JPH0693295A - 光学部品用洗浄剤組成物 - Google Patents
光学部品用洗浄剤組成物Info
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- JPH0693295A JPH0693295A JP24483292A JP24483292A JPH0693295A JP H0693295 A JPH0693295 A JP H0693295A JP 24483292 A JP24483292 A JP 24483292A JP 24483292 A JP24483292 A JP 24483292A JP H0693295 A JPH0693295 A JP H0693295A
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Abstract
く、しかも安全性の高い、光学部品あるいはその製造工
程に用いられる治工具類用の洗浄剤組成物の提供。 【構成】 (A)化合物I及び(B)化合物IIを含有
し、その配合比率(重量比)が(A)成分/(B)成分
=90/10〜5/95である。 R1(X)R2 I (式中、R1は炭素数1〜24の炭化水素残基を示し、
Xは−C(R3)(R4)−,−COO−,−CO−,
−O−,−N(R1)−又は−C(=O)−N(R3)
−基であり、R2は炭素数3〜18の炭化水素残基を示
し、R3及びR4はH又は炭素数1〜18の炭化水素残
基を示す。) R(Y)(AO)nR5 II (式中、Rは炭素数1〜8の炭化水素残基を示し、Yは
−O−,−COO−,−NH−又は であり、mは1〜20の数を示し、Aは炭素数2〜4の
アルキレン基を示し、nは1〜20の数を示し、R5は
H又は炭素数1〜8の炭化水素残基を示す。)
Description
は、ガラス及びレンズ等の光学部品の製造工程におい
て、該光学部品の研磨面に存在する汚れ、あるいはその
製造工程に用いられる治工具類に付着した汚れ、例えば
指紋・研削油・ガラス固定用ピッチ・接着剤・保護膜・
研磨剤・塵あい等の汚れ物質の除去に用いられるすすぎ
性に優れた洗浄剤組成物に関する。
系溶剤を主成分とするフッ素系洗浄剤や、トリクロルエ
チレン、パークロルエチレン、トリクロルエタン、エチ
レンクロライド等の塩素系溶剤を主成分とする塩素系洗
浄剤が用いられている。
系及び塩素系溶剤を用いる洗浄剤は、安全性、毒性、環
境汚染等に大きな問題を有している。また、光学部品用
洗浄剤においては、洗浄後、被洗浄物表面に洗浄剤が残
留すると次工程のコーティング等に悪影響を与えること
があるため、洗浄後のすすぎ性が問題となっている。
ズ等の光学部品の製造工程において、該光学部品の研磨
面に存在する汚れ、あるいはその製造工程に用いられる
治工具類に付着した汚れ、例えば指紋・研削油・ガラス
固定用ピッチ・接着剤・保護膜・研磨剤・塵あい等の汚
れ物質を除去するための洗浄剤組成物として、すすぎ性
に優れ、且つ環境汚染の惧れがなく、しかも安全性の高
い洗浄剤組成物を提供することにある。
を行った結果、2種類の特定化合物を特定の比率で組合
わせた洗浄剤組成物が、上記目的を達成するものである
ことを知見した。
で、(A)下記〔化3〕(〔化1〕と同じ)で表される
化合物及び(B)下記〔化4〕(〔化2〕と同じ)で表
される化合物を含有し、上記(A)成分と上記(B)成
分との配合比率(重量比)が(A)成分/(B)成分=
90/10〜5/95であることを特徴とする光学部品
あるいはその製造工程に用いられる治工具類用の洗浄剤
組成物を提供するものである。
する。本発明の(A)成分としては、例えば、次のよう
な化合物が挙げられる。
化合物としては、アルキルベンゼン、例えば、エチルベ
ンゼン、クメン、p−シメン等;オレフィン、例えば、
オクテン、ドデセン、テトラセン、テトラプロピレン、
テトライソブチレン等;オレフィンの重合体;シクロヘ
キセン環を有する化合物、例えば、リモネン、ピネン等
が挙げられる。
ある化合物としては、ヤシ脂肪酸メチル、ミリスチン酸
イソプロピル、ステアリル酸2−エチルヘキシル、ラウ
リン酸メチル、オレイン酸メチル、オレイン酸イソブチ
ル等が挙げられ、更には、アクリル酸ブチルやアクリル
酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸ベンジル等も挙げ
られる。
る化合物としては、例えば、ジイソブチルケトン、2,
6,8,トリメチル4−ノナンや、イソホロン等が挙げ
られ、また、上記〔化3〕中のXが−O−である化合物
としては、例えば、ジヘキシルエーテルやジベンジルエ
ーテル等が挙げられる。
である化合物としては、例えば、ジメチルラウリルアミ
ン、ジメチルミリスチルアミン、ジラウリルモノメチル
アミン、トリオクチルアミン等が挙げられ、また、上記
〔化3〕中のXが下記〔化7〕である化合物としては、
N,N−ジメチルアセトアニリド等が挙げられる。
上記〔化3〕中のXが上記〔化5〕である、炭化水素の
不飽和結合を有するアルキルベンゼン、オレフィン、シ
クロヘキセン環を有する化合物である。また、上記〔化
3〕中のXが−COO−である、ラウリン酸メチル、オ
レイン酸メチル等の化合物も特に好ましい。
