JP2788822B2 - ホトマスク - Google Patents
ホトマスクInfo
- Publication number
- JP2788822B2 JP2788822B2 JP12152892A JP12152892A JP2788822B2 JP 2788822 B2 JP2788822 B2 JP 2788822B2 JP 12152892 A JP12152892 A JP 12152892A JP 12152892 A JP12152892 A JP 12152892A JP 2788822 B2 JP2788822 B2 JP 2788822B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- alignment mark
- plate
- exposure
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はホトマスクに関し、特に
アクティブマトリクスカラー液晶ディスプレイを構成す
る薄膜トランジスタアレイを製造するためのステッパ用
ホトマスクに関する。
アクティブマトリクスカラー液晶ディスプレイを構成す
る薄膜トランジスタアレイを製造するためのステッパ用
ホトマスクに関する。
【0002】
【従来の技術】アクティブマトリクスカラー液晶ディス
プレイを構成する薄膜トランジスタアレイをパターン化
するには、一括露光ではホトマスクの精度が出ないので
6インチ程度のホトマスクを複数枚使用して画面継ぎし
てパターン化している。
プレイを構成する薄膜トランジスタアレイをパターン化
するには、一括露光ではホトマスクの精度が出ないので
6インチ程度のホトマスクを複数枚使用して画面継ぎし
てパターン化している。
【0003】例えば、(株)ニコン製NSR−L100
1Gステッパで表示画面サイズ10.4インチのカラー
液晶ディスプレイ用薄膜トランジスタ基板(以下、プレ
ートと記す)を作製する場合、3枚のホトマスクを使用
し薄膜トランジスタアレイ部を1枚のホトマスクで4回
移動露光して作成し、他の2枚のホトマスクで周辺の端
子等を露光し1工程が完了する。露光工程は、数回くり
かえして行なわれ、薄膜トランジスタアレイ全体を作製
している。
1Gステッパで表示画面サイズ10.4インチのカラー
液晶ディスプレイ用薄膜トランジスタ基板(以下、プレ
ートと記す)を作製する場合、3枚のホトマスクを使用
し薄膜トランジスタアレイ部を1枚のホトマスクで4回
移動露光して作成し、他の2枚のホトマスクで周辺の端
子等を露光し1工程が完了する。露光工程は、数回くり
かえして行なわれ、薄膜トランジスタアレイ全体を作製
している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】プレートの作成には、
第1回目の露光はプレートの外形基準よりプレート中心
を求め中心より各ホトマスクのショット位置がデータ入
力されており露光される。
第1回目の露光はプレートの外形基準よりプレート中心
を求め中心より各ホトマスクのショット位置がデータ入
力されており露光される。
【0005】第2回目以降の露光は、第1回目の露光時
のパターンに、図4に示す様にX方向プレート用アライ
メントマーク4,Y方向プレート用アライメント9,θ
方向プレート用アライメントマーク10を作成してお
き、それぞれのアライメントマークよりプレート中心を
求めているが、各プロセスを経由するとプレートに伸縮
が発生しアライメントマークのみでのプレート中心を演
算することは精度的に不十分でありずれが発生する。正
確な中心値が求められなければ、中心値より露光位置が
データ入力されているのでステップアンドリピートし画
面継ぎし薄膜トランジスタアレイをパターン化する場
合、ショット毎にゲートドレインの重ね合せ精度が悪
く、トランジスタ特性が異なり表示品質が異なるという
問題点がある。
のパターンに、図4に示す様にX方向プレート用アライ
メントマーク4,Y方向プレート用アライメント9,θ
方向プレート用アライメントマーク10を作成してお
き、それぞれのアライメントマークよりプレート中心を
求めているが、各プロセスを経由するとプレートに伸縮
が発生しアライメントマークのみでのプレート中心を演
算することは精度的に不十分でありずれが発生する。正
確な中心値が求められなければ、中心値より露光位置が
データ入力されているのでステップアンドリピートし画
面継ぎし薄膜トランジスタアレイをパターン化する場
合、ショット毎にゲートドレインの重ね合せ精度が悪
く、トランジスタ特性が異なり表示品質が異なるという
問題点がある。
【0006】本発明の目的はプレートの伸縮量等を求め
プレート中心を精度良く求め特性の均一なトランジスタ
アレイが得られるホトマスクを提供することにある。
プレート中心を精度良く求め特性の均一なトランジスタ
アレイが得られるホトマスクを提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、ホトマスク本
体の周辺部に露光機にセットする際に使用するホトマス
ク用Y方向アライメントマークとホトマスク用X方向ア
ライメントマークとホトマスク用θ方向アライメントマ
ークと、本パターン周辺部の外側に薄膜トランジスタ基
板が露光ステージにセットされた時に仮想中心の算出に
使用するY方向プレート用アライメントマークとX方向
プレート用アライメントマークとθ方向プレート用アラ
イメントマークとを有するホトマクスにおいて、前記本
パターン周辺部の外側に前記薄膜トランジスタ基板の伸
縮の変位量を広範囲に計測するポジション計測用マーク
を設けたことを特徴とする。
体の周辺部に露光機にセットする際に使用するホトマス
