JP2712042B2

JP2712042B2 - カラーフィルターの製造方法

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Publication number: JP2712042B2
Application number: JP5602689A
Authority: JP
Inventors: 英昭高尾; 誠小嶋; 辰雄村田; 豊稲葉
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1988-12-14
Filing date: 1989-03-10
Publication date: 1998-02-10
Anticipated expiration: 2013-02-10
Also published as: JPH02236502A

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、カラーフィルターの製造方法に関し、特に
カラー撮像素子やカラーセンサー及びカラーディスプレ
ーなどの微細色分解用として好適なカラーフィルターの
製造方法に関するものである。

［従来の技術］従来、カラーフィルターは、ガラス，プラスチック等
の透明性基板やあるいは、Si等の不透明基板上に色相の
異なる複数の着色パターン形成を順次繰り返して製造さ
れている。

そのカラーフィルターの代表的な製造方法には、染色
法、電着法、印刷法等が挙げられるが、近年、微細パタ
ーンカラーフィルターを安定的に生産性良く製造する方
法の１つとして、特開昭57-16407号公報，特開昭57-747
07号公報，特開昭60-129707号公報，特開昭62-218902号
公報等に感光性樹脂を用いて、フォトリソグラフィーに
よりパターン形成する方法が提案されている。

一方、カラーフィルターを配設するカラーデバイスの
高性能化から、デバイスとしての色再現性の向上が強く
望まれている。すなわち、例えば、カラー撮像素子やカ
ラーセンサーの場合には、カラーフィルター画素間から
の透過光による迷光の発生防止、また斜入射光による隣
接画素色との混色防止が望まれ、さらにカラーディスプ
レイノ場合には、カラーフィルター画素間からの透過光
によるコントラスト，色純度の低下防止が望まれてい
る。近年、特に撮像素子の小サイズ高密度化及びセンサ
ー，ディスプレイの大サイズ高精細化の動向において、
これらの要望は強い。

これに対する解決策として、一般的にカラーフィルタ
ー画素間部分に非透光性膜を形成する方法がとられてい
る。

従来、この様な非透光性膜をカラーフィルター画素間
に形成する方法としては、例えば、予め非透光性膜パタ
ーンが形成された基板上にアライメントしながらカラー
フィルターを形成していく方法、あるいは、予めカラー
フィルターパターンの形成された基板上にアライメント
しながら非透光性膜パターンを形成していく方法を用い
ていた。すなわち、これらの方法では、いずれにしても
カラーフィルターパターン形成と非透光性膜パターン形
成との間にアライメントの操作を有している為、この精
度によりカラーフィルターパターン間に、透光部の無い
一致したサイズの非透光性膜パターンを形成することが
難しかった。さらに、これらの重なり部が生じた場合に
は、カラーフィルター上に段差を生じ、構造的に要求の
強い平坦性の優れたカラーフィルターを形成するのが難
しかった。

［発明が解決しようとする課題］本発明の目的は、上述の従来例のもつ欠点を解消せし
め、簡便な製造プロセスにより、微細パターンを有する
カラーフィルター画素間に隙間なく非透光性金属膜を配
置させることのできるカラーフィルターの製造方法を提
供することにある。

さらに、本発明の目的は、これにより特性の優れたカ
ラーデバイスを提供することにある。

［課題を解決するための手段］および［作用］すなわち、本発明は、基板上の各色カラーフィルター
画素間に隙間なく金属膜を配置させたカラーフィルター
の製造方法において、（イ）基板上に導電性膜パターンを形成する工程と、（ロ）前記導電性膜パターン間に、パターン間巾より大
きい巾を有し、かつ導電性膜パターン上に隣接画素間と
隙間を有する様に、複数色の着色樹脂パターンよりなる
カラーフィルター画素を形成する工程と、（ハ）前記複数色の着色樹脂パターン間に少なくとも配
設された導電性膜上に選択的に金属メッキ処理する工程
により、各色カラーフィルター画素間に隙間なく金属膜を形成す
ることを特徴とするカラーフィルターの製造方法であ
る。

