JPS61172102A - カラ−フイルタ−の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ＣＯＤ　　（チャージ、カップルド、デバイ
ス）、ＣＩＤ（チャージ、インジェクション、デバイス
）及びＢＡＳＩＳ　　（ベース、ストアータイプ、イメ
ージセンサ−）等のカラー固体撮像素子、あるいは密着
型イメージセンサ−及びカラーディスプレイ用として好
適に用いられる力ラーフィルターの製造法に関する。

〔従来の技術〕

従来、基板上に設けられた、例えばストライプ模様状あ
るいはモザイク模様状など所望の形状にパターンニング
された２色以上のフィルターとして機能する着色層から
なるカラーフィルターの製造に於いては、着色層を真空
蒸着によって色素の蒸着薄膜として形成する方法が、例
えば特開昭５５−１４６４０６号公報等によって知られ
ている。この方法によれば、色素そのもので着色層を形
成することができ、それまでのいわゆる染色法によって
着色層を形成していたのと異なり、媒染層が不用なので
、着色層は極めて薄膜化され、かつ非水工程によって着
色層が形成できるという利点を有している。

このようにして色素の蒸着によって形成された着色層を
パターンニングする方法としては、従来ドライエツチン
グ法が主に使用されてきた。このドライエツチング法は
、着色層上にレジストマスクパターンを形成した後、こ
れをエツチング用マスクとしてレジストの設けられてい
ない部分の着色層をイオンないしプラズマ雰囲気中で蒸
発させて除去し、所望の形状のカラーフィルターを形成
するものである。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、このような方法では、着色層上に該着色
層を損なうことなくパターンの形成が可能で、かつ耐ド
ライエツチング性の良いレジストの選択が容易ではなく
、またレジストマスクがフィルター上に残存するために
構成が複雑になるとい言う問題もあった。

これに対して、基板上に、該基板から溶解除去可能なレ
ジストパターンを形成し、その後色素を蒸着して着色層
を形成し、次いで着色層下部のレジストパターンを基板
上から溶解除去することによって、その上部に形成され
た不用な着色層をも同時に基板上から除去する、いわゆ
るリバースエツチング法（リフトオフ法）が、例えば特
公昭第４７−ＩＨ１５号公報等により知られている。

このリフトオフ法による着色層のパターンニングは、第
５図に示すように３つの基本的工程からなる。

すなわち、第５図（ａ）に示すようにまず基板５１上に
フォトリソ工程等の方法に、より、後に基板５１上から
溶解除去可能な物質、例えばポジ型レジストを用いて所
望の形状の着色パターンに対してネガティブな関係にあ
るレジストパターン５２を設け、次ぎに第５図（ｂ）に
示すように該レジストパターン５２の設けられた基板５
１の面に着色層５３を積層し、更に第５図（Ｃ）に示す
ように着色層の下にあるレジストパターン５２を溶解し
、該レジストパターンとともに不用な着色層をも基板上
から除去して、所望の形状の着色パターンを形成し、さ
らにカラーフィルターの有する色の数に応じて、−色の
着色層ごとに、前記の基本工程を繰返して２色以上から
なるのカラーフィルターを形成するものである。

このリフトオフ法と、色素の真空蒸着法とを併用し着色
パターンを形成すれば、基板上に色素の蒸着層からなる
着色層のみからなる着色パターンが得られるため、より
簡単な構成のカラーフィルターを製造することができる
。

ところが、このリフトオフ法を適用した着色層のパター
ンユング法に於いては、色の異なる着色パターンを２つ
以上有するカラーフィルターを形成する際に、レジスト
パターンの作成と、リフトオフ法による着色層のパター
ンニングとを、用いられる色ごとに別々に実施しなけれ
ばならず、このため工程が複雑となり、また工程数も増
加するので、製造コストの上昇、あるいは製造歩留りの
低下を招く要因となっていた。

また、例えば第２色目の着色パターン形成用のレジスト
パターンを基板上に形成する際に、該レジストパターン
形成用の現像液が、すでに基板上に形成されている第１
色目の着色パターンの色素層に直接接触し、これを犯し
該色素層の劣化を招き、該着色層の分光透過率を低下さ
せてしまうなど、先に基板上に形成された着色パターン
が、後に形成される着色パターン形成用のレジストパタ
ーン形成工程中に破損、変質あるいは劣化したりして所
定の品質が得にくいという問題もあった。

