍ含有した
ものである。
ポリエーテルに対して、一般式［１］に示される化合物
を０．１〜５０ｗｔ％含有し、且つ、一般式［２］〜
［１０］に示される骨格を有する化合物の少なくとも１
種類を重量百万分率で１〜１０００００ｐｐｍ含有した
ものである。
【００３５】さらに、本発明の磁気記録媒体は、磁性層
又は保護層上に本発明の潤滑剤を成膜することにより、
ヘッドスライダーと記録媒体との高速接触が多発して
も、潤滑膜が劣化しにくい磁気記録媒体である。
又は保護層上に本発明の潤滑剤を成膜することにより、
ヘッドスライダーと記録媒体との高速接触が多発して
も、潤滑膜が劣化しにくい磁気記録媒体である。
【００３６】図１は、本発明の磁気記録媒体の一構成例
を示す断面図である。本発明の磁気記録媒体は、基板１
上に下地層２を介して磁性層３が形成され、その上に保
護層４が形成されている。下地層２及び保護層４はなく
てもよい。潤滑膜５は保護層４の上に塗布してある。
を示す断面図である。本発明の磁気記録媒体は、基板１
上に下地層２を介して磁性層３が形成され、その上に保
護層４が形成されている。下地層２及び保護層４はなく
てもよい。潤滑膜５は保護層４の上に塗布してある。
【００３７】本発明が適用されるものとしては、記録再
生ヘッド若しくはヘッドスライダーと接触するか、又は
その可能性のある磁気記録媒体であり、具体的にはハー
ドディスク媒体、フロッピーディスク媒体、磁気テープ
等である。これらの磁気記録媒体の支持体としては、非
磁性であることの他には制限はない。すなわち、ハード
ディスク媒体の場合には、アルミニウム、ガラス、プラ
スチック、カーボン、シリコン等が例示され、フロッピ
ーディスクや磁気テープ媒体の場合には、ポリアセテー
ト等の合成樹脂を例示することができる。
生ヘッド若しくはヘッドスライダーと接触するか、又は
その可能性のある磁気記録媒体であり、具体的にはハー
ドディスク媒体、フロッピーディスク媒体、磁気テープ
等である。これらの磁気記録媒体の支持体としては、非
磁性であることの他には制限はない。すなわち、ハード
ディスク媒体の場合には、アルミニウム、ガラス、プラ
スチック、カーボン、シリコン等が例示され、フロッピ
ーディスクや磁気テープ媒体の場合には、ポリアセテー
ト等の合成樹脂を例示することができる。
【００３８】支持体と磁性膜との間に下地層を設けても
よい。下地層の材質、膜厚に関して制限はなく、Ｃｒ、
Ｎｉ−Ｐ等を例示することができる。磁性膜についても
その成膜法、材質、膜厚に制限はない。すなわち、成膜
法としては塗布、メッキ、蒸着、スパッタリング、ＣＶ
Ｄ法等が例示される。材質については、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎ
ｉ等の金属やこれらの酸化物、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｐ
ｔ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ
−Ｔａ等が例示される。保護層についても何等制限はな
く、アモルファスカーボン、水素添加カーボン、窒素添
加カーボン、フッ素添加カーボン、各種金属添加カーボ
ン、ダイアモンドライクカーボン、二酸化珪素膜等を例
示することができる。以上示したような磁気記録媒体に
潤滑剤を成膜する方法についても特に制限はないが、ハ
ードディスク媒体の場合には、ディップ法や回転成膜法
を例示することができる。この場合、潤滑膜厚は特に制
限はないが、１〜１０００オングストローム程度、好ま
しくは５〜１００オングストローム程度である。
よい。下地層の材質、膜厚に関して制限はなく、Ｃｒ、
Ｎｉ−Ｐ等を例示することができる。磁性膜についても
その成膜法、材質、膜厚に制限はない。すなわち、成膜
法としては塗布、メッキ、蒸着、スパッタリング、ＣＶ
Ｄ法等が例示される。材質については、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎ
ｉ等の金属やこれらの酸化物、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｐ
ｔ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ
−Ｔａ等が例示される。保護層についても何等制限はな
く、アモルファスカーボン、水素添加カーボン、窒素添
加カーボン、フッ素添加カーボン、各種金属添加カーボ
ン、ダイアモンドライクカーボン、二酸化珪素膜等を例
示することができる。以上示したような磁気記録媒体に
潤滑剤を成膜する方法についても特に制限はないが、ハ
ードディスク媒体の場合には、ディップ法や回転成膜法
を例示することができる。この場合、潤滑膜厚は特に制
限はないが、１〜１０００オングストローム程度、好ま
しくは５〜１００オングストローム程度である。
【００３９】図２は、請求項１５に記載の磁気記録装置
を概略的に示した構成図である。図において、磁気ディ
スク９は、例えば４枚が等間隔に固定されている。これ
らの磁気ディスク９は回転機構１０により回転される。
各磁気ディスク９の両面には、請求項１〜１１に記載の
潤滑剤の少なくとも１つが塗布されている。各磁気ディ
スク９の両面近傍には、各磁気ディスク９を挟む関係に
合計８個の磁気ヘッド６が配置されており、これら磁気
ヘッド６はそれぞれ支持ばね１１を介してキャリッジ７
に支持されている。キャリッジ７は、磁気ヘッド移動機
構８により移動制御される。
を概略的に示した構成図である。図において、磁気ディ
スク９は、例えば４枚が等間隔に固定されている。これ
らの磁気ディスク９は回転機構１０により回転される。
各磁気ディスク９の両面には、請求項１〜１１に記載の
潤滑剤の少なくとも１つが塗布されている。各磁気ディ
スク９の両面近傍には、各磁気ディスク９を挟む関係に
合計８個の磁気ヘッド６が配置されており、これら磁気
ヘッド６はそれぞれ支持ばね１１を介してキャリッジ７
に支持されている。キャリッジ７は、磁気ヘッド移動機
構８により移動制御される。
【００４０】
【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。なお、本明細書において、一般式中で用いられる
「＝」は二重結合を意味し、これ以外で用いられる
「＝」はイコールを意味する。
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。なお、本明細書において、一般式中で用いられる
「＝」は二重結合を意味し、これ以外で用いられる
「＝」はイコールを意味する。
【００４１】（実施例１〜１５）は、請求項２記載の一
般式［１］と、請求項２記載の一般式［２］で示される
化合物のうちＺが窒素原子である化合物と、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実
施例である。
般式［１］と、請求項２記載の一般式［２］で示される
化合物のうちＺが窒素原子である化合物と、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実
施例である。
【００４２】(1) ハードディスク媒体の製造
【００４３】・濃度展開サンプルの製造・・・一般式
［１］で示されるもののうちＲ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝
Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ3(パラ位) である分
子構造を有する化合物（添加剤１）を１ｍｇと、一般式
［２］で示されるもののうちＺ＝Ｎ、Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3
＝− (ＣＨ2)10−ＣＨ3 である分子構造を有する化合物
（添加剤２）を０．０１ｍｇとを秤取り、これらをエタ
ノール１０ｍｌに溶解し、その溶液をフォンブリンＺ−
ＤＯＬ (モンテフルオス社製) １０ｇに加えてよく攪拌
した。この混合液について６０℃で減圧蒸留を３０ｍｉ
ｎ継続してエタノールを除去し、本実施例に係る潤滑剤
を得た。この潤滑剤をフルオロカーボン系溶媒であるフ
ロリナートＦＣ−７７ (住友スリーエム株式会社製) に
溶解して０．０８ｗｔ％の溶液を調製した。この溶液を
用いて、スパッタ法でカーボン保護層を成膜したディス
クに、通常のディップ法により潤滑膜を成膜してサンプ
ルディスクを作製した。同様にして、潤滑膜中の濃度が
添加剤１については０．０１〜５０ｗｔ％、添加剤２に
ついては１〜１０００００ｐｐｍである濃度展開サンプ
ルディスクを作製した。
［１］で示されるもののうちＲ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝
Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ3(パラ位) である分
子構造を有する化合物（添加剤１）を１ｍｇと、一般式
［２］で示されるもののうちＺ＝Ｎ、Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3
＝− (ＣＨ2)10−ＣＨ3 である分子構造を有する化合物
（添加剤２）を０．０１ｍｇとを秤取り、これらをエタ
ノール１０ｍｌに溶解し、その溶液をフォンブリンＺ−
ＤＯＬ (モンテフルオス社製) １０ｇに加えてよく攪拌
した。この混合液について６０℃で減圧蒸留を３０ｍｉ
ｎ継続してエタノールを除去し、本実施例に係る潤滑剤
を得た。この潤滑剤をフルオロカーボン系溶媒であるフ
ロリナートＦＣ−７７ (住友スリーエム株式会社製) に
溶解して０．０８ｗｔ％の溶液を調製した。この溶液を
用いて、スパッタ法でカーボン保護層を成膜したディス
クに、通常のディップ法により潤滑膜を成膜してサンプ
ルディスクを作製した。同様にして、潤滑膜中の濃度が
添加剤１については０．０１〜５０ｗｔ％、添加剤２に
ついては１〜１０００００ｐｐｍである濃度展開サンプ
ルディスクを作製した。
【００４４】サンプルディスクの構成は図１に示す通り
である。サンプルディスクは、基板の突起高さが1.5
μ" 以下になるように基板表面に粗面加工を施した直径
3.5"のアルミニウム製基板を用い、この表面にＮｉ−Ｐ
下地層を成膜し、その上に磁性層を成膜し、更にスパッ
タ法により水素添加カーボンから成る保護層を１０ｎｍ
成膜し、保護層の表面にディップ法により潤滑剤を２０
オングストローム塗布して製造した。
である。サンプルディスクは、基板の突起高さが1.5
μ" 以下になるように基板表面に粗面加工を施した直径
3.5"のアルミニウム製基板を用い、この表面にＮｉ−Ｐ
下地層を成膜し、その上に磁性層を成膜し、更にスパッ
タ法により水素添加カーボンから成る保護層を１０ｎｍ
成膜し、保護層の表面にディップ法により潤滑剤を２０
オングストローム塗布して製造した。
【００４５】・添加剤展開サンプルの製造・・・添加剤
１はＲ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6
Ｈ4 −ＣＦ3(パラ位) の化合物を使用し、添加剤２はＲ
1 、Ｒ2 、Ｒ3 に種々の置換基を導入した化合物を使用
した。また、その濃度は添加剤１＝１０ｗｔ％、添加剤
２＝１０００ｐｐｍに固定した添加剤展開サンプルディ
スクを作製した。
１はＲ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6
Ｈ4 −ＣＦ3(パラ位) の化合物を使用し、添加剤２はＲ
1 、Ｒ2 、Ｒ3 に種々の置換基を導入した化合物を使用
した。また、その濃度は添加剤１＝１０ｗｔ％、添加剤
２＝１０００ｐｐｍに固定した添加剤展開サンプルディ
スクを作製した。
【００４６】・公知ディスクの製造・・・公知例と比較
することを目的として、特開平５−２０６７５号公報に
記載されたアルキルアミンの一種であるトリ−ｎ−ウン
デシルアミン N((CH2)10-CH3)3を１０００ｐｐｍ添加し
た潤滑剤を成膜したサンプルディスクを作製した。以後
公知ディスクと称する。
することを目的として、特開平５−２０６７５号公報に
記載されたアルキルアミンの一種であるトリ−ｎ−ウン
デシルアミン N((CH2)10-CH3)3を１０００ｐｐｍ添加し
た潤滑剤を成膜したサンプルディスクを作製した。以後
公知ディスクと称する。
【００４７】・リファレンスディスクの製造・・・添加
剤を加えないこと以外は全く同様の操作を行ったリファ
レンスディスクも作製した。
剤を加えないこと以外は全く同様の操作を行ったリファ
レンスディスクも作製した。
【００４８】(2) 潤滑性能試験
【００４９】添加剤展開サンプルディスク、公知ディス
ク、リファレンスディスクの潤滑性能は、ＣＳＳ及びシ
ーク試験により評価した。
ク、リファレンスディスクの潤滑性能は、ＣＳＳ及びシ
ーク試験により評価した。
【００５０】ＣＳＳ試験は、評価するディスクをスピン
ドルに装着し、スライダーを予め設定された荷重でディ
スク面を押しつけるように調整して装着し、スライダー
を外周又は内周方向に動かないように固定してディスク
の回転数を０〜３６００ｒｐｍまで上昇させ、（このと
きのスライダーの浮上量は5nm ）直ちに再び０ｒｐｍま
で下降させることを１サイクルとし、２万サイクル後の
摩擦係数μを初期の値と比較して評価した。この試験で
使用したスライダーは、大きさがナノスライダー(50%ス
ライダー) の２レールタイプであり、Al2O3-TiC 製でAB
S(レール摺動面) にDLC 保護層が10nm成膜されたもので
あった。
ドルに装着し、スライダーを予め設定された荷重でディ
スク面を押しつけるように調整して装着し、スライダー
を外周又は内周方向に動かないように固定してディスク
の回転数を０〜３６００ｒｐｍまで上昇させ、（このと
きのスライダーの浮上量は5nm ）直ちに再び０ｒｐｍま
で下降させることを１サイクルとし、２万サイクル後の
摩擦係数μを初期の値と比較して評価した。この試験で
使用したスライダーは、大きさがナノスライダー(50%ス
ライダー) の２レールタイプであり、Al2O3-TiC 製でAB
S(レール摺動面) にDLC 保護層が10nm成膜されたもので
あった。
【００５１】シーク試験はＣＳＳ試験と同様にディスク
及びスライダーを装着し、ディスク回転数を３６００ｒ
ｐｍ一定に保ち、スライダーを最外周から最内周へ再び
最外周へと高速で繰り返し動作させた。この動作を連続
で７２時間行い、試験後、スライダーのレール走行面の
付着物の量を目視で測定した。測定は付着物が覆うレー
ル走行面の面積を１１段階に点数化しで評価した。すな
わち、０点は付着物が全く観察されない場合、１点はス
ライダーのレール走行面の１％未満の面積が付着物で被
覆された場合、２点は１％以上２％未満が被覆された場
合、以下同様に１０点は１０％以上の面積が被覆された
場合とした。
及びスライダーを装着し、ディスク回転数を３６００ｒ
ｐｍ一定に保ち、スライダーを最外周から最内周へ再び
最外周へと高速で繰り返し動作させた。この動作を連続
で７２時間行い、試験後、スライダーのレール走行面の
付着物の量を目視で測定した。測定は付着物が覆うレー
ル走行面の面積を１１段階に点数化しで評価した。すな
わち、０点は付着物が全く観察されない場合、１点はス
ライダーのレール走行面の１％未満の面積が付着物で被
覆された場合、２点は１％以上２％未満が被覆された場
合、以下同様に１０点は１０％以上の面積が被覆された
場合とした。
【００５２】試験条件をまとめて図３に示す。
【００５３】(3) 添加剤濃度と潤滑性能との関係につい
ての検討結果
ての検討結果
【００５４】濃度展開サンプルディスクの潤滑性能評価
を行った結果を図４に示す。
を行った結果を図４に示す。
【００５５】図４に示す結果から、実施例１に記載した
本発明に係る潤滑剤は、添加剤１濃度が０．０１〜５０