本発明のカラーフィルターの製造方法によれば、金属
メッキの施される導電性膜パターンとカラーフィルター
パターンが一部分重なりを持ちながら形成されるので、
少なくともカラーフィルターパターン間には隙間なく導
電性膜が露出されることになり、その結果、この導電性
膜上に金属メッキを施せばセルフアラインの形で各色カ
ラーフィルター画素間に隙間なく金属膜を形成すること
が可能となる。

このようなカラーフィルターを用いた撮像素子やセン
サーデバイスにおいては、色再現性の向上が期待できる
とともに、充分な遮光により、光素子の誤動作の防止に
も結びつく。さらに、液晶デスプレイデバイスにおいて
は、コントラスト、色純度の向上が期待できるととも
に、電極補助線としての機能を合わせ持たせることが可
能となり、画素電極の低抵抗配線化により、大画面ディ
スプレイにおける信号遅延及びセル内発熱等による表示
品位の低下防止にも効果的である。

さらに、従来に比べ、より平坦性の優れたカラーフィ
ルター構造をとることができる為、液晶ディスプレイに
カラーフィルターを内設するタイプにおいては、配向欠
陥の少ない表示品位の優れたデバイスを得ることができ
る。

以下、本発明を図面に基づき説明する。

第１図（ａ）〜（ｅ）は本発明のカラーフィルターの
製造方法の代表的な態様を示す工程図である。まず、第
１図（ａ）に示される様に、基板１上に導電性膜を形成
した後にパターニングを行ない、カラーフィルターパタ
ーン巾より小さい間隙巾を有する導電性膜パターン２を
形成する。次いで、第１図（ｂ）に示す様に、形成され
た導電性膜パターンの間隙に、このパターン間巾より大
きい巾を有し、かつ、この導電性膜パターン上に隣接画
素間と隙間を有する様に着色樹脂による着色樹脂パター
ン３を形成する。そして、この着色樹脂によるパターン
形成を他の色相を有する着色樹脂により複数回くり返
し、第１図（ｃ）に示す様に、３色の着色樹脂パターン
3,4,5からなるカラーフィルター画素を形成する。

この様に形成されたカラーフィルター基板を用い、露
出されている導電性膜パターン上とカラーフィルター画
素との間に選択性をもたせながら電気的に、あるいは化
学的に導電性膜パターン２上に金属膜を折出させること
により、第１図（ｄ）に示される様に、カラーフィルタ
ー画素間に隙間なく金属膜パターン６を形成することが
できる。なお、必要に応じて、第１図（ｅ）に示す様
に、カラーフィルター画素上部に保護膜７を形成するこ
とができる。

本発明における導電性膜パターンを形成する方法とし
ては、ITO（インジウム−チン−オキサイド）等の透明
導電膜をエッチングによりパターニングするか、あるい
はCu,Al等の非透明金属膜をエッチングによりパターニ
ングする方法等から選定することができる。これらの導
電膜は、蒸着，スパッタリング等の真空成膜法にて形成
し、その膜厚は、100Å〜5000Å程度、好ましくは500Å
〜2000Å程度が適している。

本発明におけるカラーフィルターの有する着色樹脂パ
ターンを形成する樹脂としては、ゼラチン、カゼイン、
グリュー、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリア
ミドイミド、ポリエステルイミド、ポリアミド、ポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポ
リ酢酸ビニル、ポリスチレン、セルロース樹脂、メラミ
ン樹脂、ユリア樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン樹脂、ポリシリコン樹脂及びこれらの樹脂に
感光性を付与した樹脂ならびに一般のフォトレジスト樹
脂等から、任意に選定することができる。

本発明におけるカラーフィルターの有する着色樹脂パ
ターンを形成する着色材料としては、有機顔料、無機顔
料、染料等のうち所望の分光特性を得られるものであれ
ば、特に限定されるものではない。この場合、各材料を
単体で用いることも、これらのうちのいくつかの混合物
として用いることもできる。ただし、カラーフィルター
の色特性及び諸性能から勘案すると有機顔料が着色材料
として最も好ましい。

有機顔料としては、溶性アゾ系、不溶性アゾ系、縮合
アゾ系等のアゾ系顔料をはじめ、フタロシアニン系顔
料，そしてインジゴ系，アントラキノン系，ペリレン
系，ペリノン系，ジオキサジン系，キナクリドン系，イ
ソインドリノン系，フタロン系，メチン・アゾメチン
系、その他金属錯体系を含む縮合多環系顔料、あるいは
これらのうちのいくつかの混合物が用いられる。