本発明の目的は、工程数がより少なく、工程がより簡易
化され、製造コストがより低く、また製造歩留りの高い
カラーフィルターの製造法を提供することにある。

本発明の他の目的は、先に基板上に積層した着色パター
ンを、該着色層パターンの後に形成する他の色の着色パ
ターンのパターンユング工程中に破損、変質あるいは劣
化させることなく着色フィルターを形成することのでき
るカラーフィルターの製造方を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記の目的は以下の本発明により達成することができる
。

すなわち、本発明のカラーフィルターの製造方法は、基
板上に異なる色からなる２つ以上の着色パターンを有す
るカラーフィルターをリフトオフ法により製造する方法
に於いて、 （１）基板上に設けられた第１のレジスト層から第１色
目の着色パターン形成用レジストパターンを形成する工
程、 （２）該第１の着色パターン形成相レジストパターンの
設けられている基板上に、第１色目の着色層を積層する
工程。

（３）該第１色目の着色層上に第２色目の着色パターン
を形成するためのレジストパターン形成用の第２のレジ
スト層を積層する工程、（４）該第２のレジスト層をパ
ターンニングする際に、該第２のレジスト層の不用部分
を前記基板上から除去するときに、該不用部分と該不用
部分下にある前記第１の着色パターン形成用レジストパ
ターン及び該レジストパターン上に積層された着色層と
を同時に前記基板上から除去する工程、 （５）更に、カラーフィルターの有する色が３色以上で
ある場合には、前記（３）及び（０の工程をカラーフィ
ルターの有す°る色の数に応じて。

順次第３色目以降から繰り返す工程及び（６）最後の色
の着色層の前記基板上への積層が終了した後に、前記基
板上から全てのレジストパターンを除去する工程 を含むことを特徴とする。

以下、本発明の方法を図面に従って詳細に説明　。

する。

第１図（ａ）〜第１図Ｕ）は、本発明の方法による３つ
の異なる色の着色パターンを有するカラーフィルターを
製造する場合の基本的工程を示したものである。

本発明の方法に於いては、まず第１図（ａ）に示すよう
に、基板１上に、例えばポジ型フォトレジストヲロール
コーター法、スピンコード法等によって５０００〜７０
００　Ａの膜厚で積層し、レジスト被Ｉｔ！　２を鯵成
した後、第１の色の着色パターンに対応した露光用マス
ク３を、レジスト被膜２上に位置合せを行ないつつ該レ
ジスト層に密着設置または近接して設置し、該露光マス
クを介して例えば紫外光、遠紫外光などによるパターン
露光を行ない、レジスト被膜２の露光された部分を現像
液を用いて選択的に基板ｌ上から溶解除去し第１図（ｂ
）に示すような第１の色からなる着色パターン形成用の
レジストパターン２′を基板上に形成する。

次に、第１図（Ｃ）に示すようにレジストパターン２′
の形成された基板１上に第１の色の色素の蒸着を実施し
、該基板上全体に蒸着色素層からなる着色層４を形成す
る。

ここで従来のリフトオフ法に於いては、レジストパター
ン２′を基板１上から、現像液を用いて除去することに
よって、レジストパターン２′上に８１層された着色層
４の不用部分をも基板１上から除去し着色層４をパター
ンニングし第１の色からなる着色パターンを形成するが
、本発明の方法に於いては、このような従来の工程を行
なわずに第２の色の着色パターンを形成するためのレジ
ストパターンが着色層４上に更に形成される。

すなわち、第１図（ｄ）に示したように、第１の着色パ
ターンを形成するために基板“ｌ上に設けられている着
色層４上に、先にレジスト被膜２を形成したのと同様の
材料を用いてレジスト被膜５を形成し、その後、露光マ
スク６を用いる以外は、第１図（ａ）及び（ｂ）で説明
したのと同様にしてパターン露光し、現像液で処理して
、第２の色からなる着色パターン形成用のレジストパタ
ーン５′を第１図（ｅ）に示すように形成する。

このレジストパターン５′の形成工程に於いご、レジス
ト被膜５の露光部分（第２の色の着色くターンに相当す
る部分）を基板１上から選択的こ現像液によって除去す
る際に、先に基板上に積層された第１の色からなる着色
パターンに相当する部分の色素層４′は、該色素層上に
設けられた第２の色の着色パターン形成用レジスト層５
によって保護されているので、現像液と直接接触するこ
とによる着色層の劣化等が生じにくくなった。