ｗｔ％、添加剤２濃度が1 〜100000ppm の範囲内で、Ｃ
ＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー付着物の
生成を抑制する効果があることがわかった。
本発明に係る潤滑剤は、添加剤１濃度が０．０１〜５０
ｗｔ％、添加剤２濃度が1 〜100000ppm の範囲内で、Ｃ
ＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー付着物の
生成を抑制する効果があることがわかった。
【００５６】(4) 添加剤の種類と潤滑性能の関係につい
ての検討結果
ての検討結果
【００５７】添加剤展開サンプルディスク及び公知ディ
スクについて、図３に示す条件により潤滑性能の評価を
行った。添加剤の種類と評価結果を図５及び図６に示
す。
スクについて、図３に示す条件により潤滑性能の評価を
行った。添加剤の種類と評価結果を図５及び図６に示
す。
【００５８】図５及び図６に示す結果から、請求項２記
載の一般式［１］と一般式［２］で示される化合物のう
ちＺ＝Ｎである化合物とをパーフルオロポリエーテルに
添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑
え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があること
がわかった。また、本発明の評価条件では特開平５−２
０６７５号公報に記された公知の潤滑剤は、良好な潤滑
性能を得ることができず、また、ヘッド付着物の発生を
抑制することもできないことがわかった。
載の一般式［１］と一般式［２］で示される化合物のう
ちＺ＝Ｎである化合物とをパーフルオロポリエーテルに
添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑
え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があること
がわかった。また、本発明の評価条件では特開平５−２
０６７５号公報に記された公知の潤滑剤は、良好な潤滑
性能を得ることができず、また、ヘッド付着物の発生を
抑制することもできないことがわかった。
【００５９】（実施例１６〜３０）は、請求項２記載の
一般式［１］と、請求項２記載の一般式［２］で示され
るもののうちＺがリン原子である化合物と、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実
施例である。
一般式［１］と、請求項２記載の一般式［２］で示され
るもののうちＺがリン原子である化合物と、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実
施例である。
【００６０】前記実施例１〜１５と同様の方法で添加剤
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式［１］で示されるものの
うちＲ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6
Ｈ4 −ＣＦ3(パラ位) である分子構造を有する化合物、
及び一般式［２］のうちＺ＝Ｐ，Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 に種
々の置換基を導入した化合物を使用した。
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式［１］で示されるものの
うちＲ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6
Ｈ4 −ＣＦ3(パラ位) である分子構造を有する化合物、
及び一般式［２］のうちＺ＝Ｐ，Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 に種
々の置換基を導入した化合物を使用した。
【００６１】評価条件を図７に、評価結果を図８及び図
９に示す。
９に示す。
【００６２】図８及び図９に示す結果から、請求項２の
一般式［１］と請求項２記載の一般式［２］で示される
もののうちＺ＝Ｐである化合物とをパーフルオロポリエ
ーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上
昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があ
ることがわかった。また、本発明の評価条件では特開平
５−２０６７５号公報に記された公知の潤滑剤は、良好
な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物の
発生を抑制することもできないことが分かった。
一般式［１］と請求項２記載の一般式［２］で示される
もののうちＺ＝Ｐである化合物とをパーフルオロポリエ
ーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上
昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があ
ることがわかった。また、本発明の評価条件では特開平
５−２０６７５号公報に記された公知の潤滑剤は、良好
な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物の
発生を抑制することもできないことが分かった。
【００６３】（実施例３１〜４５）は、請求項２記載の
一般式［１］と、請求項３記載の一般式［３］で示され
るもののうちＺが窒素原子である化合物と、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実
施例である。
一般式［１］と、請求項３記載の一般式［３］で示され
るもののうちＺが窒素原子である化合物と、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実
施例である。
【００６４】一般式［１］で示されるもののうちＲ1 ＝
Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ
3(オルト位) である分子構造を有する化合物（添加剤
３）、及び一般式［３］のうちＺ＝Ｎ，Ｒ1 ＝− (ＣＨ
2)10−ＣＨ3 ，Ｒ2 ＝＝ＣＨ (ＣＨ2)9 −ＣＨ3 である
分子構造を有する化合物（添加剤４）について、前記実
施例１と同様の方法で濃度展開サンプルディスクを作製
した。また、前記実施例１〜１５と同様の方法で、添加
剤４のＲ1 、Ｒ2 に種々の置換基を導入した添加剤展開
サンプルディスクを作製した。さらに、特開平５−２０
６７５号公報に記載されたアルキルアミンの一種である
ジ−ｎ−ウンデシルアミンＮＨ（（ＣＨ2）10ＣＨ3 ）
2 を１０００ｐｐｍ添加した潤滑剤を成膜した公知ディ
スクも作製した。さらにリファレンスディスクも作製し
た。
Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ
3(オルト位) である分子構造を有する化合物（添加剤
３）、及び一般式［３］のうちＺ＝Ｎ，Ｒ1 ＝− (ＣＨ
2)10−ＣＨ3 ，Ｒ2 ＝＝ＣＨ (ＣＨ2)9 −ＣＨ3 である
分子構造を有する化合物（添加剤４）について、前記実
施例１と同様の方法で濃度展開サンプルディスクを作製
した。また、前記実施例１〜１５と同様の方法で、添加
剤４のＲ1 、Ｒ2 に種々の置換基を導入した添加剤展開
サンプルディスクを作製した。さらに、特開平５−２０
６７５号公報に記載されたアルキルアミンの一種である
ジ−ｎ−ウンデシルアミンＮＨ（（ＣＨ2）10ＣＨ3 ）
2 を１０００ｐｐｍ添加した潤滑剤を成膜した公知ディ
スクも作製した。さらにリファレンスディスクも作製し
た。
【００６５】評価条件を図１０に、濃度展開サンプルデ
ィスクの評価結果を図１１に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図１２及び図１３に示す。
ィスクの評価結果を図１１に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図１２及び図１３に示す。
【００６６】図１１に示す結果から、実施例３１に記載
した本発明に係る潤滑剤は、添加剤３濃度が０．０１〜
５０ｗｔ％、添加剤４濃度が１〜１０００００ｐｐｍの
範囲内で、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライ
ダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。図１２及び図１３に示す結果から、請求項２記載の
一般式［１］と請求項３記載の一般式［３］で示される
もののうちＺ＝Ｎである化合物とをパーフルオロポリエ
ーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上
昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があ
ることがわかった。また、本発明の評価条件では特開平
５−２０６７５号公報に記された公知の潤滑剤は、良好
な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物の
発生を抑制することもできないことがわかった。
した本発明に係る潤滑剤は、添加剤３濃度が０．０１〜
５０ｗｔ％、添加剤４濃度が１〜１０００００ｐｐｍの
範囲内で、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライ
ダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。図１２及び図１３に示す結果から、請求項２記載の
一般式［１］と請求項３記載の一般式［３］で示される
もののうちＺ＝Ｎである化合物とをパーフルオロポリエ
ーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上
昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があ
ることがわかった。また、本発明の評価条件では特開平
５−２０６７５号公報に記された公知の潤滑剤は、良好
な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物の
発生を抑制することもできないことがわかった。
【００６７】（実施例４６〜６０）は、請求項２記載の
一般式［１］と、請求項３記載の一般式［３］で示され
るもののうちＺがリン原子である化合物と、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実
施例である。
一般式［１］と、請求項３記載の一般式［３］で示され
るもののうちＺがリン原子である化合物と、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実
施例である。
【００６８】前記実施例１〜１５と同様の方法で添加剤
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式［１］で示されるものの
うちＲ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6
Ｈ4 −ＣＦ3 （オルト位）である分子構造を有する化合
物、及び一般式［３］のうちＺ＝Ｐ，Ｒ1 、Ｒ2 に種々
の置換基を導入した化合物を使用した。
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式［１］で示されるものの
うちＲ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6
Ｈ4 −ＣＦ3 （オルト位）である分子構造を有する化合
物、及び一般式［３］のうちＺ＝Ｐ，Ｒ1 、Ｒ2 に種々
の置換基を導入した化合物を使用した。
【００６９】評価条件を図１４に、評価結果を図１５及
び図１６に示す。
び図１６に示す。
【００７０】図１５及び図１６に示す結果から、請求項
２記載の一般式［１］と請求項３記載の一般式［３］で
示されるもののうちＺ＝Ｐである化合物とをパーフルオ
ロポリエーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後のμの上
昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があ
ることがわかった。また、本発明の評価条件では特開平
５−２０６７５号公報に記された公知の潤滑剤は、良好
な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物の
発生を抑制することもできないことがわかった。
２記載の一般式［１］と請求項３記載の一般式［３］で
示されるもののうちＺ＝Ｐである化合物とをパーフルオ
ロポリエーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後のμの上
昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があ
ることがわかった。また、本発明の評価条件では特開平
５−２０６７５号公報に記された公知の潤滑剤は、良好
な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物の
発生を抑制することもできないことがわかった。
【００７１】（実施例６１〜７５）は、請求項２記載の
一般式［１］と、請求項４記載の一般式［４］で示され
るもののうちＺが窒素原子である化合物と、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実
施例である。
一般式［１］と、請求項４記載の一般式［４］で示され
るもののうちＺが窒素原子である化合物と、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実
施例である。
【００７２】一般式［１］で示されるもののうちＲ1 ＝
Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ
3 （メタ位）である分子構造を有する化合物（添加剤
５）、及び一般式［４］のうちＺ＝Ｎ，Ｒ＝≡Ｃ−（Ｃ
Ｈ2 ）10−ＣＨ3 である分子構造を有する化合物（添加
剤６）について、前記実施例１と同様の方法で濃度展開
サンプルディスクを作製した。また、前記実施例１〜１
５と同様の方法で、添加剤６のＲに種々の置換基を導入
した添加剤展開サンプルディスクを作製した。さらに、
特開平５−２０６７５号公報に記載されたアルキルアミ
ンの一種であるｎ−ウンデシルアミンＮＨ2 （ＣＨ2 ）
11を１０００ｐｐｍ添加した潤滑剤を成膜した公知ディ
スクも作製した。さらにリファレンスディスクも作製し
た。
Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ
3 （メタ位）である分子構造を有する化合物（添加剤
５）、及び一般式［４］のうちＺ＝Ｎ，Ｒ＝≡Ｃ−（Ｃ
Ｈ2 ）10−ＣＨ3 である分子構造を有する化合物（添加
剤６）について、前記実施例１と同様の方法で濃度展開
サンプルディスクを作製した。また、前記実施例１〜１
５と同様の方法で、添加剤６のＲに種々の置換基を導入
した添加剤展開サンプルディスクを作製した。さらに、
特開平５−２０６７５号公報に記載されたアルキルアミ
ンの一種であるｎ−ウンデシルアミンＮＨ2 （ＣＨ2 ）
11を１０００ｐｐｍ添加した潤滑剤を成膜した公知ディ
スクも作製した。さらにリファレンスディスクも作製し
た。
【００７３】評価条件を図１７に、濃度展開サンプルデ
ィスクの評価結果を図１８に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図１９に示す。
