JP2801534B2 - パワー半導体モジュールおよびそれに使用する絶縁金属基板 - Google Patents

パワー半導体モジュールおよびそれに使用する絶縁金属基板

Info

Publication number
JP2801534B2
JP2801534B2 JP22061494A JP22061494A JP2801534B2 JP 2801534 B2 JP2801534 B2 JP 2801534B2 JP 22061494 A JP22061494 A JP 22061494A JP 22061494 A JP22061494 A JP 22061494A JP 2801534 B2 JP2801534 B2 JP 2801534B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power semiconductor
semiconductor module
conductive
module according
chips
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP22061494A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH07240497A (ja
Inventor
コートニー・ファーニバル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Infineon Technologies Americas Corp
Original Assignee
International Rectifier Corp USA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=22400324&utm_source=***_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP2801534(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by International Rectifier Corp USA filed Critical International Rectifier Corp USA
Publication of JPH07240497A publication Critical patent/JPH07240497A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2801534B2 publication Critical patent/JP2801534B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49811Additional leads joined to the metallisation on the insulating substrate, e.g. pins, bumps, wires, flat leads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49861Lead-frames fixed on or encapsulated in insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/07Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00
    • H01L25/072Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00 the devices being arranged next to each other
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48137Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4911Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain
    • H01L2224/49113Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain the connectors connecting different bonding areas on the semiconductor or solid-state body to a common bonding area outside the body, e.g. converging wires
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1301Thyristor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]
    • H01L2924/13055Insulated gate bipolar transistor [IGBT]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1306Field-effect transistor [FET]
    • H01L2924/13091Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Multi-Conductor Connections (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Coupling Device And Connection With Printed Circuit (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体装置の新規な
モジュール構造体に関するものであり、より詳しくは、
新規で信頼性のある態様で、全ての部品の完全な電気絶
縁を保証する新規な外装構造内に完全な絶縁金属基板
(IMS:insulated metal substrate)を使用した新
規なモジュール構造体に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体モジュールは周知であり、複数の
相互接続された半導体チップを収容するために使用され
ている。上記チップは、同じ種類のものであっても又、
異なった種類のものであってもよく、共通の外装から伸
びる端子電極を有する外装内にてヒートシンクに取着さ
れる。たとえば、半導体モジュールは、半波整流ブリッ
ジ回路、全波整流ブリッジ回路、倍電圧整流回路等のよ
うな、種々の所定回路に接続され、電気的に相互に接続
されたダイオード、MOSFET、IGBTもしくはバ
イポーラトランジスタのための外装を構成することがで
きる。比較的、寸法的に大きい端子がユーザによる電気
接続のために絶縁外装から伸びている。本発明の目的
は、改善された伝熱制御および製造の容易化並びに改善
された信頼性を有するモジュール構造を提供することで
ある。
【0003】
【発明の要旨】本発明にかかるモジュールは、溶接、半
田付けなどの加熱により取着された半導体チップ(ch
ip)もしくはダイ(die)を有するIMS基板の上
に組み立てられる。以下、チップ(chip)、ダイ
(die)およびウェハ(wafer)なる用語を用い
るが、これらの用語は、裸の、薄い、平坦な半導体素子
を表すものとして互いに置換できるものとする。上記半
導体素子は、MOSFET、IGBT、MOS制御サイ
リスタ等のような金属酸化物のゲートを有するパワー素
子や、ダイオードのような所望のタイプのものであって
もよい。
【0004】上記IMS基板は、非常に薄い絶縁層によ
り覆われた比較的厚いアルミニュームのボディ(底板)
を有しており、上記絶縁層は上記アルミニュームから電
気的に絶縁された銅のパターンを支持している。上記チ
ップは、装置の動作中にチップにより発生される熱の管
理を改善するために、その中央部にて1個以上の放熱板
を構成する伝導プレートに取着される。
【0005】上記IMS基板は、ボンディングワイヤお
よび主装置端子を好適に受けるためのパターンも有して
いる。したがって、上記チップは、平行なリードワイヤ
のスティッチボンディングによりIMS基板上で互いに
内部的に相互接続されている。これらのワイヤは、最終
的に上記外装の外部に伸びる垂直端子に接続されてい
る。
【0006】本発明の重要な特徴によれば、上記装置の
端子は、モールドされた絶縁性端子支持板に支持される
とともに、装置の組立を簡単にするために基板のスロッ
トを通してスナップ嵌合により接続される。各端子は、
上記IMS基板に適正に配置された半田付けパッドに都
合よく半田付けすることができる平坦な端子延長部とし
て作用する凹状に湾曲した端部を有する。上記端子は、
共通面のIMS基板および端部に対してあらかじめ位置
決めされ、それらは組立の間に直接半田付けすることが
できる。
【0007】組立の間に、上記IMS基板の取着開口に
配置される上記端子支持板の反対端に折り取りピンを設
けることにより、新規な位置決め取着体が端子支持板に
より与えられる。上記ピンは、上記IMS基板に主端子