しかも、レジスト被膜５をパターンニングすると同時に
１着色層４の不用部分の一部をも基板１上から除去する
ことができ、先に形成した着色層４のパターンニングと
、後に形成する着色パターン形成用のレジストパターン
のパターンニングとが効率良く同時に実施される。

なお、露光マスク６によるパターン露光は、第１図（ｂ
）に示された状態の基板上に、すなわち着色層４の形成
前のレジストパターン２′に行なっておいても良い。

このようにして、第１の色からなる着色パターン４と第
２の色の着色パターン形成用のレジストパターン５′が
形成されている基板１上全面に、第２の色の色素を用い
て着色層７を第１図（ｆ）に示すように積層する。

この時点で、基板１面上には、該基板上に直接形成され
た２つの着色Ｒ４，７からそれぞれなる２つの着色パタ
ーンが形成されている。

ここで、本発明に於いては、先に説明したよう°　に、
リフトオフを行なわずに、第１図（ｇ）に示すように第
３の色からなる着色パターンを形成するためのレジスト
パターン用のレジスト被膜８を、先に使用したレジスト
被膜形成用材料と同様のものを用いて、着色層７上に積
層する。

続いて、第３の色からなる着色パターン形成用レジスト
パターン８′の形成が、第３の色の着色パターンに対応
した露光マスク９を使用する以外は、レジストパターン
５′の形成時と同様にして行なわれ、第１図（ｈ）に示
すようにレジストパターン８′が形成される。この時、
第１の色の着色層４と第２の色の着色層７の不用部分の
一部も基板上から同時に選択的に除去される。しかも、
これらの着色層４．７のうち基板ｌ上に直接積層されて
いるものは、レジストパターンのパターンニゲの際に現
像液に直接接触することがなく、これらの着色層への現
像液の影響を排除することができる。

なお、レジスト被膜８のパターンニングに際して行なわ
れる露光マスク９を用いたパターン露光は、着色層７の
形成前に、すなわち第１図（ｅ）に示した状態の基板ｌ
上に行なっておくこともできる。

次に、第１図（ｈ）に示したように第３の色からなる着
色パターン形成用のレジストパターンが形成されたとこ
ろで、第１図（ｉ）に示すように第３の色の色素を、基
板１全面に蒸着し、着色層ｌＯを積層する。

最後に、第１図ＣＤに示すように、現像液によって基板
ｌを処理し、基板ｌ上にあるレジストパターン８′、５
′を基板上から選択的に除去し、所定ノ形状にパターン
ニングされた着色層４．７、ｌＯからなる３つの異なる
色の着色パターンを有するカラーフィルターが製造され
る。

なお、製造しようとするカラーフィルターが２色からな
る場合には、先に説明した第１図（ｆ）までの工程によ
って、基板上に色の異なる２つの着色パターンを形成し
た後、第１図Ｎ）で説明したレジストパターンの基板か
らの除去土程を行なって、２色からなるカラーフィルタ
ーを形成すれば良い、更に、カラーフィルターが４色以
上からなる場合には、先に説明した第１図（ｄ）〜第１
図（「）の工程を所望とするカラーフィルターの有する
色の数に応じて各色ごとに繰返し、最後に第１図Ｎ）で
説明したレジストパターンの基板からの除去工程を行な
って、４色以上からなるカラーフィルターを形成すれば
良い。

以上、第１図（ａ）〜第１図（ｊ）を用いて本発明の方
法を実施する場合の基本的工程を説明してきたが、もち
ろん本発明の方法には上記以外に種々の工程が付加され
ていてもさしつかえない。

本発明のカラーフィルターの製造法に於いて用いられる
基板１としては、フィルターとしての機能を妨げない程
度に透明であり、色素蒸着が可能であれば特に限定され
ることはなく、例えば具体的には以下のようなものを挙
げることができる。

すなわち、ガラス板、光学用樹脂板、並びにゼラチン、
ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、
メチルメタクリレート、ポリエステル、渋りブチラール
及びポリアミド等の樹脂フィルム等を上げることができ
る。