くは0.5〜10cp、さらに好ましくは0.5〜8cp、
特に好ましくは0.5〜5cpである。20℃の粘度が
0.5cp未満であると、洗浄剤組成物の引火性が高く、
洗浄時の安全性が問題となる場合がある。また、10cp
超であると、狭い隙間部分の汚れ物質に対して洗浄性が
充分でなくなる場合がある。
以上併用され、その配合量は、洗浄剤組成物中に5〜8
0重量%が好ましい。
た工業用薬品であり、市販品を用いても良い。
8のアルコール、脂肪酸又はアミンに、苛性アルカリの
ような触媒の存在下、加熱しながら炭素数2〜4のアル
キレンオキシド(エチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド、ブチレンオキシド等)を液状又は気体状で加えて反
応させることにより得られる。2種以上のアルキレンオ
キシドを混合して反応させるランダム付加重合、又はア
ルキレンオキシドを順次付加させるブロック付加重合を
行ってもよい。このようにして得られるポリアルキレン
エーテルは、精製して未反応物や触媒を除去して(B)
成分として使用される。また、該ポリアルキレンエーテ
ルの末端の水酸基をアルキルクロライド等によりメチル
化、エチル化又はブチル化した化合物も本発明の(B)
成分に含まれる。
れる上記炭素数1〜8のアルコールとしては、例えば、
メタノール、エタノール、n−プロパノール、ブタノー
ル、ヘキサノール、オクタノール、2−エチルヘキサノ
ール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等が挙
げられる。また、上記炭素数1〜8の脂肪酸及びアミン
としては、これらアルコールに対応するものが挙げられ
る。
しいものは、ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエ
チレングリコールモノ2−エチルヘキシルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレ
ングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチル
エーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル等
のグリコールエーテル類である。
成物の粘度が低減し、洗浄性が向上し、また親水性が良
好となり、リンスが容易になる。
のmあるいはnが20を超えると、粘度が上昇し、洗浄
液からリンス槽への持ち出し量が多くなり好ましくな
い。mあるいはnは1〜5が好ましい。また、上記〔化
4〕中のRの炭素数が8を超えると、粘度が高くなり、
また洗浄力及び水リンス性が低下する。Rの炭素数は1
〜6が好ましい。
以上併用され、その配合量は、洗浄剤組成物中に10〜
90重量%が好ましい。
る本発明の洗浄剤組成物は、その粘度が40℃で好まし
くは0.5〜20cp、さらに好ましくは1〜15cpであ
る。上記粘度が0.5cp未満であると、洗浄剤組成物の
引火性が高く、洗浄時の安全性が問題となる場合があ
る。また、20cp超であると、狭い隙間部分の汚れ物質
に対して洗浄性が劣る場合がある。尚、本発明でいう粘
度とはJIS−K2283に準じて測定を行ったもので
ある。
(A)成分と上記(B)成分との配合比率(重量比)が
(A)成分/(B)成分=90/10〜5/95、好ま
しくは70/30〜5/95である。配合比率が上記範
囲外であると、水リンス性あるいは洗浄性のいずれかが
損なわれる。
本発明の洗浄剤組成物は、有機系の汚れ物質に対する溶
解性に優れているが、(A)成分が多くなると水に対す
る溶解性が低くなるため、水によるリンス時にリンス不
良を生じることがある。また、本発明の洗浄剤組成物
は、水を含む場合、水に対する溶解性が低いことによ
り、製品安定性が不良となることがある。このような場
合は、非イオン性界面活性剤を添加すれば良く、かかる
活性剤の添加により上記問題が改善される。
オキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキ
レンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレ
ンアルキル脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアリ
ルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレンソルビタ
ン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルアミ
ン、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレン
等が好ましく用いられ、これらの中でも平均HLB4〜
15のものが特に優れた効果を発現する。ここで、ポリ
オキシアルキレンとは、エチレンオキサイド、プロピレ
ンオキサイド又はブチレンオキサイドのいずれか一種あ
るいはこれらの混合物の重合体のことをいう。尚、本発
明でいうHLBとはグリフィンのHLB理論に基づいて
算定したものである。
合、その配合量は、洗浄剤組成物に対して好ましくは