が半田付けされた後に折り取られる。 本発明の他の特
徴によれば、上記端子支持板の底部と上記IMS基板の
上部との間には、ソフトシリコン充填材のための膨張空
間として機能する空間が残され、上記ソフトシリコン充
填材は、上記半田付け作業が完了した後、上記キャップ
が上記モジュール上に組み立てられる前に、端子支持板
の開口を通して上記空間内に充填される。充填後に、上
記空間は上記端子支持板の単一の中央充填開口をシール
することによりシールされる。
【0008】本発明のさらに他の特徴として、上記端子
支持板の上面が延在するボス部を有しており、これらボ
ス部を通して上記端子が伸びている。上記上部キャップ
の内部は、上記頂部が組み立てられると、上記端子支持
板の上で上記ボス部に入れ子となるとともに、囲繞する
全体的なリブを形成する。上記外装キャップの組立に先
だって、上記端子支持板の上面全体は適当な接着材で満
たされ、上記外装キャップが所定位置に組み立てられる
と、上記端子を囲繞している全空間は、上記外装キャッ
プの内部および主端子の短絡回路へ導くことができる種
々の端子リード内および端子リード間に空気および不純
物が侵入するのを防止するために、接着材でシールされ
る。
【0009】
【実施例】本発明の特徴および利点は、添付の図面を参
照して行う以下の本発明の実施例の説明から明らかとな
ろう。
【0010】図1から図4には、IMS基板51に取着
された絶縁モールド型キャップ50からなる新規なモジ
ュール構造体が開示されており、以下に、その各々につ
いてより詳細に説明する。
【0011】キャップ50は、その上面から突出する3
つの突起52,53,54を有しており、これら突起5
2,53,54は装置の3つの主端子をなす下方に折れ
曲がったセグメント55,56,57を有している。図
1にはまた、各制御端子60,61と2つの補助パワー
端子62,63が示されている。
【0012】図2,図3および図4に示すように、モジ
ュール構造体を製作する途中の工程において、キャップ
50とIMS基板51と端子支持板(後述)とを仮り組
みした状態である副組立体が組み立てられたときおよび
それが使用に供される前に、上記端子55,56,57
は上方へ伸びているから六角形のナット受け開口70,
71,72(図2参照)が現れている。これら開口7
0,71,72は、端子55,56,57の端部が下方
へ押されたときに覆われる。これら開口は、電気端子を
外装に接続するために通常使用されている六角ナットを
受けることができる。
【0013】上記IMS基板51はまた、図2に示され
ているように、取付孔73,74を備えている。これら
取付孔73,74は、上記IMS基板と上記副組立体、
即ちモジュール構造体をヒートシンクへねじ止めする際
に、取付けねじを受けるようになっている。以下に説明
する上記装置により形成される回路は、図5に図式的に
示されている絶縁ゲートバイポーラトランジスタ(IG
BT)75,76から形成されるハーフブリッジ(on
e−half bridge)回路である。IGBT7
5,76は、各々の高速リカバリダイオード77,78
と並列に接続されている。図5に示されたハーフブリッ
ジ回路の電気端子は、図1に示したものに対応する。
【0014】なお、本発明のモジュール構造体には、単
相および三相の全波整流ブリッジ、倍電圧整流器等、図
5に示されたもの以外に種々の回路装置が使用できる。
ダイオード、サイリスタ、バイポーラトランジスタおよ
びMOSトランジスタ等の種々の半導体チップを単独で
もまた並列にも配置することもできる。後述するよう
に、上記IGBT75,76は4つの並列接続されたチ
ップからなる。
【0015】上記外部外装ないしキャップ50が図7,
図8および図9により詳細に示されている。上記キャッ
プ50の内部には開口80,81,82aが形成されて
いて、前記端子55,56,57はこれらの開口80,
81,82aを介してキャップ50の内側に挿入される
ようになっている。開口80,81,82aは上記外装
の内側から下方へ伸びる突条により囲繞されている。突
条82,83,84,85,86として図7,図8およ
び図9に種々に示されている他の突条が、上記キャップ
50の全内周にわたって伸びる主内部延伸突条87と協
働している。キャップ50が内部の端子支持板の上に配
置されると、後述するように、確実かつ容易に上記端子
を互いに絶縁するために、当該端子はシリコンゲル等を
充填することができる環状絶縁空間に囲繞される。
【0016】本発明にかかる新規な端子支持板構造体9
0について説明すると、この端子支持板構造体90はス
ナップ式に主端子55,56,57並びに制御端子6
0,63を保持するようになっている。上記端子支持板
90はその上面に複数の間隔を有するボス91〜94を
有するモールドされたプラスチックボディである。後述
するように、これらのボスは、入れ子となるとともに、
上記外装キャップ50の内側に突出するリブにより囲繞
されている。上記ボスの間および上記ボスを囲繞してい
る部分は、図6に示すように、上記外装キャップ50が
上記端子支持板90に取着される前に、シリコン接着材
で満たされていてもよい。上記外装キャップ50のリブ
は接着材の内部に突出するとともに、上記接着材を充填
すると、上記端子は、端子間で漏洩経路が形成されない
ように良好にシールされるようになる。
【0017】端子支持板90は、長いスロット95,9
6,97をも備えており、図21および図22を参照し
ながら後述するように、これらスロット95,96,9
7を介して、上記端子55,56,57が伸長するとと
もに保持されるようになっている。上記端子支持板の下
側には、スロット97の反対側に上記端子支持板の底部
の長さに沿って伸びる延伸された完全なプラスチック製
のスカート部がある。同様の延伸されたスカート部10
2,103がスロット95,96の反対側に伸びてい
る。スカート部100−101,102−103間の空
間は、上記端子55,56,57の延伸部を受けて上記
端子支持板に上記端子をスナップ式に接続するとともに
強固に固定できるようにし、かつまた上記端子を膨張空
洞内に隔離する。
【0018】上記端子支持板90には、貫通孔110も
形成されている。後述するように、この貫通孔110
は、外装キャップの組立の前にIMS基板51と上記端
子支持板の底部との間の空間に高い膨張係数を有するソ
フトシリコンを充填する際の注入口となる。プラスチッ
クプラグないしボール状ストッパ111(図22)を充
填作業の後に開口110内に圧入し、所定位置に接着し
て上記空間をシールすることができる。
【0019】上記端子支持板90は、端子60,62,
63,61をそれぞれ受ける4つの平行に配置された開
口120〜123(図10)を有している。これらの端
子は、上記端子支持板に圧入されるとともに端子55,
56,57とともに副組立体として保持されている。
【0020】上記種々の端子は、所望の構成とすること
ができるが、図13ないし図20は本発明の好ましい実
施例において使用される端子の形状を示している。した
がって、全端子60〜63は、図3および図14に示さ
れた端子60の構成を有している。端子60〜63は、
単に開口120〜123内に押し込んで上記スロットの
反対側に圧入し,上記端子を所定位置に保持する湾曲面
もしくはテーパ面によって圧着によりその中に保持され
るようにしてもよい。上記端子60の下部は、図14に
示す下部130にて上方に湾曲していて、後述するよう
に、IMS基板51の適当な領域へ半田付けすることが
できる平坦部を有している。
【0021】上記端子55は、図15および図16に示
された構造を有するとともに、テーパ面131,132
を有している。これらテーパ面131,132は、上記
スロット95に端子55が挿入された後、上記端子支持
板内の所定位置に摩擦により保持するために、上記スロ
ット95の反対側の端部に喰い込む寸法を有している。
上記端子の突出端部分133は、図16に点線で示すよ
うに、上方に湾曲していて平坦な端子底部134を形成
しており、この端子底部134は後述するように、IM
S基板上の適当なパッドに半田付けすることができる。
上記端子のボディ部分135は、上記端子55が端子支
持板内に挿入されたときに図12のスカート部102と
103との間に合致する。
【0022】図17および図18は、伸長下部ボディ1
40および下方に突出する端子部分141を有する端子
56を示しており、端子部分141は図18に示すよう
に湾曲部142となっており、この湾曲部142は上記
IMS基板へ半田付けされる平坦部を有する。
【0023】図19および図20はボディ部分142a
および図20に点線で示された形状部144に湾曲する
ことができる端子延長部143を有する。端子57が上
記端子支持板に取り付けられると、それは上記スロット
97内に圧入されて、上記端子の端部144が外向きに
かつ下方に突出して、摩擦により、その中に保持され
る。
【0024】図21および図22に示すように、全ての
端子は上記端子支持板90内に摺動可能に挿入されると
ともに、挿入行程端で摩擦もしくはスナップ嵌合により
端子支持板90に固定される。各制御端子の底部130
および端子55,56,57の底部134,142,1
44は、端子支持板90に上記端子が組み付けられる
と、共通の平面に配置される。これらの底面は適当な半