また、基板として例えばブラウン管表示面、撮像管の受
光面、ＢＢＤ　、　ＣＩＯ、ＣＯＤ　、　ＢＡＳＩＳ等
の固体撮像素子が形成されたウェハー、薄膜半導体を用
いた密着型イメージセンサ−１液晶ディスプレー面、カ
ラー電子写゛真用感光体等を使用すれば、本発明の方法
により形成された着色パターンをカラーフィルターとし
てこれらに一体化して形成することができる。

蒸着された色素からなる着色層と下地の基板との接着性
を増す必要がある場合には、ガラス基板等にポリウレタ
ン樹脂、ポリカーボネート樹脂、シランカップリング剤
等を予め薄く塗布してから基板として用いると効果的で
ある。

本Ｊｕｌの方法に用いるレジストパターン形成用材料と
しては、ネガ型フォトレジストも使用可能であるが、ポ
ジ型フォトレジストが取扱いの上から好適であり、ポジ
型フォトレジストとしては例えば、 ＡＺシリーズ：　１１１．１１ＯＡ、　１２０，３４０
．１３５０Ｂ、１３５ＱＪ。

１３７０．１３７５，１４５０，１４５０Ｊ、１４７０
，１４７５　。

２４００．２４１５，２４３０゜ （以上シプレー製） Ｗａｙｃｏａｔ　ＨＰＲ−２０４，−２０５，−２０８
，−２０７，−１１８２゜１ｄａｙｃｏａｔ　ＨＰＲ、
（以上ハント製）Ｋａｄａｋ　Ｍｉｋｒｏ　Ｐｏ５ｉｔ
ｉｖｅ　Ｒｅ５ｉＳｔ　、　　（：Ｉダック製）Ｉｓｏ
ｆｉｎｅ　Ｐｏ５ｉｔｉｖｅ　Ｒｅ５ｉｓｔ　、　　（
マイクロイメージテクノロジー製） ＰＣ１２９，１２３ＳＦ　、　　　　　　　（ポリクロ
ーム製）ＯＦＰＲ７７，７８，８００゜ ０ＥＢＲ１０００，１０１０，１０３０。

０ＤｔｌＲ１０００，１００１，１０１０，１０１３，
１０１４。

（以上東京応化部） ＥＲＲＥＩＧＯ，ＥＩＱＩ　、　　　　　　　（富士薬
品工業製）ＪＳＲＰｏ５ｉｔｉｖｅ　Ｐｈｏｔｏｒｅｓ
ｉｓｔ　ＰＦＲ３００３゜（日本合成ゴム製） Ｓｅｌｅｃｔｉｌｕｘ　Ｐ、　　　　　　　　　　　　
（メルク製）及び ＦＰＭ　２１α、ＦＢＭ１２Ｇ　　　　　　　（ダイキ
ン工業製）等を挙げることができる。

本発明の方法に於いて着色層を形成するのに使用できる
色素としては、蒸着可能な種々の色素を挙げることがで
き、そのようなものとしてはアセトアセチックアニリド
系、ナフトール類のモノアゾ系、ポリサイクリック系、
分散系、油溶性系、インダスレン系、フタロシアニン系
等があり、フタロシアニン系、ペリレン系、イソインド
リノン系、アントラキノン系、キナクリドン系等の色素
は、熱的に極めて安定なので蒸着性に優れており、また
優れた分光特性が得られるので好適である０色素の蒸着
層からなる着色層の層厚は、所望のフィルターとしての
特性が縛られるように適宜選択されるが、通常ｒｏｏｏ
Ａ〜１００ＧＯＡ程度の層厚とされる。

本発明の方法によって形成されたカラーフィルターには
、着色層上に更に透明保護膜を被覆することもできる。

そのような場合、透明保護膜としては、ＳｉＯ、ＭｇＯ
２、ＰｂＦ２、ＭｇＦ２．　Ａｌ２Ｏ３、５ｎ０２等を
真空蒸着法、ＧＶＤ法等により着色層上に成膜させるか
、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン
樹脂、ガラスレジン、ポリパラキシレン樹脂等をスピン
ナー塗布等により塗布またはコーティングしたものが代
表的なものとして挙げられる。

以上説明した本発明のカラーフィルターの製造方法によ
れば、着色パターン形成用のレジストパターンの形成と
、先に形成した着色層の不必要部分のリフトオフとを同
時に実施するために、工程がより簡略化され、工程数を
減少させることができ、製造コストを下げ、また製造歩
留りを向上させることが可能となった。