本発明において、着色樹脂パターンを形成するために
使用する着色樹脂液は、上記樹脂の溶液に所望の分光特
性を有する上記着色材料を10〜150重量％程度の割合で
配合し、超音波あるいは三本ロール等により充分に分散
させた後、フィルターにて粒径の大きいものを除去して
調製する。

本発明におけるカラーフィルターの有する着色樹脂パ
ターンは、前記着色樹脂液をスピンナー，ロールコータ
ー，印刷装置等の塗布装置により基板上に塗布し、フォ
トリソ工程により、あるいは塗布と同時に印刷する工程
によりパターン状に形成され、その膜厚は所望とする分
光特性に応じて決定されるが、通常は0.5〜５μｍ程
度、好ましくは、１〜２μｍ程度が望ましい。

本発明における金属膜としては、Cu,Ni,Ag,Auをはじ
めとするメッキ処理可能な一般の金属材料及び２種以上
の金属からなる合金等から任意に選定することができ
る。特に、液晶ディスプレイにおいて、透明電極の抵抗
値を下げる為には、より比抵抗の小さいものから選定す
るのが好ましい。また、金属膜は、前記金属材料を導電
性膜パターンを利用し、電気メッキ法にて、あるいは化
学的処理よりなる無電解メッキ法にて形成し、その膜厚
は100Å〜５μｍ程度、好ましくは100Å〜３μｍ程度、
さらに好ましくは1000Å〜２μｍ程度が適している。

なお、金属膜の膜厚をカラーフィルター上部とほぼ一
致する様に形成すると、カラーフィルターの平坦化に著
しい効果が認められ、特に液晶ディスプレイ等に用いる
場合には、液晶の配向ムラの少ない表示品位の優れたパ
ネルを形成することが可能となる。さらに、カラーフィ
ルター上に形成する透明電極と電気的にコンタクトをと
ることにより、低抵抗配線化も可能となり、大画面ディ
スプレイにおける信号遅延対策やパネル内発熱対策にも
効果を発し、表示品位の優れたパネルを形成することが
可能となる。

なお、本発明におけるカラーフィルターの有する着色
樹脂パターンは、必要に応じて着色樹脂パターン表面
に、ポリアミド，ポリイミド，ポリウレタン，ポリカー
ボネート，アクリル，エポキシ，シリコン系等の有機樹
脂やSi₃N₄,SiO₂,SiO,Al₂O₃,Ta₂O₃等の無機膜をスピンコ
ート，ロールコート等の塗布法で、あるいは蒸着法によ
って、保護膜として設けることができる。

以上説明した様な着色樹脂パターンを有するカラーフ
ィルターは適当な基板上に形成することができる。例え
ば、ガラス板、透明樹脂板、樹脂フィルム、あるいはブ
ラウン管表示面、撮像管の受光面、CCD,BBD,CID,BASIS
等の固体撮像素子が形成されたウエハー、薄膜半導体を
用いた密着型イメージセンサー、液晶ディスプレー面、
カラー電子写真用感光体等があげられる。

着色樹脂パターンと下地の基板間との接着性を更に増
す必要がある場合には、基板上にあらかじめシランカッ
プリング剤等で薄く塗布した後に着色樹脂パターンを形
成するか、あるいは、あらかじめ着色樹脂中にシランカ
ップリング剤等を少量添加したものを用いてカラーフィ
ルターを形成することにより、一層効果的である。

［実施例］以下に本発明の実施例を示し、さらに具体的に説明す
る。

実施例１ガラス基板上にITOを1500Åの厚さにスパッタリング
成膜し、通常のパターニングによりカラーフィルターパ
ターン間隙巾10μｍより大きな巾20μｍμｍをもつスト
ライプ状のパターンを形成した。