田パッドに半田付けされ、これらパッドは、次に説明す
るように、IMS基板の上に適当に配置されている。
【0025】チップが取り付けられていないIMS基板
51が図23,図24に示されている。上記基板51は
基本的に、上部に薄い絶縁層を有する厚肉のアルミニュ
ーム板である。この絶縁層の上には、銅のパターンが形
成される。IMS基板については周知である。上記絶縁
層は非常に薄いので、それは上記銅のパターンから上記
アルミニューム基板への良好な熱伝達を行う一方、両者
の間の良好な電気絶縁を与える。
【0026】図23は、上記アルミニューム基板から絶
縁されるとともに、互いに絶縁されているIMS基板の
銅の領域150〜156を示している。これらの銅領域
の一部に施したハッチングは、リードワイヤに超音波接
続できるクラッドアルミニュームがメッキされているこ
とを示している。メッキされていない銅領域は他の部品
に半田接続するのに適している。
【0027】拡大領域154,155は、各々延長部1
60,161をそれぞれ有しており、図25,図26に
示した放熱器170の如くの放熱器を受けるのに適して
おり、放熱器は、上記モジュールの半導体回路を形成す
るために採用される種々のチップが半田付けされたアル
ミニューム板であってもよい。図25,図26の放熱器
170の場合、4つの並列接続IGBTチップ172〜
174および高速リカバリダイオード175〜178が
それに半田付けされ、全てが並列に接続される。これら
の部品は一般に、図5のIGBT75および高速リカバ
リダイオード77に対応している。
【0028】それぞれの放熱器上の2つのかかる組立体
が図27に示すように使用されており、この図27にお
いて、上記放熱器170は図25,図26に示されたも
のであり、一方、図5のIGBT76およびダイオード
78に対応する同じ組立体180が図27の銅領域15
5に半田付けされる。
【0029】各チップの裏面はそれぞれの放熱器17
0,180に半田付けされる一方、上記チップの上面の
端子は、周知のように、適当なワイヤとスティッチボン
ディングを使用して超音波ボンディングされる。図27
には、一本のスティッチワイヤだけが示されているが、
実際には、各々の接続には、4本の平行なスティッチボ
ンディングワイヤが使用される。
【0030】図27では、制御端子150は、IMS基
板上の経路を経由して、放熱器170上の各IGBTの
ゲート接点に接続されている。放熱器170の各チップ
のエミッタ接点は、最初にそれぞれのファーストリカバ
リダイオードの電極に接続され、その後、上記経路15
5の延長部190に接続される。制御端子153は、最
初に上記放熱器170に対して図示しない手法で絶縁さ
れている導体パッド191,192に接続され、上記放
熱器180のIGBTチップの制御電極にスティッチボ
ンドされる。
【0031】放熱器180上のIGBTの上面の主電極
はスティッチボンドされ、最初に各々のファーストリカ
バリダイオードに結合されて、それから上記IMS基板
の導体パッド156に結合される。制御電極151,1
52を電源端子56,57に接続するために、点線20
0,201により図式的に示された絶縁ワイヤがそれぞ
れこれらの電極をパッド延長部161および上記パッド
156に接続する。
【0032】図22,図27および図28においては、
接点134,142,144がそれぞれ端子の銅露出部
分160,156,161の上に配置されて接触するよ
うに、種々の端子が上記端子支持板内に物理的に支持さ
れてなる図22の副組立体を図27のIMS表面上に簡
単に当接させている。領域150〜153と一直線をな
す制御端子60〜63の底部を含む副組立体の全体は、
一操作で完全な副組立体として半田付けすることができ
る。
【0033】半田付け中に、上記IMS基板に対して図
22の上記副組立体を配置するのを容易にするために、
一対の取り外し可能なペグが上記端子板90のモールド
部に設けられていてもよい。したがって、たとえば図2
1に示され、図28には点線で示され、また、図30,
図31に示されているように、ペグ210,211は基
板90の反対側の端部の切り欠きに一体的に固定される
とともに、それから容易に取り外すことができる。これ
らの位置決め用ペグ210,211は、上記IMS基板
51の装着開口73に密着するペグ210について図2
9に示されている端部212のような、径が縮小する端
部を有する。同様にして、上記反対のペグ211はIM
S基板51の上記開口74内に合致し、上記端子の底部
を含む図22の全組立体は、IMS基板のそれぞれの銅
のパッド領域に対して正確に配置されて上記半田付け作
業が行われる。
【0034】一旦、組立半ばの端子支持板が所定位置に
半田付けされると、上記端子支持板の底部は、図6に最
もよく示されているように、上記IMS基板の上面の上
にスペースが形成されて上記チップおよびワイヤボンド
の上に膨張スペースが形成される。上記チップやリード
ワイヤを含む領域を、温度により膨張自在な、たとえば
ソフトシリコンのような活性化環境体(passiva
tion environment)で満たして、上記
チップおよびボンドワイヤの熱による移動を吸収すると
ともにまた、湿気もしくは不純物の侵入に対してモジュ
ールを完全にシールし、また種々の端子間の完全な絶縁
を確保するようにすることが好ましい。
【0035】本発明では、上記端子支持板90の底部と
上記IMS構造体51の上部との間の空間は、端子支持
板90の充填開口110を通して、種々のチップと接続
ボンドの高さを越える高さにソフトシリコンで充たされ
る。小さい膨張スペースが、図6に最もよく示されてい
るように、端子支持板90の底部に残るようにすること
ができる。図6は、上記ソフトシリコンが上記IMS基
板51と外装90との間の内部空間を満たすことができ
るレベルを点線で示している。ソフトシリコンで上記空
間を充填した後、上記空間は、所定場所に接着されるプ
ラスチックボールのようなもので、開口110を塞ぐこ
とによりシールされる。
【0036】次に、端子55,56,57の折曲線が図
1のボス55,56,57の頂部と面一となるまで、上
記外装キャップ50が開口80,81,82等に嵌合し
て上記端子55,56,57を上下方向にスライドさせ
ることにより装着され、上記端子は組立完了後に容易に
折り曲げることができる。
【0037】上記外装の底部と端子支持板90の上部と
の間の領域での端子間の良好な絶縁性を確保するため、
上記端子支持板が上方に突出するボス91,92,9
3,94を備え、これらボスは、リブ82,83,8
4,85,86のような延在するリブおよび上記外装キ
ャップの底部の囲繞された領域と入れ子となっているか
または囲繞されてなる新規な構成を有する。これらの領
域が入れ子となっていると、端子間の絶縁が容易に達成
される。好ましくは、端子支持板90の突条220で区
画された領域(図10および図21参照)は、適当な接
着材等でその高さのほぼ半分まで満たされる。この接着
材は、図2の端子55,56,57を囲繞する。その
後、上記外装キャップ50が組み立てられ、種々のリブ
がボス91〜94とこれらのボスの周りとの間の空間内
および上記接着材の中に突出し、上記端子を効果的にシ
ールするとともに外装全体を湿気の侵入に対してシール
している。同時に、接着剤等がまた上記IMS基板51
のエッジの周りや、そのエッジと図6に示された外装の
底部の溝部との間をシールするために使用される。した
がって、互いに非常によく絶縁された端子を有するとと
もに、自由に膨張および収縮するシリコンにより確実に
活性化された外装内に半導体部品を収容する、完全にシ
ールされた外装が提供される。
【0038】本発明の上記説明においては、特定の形状
を有する好ましい実施例を説明したが、図示の形状は、
本発明の範囲内で実施例に応じて変えることができる。
たとえば、装置の幅を2倍にして、放熱器170,18
0の半導体部品と並列に接続される半導体部品を有する
第3および第4放熱器のための空間を形成することがで
きる。したがって、IMS基板51は幅が2倍になる
と、全ての部品がこの寸法に合致するように大きくされ
る。
【0039】
【発明の効果】一般に、本発明では、最大寸法の放熱器
を使用して外装から最大の熱的性能を得ることができ
る。本発明における端子のシール方法は、シリコンゲル
の膨張により信頼性のあるシールを提供するとともに、
モールドされ/あらかじめ組み立てられた端子支持板
は、外装をより組み立て易くする。これらの3つの改善
は、よりよい性能、信頼性および製造の容易さを有する
完全なIMS外装を提供する。
【0040】大電流のスイッチを得るためには、並列I
GBTチップを使用することにより、性能が大幅に改善
される。ゲート抵抗は上記チップに集積されていて、上
記ゲートを共にスティッチボンドすることができ、上記
IMS基板導体および抵抗の領域をなくすことができ
る。これにより、上記放熱器を大きくして上記IMS基
板のエポキシ絶縁体を介してパワー消費が最大となる。
上記IMS基板は、典型的な金属/セラミック型モジュ
ール以上の領域を要求するとともにその要求に応じるこ
とができる。放熱器が大きくなればなるほどますます、
装置の熱抵抗(シータ−jc)が小さくなり、個々のI
GBTチップが熱的に結合され、並列チップのスイッチ
ングが改善される。