また、先に基板上に形成された着色パターン上に、該着
色パターンの後に形成される着色パターンを形成するた
めに設けるレジストパターンが積層されて、これが先に
形成された着色パターンの保護層として機能することに
より、先に形成した着色パターンが、後に形成される着
色パターン形成用レジストパターンの形成工程中に、現
像液に直接接触することがなくなり、先に形成された着
色パターンを構成する着色層を破損、変質あるいは劣化
させることなく着色フィルターを形成することが可能と
なった。それによって、現像液に犯され易い色素も着色
層形成用材料として使用することができるようになった
。

以下実施例に従って本発明の方法を更に詳細に説明する
。

実施例１ 第１図（ａ）〜第１図（Ｄを用いて先に説明した工程に
従って、３色のストライブフィルターの形成を以下のよ
うにして実施した。

まず、第１図（ａ）に示したように、ガラス基板１上に
スピンナー塗布法によりポジ型レジスト（商品名：　０
ＦＰＲ８００，東京応化部）を７００ＯＡの膜厚に塗布
しレジスト被膜２を形成した後、この被膜を９０℃、３
０分間プリベークした。

次に、レジスト被ｓ２に紫外光を用いて青色着色パター
ンに対応したパターンを有するマスク３を用いてパター
ン露光を行ない、これを０ＦＰＲ専用現像液に１分間、
更に専用リンス液に１分間それぞれ浸漬し、第１図（ｂ
）に示したようなレジストパターン２′を形成した。

ここで、レジストパターン２′の形成された基板を、真
空蒸着槽内の所定の位置にセットし、かつ銅フタロシア
ニンを加熱ポー）　（Ｎｏ）内に用意し、真空度１０４
〜１０″５ｔｏｒｒに於いテＮｏボートを４５０〜５５
０℃に加熱し、第１図（Ｃ）に示したように銅フタロシ
アニンをレジストパターンの設けられている基板１の面
金面に４００ＯＡの膜厚で蒸着した。

続いて、このようにして蒸着された青色着色層４上に、
第１１ｆｆｌ（ｄ）に示したように、緑色着色パターン
形成用のレジストパターンを形成するために先に使用し
たのと同様のフォトレジストを用いてレジスト層５を形
成し、更にパターンマスク６を用いて、レジスト層５に
パターン露光し、これを０ＦＰＲ専用現像液に１分間、
更に専用リンス液に１分間それぞれ浸漬し、第１図Ｃ８
）に示したようなレジストパターン５′を形成した。こ
の際、基板上にすでに形成されていたレジストパターン
２′と該レジストパターン２′上に積層されていた着色
層のうち、前記レジスト層５の露光部分下に位置した部
分も同時に基板１上から除去された。

このようにして緑色着色パターン形成用のレジストパタ
ーン５′が設けられた基板ｌを再び真空蒸着槽内にセッ
トし、色素として鉛フタロシアニンを用い、蒸着層厚を
３００ＯＡとする以外は先の青色着色層の蒸着と同様の
条件で、第１図（ｆ）に示したような緑色着色層７を積
層した。

次に、赤色着色パターンに対応したパターンマスク９を
用いてパターン露光を行なう以外は、上記の青色着色パ
ターン形成用のレジストパターン５′の形成操作と同様
にして、第１図（ｈ）に示したように赤色着色パターン
形成用のレジストパターン８′を得た。このようにして
赤色着色パターン形成用のレジストパターン８′が設け
られた基板１を再び真空蒸着槽内にセットし、色素とし
てペリレンテトラカルボン酸誘導体系の赤色色素　（商
品名：イルガジンレッドＢＰ↑、　Ｃ，１，Ｎｏ。

７１１２７　、チバガイギー製）を用いる以外は先の蒸
着操作と同様にして、第１図（ｉ）に示したように赤色
着色層１０を積層した。

最後に、着色層の設けられた基板からレジストパターン
５′、８′を除去するための０ＦＰＲ８００専用現像液
によって基板１を処理し、第１図Ｎ）に示したような所
望の形状の青色着色パターン４、緑色着色パターン７及
び赤色着色パターン１０からなるカラーフィルターを形
成した。

以上の実施例に於いては、従来のリフトオフ法によって
３色ストライプフィルターを形成した場合よりも、リフ
トオフの回数が２回省略されており、全体を通じての工
程も簡略化され、大幅なコストダウンが可能となった。