ィスクの評価結果を図１８に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図１９に示す。
【００７４】図１８に示す結果から、実施例６１に記載
した本発明に係る潤滑剤は、添加剤５濃度が０．０１〜
５０ｗｔ％、添加剤６濃度が１〜１０００００ｐｐｍの
範囲内で、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライ
ダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。図１９に示す結果から、請求項２の一般式［１］と
請求項４記載の一般式［４］で示されるもののうちＺ＝
Ｎである化合物とをパーフルオロポリエーテルに添加し
た潤滑剤は、ＣＳＳ後のμの上昇を抑え、スライダー付
着物の生成を抑制する効果があることがわかった。ま
た、本発明の評価条件では、特開平５−２０６７５号公
報に記された公知の潤滑剤は、良好な潤滑性能を得るこ
とができず、また、ヘッド付着物の発生を抑制すること
もできないことがわかった。
した本発明に係る潤滑剤は、添加剤５濃度が０．０１〜
５０ｗｔ％、添加剤６濃度が１〜１０００００ｐｐｍの
範囲内で、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライ
ダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。図１９に示す結果から、請求項２の一般式［１］と
請求項４記載の一般式［４］で示されるもののうちＺ＝
Ｎである化合物とをパーフルオロポリエーテルに添加し
た潤滑剤は、ＣＳＳ後のμの上昇を抑え、スライダー付
着物の生成を抑制する効果があることがわかった。ま
た、本発明の評価条件では、特開平５−２０６７５号公
報に記された公知の潤滑剤は、良好な潤滑性能を得るこ
とができず、また、ヘッド付着物の発生を抑制すること
もできないことがわかった。
【００７５】（実施例７６〜９０）は、請求項２記載の
一般式［１］と、請求項４記載の一般式［４］で示され
るもののうちＺがリン原子である化合物と、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実
施例である。
一般式［１］と、請求項４記載の一般式［４］で示され
るもののうちＺがリン原子である化合物と、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実
施例である。
【００７６】前記実施例１〜１５と同様の方法で添加剤
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式［１］で示されるものの
うちＲ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6
Ｈ4 −ＣＦ3 （パラ位）である分子構造を有する化合
物、及び一般式［４］のうちＺ＝Ｐ，Ｒに種々の置換基
を導入した化合物を使用した。
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式［１］で示されるものの
うちＲ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6
Ｈ4 −ＣＦ3 （パラ位）である分子構造を有する化合
物、及び一般式［４］のうちＺ＝Ｐ，Ｒに種々の置換基
を導入した化合物を使用した。
【００７７】評価条件を図２０に、評価結果を図２１に
示す。
示す。
【００７８】図２１に示す結果から、請求項２の一般式
［１］と請求項４記載の一般式［４］で示されるものの
うちＺ＝Ｐである化合物とをパーフルオロポリエーテル
に添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後のμの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。また、本発明の評価条件では、特開平５−２０６７
５号公報に記された公知の潤滑剤は、良好な潤滑性能を
得ることができず、また、ヘッド付着物の発生を抑制す
ることもできないことがわかった。
［１］と請求項４記載の一般式［４］で示されるものの
うちＺ＝Ｐである化合物とをパーフルオロポリエーテル
に添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後のμの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。また、本発明の評価条件では、特開平５−２０６７
５号公報に記された公知の潤滑剤は、良好な潤滑性能を
得ることができず、また、ヘッド付着物の発生を抑制す
ることもできないことがわかった。
【００７９】（実施例９１〜１０５）は、請求項２記載
の一般式［１］と、請求項５記載の一般式［５］で示さ
れるもののうちＺ＝Ｎである化合物と、パーフルオロポ
リエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実施例
である。
の一般式［１］と、請求項５記載の一般式［５］で示さ
れるもののうちＺ＝Ｎである化合物と、パーフルオロポ
リエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実施例
である。
【００８０】一般式［１］で示されるもののうちＲ1 ＝
Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ
3 （パラ位）である分子構造を有する化合物（添加剤
７）、及び一般式［５］のうちＺ＝Ｎ、Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ
3 ＝Ｒ4 ＝−（ＣＨ2 ）10−ＣＨ3 である分子構造を有
する化合物（添加剤８）について、前記実施例１と同様
の方法で濃度展開サンプルディスクを作製した。また、
前記実施例１〜１５と同様の方法で、添加剤８のＲ1 、
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 に種々の置換基を導入した添加剤展開
サンプルディスクを作製した。さらに、特開平５−２０
６７５号公報に記載されたアルキルアミンの一種である
トリ−ｎ−ウンデシルアミンＮ（（ＣＨ2）11ＯＨ）3
を１０００ｐｐｍ添加した潤滑剤を成膜した公知ディス
クも作製した。さらにリファレンスディスクも作製し
た。
Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ
3 （パラ位）である分子構造を有する化合物（添加剤
７）、及び一般式［５］のうちＺ＝Ｎ、Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ
3 ＝Ｒ4 ＝−（ＣＨ2 ）10−ＣＨ3 である分子構造を有
する化合物（添加剤８）について、前記実施例１と同様
の方法で濃度展開サンプルディスクを作製した。また、
前記実施例１〜１５と同様の方法で、添加剤８のＲ1 、
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 に種々の置換基を導入した添加剤展開
サンプルディスクを作製した。さらに、特開平５−２０
６７５号公報に記載されたアルキルアミンの一種である
トリ−ｎ−ウンデシルアミンＮ（（ＣＨ2）11ＯＨ）3
を１０００ｐｐｍ添加した潤滑剤を成膜した公知ディス
クも作製した。さらにリファレンスディスクも作製し
た。
【００８１】評価条件を図２２に、濃度展開サンプルデ
ィスクの評価結果を図２３に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図２４及び図２５に示す。
ィスクの評価結果を図２３に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図２４及び図２５に示す。
【００８２】図２３に示す結果から、実施例９１に記載
した本発明に係る潤滑剤は、添加剤７濃度が０．０１〜
５０％、添加剤８濃度が１〜１０００００ｐｐｍの範囲
内で、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー
付着物の生成を抑制する効果があることがわかった。図
２４及び図２５に示す結果から、請求項２記載の一般式
［１］と請求項５記載の一般式［５］で示されるものの
うちＺ＝Ｎである化合物とをパーフルオロポリエーテル
に添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後のμの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。
した本発明に係る潤滑剤は、添加剤７濃度が０．０１〜
５０％、添加剤８濃度が１〜１０００００ｐｐｍの範囲
内で、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー
付着物の生成を抑制する効果があることがわかった。図
２４及び図２５に示す結果から、請求項２記載の一般式
［１］と請求項５記載の一般式［５］で示されるものの
うちＺ＝Ｎである化合物とをパーフルオロポリエーテル
に添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後のμの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。
【００８３】（実施例１０６〜１２０）は、請求項２記
載の一般式［１］と、請求項５記載の一般式［５］で示
されるもののうちＺがリン原子である化合物と、パーフ
ルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤について
の実施例である。
載の一般式［１］と、請求項５記載の一般式［５］で示
されるもののうちＺがリン原子である化合物と、パーフ
ルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤について
の実施例である。
【００８４】前記実施例１〜１５と同様の方法で添加剤
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能との関係についての検討を
行った。添加剤としては、一般式［１］で示されるもの
のうちＲ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ
6 Ｈ4 −ＣＦ2 ＣＦ3 （パラ位）である分子構造を有す
る化合物、及び一般式［５］のうちＺ＝Ｐ，Ｒ1 、
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 に種々の置換基を導入した化合物を使
用した。
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能との関係についての検討を
行った。添加剤としては、一般式［１］で示されるもの
のうちＲ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ
6 Ｈ4 −ＣＦ2 ＣＦ3 （パラ位）である分子構造を有す
る化合物、及び一般式［５］のうちＺ＝Ｐ，Ｒ1 、
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 に種々の置換基を導入した化合物を使
用した。
【００８５】評価条件を図２６に、評価結果を図２７及
び図２８に示す。
び図２８に示す。
【００８６】図２７及び図２８に示す結果から、請求項
２記載の一般式［１］と請求項５記載の一般式［５］で
示されるもののうちＺ＝Ｎである化合物とをパーフルオ
ロポリエーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩擦係
数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する
効果があることがわかった。また、本発明の評価条件で
は、特開平５−２０６７５号公報に記された公知の潤滑
剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッ
ド付着物の発生を抑制することもできないことがわかっ
た。
２記載の一般式［１］と請求項５記載の一般式［５］で
示されるもののうちＺ＝Ｎである化合物とをパーフルオ
ロポリエーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩擦係
数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する
効果があることがわかった。また、本発明の評価条件で
は、特開平５−２０６７５号公報に記された公知の潤滑
剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッ
ド付着物の発生を抑制することもできないことがわかっ
た。
【００８７】（実施例１２１〜１３５）は、請求項２記
載の一般式［１］と、請求項６記載の一般式［６］で示
されるもののうちＺが窒素原子である化合物と、パーフ
ルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤について
の実施例である。
載の一般式［１］と、請求項６記載の一般式［６］で示
されるもののうちＺが窒素原子である化合物と、パーフ
ルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤について
の実施例である。
【００８８】一般式［１］で示されるもののうちＲ1 ＝
Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ
2 ＣＦ3 （オルト位）である分子構造を有する化合物
（添加剤９）、及び一般式［６］のうちＺ＝Ｎ、Ｒ1 ＝
Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝−（ＣＨ2 ）10−ＣＨ3 、Ｒ
3 ＝−（ＣＨ2 ）10−である分子構造を有する化合物
（添加剤１０）について、前記実施例１〜１５と同様の
方法で、添加剤１０のＲ1、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 に
種々の置換基を導入した添加剤サンプルディスクを作製
した。さらに、特開平５−２０６７５号公報に記載され
たアルキルアミンの一種であるジ−ｎ−ウンデシノール
アミンＮＨ（（ＣＨ2 ）11ＯＨ）2 を１０００ｐｐｍ添
加した潤滑剤を成膜した公知ディスクも作製した。さら
にリファレンスディスクも作製した。
Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ
2 ＣＦ3 （オルト位）である分子構造を有する化合物
（添加剤９）、及び一般式［６］のうちＺ＝Ｎ、Ｒ1 ＝
Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝−（ＣＨ2 ）10−ＣＨ3 、Ｒ
3 ＝−（ＣＨ2 ）10−である分子構造を有する化合物
（添加剤１０）について、前記実施例１〜１５と同様の
方法で、添加剤１０のＲ1、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 に
種々の置換基を導入した添加剤サンプルディスクを作製
した。さらに、特開平５−２０６７５号公報に記載され
たアルキルアミンの一種であるジ−ｎ−ウンデシノール
アミンＮＨ（（ＣＨ2 ）11ＯＨ）2 を１０００ｐｐｍ添
加した潤滑剤を成膜した公知ディスクも作製した。さら
にリファレンスディスクも作製した。
【００８９】評価条件を図２９に、濃度展開サンプルデ
ィスクの評価結果を図３０に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図３１、図３２及び図３３に示す。