【0041】湿気や他の外部環境要因から半導体チップ
を保護するシリコンゲルにより信頼性が改善される。大
型の銅製端子を外装の上部に必要とするハイパワーのモ
ジュールでは、当業者は、シリコンゲルの上部に、比較
的固いエポキシを充填することを余儀なくされていた。
このことは、シリコンゲルを密封してしまい、そのため
しばしば外装の破裂を引き起こし、それにより上記シリ
コンゲルを漏洩させたり、上記シリコンシールに損傷を
与えたりすることになる。外装ケースへの改善された基
板上にて、機械的な支持および端子のシールを与える端
子支持板は、シリコンゲルの上に膨張空間を有する。こ
の膨張空間は、高い温度では上記シリコンゲルが膨張し
て上記外装が破裂するのを防止する。
【0042】上記モールド端子支持板は、製造が容易
で、端子のために高精度の支持部を提供し、それらが上
記基板のパターンに整列することができるようにすると
ともに、単一のあらかじめ組み立てられたユニットとし
てのケースに整列できるようにする。これにより、リフ
ロー半田、部品配置および外装閉鎖のための製造に必要
なものや複雑な配置システムが不要となる。
【0043】本発明は好ましい実施例について説明して
きたが、多くの他の変形および改変並びに他の用法は、
当業者にとっては明かである。したがって、本発明は、
以上の特定の開示によって限定されるべきものではな
く、添付の特許請求の範囲によってのみ規定されるべき
ものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明により構成される外装の斜視図であ
る。
【図2】 図1の外装の上面図である。
【図3】 図2の正面図である。
【図4】 図3の側面図である。
【図5】 図1ないし図4の外装内に形成される内部回
路の回路図である。
【図6】 図2の6−6線に沿う断面図である。
【図7】 図1〜図4および図6の組立体の外装キャッ
プの内部を見た内面図である。
【図8】 図7の8−8線に沿う断面図である。
【図9】 図7の9−9線に沿う断面図である。
【図10】 以上の図面の端子支持板の構成の上面図で
ある。
【図11】 図10の11−11線に沿う断面図であ
る。
【図12】 図11の12−12線から見た底面図であ
る。
【図13】 以上の図面の一つの制御端子のためのゲー
ト接点部の正面図である。
【図14】 底部が半田付け位置に折り曲げられた後の
図13の端子の側面図である。
【図15】 図1の組立体の一つの主端子の正面図であ
る。
【図16】 半田付け位置へ端子が曲げられた状態を点
線で示している図15の端子の側面図である。
【図17】 図1の組立体の2番目の主端子の正面図で
ある。
【図18】 図17の側面図である。
【図19】 本発明にかかる組立体の3番目の主端子の
正面図である。
【図20】 図19の端子の側面図である。
【図21】 上記端子支持板に挿入された図13ないし
図20の種々の端子を有する図10の端子支持板の分解
斜視図である。
【図22】 スナップ式に所定の位置に挿入されて保持
された端子を有する図21の端子支持板の説明図であ
る。
【図23】 放熱器およびリードを取着する前に本発明
により使用されるIMS基板の上面図である。
【図24】 図23の側面図である。
【図25】 選択されたIGBTを有するとともに、そ
れに半田付けされた高速リカバリダイオードを有する放
熱器の上面図である。
【図26】 図25の放熱器の側面図である。
【図27】 放熱器がIMS基板の所定位置に半田付け
されるとともにリードが種々のチップと端子との間で相
互接続された後の図23のIMS基板の上面図である。
【図28】 図22の端子支持板の側面図であって、図
27の端子位置に配置された主端子半田付けパッドもし
くは底部を示すとともに、さらに半田付け作業の間にI
MS基板に関して端子支持板および端子を位置決めする
のを補助する折取位置決め突起を仮想線で示している。
【図29】 上記IMS基板の装着開口に対して位置決
めされた図28の一つの折取りエレメントを示す説明図
である。
【図30】 上記上部キャップ、端子板およびIMS基
板を完全に組み立てる前に互いに配置されたこれら部品
を図式的に示す断面図である。
【図31】 31−31線に沿う図30の断面図であ
る。
【符号の説明】
50 絶縁モールド型外装キャップ 51 絶縁金属基板 52 突起 53 突起 54 突起 55 セグメント 56 セグメント 57 セグメント 60 制御端子 61 制御端子 62 補助パワー端子 63 補助パワー端子 70 ナット受け開口 71 ナット受け開口 72 ナット受け開口 73 取付孔 74 取付孔 75 IGBT 76 IGBT 77 高速リカバリダイオード 78 高速リカバリダイオード 80 開口 81 開口 82a 開口 82 突条 83 突条 84 突条 85 突条 86 突条 87 主内部延伸突条 90 端子支持板構造体 91 ボス 92 ボス 93 ボス 94 ボス 95 スロット 96 スロット 97 スロット 100 スカート部 101 スカート部 102 スカート部 103 スカート部 110 貫通孔 111 ボール状ストッパ 120 開口 121 開口 122 開口 123 開口 130 下部 131 テーパ面 132 テーパ面 133 突出端部分 134 端子底部 135 ボディ部分 140 伸長下部ボディ 141 端子部分 142 湾曲部分 142aボディ部分 143 端子延長部 144 形状部 150 銅領域 151 銅領域 152 銅領域 153 銅領域 154 銅領域 155 銅領域 156 銅領域 160 延長部 161 延長部 170 放熱器 172 IGBTチップ 173 IGBTチップ 174 IGBTチップ 175 高速リカバリダイオード 176 高速リカバリダイオード 177 高速リカバリダイオード 178 高速リカバリダイオード 179 高速リカバリダイオード 180 組立体 190 延長部 191 導体パッド 192 導体パッド 210 ペグ 211 ペグ 212 端部 220 突条
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−354156(JP,A) 特開 昭59−72758(JP,A) 特開 昭63−306651(JP,A) 実開 平2−60237(JP,U) 実開 平5−15450(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 25/00 - 25/18

Claims (42)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 絶縁外装と、該外装内で相互接続されて
    所定の電気回路を形成する複数の半導体チップと、上記
    外装により一つの表面上にて包囲されるとともに該一つ
    の表面上に上記複数の半導体チップを支持する熱伝導性
    を有する基板と、上記半導体チップにより形成された上
    記電気回路に一端が接続されて、上記外装の外部回路へ
    の接続のために上記外装を介して延在する複数の端子と
    を含み、上記熱伝導性を有する基板が平坦で相対的に厚
    い伝導性材料の底板と、該底板の上部の相対的に薄い絶
    縁材料層と、該絶縁材料層の上に配置されるとともに上
    記絶縁材料層の上に所定の幾何学的形状を有する相対的
    に薄い伝導性材料層とを含み、実質的に全底面にわたっ
    て上記相対的に薄い伝導性材料層の領域に接続されて、
    放熱板を構成する少なくとも一つの伝導プレートからな
    り、少なくとも選択された個数の上記半導体チップの底
    面が互いに近接して上記伝導プレートの上面に半田付け
    されて、上記伝導プレートのほぼ中心に沿う線に平行に
    配置されていて、熱が上記チップから上記伝導プレート
    の全領域へ伝達されるように構成したことおよび上記絶
    縁外装内に囲われるとともに上記熱伝導性基板の上方に
    配置された端子支持板を備え、該端子支持板は間隔をあ
    けた複数の開口を有し、上記複数の端子は複数の開口を
    貫通して受合われるとともに、上記端子を互いに平行に
    隔てられ絶縁された関係に支持するため上記端子の長さ
    方向に沿って中間部が固定されたことを特徴とするパワ
    ー半導体モジュール。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のパワー半導体モジュール
    であって、上記相対的に厚い底板および上記伝導プレー
    トがアルミニユームであることを特徴とするパワー半導
    体モジュール。
  3. 【請求項3】 請求項1記載のパワー半導体モジュール
    であって、上記伝導プレートが長方形で、かつ上記相対
    的に厚い底板の全幅に近い幅を有してなることを特徴と
    するパワー半導体モジュール。
  4. 【請求項4】 請求項1記載のパワー半導体モジュール
    であって、上記複数の半導体チップがIGBTチップを
    含むことを特徴とするパワー半導体モジュール。
  5. 【請求項5】 請求項2記載のパワー半導体モジュール
    であって、上記伝導プレートが長方形で、かつ上記相対
    的に厚い底板の全幅に近い幅を有してなることを特徴と