次いで、この基板上にITOストライプパターン間に以
下の方法にて、ITOパターン間隙巾より大きな巾90μｍ
をもつストライプ状のカラーフィルターを形成した。

すなわち、所望の分光特性を得ることができる青色着
色樹脂材料［ヘリオゲンブルー（Heliogen Blue）L70
80（商品名,BASF社製,C.I.No.74160）を、PA-1000（商
品名，宇部興産社製，ポリマー分;10％、溶剤;N−メチ
ル−２−ピロリドン、顔料：ポリマー＝1:2配合）に分
散させ作製した感光性の着色樹脂液］をスピンナー塗布
法により、1.5μｍの膜厚に塗布し、70℃、30分間のプ
リベークを行なった。次に、形成しようとするパターン
形状に対応したパターンマスクを介して高圧水銀灯にて
露光した。露光終了後、該着色樹脂膜の未露光部のみを
溶解する専用現像液にて超音波を使用して現像し、専用
リンス液で処理した後、200℃、30分間のポストベーク
を行ない、パターン形状を有した青色着色樹脂膜を形成
した。

続いて、青色着色パターンの形成されたガラス基板上
に、第２色目として緑色着色樹脂材［リオノールグリ
ーン（Lionol Green）6YK（商品名，東洋インキ社製,C.
I.No.74265）をPA-1000（商品名，宇部興産社製，ポリ
マー分10％、溶剤＝Ｎ−メチル−２−ピロリドン、顔
料：ポリマー＝1:2配合）に分散させ作製した感光性の
着色樹脂液］を用いる以外は、上記と同様にして、緑色
着色パターンを基板上の所定の位置に形成した。

さらに、この様にして青色及び緑色パターンの形成さ
れている基板上に、第３色目として、赤色着色樹脂材
［イルガジンレッド（Irgazin Red）BPT（商品名，チ
バガイキー（Ciba-Geigy）社製,C.I.No.71127）をPA-10
00（商品名，宇部興産社製，ポリマー分10％、溶剤＝Ｎ
−メチル−２−ピロリドン、顔料：ポリマー＝1:2配
合）に分散させ作製した感光性の着色樹脂液］を用いる
以外は、上記と同様にして、赤色着色パターンを基板上
の所定の位置に形成し、基板上のITOストライプパター
ン間にそのパターン間隙巾より大きな巾をもつＲ
（赤）,G（緑）,B（青）の３色ストライプの着色パター
ンを得た。

このようにして得られたカラーフィルター基板のITO
パターンを極に接続し、45℃のワット溶中にて0.1（A
/cm²）の電流密度で２分間電気メッキを施し、膜厚み1.
35μｍのNi膜を露出されているITOパターン上に選択的
に形成した。

得られたカラーフィルターは各色ストライプパターン
間に隙間なく金属膜が配置された構造をとっていた。

実施例２ガラス基板上にCuを2000Åの厚さにスパッタリング成
膜し、通常のパターニングによりカラーフィルターパタ
ーン間隙巾10μｍより大きな巾20μｍをもつストライプ
状のパターンを形成した。

次いで、この基板上のCuストライプパターン間に、実
施例１と同様の着色樹脂剤を用い、同様の方法にて、Cu
ストライプパターン間隙巾より大きな巾90μｍをもつＲ
（赤）,G（緑）,B（青）の３色ストライプカラーフィル
ターを形成した。

この様にして得られたカラーフィルター基板上の露出
しているCuパターン上に無電解Cuメッキを施し、カラー
フィルターとほぼ同様のパターンを形成した。

実施例３実施例２にて形成されたカラーフィルター基板を用
い、第２図に示す構造の強誘電性液晶素子21を以下の様
に形成した。

すなわち、画素間に非透光性の金属膜パターン20を有
するカラーフィルター上に保護膜29として、感光性ポリ
イミド［PI-300（商品名，宇部興産社製）］を1.0μｍ
の膜厚で塗布形成した。

次に、非透光性の金属膜パターンとコンタクトを取る
パターン形成に対応したパターンマスクを用い、露光、
現像、リンス処理を行い、ポストベークして非透光性の
金属膜上にスールホールを有する保護膜パターンを形成
した。

そして、1500Åの厚さのITOをスパッタリング法にて
成膜し、非透光性金属膜とコンタクトをとるパターン形
成を行ない、透明電極25のパターンを得た。続いて配向
制御膜27としてポリイミドを印刷法により100Åの膜厚
で塗布し、ラビング処理を施した。