ィスクの評価結果を図３０に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図３１、図３２及び図３３に示す。
【００９０】図３０に示す結果から、実施例１２１に記
載した本発明に係る潤滑剤は、添加剤９濃度が０．０１
〜５０％、添加剤１０濃度が１〜１０００００ｐｐｍの
範囲内で、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライ
ダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。図３１、図３２及び図３３に示す結果から、請求項
２記載の一般式［１］と請求項６記載の一般式［６］で
示されるもののうちＺ＝Ｎである化合物とをパーフルオ
ロポリエーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩擦係
数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する
効果があることがわかった。また、本発明の評価条件で
は、特開平５−２０６７５号公報に記された公知の潤滑
剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッ
ド付着物の発生を抑制することもできないことがわかっ
た。
載した本発明に係る潤滑剤は、添加剤９濃度が０．０１
〜５０％、添加剤１０濃度が１〜１０００００ｐｐｍの
範囲内で、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライ
ダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。図３１、図３２及び図３３に示す結果から、請求項
２記載の一般式［１］と請求項６記載の一般式［６］で
示されるもののうちＺ＝Ｎである化合物とをパーフルオ
ロポリエーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩擦係
数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する
効果があることがわかった。また、本発明の評価条件で
は、特開平５−２０６７５号公報に記された公知の潤滑
剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッ
ド付着物の発生を抑制することもできないことがわかっ
た。
【００９１】（実施例１３６〜１５０）は、請求項２記
載の一般式［１］と、請求項６記載の一般式［６］で示
されるもののうちＺがリン原子である化合物と、パーフ
ルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤について
の実施例である。
載の一般式［１］と、請求項６記載の一般式［６］で示
されるもののうちＺがリン原子である化合物と、パーフ
ルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤について
の実施例である。
【００９２】前記実施例１〜１５と同様の方法で添加剤
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式［１］で示されるものの
うちＲ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6
Ｈ4 −ＣＦ2 ＣＦ3 （オルト位）である分子構造を有す
る化合物、及び一般式［６］のうちＺ＝Ｐ，Ｒ1 、
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 に種々の置換基を導入した化合
物を使用した。
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式［１］で示されるものの
うちＲ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6
Ｈ4 −ＣＦ2 ＣＦ3 （オルト位）である分子構造を有す
る化合物、及び一般式［６］のうちＺ＝Ｐ，Ｒ1 、
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 に種々の置換基を導入した化合
物を使用した。
【００９３】評価条件を図３４に、評価結果を図３５、
図３６及び図３７に示す。
図３６及び図３７に示す。
【００９４】図３５、図３６及び図３７に示す結果か
ら、請求項２記載の一般式［１］と請求項６記載の一般
式［６］で示されるもののうちＺ＝Ｐである化合物とを
パーフルオロポリエーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ
後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成
を抑制する効果があることがわかった。また、本発明の
評価条件では、特開平５−２０６７５号公報に記された
公知の潤滑剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、
また、ヘッド付着物の発生を抑制することもできないこ
とがわかった。
ら、請求項２記載の一般式［１］と請求項６記載の一般
式［６］で示されるもののうちＺ＝Ｐである化合物とを
パーフルオロポリエーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ
後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成
を抑制する効果があることがわかった。また、本発明の
評価条件では、特開平５−２０６７５号公報に記された
公知の潤滑剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、
また、ヘッド付着物の発生を抑制することもできないこ
とがわかった。
【００９５】（実施例１５１〜１６５）は、請求項２記
載の一般式［１］と、請求項７記載の複素環化合物又は
複素環化合物と他の環状化合物との縮合多環化合物のう
ち環を構成する炭素以外の原子すなわち異種原子がＮで
ある化合物と、パーフルオロポリエーテル系化合物とか
らなる潤滑剤についての実施例である。
載の一般式［１］と、請求項７記載の複素環化合物又は
複素環化合物と他の環状化合物との縮合多環化合物のう
ち環を構成する炭素以外の原子すなわち異種原子がＮで
ある化合物と、パーフルオロポリエーテル系化合物とか
らなる潤滑剤についての実施例である。
【００９６】一般式［１］で示されるもののうちＲ1 ＝
Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ
2 ＣＦ3 （メタ位）である分子構造を有する化合物（添
加剤１１）、及び請求項７記載の複素環化合物のうちピ
ロール（添加剤１２）について、前記実施例１と同様の
方法で濃度展開サンプルディスクを作製した。また、前
記実施例１〜１５と同様の方法で、種々の複素環化合物
を用いて添加剤展開サンプルディスクを製作した。さら
に、特開平５−２０６７５号公報に記載されたアルキル
アミンの一種であるｎ−ウンデシノールアミンＮＨ
2 （ＣＨ2 ）11ＯＨを１０００ｐｐｍ添加した潤滑剤を
成膜した公知ディスクも作製した。さらにリファレンス
ディスクも作製した。
Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ
2 ＣＦ3 （メタ位）である分子構造を有する化合物（添
加剤１１）、及び請求項７記載の複素環化合物のうちピ
ロール（添加剤１２）について、前記実施例１と同様の
方法で濃度展開サンプルディスクを作製した。また、前
記実施例１〜１５と同様の方法で、種々の複素環化合物
を用いて添加剤展開サンプルディスクを製作した。さら
に、特開平５−２０６７５号公報に記載されたアルキル
アミンの一種であるｎ−ウンデシノールアミンＮＨ
2 （ＣＨ2 ）11ＯＨを１０００ｐｐｍ添加した潤滑剤を
成膜した公知ディスクも作製した。さらにリファレンス
ディスクも作製した。
【００９７】評価条件を図３８に、濃度展開サンプルデ
ィスクの評価結果を図３９に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図４０に示す。
ィスクの評価結果を図３９に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図４０に示す。
【００９８】図３９に示す結果から、実施例１５１に記
載した本発明に係る潤滑剤は、添加剤１１濃度が０．０
１〜５０％、添加剤１２濃度が１〜１０００００ｐｐｍ
の範囲内で、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。
載した本発明に係る潤滑剤は、添加剤１１濃度が０．０
１〜５０％、添加剤１２濃度が１〜１０００００ｐｐｍ
の範囲内で、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。
【００９９】図４０に示す結果から、請求項２記載の一
般式［１］と、請求項７記載の複素環化合物又は複素環
化合物と他の環状化合物との縮合多環化合物のうち環を
構成する炭素以外の原子すなわち異種原子がＮである化
合物とを、パーフルオロポリエーテルに添加した潤滑剤
は、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー付
着物の生成を抑制する効果があることがわかった。ま
た、本発明の評価条件では、特開平５−２０６７５号公
報に記された公知の潤滑剤は、良好な潤滑性能を得るこ
とができず、また、ヘッド付着物の発生を抑制すること
もできないことがわかった。
般式［１］と、請求項７記載の複素環化合物又は複素環
化合物と他の環状化合物との縮合多環化合物のうち環を
構成する炭素以外の原子すなわち異種原子がＮである化
合物とを、パーフルオロポリエーテルに添加した潤滑剤
は、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー付
着物の生成を抑制する効果があることがわかった。ま
た、本発明の評価条件では、特開平５−２０６７５号公
報に記された公知の潤滑剤は、良好な潤滑性能を得るこ
とができず、また、ヘッド付着物の発生を抑制すること
もできないことがわかった。
【０１００】（実施例１６６〜１８０）は、請求項２記
載の一般式［１］と、請求項７記載の複素環化合物又は
複素環化合物と他の環状化合物との縮合多環化合物のう
ち環を構成する炭素以外の原子すなわち異種原子がＰで
ある化合物と、パーフルオロポリエーテル系化合物とか
らなる潤滑剤についての実施例である。
載の一般式［１］と、請求項７記載の複素環化合物又は
複素環化合物と他の環状化合物との縮合多環化合物のう
ち環を構成する炭素以外の原子すなわち異種原子がＰで
ある化合物と、パーフルオロポリエーテル系化合物とか
らなる潤滑剤についての実施例である。
【０１０１】前記実施例１〜１５と同様の方法で添加剤
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式［１］で示されるものの
うちＲ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6
Ｈ4 −ＣＦ2 ＣＦ3 （メタ位）である分子構造を有する
化合物、及び請求項７記載の複素環化合物又は複素環化
合物と他の環状化合物との縮合多環化合物のうち１５種
類の化合物を使用した。
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式［１］で示されるものの
うちＲ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4＝Ｒ5 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6
Ｈ4 −ＣＦ2 ＣＦ3 （メタ位）である分子構造を有する
化合物、及び請求項７記載の複素環化合物又は複素環化
合物と他の環状化合物との縮合多環化合物のうち１５種
類の化合物を使用した。
【０１０２】評価条件を図４１に、評価結果を図４２に
示す。
示す。
【０１０３】図４２に示す結果から、請求項２記載の一
般式［１］と、請求項７記載の複素環化合物又は複素環
化合物と他の環状化合物との縮合多環化合物のうち環を
構成する炭素以外の原子すなわち異種原子がＰである化
合物とを、パーフルオロポリエーテルに添加した潤滑剤
は、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー付
着物の生成を抑制する効果があることがわかった。ま
た、本発明の評価条件では、特開平５−２０６７５号公
報に記された公知の潤滑剤は、良好な潤滑性能を得るこ
とができず、また、ヘッド付着物の発生を抑制すること
もできないことがわかった。
般式［１］と、請求項７記載の複素環化合物又は複素環
化合物と他の環状化合物との縮合多環化合物のうち環を
構成する炭素以外の原子すなわち異種原子がＰである化
合物とを、パーフルオロポリエーテルに添加した潤滑剤
は、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー付
着物の生成を抑制する効果があることがわかった。ま
た、本発明の評価条件では、特開平５−２０６７５号公
報に記された公知の潤滑剤は、良好な潤滑性能を得るこ
とができず、また、ヘッド付着物の発生を抑制すること
もできないことがわかった。
【０１０４】（実施例１８１〜１９５）は、請求項２記
載の一般式［１］と、請求項８記載の一般式［７］で示
されるもののうちＺが塩素原子である化合物と、パーフ
ルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤について
の実施例である。
載の一般式［１］と、請求項８記載の一般式［７］で示
されるもののうちＺが塩素原子である化合物と、パーフ
ルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤について
の実施例である。
【０１０５】一般式［１］で示されるもののうち、Ｒ1
＝Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ3 （オルト位）、
Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ3 （パラ位）
である分子構造を有する化合物（添加剤１３）、及び一
般式［７］のうちＺ＝Ｎ、Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝−
（ＣＨ2 ）10−ＣＨ3 、Ｒ3 ＝−（ＣＨ2 ）10−である
分子構造を有する化合物（添加剤１４）について、前記
実施例１と同様の方法で濃度展開サンプルディスクを作
製した。また、前記実施例１〜１５と同様の方法で、添
加剤１４のＲ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 に種々の置換
基を導入した添加剤サンプルディスクを作製した。さら
に、特開平５−２０６７５号公報に記載されたアルキル
アミンの一種であるトリ−ｎ−ヘキシルアミンＮ（（Ｃ
Ｈ2 ）6ＯＨ）3 を１０００ｐｐｍ添加した潤滑剤を成
膜した公知ディスクも作製した。さらにリファレンスデ
ィスクも作製した。
＝Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ3 （オルト位）、
Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ3 （パラ位）
である分子構造を有する化合物（添加剤１３）、及び一