    するパワー半導体モジュール。
  6. 【請求項6】 請求項5記載のパワー半導体モジュール
    であって、上記複数の半導体チップがIGBTチップを
    含むことを特徴とするパワー半導体モジュール。
  7. 【請求項7】 請求項4記載のパワー半導体モジュール
    であって、上記複数の半導体チップがさらに上記IGB
    Tチップの各々のものと並列に接続されている高速リカ
    バリダイオードを含むことを特徴とするパワー半導体モ
    ジュール。
  8. 【請求項8】 請求項7記載のパワー半導体モジュール
    であって、上記高速リカバリダイオードチップが互いに
    間隔をおいて上記IGBTの線に平行な線に沿って配置
    されてなることを特徴とするパワー半導体モジュール。
  9. 【請求項9】 請求項4記載のパワー半導体モジュール
    であって、上記IGBTチップがそのゲート電極と直列
    にゲート抵抗を有しており、上記ゲート抵抗が各IGB
    Tチップにそれぞれ集積されてなることを特徴とするパ
    ワー半導体モジュール。
  10. 【請求項10】 請求項9記載のパワー半導体モジュー
    ルであって、上記複数の半導体チップがさらに上記IG
    BTチップのそれぞれのものと並列に接続されている高
    速リカバリダイオードを含むことを特徴とするパワー半
    導体モジュール。
  11. 【請求項11】 複数の半導体チップを装着するための
    絶縁金属基板であって、該絶縁金属基板は、伝導性材料
    からなる平坦で相対的に厚い底板と、該底板の上部の相
    対的に薄い絶縁材料層とを有し、該絶縁材料層の上に配
    置されるとともに上記絶縁材料層の上に所定の幾何学的
    形状を有する相対的に薄い伝導性材料層を有することを
    特徴とし、さらに、実質的に全底面にわたって伝導性材
    料の上記相対的に薄い層の領域に接続されて、放熱板を
    構成する少なくとも一つの伝導プレートを有することを
    特徴とし、少なくとも選択された個数の前記複数の半導
    体チップの底面が互いに近接して上記伝導プレートの上
    面に半田付けされて上記伝導プレートのほぼ中心に沿う
    線に平行に配置されていて、熱が上記チップから上記伝
    導プレートおよび上記伝導性の相対的に薄い層の全体へ
    伝達されるように構成してなり、熱が上記伝導プレート
    および上記伝導性の相対的に薄い層から上記相対的に薄
    い絶縁材料層を通して上記相対的に厚い底板に、上記伝
    導性の相対的に薄い層と上記相対的に厚い底板との間の
    電気伝導を伴うことなしに、伝導されることを特徴とす
    る絶縁金属基板。
  12. 【請求項12】 請求項11記載の絶縁金属基板であっ
    て、上記伝導プレートが長方形で上記相対的に厚い底板
    の全幅に近い幅を有してなることを特徴とする絶縁金属
    基板。
  13. 【請求項13】 請求項11記載の絶縁金属基板であっ
    て、上記複数の半導体チップがIGBTチップからなる
    ことを特徴とする絶縁金属基板。
  14. 【請求項14】 請求項12記載の絶縁金属基板であっ
    て、上記複数の半導体チップがIGBTチップを含むこ
    とを特徴とする絶縁金属基板。
  15. 【請求項15】 請求項13記載の絶縁金属基板であっ
    て、上記複数の半導体チップがさらに上記IGBTチッ
    プのそれぞれのものと並列に接続されている高速リカバ
    リダイオードを含むことを特徴とする絶縁金属基板。
  16. 【請求項16】 請求項15記載の絶縁金属基板であっ
    て、上記高速リカバリダイオードが互いに間隔を有して
    上記IGBTチップの線に平行な線に平行に配置してな
    ることを特徴とする絶縁金属基板。
  17. 【請求項17】 請求項13記載の絶縁金属基板であっ
    て、各々のIGBTチップがそのゲート電極と直列のゲ
    ート抵抗を有しており、このゲート抵抗が各IGBTチ
    ップにそれぞれ集積されてなることを特徴とする絶縁金
    属基板。
  18. 【請求項18】 底部開口を有する絶縁外装キャップ
    と、該外装キャップ内で相互接続されて予め定められた
    電気回路を構成する複数の半導体チップと、上記外装キ
    ャップの上記底部開口を横断して伸びるとともに上記底
    部開口に横断して固定され、かつ上記複数の半導体チッ
    プを支持する熱伝導基板と、互いに絶縁されるとともに
    上記熱伝導基板の表面からほぼ直交方向に伸びる複数の
    端子とを有しており、互いに間隔をおいて平行かつ絶縁
    状態に上記端子を支持するために上記複数の端子の長さ
    の中間点で受けて固定する間隔を有する開口を備えてな
    る端子支持板を有することを特徴とし、各々の上記端子
    が長手方向に第1および第2端部領域を有し、上記端子
    の上記第1端部領域が上記熱伝導基板の上面とほぼ同じ
    面にある共通の面に配置されており、上記熱伝導基板の
    上面が上記複数の端子のそれぞれの第1端部領域と整列
    する間隔を有する伝導結合領域を有していて、上記端子
    の上記第1端部が上記熱伝導基板上の伝導結合領域の選
    択されたいずれか一つに機械的に固定されており、上記
    端子支持板の底部が上記熱伝導基板の上面で間隔を有し
    て上記熱伝導基板の第1膨張空間を構成しており、上記
    外装キャップには上記複数の端子の挿通用の開口が形成
    されていて、該開口を介して外部に延在する上記複数の
    端子は外部接続されるようになっており、上記端子支持
    板が上記外装キャップの内部に嵌合されるとともに上記
    熱伝導基板の上方に配置されてなることを特徴とするパ
    ワー半導体モジュール。
  19. 【請求項19】 請求項18記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記複数の端子が上記端子支持板内にス
    ナップ嵌合されてなることを特徴とするパワー半導体モ
    ジュール。
  20. 【請求項20】 請求項18記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記第1膨張空間がソフトシリコン充填
    材で部分的に充填されてなることを特徴とするパワー半
    導体モジュール。
  21. 【請求項21】 請求項20記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記端子支持板が該端子支持板を貫通し
    て上記第1膨張空間内に上記ソフトシリコン充填材を注
    入するシール開口を有してなることを特徴とするパワー
    半導体モジュール。
  22. 【請求項22】 請求項18記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記熱伝導基板は外部領域に該基板を貫
    通する上記外装キャップへの取付開口を有し、上記端子
    支持板は、組み立ての際に上記取付開口に嵌合して上記
    端子支持板および上記複数の端子の第1端部領域を上記
    熱伝導基板上にそれらの上記各々の伝導結合領域と合致
    して位置決めする取外し可能な突起を有することを特徴
    とするパワー半導体モジュール。
  23. 【請求項23】 請求項18記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記端子の上記第1端部領域が折曲され
    て上記熱伝導基板の面と平行な平坦な端部領域を構成す
    るようになったことを特徴とするパワー半導体モジュー
    ル。
  24. 【請求項24】 請求項18記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記熱伝導基板が絶縁金属基板であるこ
    とを特徴とするパワー半導体モジュール。
  25. 【請求項25】 請求項18記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記外装キャップの内部が上記熱伝導基
    板の上部に接着され、その接着が上記端子支持板および
    上記外装キャップを通して伸びる上記各端子の周囲を囲
    繞するとともにシールしてなることを特徴とするパワー
    半導体モジュール。
  26. 【請求項26】 請求項25記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記接着材がシリコン接着材からなるこ
    とを特徴とするパワー半導体モジュール。
  27. 【請求項27】 請求項25記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記端子支持板の上部が上記複数の端子
    が貫通して伸長する接着材受用凹部を有し、上記外装キ
    ャップの内部が上記凹部の内部に突出するとともに上記
    端子を囲繞する複数の垂直突起を有してなることを特徴
    とするパワー半導体モジュール。