ク用Y方向アライメントマークとホトマスク用X方向ア
ライメントマークとホトマスク用θ方向アライメントマ
ークと、本パターン周辺部の外側に薄膜トランジスタ基
板が露光ステージにセットされた時に仮想中心の算出に
使用するY方向プレート用アライメントマークとX方向
プレート用アライメントマークとθ方向プレート用アラ
イメントマークとを有するホトマクスにおいて、前記本
パターン周辺部の外側に前記薄膜トランジスタ基板の伸
縮の変位量を広範囲に計測するポジション計測用マーク
を設けたことを特徴とする。
【0008】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【0009】図1は本発明の第1の実施例の構成を示す
平面図である。
平面図である。
【0010】図1に示すホトマスク用Y方向アライメン
トマーク6,ホトマスク用X方向アライメントマーク
7,ホトマスク用θ方向アライメントマーク8は、露光
機にホトマスク本体1をセットする際に使用する。Y,
θ方向プレート用アライメントマーク3,X方向プレー
ト用アライメントマーク4は、プレートが露光ステージ
にセットされた時のプレート仮想中心の算出に、ポジシ
ョン計測用マーク5は、プレートの伸縮等の算出に使用
する。本パターン2は、トランジスタアレイの形成に使
用する。
トマーク6,ホトマスク用X方向アライメントマーク
7,ホトマスク用θ方向アライメントマーク8は、露光
機にホトマスク本体1をセットする際に使用する。Y,
θ方向プレート用アライメントマーク3,X方向プレー
ト用アライメントマーク4は、プレートが露光ステージ
にセットされた時のプレート仮想中心の算出に、ポジシ
ョン計測用マーク5は、プレートの伸縮等の算出に使用
する。本パターン2は、トランジスタアレイの形成に使
用する。
【0011】図2は本発明の第1の実施例の露光方法を
説明するプレートの平面図である。
説明するプレートの平面図である。
【0012】図2に示すように、まず、4枚のホトマク
スパターンA13,B14,C15,D16を使用し画
面継ぎしてカラー液晶ディスプレイの1画面を形成し、
1枚のプレート12に2画面の第1回目の露光を行う。
スパターンA13,B14,C15,D16を使用し画
面継ぎしてカラー液晶ディスプレイの1画面を形成し、
1枚のプレート12に2画面の第1回目の露光を行う。
【0013】次に、第2回目の露光を行う場合、第1回
目の露光完了のプレート12が露光ステージにセットさ
れると、Y方向プレート用アライメントマーク9,θ方
向プレート用アライメントマーク10,X方向プレート
用アライメントマーク4を干渉計でサーチして位置を計
測し、3点よりプレート12の中心を求める。
目の露光完了のプレート12が露光ステージにセットさ
れると、Y方向プレート用アライメントマーク9,θ方
向プレート用アライメントマーク10,X方向プレート
用アライメントマーク4を干渉計でサーチして位置を計
測し、3点よりプレート12の中心を求める。
【0014】次に、露光前にポジション計測用マーク5
を干渉計によりサーチし座標位置を計測する。ポジショ
ン計測用マーク5の位置は、露光プログラム内にデータ
入力されており、入力データと計測した値よりスケーリ
ング値及び直交度,ローテーション等が演算され、先に
算出されているプレート中心値に補正がかけられた後、
露光データに従い各ホトマスクパターンA13,B1
4,C15,D16の露光が行われる。
を干渉計によりサーチし座標位置を計測する。ポジショ
ン計測用マーク5の位置は、露光プログラム内にデータ
入力されており、入力データと計測した値よりスケーリ
ング値及び直交度,ローテーション等が演算され、先に
算出されているプレート中心値に補正がかけられた後、
露光データに従い各ホトマスクパターンA13,B1
4,C15,D16の露光が行われる。
【0015】以上説明した様に、各プロセスごとに補正
値のマッチングを行うことにより、ステップアンドリピ
ートで画面継ぎを行ってもショットごとの重ね合わせを
最小限におさえ精度の向上が図られる。
値のマッチングを行うことにより、ステップアンドリピ
ートで画面継ぎを行ってもショットごとの重ね合わせを
最小限におさえ精度の向上が図られる。
【0016】図3は本発明の第2の実施例の構成を示す
平面図である。
平面図である。
【0017】図1及び図2に示す第1の実施例では、X
方向プレート用アライメントマーク4がホトマスク本体
1の本パターン2の辺の中心に配置されており、Y,θ
プレート用アライメントマーク3との間隔が短いため、
プレート中心値の算出が精度的に不十分であったが、第
2の実施例は、図3に示すように、本パターン2の最端
のコーナ部に配置することにより、X方向プレート用ア
ライメントマーク4とY,θ方向プレート用アライメン
トマーク3との間隔が広がり、露光位置の精度をより向
上することができる。
方向プレート用アライメントマーク4がホトマスク本体
1の本パターン2の辺の中心に配置されており、Y,θ
プレート用アライメントマーク3との間隔が短いため、
プレート中心値の算出が精度的に不十分であったが、第
2の実施例は、図3に示すように、本パターン2の最端
のコーナ部に配置することにより、X方向プレート用ア
ライメントマーク4とY,θ方向プレート用アライメン
トマーク3との間隔が広がり、露光位置の精度をより向
上することができる。
【0018】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ホトマス
クに設けられたポジション計測用マークを設けることに
より、各ホトマスクのより正確な露光位置の演算が可能