般式［７］のうちＺ＝Ｎ、Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝−
（ＣＨ2 ）10−ＣＨ3 、Ｒ3 ＝−（ＣＨ2 ）10−である
分子構造を有する化合物（添加剤１４）について、前記
実施例１と同様の方法で濃度展開サンプルディスクを作
製した。また、前記実施例１〜１５と同様の方法で、添
加剤１４のＲ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 に種々の置換
基を導入した添加剤サンプルディスクを作製した。さら
に、特開平５−２０６７５号公報に記載されたアルキル
アミンの一種であるトリ−ｎ−ヘキシルアミンＮ（（Ｃ
Ｈ2 ）6ＯＨ）3 を１０００ｐｐｍ添加した潤滑剤を成
膜した公知ディスクも作製した。さらにリファレンスデ
ィスクも作製した。
【０１０６】評価条件を図４３に、濃度展開サンプルデ
ィスクの評価結果を図４４に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図４５及び図４６に示す。
ィスクの評価結果を図４４に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図４５及び図４６に示す。
【０１０７】図４４に示す結果から、実施例１８１に記
載した本発明に係る潤滑剤は、添加剤１３濃度が０．０
１〜５０％、添加剤１４濃度が１〜１０００００ｐｐｍ
の範囲内で、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。図４５及び図４６に示す結果から、請求項２記載の
一般式［１］と請求項８記載の一般式［７］で示される
もののうちＺ＝Ｏである化合物とをパーフルオロポリエ
ーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上
昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があ
ることがわかった。また、本発明の評価条件では、特開
平５−２０６７５号公報に記された公知の潤滑剤は、良
好な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物
の発生を抑制することもできないことがわかった。
載した本発明に係る潤滑剤は、添加剤１３濃度が０．０
１〜５０％、添加剤１４濃度が１〜１０００００ｐｐｍ
の範囲内で、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。図４５及び図４６に示す結果から、請求項２記載の
一般式［１］と請求項８記載の一般式［７］で示される
もののうちＺ＝Ｏである化合物とをパーフルオロポリエ
ーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上
昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があ
ることがわかった。また、本発明の評価条件では、特開
平５−２０６７５号公報に記された公知の潤滑剤は、良
好な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物
の発生を抑制することもできないことがわかった。
【０１０８】（実施例１９６〜２１０）は、請求項２記
載の一般式［１］と、請求項８記載の一般式［７］で示
されるもののうちＺがイオウ原子である化合物と、パー
フルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤につい
ての実施例である。
載の一般式［１］と、請求項８記載の一般式［７］で示
されるもののうちＺがイオウ原子である化合物と、パー
フルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤につい
ての実施例である。
【０１０９】前記実施例１〜１５と同様の方法で添加剤
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式［１］で示されるものの
うちＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ3 （オル
ト位）、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ
3（パラ位）である分子構造を有する化合物、及び一般
式［７］のうちＺ＝Ｓ，Ｒ1 、Ｒ2 、に種々の置換基を
導入した化合物を使用した。
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式［１］で示されるものの
うちＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ3 （オル
ト位）、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ
3（パラ位）である分子構造を有する化合物、及び一般
式［７］のうちＺ＝Ｓ，Ｒ1 、Ｒ2 、に種々の置換基を
導入した化合物を使用した。
【０１１０】評価条件を図４７に、評価結果を図４８及
び図４９に示す。
び図４９に示す。
【０１１１】図４８及び図４９に示す結果から、請求項
２記載の一般式［１］と、請求項８記載の一般式［７］
で示されるもののうちＺ＝Ｓである化合物とを、パーフ
ルオロポリエーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩
擦係数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制
する効果があることがわかった。また、本発明の評価条
件では、特開平５−２０６７５号公報に記された公知の
潤滑剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、また、
ヘッド付着物の発生を抑制することもできないことがわ
かった。
２記載の一般式［１］と、請求項８記載の一般式［７］
で示されるもののうちＺ＝Ｓである化合物とを、パーフ
ルオロポリエーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩
擦係数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制
する効果があることがわかった。また、本発明の評価条
件では、特開平５−２０６７５号公報に記された公知の
潤滑剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、また、
ヘッド付着物の発生を抑制することもできないことがわ
かった。
【０１１２】（実施例２１１〜２２５）は、請求項２記
載の一般式［１］と、請求項９記載の一般式［８］で示
されるもののうちＺが塩素原子である化合物と、パーフ
ルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤について
の実施例である。
載の一般式［１］と、請求項９記載の一般式［８］で示
されるもののうちＺが塩素原子である化合物と、パーフ
ルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤について
の実施例である。
【０１１３】一般式［１］で示されるもののうちＲ1 ＝
Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ2 ＣＦ3 （オルト
位）、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ2 ＣＦ
3 （パラ位）である分子構造を有する化合物（添加剤１
５）、及び一般式［８］のうちＺ＝Ｏ、Ｒ＝ＣＨ（ＣＨ
2 ）9 −ＣＨ3 である分子構造を有する化合物（添加剤
１６）について、前記実施例１と同様の方法で濃度展開
サンプルディスクを作製した。また、前記実施例１〜１
５と同様の方法で添加剤１６のＲに種々の置換基を導入
した添加剤サンプルディスクを作製した。さらに、特開
平５−２０６７５号公報に記載されたアルキルアミンの
一種であるジ−ｎ−ヘキシルアミンＮＨ（（ＣＨ2 ）5
ＣＨ3 ）2 を１０００ｐｐｍ添加した潤滑剤を成膜した
公知ディスクも作製した。さらにリファレンスディスク
も作製した。
Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ2 ＣＦ3 （オルト
位）、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ2 ＣＦ
3 （パラ位）である分子構造を有する化合物（添加剤１
５）、及び一般式［８］のうちＺ＝Ｏ、Ｒ＝ＣＨ（ＣＨ
2 ）9 −ＣＨ3 である分子構造を有する化合物（添加剤
１６）について、前記実施例１と同様の方法で濃度展開
サンプルディスクを作製した。また、前記実施例１〜１
５と同様の方法で添加剤１６のＲに種々の置換基を導入
した添加剤サンプルディスクを作製した。さらに、特開
平５−２０６７５号公報に記載されたアルキルアミンの
一種であるジ−ｎ−ヘキシルアミンＮＨ（（ＣＨ2 ）5
ＣＨ3 ）2 を１０００ｐｐｍ添加した潤滑剤を成膜した
公知ディスクも作製した。さらにリファレンスディスク
も作製した。
【０１１４】評価条件を図５０に、濃度展開サンプルデ
ィスクの評価結果を図５１に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図５２に示す。
ィスクの評価結果を図５１に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図５２に示す。
【０１１５】図５１に示す結果から、実施例２１１に記
載した本発明に係る潤滑剤は、添加剤１５濃度が０．０
１〜５０％、添加剤１６濃度が１〜１０００００ｐｐｍ
の範囲内で、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。図５２に示す結果から、請求項２記載の一般式
［１］と請求項９記載の一般式［８］で示されるものの
うちＺ＝Ｏである化合物とをパーフルオロポリエーテル
に添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑
え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があること
がわかった。また、本発明の評価条件では、特開平５−
２０６７５号公報に記された公知の潤滑剤は、良好な潤
滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物の発生
を抑制することもできないことがわかった。
載した本発明に係る潤滑剤は、添加剤１５濃度が０．０
１〜５０％、添加剤１６濃度が１〜１０００００ｐｐｍ
の範囲内で、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。図５２に示す結果から、請求項２記載の一般式
［１］と請求項９記載の一般式［８］で示されるものの
うちＺ＝Ｏである化合物とをパーフルオロポリエーテル
に添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑
え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があること
がわかった。また、本発明の評価条件では、特開平５−
２０６７５号公報に記された公知の潤滑剤は、良好な潤
滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物の発生
を抑制することもできないことがわかった。
【０１１６】（実施例２２６〜２４０）は、請求項２記
載の一般式［１］と、請求項９記載の一般式［８］で示
されるもののうちＺ＝Ｓである化合物と、パーフルオロ
ポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実施
例である。
載の一般式［１］と、請求項９記載の一般式［８］で示
されるもののうちＺ＝Ｓである化合物と、パーフルオロ
ポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実施
例である。
【０１１７】前記実施例１〜１５と同様の方法で添加剤
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式［１］で示されるものの
うちＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ2 ＣＦ3
（オルト位）、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −Ｃ
Ｆ2 ＣＦ3 （パラ位）である分子構造を有する化合物及
び一般式［８］のうち、Ｚ＝Ｓ，Ｒに種々の置換基を導
入した化合物を使用した。
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式［１］で示されるものの
うちＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ2 ＣＦ3
（オルト位）、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −Ｃ
Ｆ2 ＣＦ3 （パラ位）である分子構造を有する化合物及
び一般式［８］のうち、Ｚ＝Ｓ，Ｒに種々の置換基を導
入した化合物を使用した。
【０１１８】評価条件を図５３に、評価結果を図５４に
示す。
示す。
【０１１９】図５４に示す結果から、請求項２記載の一
般式［１］と請求項８記載の一般式［８］で示されるも
ののうちＺ＝Ｓである化合物とをパーフルオロポリエー
テルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇
を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する効果がある
ことがわかった。また、本発明の評価条件では、特開平
５−２０６７５号公報に記された公知の潤滑剤は、良好
な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物の
発生を抑制することもできないことがわかった。
般式［１］と請求項８記載の一般式［８］で示されるも
ののうちＺ＝Ｓである化合物とをパーフルオロポリエー
テルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇
を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する効果がある
ことがわかった。また、本発明の評価条件では、特開平
５−２０６７５号公報に記された公知の潤滑剤は、良好
な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物の
発生を抑制することもできないことがわかった。
【０１２０】（実施例２４１〜２５５）は、請求項２記
載の一般式［１］と、請求項１０記載の一般式［９］で
示されるもののうちＺ＝Ｏである化合物と、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実
施例である。
載の一般式［１］と、請求項１０記載の一般式［９］で
示されるもののうちＺ＝Ｏである化合物と、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実
施例である。
【０１２１】一般式［１］で示されるもののうちＲ1 ＝
Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ3 （オルト位）、Ｒ
2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ2 ＣＦ3 （パラ