0.5〜35%(重量%、以下同じ)、より好ましくは
3〜30%である。配合量が0.5%未満であると、配
合効果が認められず、また35%超であると、組成物の
粘度が高くなる。
業性等の観点から適宜水を含有させることができる。水
の配合量は、洗浄剤組成物中に5〜50%が好ましい。
配合量が5%未満であると、洗浄剤組成物の引火性が高
く、洗浄時の安全性が問題となる場合があり、また50
%超であると、洗浄性が十分でなくなる場合がある。
果を損なわない範囲で必要に応じて、他の界面活性剤、
シリコン等の消泡剤、アルカノールアミン等の防錆剤等
を配合してもよい。
分及び(B)成分等の配合成分を常法により混合して製
造することができる。
方法は特に限定されないが、例えば本発明の洗浄剤組成
物を用いて超音波洗浄又は浸漬洗浄し、最後に溶剤又は
温水でリンスする等の方法を連続的に行う方法が、効率
良い洗浄法として挙げられる。また、振動法、スプレー
法等の各種の洗浄方法によってもよい。
の光学部品の製造工程において、該光学部品の研磨面に
存在する汚れ、あるいはその製造工程に用いられる治工
具類に付着した汚れを洗浄するのに用いられ、その際、
(A)成分及び(B)成分の作用により被洗浄物表面に
存在する汚れ物質を除去する。また、洗浄後、被洗浄物
表面に残留する本発明の洗浄剤組成物は、被洗浄物を水
等でリンスすることにより流失する。
に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定さ
れるものではない。
をそれぞれ調製し、各洗浄剤組成物について、汚れ物質
の除去性(洗浄力)、リンス性(すすぎ性)及び製品安
定性を次のようにして評価した。その結果を下記の〔表
1〕及び〔表2〕に示す。
法)各洗浄剤組成物に、研削油やピッチが塗布された直
径40mm、厚さ7mmの球面レンズをそれぞれ5枚ずつ浸
漬し、60℃で3分間超音波をあてながら洗浄を行い、
その際の汚れ物質の除去性を目視にて評価した。次い
で、洗浄剤組成物で洗浄した上記の球面レンズを20℃
のイオン交換水でリンス処理を行い、リンス性の良し悪
しを目視にて評価した。汚れ物質の除去性及びリンス性
の評価基準は次の通りである。
に良好。 ○;汚れ物質の残着がほとんどなく、良好。 △;汚れ物質の残着がわずかにあり、やや悪い。 ×;汚れ物質が残着し、悪い。
の外観を下記評価基準により室温にて目視にて評価し
た。
ンズ等の光学部品あるいはその製造工程に用いられる治
工具類用の洗浄剤組成物として、優れたすすぎ性を有
し、且つフロン等を用いないため環境を汚染せず安全性
の高いものである。また、本発明の洗浄剤組成物は、そ
の粘度を20cp(40℃)以下にコントロールするこ
とにより、洗浄力をさらに高めることもできる。
Claims (3)
- 【請求項1】 (A)下記〔化1〕表される化合物及び
(B)下記〔化2〕で表される化合物を含有し、上記
(A)成分と上記(B)成分との配合比率(重量比)が
(A)成分/(B)成分=90/10〜5/95である
ことを特徴とする光学部品あるいはその製造工程に用い
られる治工具類用の洗浄剤組成物。 【化1】 【化2】 - 【請求項2】 非イオン性界面活性剤を0.5〜35重
量%含有する請求項1記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項3】 水を5〜50重量%含有する請求項1又
は2記載の洗浄剤組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4244832A JP2662348B2 (ja) | 1992-09-14 | 1992-09-14 | 光学部品用洗浄剤組成物 |
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JPH0693295A true JPH0693295A (ja) | 1994-04-05 |
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---|---|
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5877133A (en) * | 1995-10-05 | 1999-03-02 | Penetone Corporation | Ester-based cleaning compositions |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0436395A (ja) * | 1990-05-31 | 1992-02-06 | Nippon Baazu Kk | 洗浄剤組成物 |
JPH0457897A (ja) * | 1990-06-27 | 1992-02-25 | Kao Corp | 洗浄剤組成物 |
-
1992
- 1992-09-14 JP JP4244832A patent/JP2662348B2/ja not_active Expired - Fee Related
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