更に、形成された着色パターンへの現像液による影響は
認められず、着色層を形成している色素の劣化による分
光透過率の低下も認められなかった。

実施例２ 緑色着色パターン及び赤色着色パターンの形成のための
レジストパターンを形成する際にレジスト被膜へのパタ
ーン露光を、それぞれ緑色色素あるいは赤色色素の蒸着
の前に行なう以外は、実施例１と同様にして青、緑、赤
の３色ストライプフィルターを形成した。

本実施例に於いても実施例１と同様に、従来のリフトオ
フ法によって３色ストライプフィルターを形成した場合
よりも、リフトオフの回数が２回省略されており、全体
を通じての工程も簡略化され、大幅なコストダウンが可
能となった。更に、形成された着色パターンへの現像液
による影響は認められず、着色層を形成している色素の
劣化による分光透過率の低下も認められなかった。

実施例３ 本発明の方法を適用して、第２図の部分平面該略図に示
すようなカラー用フォトセンサーアレイの形成を第３図
に示した工程に従って以下のように実施した。

まず、ガラス基板（商品名：　　７０５９、コーニング
社製）２０の上にグロー放電法によってａ−３ｉ　（ア
モルファスシリコン）暦からなる光導電層（イントリン
シック層）　２１を第３図（ａ）に示すように設けた。

すなわち、Ｈ２で１０容量％に希釈された５ｉ）Ｌｓを
ガス圧０．５０Ｔａｒｒ、　ＲＦ（Ｒａｄｉｏ　Ｆｒｅ
ｑｕｅｎｃｙ）　／＜ワーｉｏｗ　、基板温度２５０℃
で２時間基板上に堆積させることによって０．７鱗の膜
厚の光導電層２１を得た。

続いて、この光導電層２１上にグロー放電法により第３
図（ｂ）に示すようにｎ４″層２２を設けた。

すなわち、Ｈ２で１０容量％に希釈された５ｉ）１４と
、Ｈ２で１００ＰＰ層に希釈されたＰＨ３とを１：１０
で混合したガスを原料として用い、その他は、先の光導
電層の堆積条件と同様にして光導電層２１に連続して、
０．１−の層厚のｎ＋層２２を設けた。　次に、第３図
（ｃ）に示すように電子ビーム蒸着法でＡＩを０．３鱗
の層厚に堆積させて、導電層２３を積層した。続いて、
第３図（ｄ）に示すように導電層２３の光変換部となる
部分に相当する部分を除去した。

すなわち、ポジ型のマイクロポジット１３００−２７（
商品名、５ｈｉｐｌａｙ社製）フォトレジストを用いて
所望の形状に７オトレジストパターンを形成した後、リ
ン酸（８５容量％水溶液）、硝酸（８０容量％水溶液）
、氷酢酸及び水を１６：　１：　２：　１の割合で混合
したエツチング溶液を用いて露出部（レジストパターン
の設けられていない部分）の導電層２３を基板上から除
去し、共通電極２４及び個別電極２５を形成した。

次に、光変換部となる部分のｎ＋暦２２を第３図（ｅ）
に示すように除去した。

すなわち、上記マイクロポジット１３００−２７フオト
レジストを基板から剥離した後、平行平板型プラズマエ
ツチング装置ＤＥＮ−４５１（日型アネルバ社製）を用
いてプラズマエツチング法（別名リアクティブイオンエ
ツチング法）でＲＦパワー１２０１１、ガス圧０．ＩＴ
ｏｒｒでＣＦ４ガスによるドライエツチングを５分間行
ない、露出部のｎ＋暦２２及び光導電層２１の表面層の
一部を基板から除去した。

なお、本実施例では、エツチング装置のカソード材料の
インプランテーシ、ンを防止するために、カソード上に
ポリシリコンのスパッタ用ターゲット（８インチ　、純
度９９．１３９９％）を置き、その上に試料をのせ、カ
ソード材料のＳＵＳが露出する部分はドーナッツ状に切
抜いたテフロンシートでカバーし、ＳＵＳ面がほとんど
プラズマでさらされない状態でエツチングを行なった。