位）である分子構造を有する化合物（添加剤１７）、及
び一般式［９］のうちＺ＝Ｏ、Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝−（Ｃ
Ｈ2 ）10−ＣＨ3 である分子構造を有する化合物（添加
剤１８）について、前記実施例１と同様の方法で濃度展
開サンプルディスクを作製した。また、前記実施例１〜
１５と同様の方法で添加剤１８のＲ1 、Ｒ2 に種々の置
換基を導入した添加剤サンプルディスクを作製した。さ
らに、特開平５−２０６７５号公報に記載されたアルキ
ルアミンの一種であるｎ−ヘキシルアミンＮＨ2 （ＣＨ
2 ）6 ＯＨを１０００ｐｐｍ添加した潤滑剤を成膜した
公知ディスクも作製した。さらにリファレンスディスク
も作製した。
Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ3 （オルト位）、Ｒ
2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ2 ＣＦ3 （パラ
位）である分子構造を有する化合物（添加剤１７）、及
び一般式［９］のうちＺ＝Ｏ、Ｒ1 ＝Ｒ2 ＝−（Ｃ
Ｈ2 ）10−ＣＨ3 である分子構造を有する化合物（添加
剤１８）について、前記実施例１と同様の方法で濃度展
開サンプルディスクを作製した。また、前記実施例１〜
１５と同様の方法で添加剤１８のＲ1 、Ｒ2 に種々の置
換基を導入した添加剤サンプルディスクを作製した。さ
らに、特開平５−２０６７５号公報に記載されたアルキ
ルアミンの一種であるｎ−ヘキシルアミンＮＨ2 （ＣＨ
2 ）6 ＯＨを１０００ｐｐｍ添加した潤滑剤を成膜した
公知ディスクも作製した。さらにリファレンスディスク
も作製した。
【０１２２】評価条件を図５５に、濃度展開サンプルデ
ィスクの評価結果を図５６に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図５７及び図５８に示す。
ィスクの評価結果を図５６に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図５７及び図５８に示す。
【０１２３】図５６に示す結果から、実施例２４１に記
載した本発明に係る潤滑剤は、添加剤１５濃度が０．０
１〜５０％、添加剤１６濃度が１〜１０００００ｐｐｍ
の範囲内で、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。
載した本発明に係る潤滑剤は、添加剤１５濃度が０．０
１〜５０％、添加剤１６濃度が１〜１０００００ｐｐｍ
の範囲内で、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。
【０１２４】図５６に示す結果から、請求項２記載の一
般式［１］と請求項１０記載の一般式［９］で示される
もののうちＺ＝Ｏである化合物とをパーフルオロポリエ
ーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上
昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があ
ることがわかった。また、本発明の評価条件では、特開
平５−２０６７５号公報に記された公知の潤滑剤は、良
好な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物
の発生を抑制することもできないことがわかった。
般式［１］と請求項１０記載の一般式［９］で示される
もののうちＺ＝Ｏである化合物とをパーフルオロポリエ
ーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上
昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があ
ることがわかった。また、本発明の評価条件では、特開
平５−２０６７５号公報に記された公知の潤滑剤は、良
好な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物
の発生を抑制することもできないことがわかった。
【０１２５】（実施例２５６〜２７０）は、請求項２記
載の一般式［１］と、請求項１０記載の一般式［９］で
示されるもののうちＺがイオウ原子である化合物と、パ
ーフルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤につ
いての実施例である。
載の一般式［１］と、請求項１０記載の一般式［９］で
示されるもののうちＺがイオウ原子である化合物と、パ
ーフルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤につ
いての実施例である。
【０１２６】前記実施例１〜１５と同様の方法で添加剤
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式［１］で示されるものの
うちＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ3 （オル
ト位）、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ2Ｃ
Ｆ3 （パラ位）である分子構造を有する化合物、及び一
般式［９］のうちＺ＝Ｓ，Ｒに種々の置換基を導入した
化合物を使用した。
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式［１］で示されるものの
うちＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ3 （オル
ト位）、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ2Ｃ
Ｆ3 （パラ位）である分子構造を有する化合物、及び一
般式［９］のうちＺ＝Ｓ，Ｒに種々の置換基を導入した
化合物を使用した。
【０１２７】評価条件を図５９に、評価結果を図６０及
び図６１に示す。
び図６１に示す。
【０１２８】図６０及び図６１に示す結果から、請求項
２記載の一般式［１］と、請求項１０記載の一般式
［９］で示されるもののうちＺ＝Ｓである化合物とを、
パーフルオロポリエーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ
後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成
を抑制する効果があることがわかった。また、本発明の
評価条件では、特開平５−２０６７５号公報に記された
公知の潤滑剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、
また、ヘッド付着物の発生を抑制することもできないこ
とがわかった。
２記載の一般式［１］と、請求項１０記載の一般式
［９］で示されるもののうちＺ＝Ｓである化合物とを、
パーフルオロポリエーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ
後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成
を抑制する効果があることがわかった。また、本発明の
評価条件では、特開平５−２０６７５号公報に記された
公知の潤滑剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、
また、ヘッド付着物の発生を抑制することもできないこ
とがわかった。
【０１２９】（実施例２７１〜２８５）は、請求項２記
載の一般式［１］と、請求項１１記載の一般式［１０］
で示されるもののうちＺが酸素原子である化合物と、パ
ーフルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤につ
いての実施例である。
載の一般式［１］と、請求項１１記載の一般式［１０］
で示されるもののうちＺが酸素原子である化合物と、パ
ーフルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤につ
いての実施例である。
【０１３０】一般式［１］で示されるもののうちＲ1 ＝
Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ2 ＣＦ3 （オルト
位）、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ3 （パ
ラ位）である分子構造を有する化合物（添加剤１９）、
及び一般式［９］のうちＺ＝Ｏ、Ｒ1 ＝Ｒ3 ＝−（ＣＨ
2 ）10−ＣＨ3 ，Ｒ2 ＝−（ＣＨ2 ）10−である分子構
造を有する化合物（添加剤２０）について、前記実施例
１と同様の方法で濃度展開サンプルディスクを作製し
た。また、前記実施例１〜１５と同様の方法で添加剤２
０のＲ1 、Ｒ2 、Ｒ3 に種々の置換基を導入した添加剤
サンプルディスクを作製した。さらに、特開平５−２０
６７５号公報に記載されたアルキルアミンの一種である
トリ−ｎ−ヘキサノールアミンＮ（（ＣＨ2 ）6 ＯＨ）
3 を１０００ｐｐｍ添加した潤滑剤を成膜した公知ディ
スクも作製した。さらにリファレンスディスクも作製し
た。
Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ2 ＣＦ3 （オルト
位）、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ3 （パ
ラ位）である分子構造を有する化合物（添加剤１９）、
及び一般式［９］のうちＺ＝Ｏ、Ｒ1 ＝Ｒ3 ＝−（ＣＨ
2 ）10−ＣＨ3 ，Ｒ2 ＝−（ＣＨ2 ）10−である分子構
造を有する化合物（添加剤２０）について、前記実施例
１と同様の方法で濃度展開サンプルディスクを作製し
た。また、前記実施例１〜１５と同様の方法で添加剤２
０のＲ1 、Ｒ2 、Ｒ3 に種々の置換基を導入した添加剤
サンプルディスクを作製した。さらに、特開平５−２０
６７５号公報に記載されたアルキルアミンの一種である
トリ−ｎ−ヘキサノールアミンＮ（（ＣＨ2 ）6 ＯＨ）
3 を１０００ｐｐｍ添加した潤滑剤を成膜した公知ディ
スクも作製した。さらにリファレンスディスクも作製し
た。
【０１３１】評価条件を図６２に、濃度展開サンプルデ
ィスクの評価結果を図６３に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図６４及び図６５に示す。
ィスクの評価結果を図６３に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図６４及び図６５に示す。
【０１３２】図６３に示す結果から、実施例２７１に記
載した本発明に係る潤滑剤は、添加剤１９濃度が０．０
１〜５０％、添加剤２０濃度が１〜１０００００ｐｐｍ
の範囲内で、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。図６４及び図６５に示す結果から、請求項２記載の
一般式［１］と、請求項１１記載の一般式［１０］で示
されるもののうちＺ＝Ｏである化合物とを、パーフルオ
ロポリエーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩擦係
数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する
効果があることがわかった。また、本発明の評価条件で
は、特開平５−２０６７５号公報に記された公知の潤滑
剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッ
ド付着物の発生を抑制することもできないことがわかっ
た。
載した本発明に係る潤滑剤は、添加剤１９濃度が０．０
１〜５０％、添加剤２０濃度が１〜１０００００ｐｐｍ
の範囲内で、ＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。図６４及び図６５に示す結果から、請求項２記載の
一般式［１］と、請求項１１記載の一般式［１０］で示
されるもののうちＺ＝Ｏである化合物とを、パーフルオ
ロポリエーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後の摩擦係
数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する
効果があることがわかった。また、本発明の評価条件で
は、特開平５−２０６７５号公報に記された公知の潤滑
剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッ
ド付着物の発生を抑制することもできないことがわかっ
た。
【０１３３】（実施例２８６〜３００）は、請求項２記
載の一般式［１］と、請求項１１記載の一般式［１０］
で示されるもののうちＺ＝Ｓである化合物と、パーフル
オロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての
実施例である。
載の一般式［１］と、請求項１１記載の一般式［１０］
で示されるもののうちＺ＝Ｓである化合物と、パーフル
オロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての
実施例である。
【０１３４】前記実施例１〜１５と同様の方法で添加剤
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式［１］で示されるものの
うちＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ2 ＣＦ3
（オルト位）、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −Ｃ
Ｆ3 （パラ位）である分子構造を有する化合物、及び一
般式［１０］のうちＺ＝Ｓ，Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 に種々の
置換基を導入した化合物を使用した。
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式［１］で示されるものの
うちＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ5 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −ＣＦ2 ＣＦ3
（オルト位）、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ6 ＝−Ｏ−Ｃ6 Ｈ4 −Ｃ
Ｆ3 （パラ位）である分子構造を有する化合物、及び一
般式［１０］のうちＺ＝Ｓ，Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 に種々の
置換基を導入した化合物を使用した。
【０１３５】評価条件を図６６に、評価結果を図６７及
び図６８に示す。
び図６８に示す。
【０１３６】図６７及び図６８に示す結果から、請求項
２記載の一般式［１］と、請求項１１記載の一般式［１
０］で示されるもののうちＺ＝Ｓである化合物とを、パ
ーフルオロポリエーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後
の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成を
抑制する効果があることがわかった。また、本発明の評
価条件では、特開平５−２０６７５号公報に記された公
知の潤滑剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、ま
た、ヘッド付着物の発生を抑制することもできないこと