となり、トランジスタの特性を向上できる効果がある。
クに設けられたポジション計測用マークを設けることに
より、各ホトマスクのより正確な露光位置の演算が可能
となり、トランジスタの特性を向上できる効果がある。
【0019】薄膜トランジスタアレイ製造工程において
何回も露光工程を通過するために各工程において精度を
追い込むことが最終的にトランジスタ特性を向上させ
る。今回実施した広範囲にポジション計測用マークを設
けてプレート上の露光位置を正確に求められる様にした
ことにより、従来のホトマスクに比べ、重ね合せ精度を
2倍に向上出来た。例えば、重ね合せずれ量が3σで従
来1.8〜2.0μm程度あったものが1μm以下に改
善された。
何回も露光工程を通過するために各工程において精度を
追い込むことが最終的にトランジスタ特性を向上させ
る。今回実施した広範囲にポジション計測用マークを設
けてプレート上の露光位置を正確に求められる様にした
ことにより、従来のホトマスクに比べ、重ね合せ精度を
2倍に向上出来た。例えば、重ね合せずれ量が3σで従
来1.8〜2.0μm程度あったものが1μm以下に改
善された。
【図1】本発明の第1の実施例の構成を示す平面図であ
る。
る。
【図2】本発明の第1の実施例の露光方法を説明するプ
レートの平面図である。
レートの平面図である。
【図3】本発明の第2の実施例の構成を示す平面図であ
る。
る。
【図4】従来の露光方法の一例を説明するプレートの平
面図である。
面図である。
1 ホトマスク本体 2 本パターン 3 Y,θ方向プレート用アライメントマーク 4 X方向プレート用アライメントマーク 5 ポジション計測用マーク 6 ホトマスク用Y方向アライメントマーク 7 ホトマスク用X方向アライメントマーク 8 ホトマスク用θ方向アライメントマーク 9 Y方向プレート用アライメントマーク 10 θ方向プレート用アライメントマーク 12 プレート 13 ホトマスクパターンA 14 ホトマスクパターンB 15 ホトマスクパターンC 16 ホトマスクパターンD
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 21/027 G02F 1/1345 G03F 1/08
Claims (1)
- 【請求項1】 ホトマスク本体の周辺部に露光機にセッ
トする際に使用するホトマスク用Y方向アライメントマ
ークとホトマスク用X方向アライメントマークとホトマ
スク用θ方向アライメントマークと、本パターン周辺部
の外側に薄膜トランジスタ基板が露光ステージにセット
された時に仮想中心の算出に使用するY方向プレート用
アライメントマークとX方向プレート用アライメントマ
ークとθ方向プレート用アライメントマークとを有する
ホトマクスにおいて、前記本パターン周辺部の外側に前
記薄膜トランジスタ基板の伸縮の変位量を広範囲に計測
するポジション計測用マークを設けたことを特徴とする
ホトマスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12152892A JP2788822B2 (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | ホトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12152892A JP2788822B2 (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | ホトマスク |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05315216A JPH05315216A (ja) | 1993-11-26 |
JP2788822B2 true JP2788822B2 (ja) | 1998-08-20 |
Family
ID=14813465
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12152892A Expired - Lifetime JP2788822B2 (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | ホトマスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2788822B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2988393B2 (ja) * | 1996-08-29 | 1999-12-13 | 日本電気株式会社 | 露光方法 |
KR19990047447A (ko) * | 1997-12-04 | 1999-07-05 | 윤종용 | 액정 표시 장치의 노광 장치 |
JP4706095B2 (ja) * | 2000-10-12 | 2011-06-22 | 凸版印刷株式会社 | 貼り合せ方法 |
JP4902858B2 (ja) * | 2006-12-19 | 2012-03-21 | インフォビジョン オプトエレクトロニクス ホールデングズ リミティッド | 表示装置用アレイ基板作成用フォトマスク、アレイ基板およびアレイ基板の製造方法 |
-
1992
- 1992-05-14 JP JP12152892A patent/JP2788822B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05315216A (ja) | 1993-11-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19980519 |