その後、窒素を３７７ｗ１ｎの速度で流したオーブン内
で２００℃、６０分の熱処理を行なった。

こうして作成されたフォトセンサーアレイの表面に、次
に保護層を以下のようにして形成した。

すなわち、フォトセンサーアレイ上にグロー放電法によ
って保護層としてのシリコンナイトライド層２６を形成
した。

すなわち、Ｈ２で１０容量％に希釈された５ｒＨ４と１
００％Ｎ１（３を１＝４の流量比で混合した混合ガスを
用い、その他は先のａ−Ｓｉ暦を形成したのと同様にし
て、０．５μｓの層厚のシリコンナイトライド（ａ−３
ｉＮＨ）層２Ｂを第３図（ｆ）に示すように形成した。

更に、この保護層２６を基板として、実施例１と同様に
して、青４、緑７．赤１０の３色の着色パターンからな
るカラーフィルターを形成し、第３図に示すように、各
フォトセンサー上にそれぞれ着色フィルターが配置され
たカラーフォトセンサーアレイを形成した。

本実施例に於いて形成されたカラーフォトセンサーアレ
イに於いてもカラーフィルター形成時に実施例１に於け
るのと同様な効果を得ることができ、形成されたカラー
フォトセンサーは良好な機能を有するものであった。

実施例４ 実施例１に於いて形成したカラーフィルターを、接着剤
を用いて、実施例３に於いて形成したフォトセンサーア
レイ上に貼着することによりカラフォトセンサーアレイ
を形成した。

本実施例に於いて形成したカラーフォトセンサーも実施
例３に於いて形成したものと同様に、良好な機能を有す
るものであった。

実施例５ 薄膜トランジスターを基板として、該基板上に本発明の
方法によりカラーフィルターを形成し、カラー液晶表示
素子の作製を以下のようにして実施した。

まず第４図（ａ）に示すように、ガラス基板（商品名ニ
ア０５９　、コーニング社製）４０上にＬＯＧＯＡの層
厚の１．７．０画素電極４１をフォトリソ工程により所
望ツバターンに成形し、この面に更にＡＩＩ：　ｔｏｏ
ＯＡの層厚に真空蒸着し、この蒸着層をフォトリン工程
により所望の形状にパターンニングして第４図（ｂ）に
示すようなゲート電極４２を形成した。

続いて、感光性ポリイミド（商品名：セミコファイン、
東し社製）を前記電極の設けられた基板４０面上に塗布
し絶縁層４３を形成し、パターン露光及び現像処理によ
ってドレイン電極４８と画素電極４１とのコンタクト部
を構成するスルーホール４４を第５図（Ｃ）に示すよう
に形成した。

ここで、基板４０を堆積槽内の所定の位置にセットし、
堆積槽内にＨ２で希釈された５ｉ）Ｌｓを導入し、真空
中でグロー放電法により、前記電極４１．４２及び絶縁
層４３の設けられた基板４０全面に２００ＯＡの層厚の
ａ−８ｉ暦からなる光導電層（イントリンシック層）４
５を堆積させた後、この光導電層４５上に引続き同様の
操作によって、ｌ０ＱＯＡの層厚のｎ＋層４６を第５図
（ｄ）に示したように積層した。そして、基板４０を堆
積槽から取出し、前記ｎ＋層４Ｂ及び光導電層４５のそ
れぞれを、この順にドライエツチング法により所望の形
状に第５図（ｅ）に示したようにパターンニングした。

次に、このようにして光導電層４５及びｎ＋暦４６が設
けられている基板面に、ＡＩを１００ＯＡの層厚で真空
蒸着した後、このＡＩ蒸着層をフォトリソ工程により所
望の形状にパターンニングして、第５図（Ｄに示すよう
なソース電極４７及びドレイン電極４８を形成した。

最後に、画□素電極４１のそれぞれに対応させて、実施
例１と同様な方法により赤、青及び緑の３色の着色パタ
ーンを第５図（ｇ）に示すように形成した後、この基板
面全面に配向機能を付与した絶縁膜４９としてのポリイ
ミド樹脂を１２０ＯＡの層厚に塗布し、２５０℃、１時
間の加熱処理によって樹脂の硬化を行ないカラーフィル
ターが一体化された薄膜トランジスターを作製した。

このように作製されたカラーフィルター付き薄膜トラン
ジスターを用いて更に、カラー用液晶表示素子を形成し
た。

すなわち、ガラス基板（商品名：？Ｑ５９　、コーニン
グ社製）の−面に前記の方法と同様にして、１０００Ａ
の１．７．０電極層を形成し、更に該電極層上に配向機
能を付与したポリイミド樹脂からなる層厚１２０ＯＡの
絶縁層を形成し、この基板と先に形成したカラーフィル
ター付き薄膜トランジスターとの間に液晶を封入して全
体を固定して、カラー用液晶表示素子を得た。