がわかった。
２記載の一般式［１］と、請求項１１記載の一般式［１
０］で示されるもののうちＺ＝Ｓである化合物とを、パ
ーフルオロポリエーテルに添加した潤滑剤は、ＣＳＳ後
の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成を
抑制する効果があることがわかった。また、本発明の評
価条件では、特開平５−２０６７５号公報に記された公
知の潤滑剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、ま
た、ヘッド付着物の発生を抑制することもできないこと
がわかった。
【０１３７】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の潤滑剤はパーフルオロポリエーテルの分解及び高粘
性物質の生成を防ぐので、ＣＳＳによる摩擦係数μの上
昇を抑え、また、スライダー付着物の生成を抑制する効
果がある。そのために、この潤滑剤を成膜した磁気記録
媒体は、如何なる使用条件下においても長期間にわたっ
てその潤滑性を保つことができる。従ってこの磁気記録
媒体を用いた磁気記録装置は、従来の磁気記録装置より
も信頼性が高く、装置寿命が延長される効果がある。
明の潤滑剤はパーフルオロポリエーテルの分解及び高粘
性物質の生成を防ぐので、ＣＳＳによる摩擦係数μの上
昇を抑え、また、スライダー付着物の生成を抑制する効
果がある。そのために、この潤滑剤を成膜した磁気記録
媒体は、如何なる使用条件下においても長期間にわたっ
てその潤滑性を保つことができる。従ってこの磁気記録
媒体を用いた磁気記録装置は、従来の磁気記録装置より
も信頼性が高く、装置寿命が延長される効果がある。
【図１】本発明の磁気記録媒体の一構成例を示す要部拡
大断面図である。
大断面図である。
【図２】本発明の磁気記録装置を概略的に示す構成図で
ある。
ある。
【図３】実施例１〜１５における、潤滑性能の評価試験
条件を示す図表である。
条件を示す図表である。
【図４】実施例１〜１５における、添加剤濃度と潤滑性
能との関係についての評価結果を示す図表である。
能との関係についての評価結果を示す図表である。
【図５】実施例１〜１５における、添加剤の種類と潤滑
性能との関係についての評価結果を示す図表である。
性能との関係についての評価結果を示す図表である。
【図６】実施例１〜１５における、添加剤の種類と潤滑
性能との関係についての評価結果を示す図表である。
性能との関係についての評価結果を示す図表である。
【図７】実施例１６〜３０における、潤滑性能の評価試
験条件を示す図表である。
験条件を示す図表である。
【図８】実施例１６〜３０における、添加剤の種類と潤
滑性能との関係についての評価結果を示す図表である。
滑性能との関係についての評価結果を示す図表である。
【図９】実施例１６〜３０における、添加剤の種類と潤
滑性能との関係についての評価結果を示す図表である。
滑性能との関係についての評価結果を示す図表である。
【図１０】実施例３１〜４５における、潤滑性能の評価
試験条件を示す図表である。
試験条件を示す図表である。
【図１１】実施例３１〜４５における、添加剤濃度と潤
滑性能との関係についての評価結果を示す図表である。
滑性能との関係についての評価結果を示す図表である。
【図１２】実施例３１〜４５における、添加剤の種類と
潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
【図１３】実施例３１〜４５における、添加剤の種類と
潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
【図１４】実施例４６〜６０における、潤滑性能の評価
試験条件を示す図表である。
試験条件を示す図表である。
【図１５】実施例４６〜６０における、添加剤の種類と
潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
【図１６】実施例４６〜６０における、添加剤の種類と
潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
【図１７】実施例６１〜７５における、潤滑性能の評価
試験条件を示す図表である。
試験条件を示す図表である。
【図１８】実施例６１〜７５における、添加剤濃度と潤
滑性能との関係についての評価結果を示す図表である。
滑性能との関係についての評価結果を示す図表である。
【図１９】実施例６１〜７５における、添加剤の種類と
潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
【図２０】実施例７６〜９０における、潤滑性能の評価
試験条件を示す図表である。
試験条件を示す図表である。
【図２１】実施例７６〜９０における、添加剤の種類と
潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
【図２２】実施例９１〜１０５における、潤滑性能の評
価試験条件を示す図表である。
価試験条件を示す図表である。
【図２３】実施例９１〜１０５における、添加剤濃度と
潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
【図２４】実施例９１〜１０５における、添加剤の種類
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
【図２５】実施例９１〜１０５における、添加剤の種類
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
【図２６】実施例１０６〜１２０における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
評価試験条件を示す図表である。
【図２７】実施例１０６〜１２０における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図２８】実施例１０６〜１２０における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図２９】実施例１２１〜１３５における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
評価試験条件を示す図表である。
【図３０】実施例１２１〜１３５における、添加剤濃度
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
【図３１】実施例１２１〜１３５における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図３２】実施例１２１〜１３５における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図３３】実施例１２１〜１３５における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図３４】実施例１３６〜１５０における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
評価試験条件を示す図表である。
【図３５】実施例１３６〜１５０における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図３６】実施例１３６〜１５０における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図３７】実施例１３６〜１５０における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図３８】実施例１５１〜１６５における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
評価試験条件を示す図表である。
【図３９】実施例１５１〜１６５における、添加剤濃度
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
【図４０】実施例１５１〜１６５における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図４１】実施例１６５〜１８０における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
評価試験条件を示す図表である。
【図４２】実施例１６５〜１８０における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図４３】実施例１８１〜１９５における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
評価試験条件を示す図表である。
【図４４】実施例１８１〜１９５における、添加剤濃度
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
【図４５】実施例１８１〜１９５における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図４６】実施例１８１〜１９５における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図４７】実施例１９６〜２１０における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
評価試験条件を示す図表である。
【図４８】実施例１９６〜２１０における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図４９】実施例１９６〜２１０における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図５０】実施例２１１〜２２５における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
評価試験条件を示す図表である。
【図５１】実施例２１１〜２２５における、添加剤濃度
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
【図５２】実施例２１１〜２２５における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図５３】実施例２２６〜２４０における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
評価試験条件を示す図表である。
【図５４】実施例２２６〜２４０における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図５５】実施例２４１〜２５５における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
評価試験条件を示す図表である。
【図５６】実施例２４１〜２５５における、添加剤濃度
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
【図５７】実施例２４１〜２５５における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図５８】実施例２４１〜２５５における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図５９】実施例２５６〜２７０における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
評価試験条件を示す図表である。
【図６０】実施例２５６〜２７０における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図６１】実施例２５６〜２７０における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図６２】実施例２７１〜２８５における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
評価試験条件を示す図表である。
【図６３】実施例２７１〜２８５における、添加剤濃度
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
【図６４】実施例２７１〜２８５における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図６５】実施例２７１〜２８５における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図６６】実施例２８６〜３００における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
評価試験条件を示す図表である。
【図６７】実施例２８６〜３００における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
【図６８】実施例２８６〜３００における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
１ 基板 ２ 下地層 ３ 磁性層 ４ 保護層 ５ 潤滑膜 ６ 磁気ヘッド ７ キャリッジ ８ 磁気ヘッド移動機構 ９ 磁気ディスク １０ 磁気ディスク回転機構 １１ 支持ばね
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ１１Ｂ 5/72 Ｇ１１Ｂ 5/72 // Ｃ１０Ｎ 30:06 40:18 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 5/66 C10M 107/38 C10M 105/74 C10M 133/02 - 133/14 C10M 137/12 C10M 137/16 G11B 5/72 C10N 30:06 C10N 40:18 ＷＰＩ／Ｌ（ＱＵＥＳＴＥＬ)
Claims (15)
- 【請求項１】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 フォスファーゼンのフェニルエーテル誘導体を０．１〜
５０ｗｔ％、 ＨＦとの反応速度が前記パーフルオロポリエーテル系化
合物よりも大きく、かつ、金属イオンとの錯生成定数が
前記パーフルオロポリエーテル系化合物よりも大きい物
質を１〜１０００００ｐｐｍ、 含有した磁気記録媒体用潤滑剤。 - 【請求項２】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 下記一般式［１］に示される化合物を０．５〜５０ｗｔ
％、 下記一般式［２］〜［１０］に示される骨格を有する化
合物のうち少なくとも１種類を１〜１０００００ｐｐ
ｍ、 含有した磁気記録媒体用潤滑剤。 【化１】 〔一般式［１］中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ
6 はそれぞれ独立にフェノキシ誘導体基を示す。このフ
ェノキシ誘導体基は、置換基を有していてもよく、水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。〕 【化２】 〔一般式［２］中、Ｚは窒素原子又はリン原子を示す。
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 はそれぞれ独立に、水素原子、水酸
基、アルキル基、アリール基の何れかを示す。これらの
アルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕 【化３】 〔一般式［３］中、Ｚは窒素原子、リン原子の何れかを
示す。Ｒ1 は水素原子、水酸基、アルキル基、アリール
基の何れかを示す。これらのアルキル基又はアリール基
は、置換基を有していてもよく、水素原子の一部又は全