この様にして得られたカラーフィルター基板と対向基
板との間に1.5μｍ径のシリカビーズを散布して、両基
板のストライプ状パターン電極が直交する様に貼り合わ
せてセル組し、強誘電性液晶24を注入し、封口して液晶
素子を得た。

得られた強誘電性液晶素子はコントラスト、色純度に
優れ、かつ、コンタクトが施された非透光性金属膜によ
る透明電極の低抵抗化から、信号遅延及びセル内発熱に
よる表示品位の低下のない優れたものであった。

さらに、段差の少ないカラーフィルターにより配向欠
陥の少ない液晶素子を得ることができた。

実施例４薄膜トランジスターを基板として、該基板上に本発明
におけるカラーフィルターを形成してなるカラー液晶表
示素子の作製を以下のようにして実施した。

まず第３図（ａ）に示すように、ガラス基板（商品
名:7059、コーニング社製）１上に1000Åの層厚のITO画
素電極31をフォトリソ工程により所望のパターンに成形
した後、この面に更にAlを1000Åの層厚に真空蒸着し、
この蒸着層をフォトリソ工程により所望の形状にパター
ンニングして第３図（ｂ）に示すようなゲート電極32を
形成した。

続いて、感光性ポリイミドを前記電極の設けられた基
板１面上に塗布し絶縁層33を形成し、パターン露光及び
現像処理によってドレイン電極38と画素電極31とのコン
タクト部を構成するスルーホール34を第３図（ｃ）に示
すように形成した。

ここで、基板１を推積槽内の所定の位置にセットし、
推積槽内にH₂で希釈されたSiH₄を導入し、真空中でグロ
ー放電法により、前記電極31,32及び絶縁層33の設けら
れた基板１全面に2000Åの層厚のa-Siからなる光導電層
（イントリンシック層）35を推積させた後、この光導電
層35上に引続き同様の操作によって、1000Åの層厚のn⁺
層36を第３図（ｄ）に示したように積層した。この基板
１を推積槽から取り出し、前記n⁺層36及び光導電層35の
それぞれを、この順にドライエッチング法により所望の
形状に第３図（ｅ）に示したようにパターンニングし
た。

次に、このようにして光導電層35及びn⁺層36が設けら
れている基板面に、Alを1000Åの層厚で真空蒸着した
後、このAl蒸着層をフォトリソ工程により所望の形状に
パターンニングして、第３図（ｆ）に示すようなソース
電極37及びドレイン電極38を形成した。

さらに、この上に絶縁層39を形成した後に、画素電極
31のそれぞれに対応させて、実施例２と同様な方法によ
り、パターン間に金属膜の遮光層を有する赤、青及び緑
の３色の着色パターンを、第３図（ｇ）に示すように形
成した後、第３図（ｈ）の如くこの基板面全面に配向機
能を付与した保護膜７としてポリイミド樹脂を1200Åの
層厚に塗布し、250℃、１時間の加熱処理によって樹脂
の硬化を行ないカラーフィルターが一体化された薄膜ト
ランジスターを作製した。

このように作製されたカラーフィルター付き薄膜トラ
ンジスターを用いて更に、カラー用液晶表示素子を形成
した。

すなわち、ガラス基板（商品名:7059、コーニング社
製）の一面に前記の方法と同様にして、1000ÅのITO電
極層を形成し、更に該電極層上に配向機能を付与しポリ
イミド樹脂からなる層厚1200Åの絶縁層を形成し、この
基板と先に形成したカラーフィルター付き薄膜トランジ
スターとの間に液晶を封入して全体を固定して、カラー
用液晶表示素子を得た。

このようにして形成されたカラー用液晶表示素子は、
良好な特性を有するものであった。

実施例５パターン間に金属膜の遮光層を有する３色カラーフィ
ルターを画素電極上に設ける代わりに、対向電極上に絶
縁層を介して設ける以外は実施例４と同様にして、本発
明のカラーフィルターを有するカラー用液晶表示素子を
得た。

このようにして形成されたカラー用液晶表示素子は、
良好な特性を有するものである。

実施例６パターン間に金属膜の遮光層を有する３色カラーフィ
ルターをまず対向基板上に形成した後に、絶縁層を形成
し、その上に対向電極を設ける以外は実施例４と同様に
して、本発明のカラーフィルターを有するカラー用液晶
表示素子を得た。