このようにして形成されたカラー用液晶表示素子は、良
好な機能を有するものであり、カラー２イルターの形成
にあたっては、実施例１と同様の効果が得られた。

実施例６ ＣＣ：Ｄ　（−チャージ、カップルド、デバイス）の形
成されたウェハーを基板として、この基板上に実施例１
と同様にして、ＣＯＤの有する各受光セルに対応して、
カラーフィルターの有する各着色パターンが配置される
ように、カラーフィルターを形成し、カラー固体撮像素
子を形成した。

このようにして形成されたカラー固体撮像素子は、良好
な機能を有するものであり、カラーフィルターの形成に
あたっては、実施例１と同様の効果が得られた。

実施例７ ＣＣＤ（チャージ、カップルド、デバイス）の形成され
たウェハーに、実施例１に於いて形成したカラーフィル
ターを、ＣＣＤの有する各受光セルに対応して、カラー
フィルターの有する各着色パターンが配置されるように
位置合わせをして貼着し、カラー固体撮像素子を形成し
た。

このようにして形成されたカラー固体撮像素子は、良好
な機能を有するものであり、カラーフィルターの形成に
あたっては、実施例１と同様の効果が得られた。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）〜第１図（ｊ）は本発明のカラーフィルタ
ーの製造法を説明するための工程図、第２図は本発明の
方法を適用して形成したカラー用フォトセンサーアレイ
の模式的平面部分図、第３図（ａ）〜第３図（ｇ）は第
２図に示したカラー用フォ　・トセンサーアレイの形成
工程図、第４図（ａ）〜（ｈ）は本発明の方法を適用し
たカラー用液晶表示素子の製造工程図、第５図（ａ）〜
（Ｃ）は従来のカラーフィルターの形成法を説明するた
めの工程図である。 ｌ、２Ｇ、　４０．５１：基板　　２：第１のレジスト
層２′：第１の着色パターン形成用 レジストパターン ３：第１の着色パターン形成用露光マスク４：第１の色
の着色Ｍ　　５：第２のレジスト層５′：第２の着色パ
ターン 形成用レジストパターン ６：第２の着色パターン形成用露光マスク７：第２の色
の着色層　　８：第３のレジスト層８′：第３の着色パ
ターン 形成用レジストパターン ９：第３の着色パターン形成用露光マスク１０：第３の
色の着色層・ ２１．４５：光導電層　　　　２２．４８：　ｎ＋層２
３：導電層　　　　　　　２４：共通電極２５：個別電
極　　　　　　２８：保護層４に画素電極　　　　　　
４２＝ゲート電極４３．４９＝絶縁層　　　　　４４ニ
スルーホール４７：ソース電極　　　　　４８＝ドレイ
ン電極５２ニレジストパターン　　５３：着色層第１図 ５１ｒｌＡ Ｂ　　　　　　　　　　　　Ａ 第３図 ３Ｉ４　図 免５図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）基板上に異なる色からなる２つ以上の着色パターン
   を有するカラーフィルターをリフトオフ法により製造す
   る方法に於いて、 （１）基板上に設けられた第１のレジスト層から第１色
   目の着色パターン形成用レジストパ ターンを形成する工程、 （２）該第１の着色パターン形成用レジストパターンの
   設けられている基板上に、第１色目の着色層を積層する
   工程、 （３）該第１色目の着色層上に第２色目の着色パターン
   を形成するためのレジストパターン形成用の第２のレジ
   スト層を積層する工程、 （４）該第２のレジスト層をパターンニングする際に、
   該第２のレジスト層の不用部分を前記基板上から除去す
   るときに、該不用部分と該不用部分下にある前記第１の
   着色パターン形成用レジストパターン及び該レジストパ
   ターン上に積層された着色層とを同時に前記基板上から
   除去する工程、 （５）更に、カラーフィルターの有する色が３色以上で
   ある場合には、前記（３）及び（４）の工程をカラフー
   ィルターの有する色の数に応じて、順次第３色目以降か
   ら繰り返す工程及び （６）最後の色の着色層の前記基板上への積層が終了し
   た後に、前記基板上から全てのレジストパターンを除去
   する工程 を含むことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。