部がフッ素原子によって置換されていてもよい。Ｒ
2 は、アルキル基、アリール基の何れかを示す。このア
ルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕 一般式［４］ Ｚ≡Ｒ 〔一般式［４］中、Ｚは窒素原子、リン原子の何れかを
示す。Ｒはアルキル基、アリール基の何れかを示す。こ
のアルキル基又はアリール基は、置換基を有していても
よく、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置
換されていてもよい。〕 【化４】 〔一般式［５］中、Ｚはそれぞれ独立に窒素原子、リン
原子の何れかを示す。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 はそれぞ
れ独立に、水素原子、水酸基、アルキル基、アリール基
の何れかを示す。これらのアルキル基又はアリール基
は、置換基を有していてもよく、水素原子の一部又は全
部がフッ素原子によって置換されていてもよい。〕 【化５】 〔一般式［６］中、Ｚはそれぞれ独立に窒素原子、リン
原子の何れかを示す。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 は
それぞれ独立に、アルキル基、アリール基の何れかを示
す。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ5 は水素原子又は水酸基でも
よい。これらのアルキル基又はアリール基は、置換基を
有していてもよく、水素原子の一部又は全部がフッ素原
子によって置換されていてもよい。〕 一般式［７］ Ｒ1 −Ｚ−Ｒ2 〔一般式［７］中、Ｚは酸素原子、イオウ原子の何れか
を示す。また、Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ独立に、水素原
子、水酸基、アルキル基、アリール基の何れかを示す。
これらのアルキル基又はアリール基は置換基を有してい
てもよく、また水素原子の一部又は全部がフッ素原子に
よって置換されていてもよい。〕 一般式［８］ Ｚ＝Ｒ 〔一般式［８］中、Ｚは酸素原子、イオウ原子の何れか
を示す。Ｒはアルキル基、アリール基の何れかを示す。
アルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕 一般式［９］ Ｒ1 −Ｚ−Ｚ−Ｒ2 〔一般式［９］中、Ｚはそれぞれ独立に酸素原子、イオ
ウ原子の何れかを示す。Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ独立に水
素原子、水酸基、アルキル基、アリール基の何れかを示
す。これらのアルキル基又はアリール基は、置換基を有
していてもよく、水素原子の一部又は全部がフッ素原子
によって置換されていてもよい。〕 一般式［１０］ Ｒ1 −Ｚ−Ｒ2 −Ｚ−Ｒ3 〔一般式［１０］中、Ｚはそれぞれ独立に酸素原子、イ
オウ原子の何れかを示す。また、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 はそ
れぞれ独立にアルキル基、アリール基の何れかを示す。
Ｒ1 、Ｒ3 は水素原子又は水酸基でもよい。これらのア
ルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕 - 【請求項３】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 下記一般式［１］で示される化合物を０．１〜５０ｗｔ
％、 下記一般式［３］で示される化合物を１〜１０００００
ｐｐｍ、 含有した磁気記録媒体用潤滑剤。 【化６】 〔一般式［１］中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ
6 はそれぞれ独立にフェノキシ誘導体基を示す。このフ
ェノキシ誘導体基は、置換基を有していてもよく、水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。〕 【化７】 〔一般式［３］中、Ｚは窒素原子、リン原子の何れかを
示す。Ｒ1 は水素原子、水酸基、アルキル基、アリール
基の何れかを示す。これらのアルキル基又はアリール基
は、置換基を有していてもよく、水素原子の一部又は全
部がフッ素原子によって置換されていてもよい。Ｒ
2 は、アルキル基、アリール基の何れかを示す。このア
ルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕 - 【請求項４】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 下記一般式［１］で示される化合物を０．１〜５０ｗｔ
％、 下記一般式［４］で示される化合物を１〜１０００００
ｐｐｍ、 含有した磁気記録媒体用潤滑剤。 【化８】 〔一般式［１］中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ
6 はそれぞれ独立にフェノキシ誘導体基を示す。このフ
ェノキシ誘導体基は、置換基を有していてもよく、水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。〕 一般式［４］ Ｚ≡Ｒ 〔一般式［４］中、Ｚは窒素原子、リン原子の何れかを
示す。Ｒはアルキル基、アリール基の何れかを示す。こ
のアルキル基又はアリール基は、置換基を有していても
よく、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置
換されていてもよい。〕 - 【請求項５】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 下記一般式［１］で示される化合物を０．１〜５０ｗｔ
％、 下記一般式［５］で示される化合物を１〜１０００００
ｐｐｍ、 含有した磁気記録媒体用潤滑剤。 【化９】 〔一般式［１］中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ
6 はそれぞれ独立にフェノキシ誘導体基を示す。このフ
ェノキシ誘導体基は、置換基を有していてもよく、水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。〕 【化１０】 〔一般式［５］中、Ｚはそれぞれ独立に窒素原子、リン
原子の何れかを示す。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 はそれぞ
れ独立に、水素原子、水酸基、アルキル基、アリール基
の何れかを示す。これらのアルキル基又はアリール基
は、置換基を有していてもよく、水素原子の一部又は全
部がフッ素原子によって置換されていてもよい。〕 - 【請求項６】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 下記一般式［６］で示される化合物を１〜１０００００
ｐｐｍ、 下記一般式［１］で示される化合物を０．１〜５０ｗｔ
％、 含有した磁気記録媒体用潤滑剤。 【化１１】 〔一般式［６］中、Ｚはそれぞれ独立に窒素原子、リン
原子の何れかを示す。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 は
それぞれ独立に、アルキル基、アリール基の何れかを示
す。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ5 は水素原子又は水酸基でも
よい。これらのアルキル基又はアリール基は、置換基を
有していてもよく、水素原子の一部又は全部がフッ素原
子によって置換されていてもよい。〕 - 【請求項７】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 窒素原子、酸素原子、リン原子、イオウ原子の何れか１
種類以上を１原子以上含む複素環化合物、又はこの複素
環化合物と他の環状化合物との縮合多環化合物を１〜１
０００００ｐｐｍ、 下記一般式［１］で示される化合物を０．１〜５０ｗｔ
％、 含有した磁気記録媒体用潤滑剤。 【化１２】 〔一般式［１］中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ
6 はそれぞれ独立にフェノキシ誘導体基を示す。このフ
ェノキシ誘導体基は、置換基を有していてもよく、水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。〕 - 【請求項８】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 下記一般式［１］で示される化合物を０．１〜５０ｗｔ
％、 下記一般式［７］で示される化合物を１〜１０００００
ｐｐｍ、 含有した磁気記録媒体用潤滑剤。 【化１３】 〔一般式［１］中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ
6 はそれぞれ独立にフェノキシ誘導体基を示す。このフ
ェノキシ誘導体基は、置換基を有していてもよく、水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。〕 一般式［７］ Ｒ1 −Ｚ−Ｒ2 〔一般式［７］中、Ｚは酸素原子、イオウ原子の何れか
を示す。また、Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ独立に、水素原
子、水酸基、アルキル基、アリール基の何れかを示す。
これらのアルキル基又はアリール基は置換基を有してい
てもよく、また水素原子の一部又は全部がフッ素原子に
よって置換されていてもよい。〕 - 【請求項９】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 下記一般式［１］で示される化合物を０．１〜５０ｗｔ
％、 下記一般式［８］で示される化合物を１〜１０００００
ｐｐｍ、 含有した磁気記録媒体用潤滑剤。 【化１４】 〔一般式［１］中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ
6 はそれぞれ独立にフェノキシ誘導体基を示す。このフ
ェノキシ誘導体基は、置換基を有していてもよく、水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。〕 一般式［８］ Ｚ＝Ｒ 〔一般式［８］中、Ｚは酸素原子、イオウ原子の何れか
を示す。Ｒはアルキル基、アリール基の何れかを示す。
アルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕 - 【請求項１０】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 下記一般式［１］で示される化合物を０．１〜５０ｗｔ
％、 下記一般式［９］で示される化合物を１〜１０００００
ｐｐｍ、 含有した磁気記録媒体用潤滑 【化１５】 〔一般式［１］中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ
6 はそれぞれ独立にフェノキシ誘導体基を示す。このフ
ェノキシ誘導体基は、置換基を有していてもよく、水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。〕 一般式［９］ Ｒ1 −Ｚ−Ｚ−Ｒ2 〔一般式［９］中、Ｚはそれぞれ独立に酸素原子、イオ
ウ原子の何れかを示す。Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ独立に水
素原子、水酸基、アルキル基、アリール基の何れかを示
す。これらのアルキル基又はアリール基は、置換基を有
していてもよく、水素原子の一部又は全部がフッ素原子
によって置換されていてもよい。〕 - 【請求項１１】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 下記一般式［１］で示される化合物を０．１〜５０ｗｔ
％、 下記一般式［１０］で示される化合物を１〜１００００
０ｐｐｍ、 含有した磁気記録媒体用潤滑剤。 【化１６】 〔一般式［１］中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ
6 はそれぞれ独立にフェノキシ誘導体基を示す。このフ
ェノキシ誘導体基は、置換基を有していてもよく、水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。〕 一般式［１０］ Ｒ1 −Ｚ−Ｒ2 −Ｚ−Ｒ3 〔一般式［１０］中、Ｚはそれぞれ独立に酸素原子、イ
オウ原子の何れかを示す。また、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 はそ
れぞれ独立にアルキル基、アリール基の何れかを示す。
Ｒ1 、Ｒ3 は水素原子又は水酸基でもよい。これらのア
ルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕 - 【請求項１２】 基板上に直接又は下地層を介して磁性
膜を有し、この磁性膜上に直接又は保護層を介して、請
求項１，２，３，４，５，６，７，８，９，１０又は１
１記載の磁気記録媒体用潤滑剤のうち少なくとも１種類
を塗布した、磁気記録媒体。 - 【請求項１３】 前記下地層がＮｉ−Ｐ又はＣｒからな
る、請求項１２記載の磁気記録媒体。 - 【請求項１４】 前記保護層が水素添加カーボン又は水
素及び窒素添加カーボンからなる、請求項１２又は１３
記載の磁気記録媒体。 - 【請求項１５】 請求項１２，１３又は１４記載の磁気
記録媒体の何れかと、この磁気記録媒体上に密接された
状態で相対移動されて情報を記録又は再生する磁気ヘッ
ドと、この磁気ヘッドを前記磁気記録媒体に押圧させる
支持ばねとを備えた磁気記録装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30562996A JP2885205B2 (ja) | 1996-10-30 | 1996-10-30 | 磁気記録媒体用潤滑剤並びにこれを用いた磁気記録媒体及び磁気記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30562996A JP2885205B2 (ja) | 1996-10-30 | 1996-10-30 | 磁気記録媒体用潤滑剤並びにこれを用いた磁気記録媒体及び磁気記録装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10134332A JPH10134332A (ja) | 1998-05-22 |
| JP2885205B2 true JP2885205B2 (ja) | 1999-04-19 |
Family
ID=17947438
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30562996A Expired - Fee Related JP2885205B2 (ja) | 1996-10-30 | 1996-10-30 | 磁気記録媒体用潤滑剤並びにこれを用いた磁気記録媒体及び磁気記録装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2885205B2 (ja) |
-
1996
- 1996-10-30 JP JP30562996A patent/JP2885205B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10134332A (ja) | 1998-05-22 |
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