この様にして形成されたカラー用液晶表示素子は良好
な特性を有するものであった。

実施例７ CCD（チャージ、カップルド、デバイス）の形成され
たウエハーを基板として用い、CCDの有する各受光セル
に対応して、カラーフィルターの有する各着色パターン
が配置されるように、パターン間に金属膜の遮光層を有
する３色ストライプカラーフィルターを絶縁層を介して
形成する以外は、実施例１と同様にして本発明のカラー
フィルターを有するカラー固体撮像素子を形成した。な
お、カラーフィルター上には、アクリル樹脂系の保護膜
を形成した。

このようにして形成されたカラー固体撮像素子は、良
好な特性を有するものであった。

実施例８ CCD（チャージ、カップルド、デバイス）の形成され
たウエハーに、実施例１に於いて形成したカラーフィル
ターを、CCDの有する各受光セルに対応して、カラーフ
ィルターの有する各着色パターンが配置されるように位
置合わせをして貼着し、カラー固体撮像素子を形成し
た。

実施例９第４図の部分平面概略図に示すような本発明のカラー
フィルターを有するカラー用フォントセンサーアレイの
形成を第５図に示した工程に従って以下のように実施し
た。

まず、ガラス基板（商品名:7059、コーニング社製）
１の上にグロー放電法によってa-Si（アモルファスシリ
コン）層からなる光導電層（イントリンシック層）45を
第５図（ａ）に示すように設けた。

すなわち、H₂で10容量％に希釈されたSiH₄をガス圧0.
50Torr、RF（Radio Frequency）パワー10W、基板温度25
0℃で２時間基板上に推積させることによって0.7μｍの
膜厚の光導電層45を得た。

続いて、この光導電層45上にグロー放電法により第５
図（ｂ）に示すようにn⁺層46を設けた。

すなわち、H₂で10容量％に希釈されたSiH₄と、H₂で10
0ppmに希釈されたPH₃とを1:10で混合したガスを原料と
して用い、その他は、先の光導電層の推積条件と同様に
して光導電層45に連続して、0.1μｍの層厚のn⁺層46を
設けた。

次に、第５図（ｃ）に示すように電子ビーム蒸着法で
Alを0.3μｍの層厚にn⁺層46上に推積させて、導電層49
を推積した。続いて、第５図（ｄ）に示すように導電層
49の光変換部となる部分に相当する部分を除去した。

すなわち、ポジ型のマイクロポジット1300-27（商品
名、Shipley社製）フォトレジストを用いて所望の形状
にフォトレジストパターンを形成した後、リン酸（85容
量％水溶液）、硝酸（60容量％水溶液）、氷酢酸及び水
を16:1:2:1の割合で混合したエッチング溶液を用いて露
出部（レジストパターンの設けられていない部分）の導
電層49を基板上から除去し、共通電極41及び個別電極40
を形成した。

次に、光変換部となる部分のn⁺層46を第５図（ｅ）に
示すように除去した。

すなわち、上記マイクロポジット1300-27フォトレジ
ストを基板から剥離した後、平行平板型プラズマエッチ
ング装置DEM-451（日電アネルバ社製）を用いてプラズ
マエッチング法（別名リアクティブイオンエッチング
法）でRFパワー120W、ガス圧0.1TorrでCF₄ガスによるド
ライエッチングを５分間行ない、露出部のn⁺層46及び光
導電層45の表面層の一部を基板から除去した。

なお、本実施例では、エッチング装置のカソード材料
のインプランテーションを防止するために、カソード上
にポリシリコンのスパッタ用ターゲット（８インチ、純
度99.999％）を置き、その上に試料をのせ、カソード材
料のSUSが露出する部分はドーナッツ状に切抜いたテフ
ロンシートでカバーし、SUS面がほとんどプラズマでさ
らされない状態でエッチングを行なった。その後、窒素
を3l/minの速度で流したオーブン内で20℃60分の熱処理
を行なった。