  28. 【請求項28】 請求項21記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記複数の端子が上記端子支持板内にス
    ナップ嵌合により接続されてなることを特徴とするパワ
    ー半導体モジュール。
  29. 【請求項29】 請求項21記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記端子の上記第1端部領域が折曲され
    て上記基板の面と平行な平坦な端部領域を構成するよう
    になったことを特徴とするパワー半導体モジュール。
  30. 【請求項30】 請求項28記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記熱伝導基板が絶縁金属基板よりなる
    ことを特徴とするパワー半導体モジュール。
  31. 【請求項31】 請求項29記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記熱伝導基板が絶縁金属基板であるこ
    とを特徴とするパワー半導体モジュール。
  32. 【請求項32】 請求項21記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記外部キャップの内部が上記熱伝導基
    板の上部に接着されており、その接着材が上記端子支持
    板および上記外装キャップを通して伸びる上記各端子の
    周辺を囲繞するとともにシールしてなることを特徴とす
    るパワー半導体モジュール。
  33. 【請求項33】 請求項32記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記端子支持板の上部が上記複数の端子
    が貫通する接着材受用凹部を有し、上記外装キャップの
    内部が上記凹部に突出するとともに上記端子を囲繞する
    複数の垂直突出部を有してなることを特徴とするパワー
    半導体モジュール。
  34. 【請求項34】 請求項18記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記複数の半導体チップがIGBTチッ
    プを含むことを特徴とするパワー半導体モジュール。
  35. 【請求項35】 請求項18記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記熱伝導基板が伝導性材料からなる平
    坦で相対的に厚い底板と、該底板上の相対的に薄い絶縁
    材料層と、該絶縁材料層上に配置されてその上に所定の
    幾何学形状のパターンを有する相対的に伝導性材料の薄
    い層とを含み、実質的にその底面全体で伝導性材料の上
    記相対的に薄い層の領域に接続された少なくとも一つの
    平坦な放熱板を構成する伝導プレートとからなり、少な
    くとも選択された個数の上記複数の半導体チップが互い
    に近接して間隔をおいて上記伝導プレートの上面に半田
    付けされるとともに、ほぼ上記伝導プレートの中心に沿
    う線に平行に配置されていて、熱が上記チップから上記
    伝導プレートの全体に効率的に伝達されるように構成し
    たことを特徴とするパワー半導体モジュール。
  36. 【請求項36】 請求項35記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記相対的に厚い底板および上記伝導プ
    レートがアルミニュームであることを特徴とするパワー
    半導体モジュール。
  37. 【請求項37】 請求項36記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記複数の半導体モジュールがIGBT
    チップを含むことを特徴とするパワー半導体モジュー
    ル。
  38. 【請求項38】 請求項18記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記複数の半導体チップがIGBTチッ
    プよりなることを特徴とするパワー半導体モジュール。
  39. 【請求項39】 請求項35記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記複数の半導体チップがIGBTチッ
    プよりなることを特徴とするパワー半導体モジュール。
  40. 【請求項40】 請求項38記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記複数の半導体チップがさらに上記I
    GBTチップの各々のものと並列に接続された高速リカ
    バリダイオードを含むことを特徴とするパワー半導体モ
    ジュール。
  41. 【請求項41】 請求項40記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、上記第1高速リカバリダイオードチップ
    が互いに間隔をおいてかつ上記IGBTチップの線に平
    行に配置されてなることを特徴とする半導体モジュー
    ル。
  42. 【請求項42】 請求項41記載のパワー半導体モジュ
    ールであって、各々の上記IGBTチップがそのゲート
    電極に直列にゲート抵抗を有しており、上記ゲート抵抗
    が各IGBTチップにそれぞれ集積されてなることを特
    徴とするパワー半導体モジュール。
JP22061494A 1993-09-15 1994-09-14 パワー半導体モジュールおよびそれに使用する絶縁金属基板 Expired - Fee Related JP2801534B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US122052 1993-09-15
US08/122,052 US5408128A (en) 1993-09-15 1993-09-15 High power semiconductor device module with low thermal resistance and simplified manufacturing

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07240497A JPH07240497A (ja) 1995-09-12
JP2801534B2 true JP2801534B2 (ja) 1998-09-21

Family

ID=22400324

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22061494A Expired - Fee Related JP2801534B2 (ja) 1993-09-15 1994-09-14 パワー半導体モジュールおよびそれに使用する絶縁金属基板

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5408128A (ja)
JP (1) JP2801534B2 (ja)
DE (1) DE4430047C2 (ja)
FR (1) FR2710190B1 (ja)
GB (1) GB2282007B (ja)
IT (1) IT1280673B1 (ja)

Families Citing this family (60)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6002183A (en) * 1995-05-04 1999-12-14 Iversen; Arthur H. Power semiconductor packaging
JP2979923B2 (ja) * 1993-10-13 1999-11-22 富士電機株式会社 半導体装置
JP3051011B2 (ja) * 1993-11-18 2000-06-12 株式会社東芝 パワ−モジュ−ル
US5539254A (en) * 1994-03-09 1996-07-23 Delco Electronics Corp. Substrate subassembly for a transistor switch module
JP3316714B2 (ja) * 1994-05-31 2002-08-19 三菱電機株式会社 半導体装置
DE4421319A1 (de) * 1994-06-17 1995-12-21 Abb Management Ag Niederinduktives Leistungshalbleitermodul
US5902959A (en) * 1996-09-05 1999-05-11 International Rectifier Corporation Lead frame with waffled front and rear surfaces
DE19646396C2 (de) * 1996-11-11 2001-06-28 Semikron Elektronik Gmbh Leistungshalbleitermodul für verschiedene Schaltungsvarianten
US6828600B2 (en) * 1997-05-09 2004-12-07 Eupec Europaeische Gesellschaft Fuer Leistungshalbleiter Mbh Power semiconductor module with ceramic substrate
DE19719703C5 (de) * 1997-05-09 2005-11-17 eupec Europäische Gesellschaft für Leistungshalbleiter mbH & Co. KG Leistungshalbleitermodul mit Keramiksubstrat
DE19722355A1 (de) * 1997-05-28 1998-12-03 Bosch Gmbh Robert Verfahren zur Herstellung elektrischer Baugruppen und elektrische Baugruppe
US6147869A (en) * 1997-11-24 2000-11-14 International Rectifier Corp. Adaptable planar module
US6078501A (en) * 1997-12-22 2000-06-20 Omnirel Llc Power semiconductor module
US6127727A (en) * 1998-04-06 2000-10-03 Delco Electronics Corp. Semiconductor substrate subassembly with alignment and stress relief features
US5895974A (en) * 1998-04-06 1999-04-20 Delco Electronics Corp. Durable substrate subassembly for transistor switch module
US6166464A (en) * 1998-08-24 2000-12-26 International Rectifier Corp. Power module
US6302192B1 (en) * 1999-05-12 2001-10-16 Thermal Corp. Integrated circuit heat pipe heat spreader with through mounting holes
US6896039B2 (en) * 1999-05-12 2005-05-24 Thermal Corp. Integrated circuit heat pipe heat spreader with through mounting holes
US6362964B1 (en) * 1999-11-17 2002-03-26 International Rectifier Corp. Flexible power assembly
DE10024377B4 (de) * 2000-05-17 2006-08-17 Infineon Technologies Ag Gehäuseeinrichtung und darin zu verwendendes Kontaktelement
JP2002026251A (ja) * 2000-07-11 2002-01-25 Toshiba Corp 半導体装置
US20020185726A1 (en) * 2001-06-06 2002-12-12 North Mark T. Heat pipe thermal management of high potential electronic chip packages
US6729908B2 (en) * 2001-07-31 2004-05-04 Delphi Technologies, Inc. Battery pack having perforated terminal arrangement
US6534857B1 (en) * 2001-11-02 2003-03-18 Northrop Grumman Corporation Thermally balanced power transistor
DE10214448A1 (de) * 2002-03-30 2003-10-16 Hella Kg Hueck & Co Trennschalter
US6880626B2 (en) * 2002-08-28 2005-04-19 Thermal Corp. Vapor chamber with sintered grooved wick
AU2003230740B2 (en) * 2002-11-08 2008-10-09 Warsaw Orthopedic, Inc. Transpedicular intervertebral disk access methods and devices
US6889755B2 (en) * 2003-02-18 2005-05-10 Thermal Corp. Heat pipe having a wick structure containing phase change materials
US6945317B2 (en) 2003-04-24 2005-09-20 Thermal Corp. Sintered grooved wick with particle web
US20050022976A1 (en) * 2003-06-26 2005-02-03 Rosenfeld John H. Heat transfer device and method of making same
EP1639628A4 (en) * 2003-06-26 2007-12-26 Thermal Corp HEAT TRANSFER DEVICE AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
US6994152B2 (en) * 2003-06-26 2006-02-07 Thermal Corp. Brazed wick for a heat transfer device
US6938680B2 (en) * 2003-07-14 2005-09-06 Thermal Corp. Tower heat sink with sintered grooved wick
DE102005037191A1 (de) * 2005-08-06 2007-02-08 Vorwerk & Co. Interholding Gmbh Küchengefäß mit einem Heizboden
WO2007025489A1 (de) * 2005-08-26 2007-03-08 Siemens Aktiengesellschaft Leistungshalbleitermodul mit auf schaltungsträger aufgebrachten lastanschlusselementen
JP4825259B2 (ja) * 2008-11-28 2011-11-30 三菱電機株式会社 電力用半導体モジュール及びその製造方法
JP5283277B2 (ja) * 2009-09-04 2013-09-04 日本インター株式会社 パワー半導体モジュール
CN102013578B (zh) * 2009-09-07 2014-05-28 比亚迪股份有限公司 导体引出结构以及功率模块
US20110134607A1 (en) * 2009-12-07 2011-06-09 Schnetker Ted R Solid state switch arrangement
CN103430306B (zh) * 2011-03-16 2016-06-29 富士电机株式会社 半导体模块及其制造方法
JP5831626B2 (ja) 2012-03-28 2015-12-09 富士電機株式会社 半導体装置及び半導体装置の製造方法
WO2013145620A1 (ja) 2012-03-28 2013-10-03 富士電機株式会社 半導体装置
CN104170086B (zh) 2012-03-28 2018-01-16 富士电机株式会社 半导体装置及半导体装置的制造方法
JP6071662B2 (ja) * 2013-03-11 2017-02-01 京セラ株式会社 パワー半導体モジュール
JP6171586B2 (ja) 2013-06-04 2017-08-02 富士電機株式会社 半導体装置
USD754084S1 (en) 2013-08-21 2016-04-19 Mitsubishi Electric Corporation Semiconductor device
US9871126B2 (en) * 2014-06-16 2018-01-16 Infineon Technologies Ag Discrete semiconductor transistor
USD762597S1 (en) 2014-08-07 2016-08-02 Infineon Technologies Ag Power semiconductor module
CN107078130B (zh) * 2014-09-30 2019-07-23 株式会社三社电机制作所 半导体模块
JP1529977S (ja) * 2014-11-04 2015-07-27
USD748595S1 (en) * 2015-02-03 2016-02-02 Infineon Technologies Ag Power semiconductor module