こうして作成されたフォトセンサーアレイの表面に、
次に保護層を以下のようにして形成した。

すなわち、フォトセンサーアレイ上にグロー放電法に
よって保護層47としてのシリコンナイトライド層を形成
した。

すなわち、H₂で10容量％に希釈されたSiH₄と100％NH₃
を1:4の流量比で混合した混合ガスを用い、その他は先
のa-Si層を形成したのと同様にして、0.5μｍの層厚の
シリコンナイトライド（a-SiNH）層からなる保護層47を
第５図（ｆ）に示すように形成した。

更に、この保護層47を基板として、実施例１と同様に
して、パターン間に金属膜の遮光層を有する青５、緑
４、赤６の３色の着色パターンからなるカラーフィルタ
ーを形成した後、保護膜を形成し、第４図に示すよう
に、各フォトセンサー上にそれぞれ着色フィルターが配
置されたカラーフォトセンサーアレイを形成した。

本実施例に於いて形成されたカラーフォトセンサーア
レイに於いても、良好な特性を有するものであった。

実施例10 実施例１に於いて形成したカラーフィルターを、接着
剤を用いて、実施例９に於いて形成したフォトセンサー
アレイ上に貼着することによりカラーフォトセンサーア
レイを形成した。

本実施例に於いて形成したカラーフォトセンサーも実
施例９に於いて形成したものと同様に、良好な特性を有
するものであった。

［発明の効果］以上説明したように、本発明のカラーフィルターの製
造方法によれば、金属メッキ処理の施される導電性膜パ
ターン上にカラーフィルター画素のパターンが一部重な
りを持ちながら形成されるので、少なくともカラーフィ
ルター画素間には隙間なく導電性膜が露出されることに
なる。従って、金属膜形成時にはセルフアラインで各色
カラーフィルター画素間に隙間なく金属膜を設けること
が可能となる。

従って、この様なカラーフィルターを配置した撮像素
子やセンサーデバイスにおいては、（１）色再現性の向上（２）光素子の誤動作防止さらに、液晶ディスプレイデバイスにおいては、（１）コントラスト、色純度の向上（２）平坦性による配向欠陥の減少された表示品位（３）非透光性金属膜を電極補助線としても活用するこ
とにより、信号遅延あるいはセル内発熱による表示品位
の低下防止等に優れた効果を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）〜（ｅ）は本発明のカラーフィルターの製
造法を説明するための工程図、第２図は本発明により得
られカラーフィルターを用いた強誘電性液晶素子の断面
図、第３図（ａ）〜（ｈ）は本発明により得られカラー
フィルターを用いた液晶表示素子の形成工程図、第４図
は本発明により得られカラーフィルターを用いたフォト
センサーアレイの模式的平面部分図および第５図（ａ）
〜（ｇ）は、第４図に示したフォトセンサーアレイの形
成工程図である。 1,22,23……基板 2,19……導電性膜パターン 3,4,5……着色樹脂パターン 6,20……金属膜パターン 7,29……保護膜 21……強誘電性液晶素子 24……強誘電性液晶 25,26……透明電極 27,28……配向制御膜 31……画素電極 32……ゲート電極 33,39……絶縁層 34……スルーホール 35,45……光導電層 36,46……n⁺層 37……ソース電極 38……ドレイン電極 40……個別電極 41……共通電極 47……保護層 49……導電層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者稲葉豊東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内 (56)参考文献特開平２−153304（ＪＰ，Ａ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上の各色カラーフィルター画素間に隙
間なく金属膜を配置させたカラーフィルターの製造方法
において、（イ）基板上に導電性膜パターンを形成する工程と、（ロ）前記導電性膜パターン間に、パターン間巾より大
きい巾を有し、かつ導電性膜パターン上に隣接画素間と
隙間を有する様に、複数色の着色樹脂パターンよりなる
カラーフィルター画素を形成する工程と、（ハ）前記複数色の着色樹脂パターン間に少なくとも配
設された導電性膜上に選択的に金属メッキ処理する工程
により、各色カラーフィルター画素間に隙間なく金属膜を形成す
ることを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
【請求項２】前記基板が表示装置の表示部である請求項
１記載のカラーフィルターの製造方法。
【請求項３】前記基板が固体撮像素子である請求項１記
載のカラーフィルターの製造方法。
【請求項４】前記基板がイメージセンサーの受光面であ
る請求項１記載のカラーフィルターの製造方法。