USD755741S1 (en) * 2015-02-18 2016-05-10 Semiconductor Components Industries, Llc Power device package
USD755742S1 (en) * 2015-02-18 2016-05-10 Semiconductor Components Industries, Llc Power device package
USD759604S1 (en) * 2015-06-17 2016-06-21 Mitsubishi Electric Corporation Semiconductor device
JP2017183621A (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 富士通株式会社 電子機器
CN105789160B (zh) * 2016-05-03 2017-05-24 扬州国扬电子有限公司 一种组合式电极及其三电平大功率模块
JP1578687S (ja) * 2016-11-08 2017-06-12
US10510636B2 (en) * 2017-07-14 2019-12-17 Shindengen Electric Manufacturing Co., Ltd. Electronic module
US11183440B2 (en) 2018-12-10 2021-11-23 Gan Systems Inc. Power modules for ultra-fast wide-bandgap power switching devices
USD916039S1 (en) * 2020-03-20 2021-04-13 Sansha Electric Manufacturing Co., Ltd. Semiconductor device

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2728313A1 (de) * 1977-06-23 1979-01-04 Siemens Ag Halbleiterbauelement
FR2503526A1 (fr) * 1981-04-03 1982-10-08 Silicium Semiconducteur Ssc Boitier et procede de montage et d'interconnexion de composants semiconducteurs de moyenne puissance en boitier unique.
FR2503932A1 (fr) * 1981-04-08 1982-10-15 Thomson Csf Boitiers a cosses plates pour composants semi-conducteurs de moyenne puissance et procede de fabrication
JPS5968958A (ja) * 1982-10-12 1984-04-19 Mitsubishi Electric Corp ゲ−トタ−ンオフサイリスタ組立体
JPS5972758A (ja) * 1982-10-19 1984-04-24 Mitsubishi Electric Corp ゲ−トタ−ンオフサイリスタモジユ−ル
BR8400122A (pt) * 1983-01-12 1984-08-21 Allen Bradley Co Modulo semicondutor e embalagem de semicondutor aperfeicoada
JPS60103649A (ja) * 1983-11-11 1985-06-07 Hitachi Ltd 半導体装置
JPS63250164A (ja) * 1987-04-07 1988-10-18 Denki Kagaku Kogyo Kk ハイパワ−用混成集積回路基板とその集積回路
DE3717489A1 (de) * 1987-05-23 1988-12-01 Asea Brown Boveri Leistungshalbleitermodul und verfahren zur herstellung des moduls
JPH0648874Y2 (ja) * 1988-10-26 1994-12-12 富士電機株式会社 半導体装置
JPH02222565A (ja) * 1989-02-23 1990-09-05 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
DE3931634A1 (de) * 1989-09-22 1991-04-04 Telefunken Electronic Gmbh Halbleiterbauelement
US4965710A (en) * 1989-11-16 1990-10-23 International Rectifier Corporation Insulated gate bipolar transistor power module
US5105259A (en) * 1990-09-28 1992-04-14 Motorola, Inc. Thermally enhanced semiconductor device utilizing a vacuum to ultimately enhance thermal dissipation
US5194933A (en) * 1990-10-05 1993-03-16 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device using insulation coated metal substrate
JPH04354156A (ja) * 1991-05-31 1992-12-08 Fuji Electric Co Ltd 半導体スイッチング装置
JPH0515450U (ja) * 1991-08-06 1993-02-26 株式会社三社電機製作所 電力用半導体モジユール
JP2656416B2 (ja) * 1991-12-16 1997-09-24 三菱電機株式会社 半導体装置および半導体装置の製造方法、並びに半導体装置に用いられる複合基板および複合基板の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE4430047A1 (de) 1995-03-23
ITMI941840A1 (it) 1996-03-08
GB2282007B (en) 1997-05-28
US5408128A (en) 1995-04-18
DE4430047C2 (de) 1997-05-22
FR2710190B1 (fr) 1997-04-11
GB2282007A (en) 1995-03-22
GB9417776D0 (en) 1994-10-26
ITMI941840A0 (it) 1994-09-08
FR2710190A1 (fr) 1995-03-24
JPH07240497A (ja) 1995-09-12
IT1280673B1 (it) 1998-01-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2801534B2 (ja) パワー半導体モジュールおよびそれに使用する絶縁金属基板
JP3256636B2 (ja) 圧接型半導体装置
JP5661183B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
US7884455B2 (en) Semiconductor device
US6841866B2 (en) Power semiconductor device
JP2739954B2 (ja) 電力用半導体装置とその製造方法
JP4465906B2 (ja) パワー半導体モジュール
JP3129020B2 (ja) 半導体装置
CN110447099A (zh) 半导体器件
US20230187311A1 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
US5063434A (en) Plastic molded type power semiconductor device
JP2001036002A (ja) 半導体装置
KR20020095069A (ko) 회로 장치
JP2004221381A (ja) 半導体装置
JP3829641B2 (ja) パワー半導体モジュール
JP2000068426A (ja) 半導体装置
CN112635404B (zh) 功率子模块、其制作方法以及转模压接式功率模块
JP7512659B2 (ja) 半導体モジュール及び半導体モジュールの製造方法
JPH06302734A (ja) 電力用半導体モジュール
JPH08125116A (ja) 電力用半導体装置
CN210403714U (zh) 一种功率模块
JP3264190B2 (ja) 半導体装置
CN219553614U (zh) 一种半导体电路和散热器
JP7118204B1 (ja) 半導体装置
JPH11238962A (ja) 半導体装置の製造方法及び半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees