JP2612876B2 - Developer processing equipment - Google Patents
Developer processing equipmentInfo
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- JP2612876B2 JP2612876B2 JP63006402A JP640288A JP2612876B2 JP 2612876 B2 JP2612876 B2 JP 2612876B2 JP 63006402 A JP63006402 A JP 63006402A JP 640288 A JP640288 A JP 640288A JP 2612876 B2 JP2612876 B2 JP 2612876B2
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- Cleaning In Electrography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、炭化水素を主成分とする溶剤中に顔料が分
散されかつ現像部から排出された余剰現像液を処理する
現像液処理装置に関する。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a developer processing apparatus in which a pigment is dispersed in a solvent containing hydrocarbon as a main component and an excess developer discharged from a developing unit is processed. .
ハロゲン化銀を用いた画像記録方法以外の画像記録方
法として、磁気的方法（マグネトグラフイー）によるも
のや、電子写真方法等が知られている。As an image recording method other than the image recording method using silver halide, a magnetic method (magnetography), an electrophotographic method, and the like are known.
磁気的方法であるマグネトグラフイーは、磁性体記録
層を塗布したドラム上に磁気潜像を形成し、この磁気潜
像へ炭化水素を主成分とする現像液を塗布することによ
り、この現像液中に分散された粉末の磁性体を含む樹脂
トナーで現像して、顕像化させ画像を記録した後に、転
写紙面へ転写して複写物を得るようになっている。Magnetography, which is a magnetic method, forms a magnetic latent image on a drum on which a magnetic recording layer is coated, and applies a developing solution containing hydrocarbon as a main component to the magnetic latent image. The image is developed by developing with a resin toner containing a powdered magnetic substance dispersed therein, an image is recorded, and then transferred to a transfer paper surface to obtain a copy.
また電子写真方法によるものとしては、電子写真フイ
ルムの定められた駒に画像を記録し、記録された画像を
投影又は複写することができる電子写真装置が知られて
いる。As an electrophotographic method, there is known an electrophotographic apparatus capable of recording an image on a predetermined frame of an electrophotographic film and projecting or copying the recorded image.
この電子写真装置に配設されて、電子写真フイルムに
帯電・露光や現像処理等を施すプロセスヘツドが、特開
昭59−100479号、同59−162580号等で知られている。Process heads which are arranged in the electrophotographic apparatus and perform charging, exposure, development and the like on the electrophotographic film are known from JP-A-59-100479 and JP-A-59-162580.
上記公報で開示されたプロセスヘツドでは、帯電・露
光部、現像部、乾燥部及び定着部等が備えられている。
これらの各部は、電子写真フイルムの送り方向に沿って
前記順序で隣接配置されており、各部の配置ピツチは電
子写真フイルムの駒ピツチに等しい一定のピツチとされ
ている。The process head disclosed in the above publication includes a charging / exposing unit, a developing unit, a drying unit, a fixing unit, and the like.
These parts are arranged adjacent to each other in the above-mentioned order along the feeding direction of the electrophotographic film, and the arrangement pitch of each part is a fixed pitch equal to the piece pitch of the electrophotographic film.
上記現像部へは、現像液タンクに貯留された、炭化水
素を主成分とする現像液が供給され、電子写真フイルム
上へ塗布される。これにより、現像液中に含まれるに
帯電されたトナー粒子が電子写真フイルムに形成された
静電荷潜像へ付着して、顕像化され、画像が電子写真フ
イルムへ記録される。A developing solution containing a hydrocarbon as a main component stored in a developing solution tank is supplied to the developing unit, and the developing solution is applied onto an electrophotographic film. As a result, the charged toner particles contained in the developer adhere to the electrostatic latent image formed on the electrophotographic film and are visualized, and the image is recorded on the electrophotographic film.
ところが、上記マグネトグラフイーや電子写真方法で
は、現像した後の余剰の現像液（トナー粒子が分散され
た炭化水素を主成分とする溶剤）が、現像液タンク等に
戻されて再び現像液として使用するため、リターン管路
を必要とし、配管が複雑になるという問題がある。However, in the above-described magnetography or electrophotographic method, the surplus developer after development (a solvent mainly composed of a hydrocarbon in which toner particles are dispersed) is returned to a developer tank or the like and is again used as a developer. There is a problem that a return pipe is required for use and the piping becomes complicated.
また、数回使用された後の上記現像液は、疲労するの
で、新規な現像液を補充するか、あるいは、疲労した現
像液を廃液として処理し新規な現像液に置き換える必要
があり、いずれも手間がかかるという問題がある。Further, since the developer after being used several times becomes fatigued, it is necessary to replenish the new developer or to treat the tired developer as a waste solution and replace it with a new developer. There is a problem that it takes time.
そこで本出願人は、余剰現像液を触媒によって酸化さ
せて、二酸化炭素と水蒸気と変化させ大気中へ排出する
ことにより処理する現像液処理装置を提案している。Therefore, the present applicant has proposed a developing solution processing apparatus for processing by oxidizing a surplus developing solution with a catalyst, converting the surplus developing solution into carbon dioxide and water vapor, and discharging the converted gas into the atmosphere.
これによれば、余剰現像液は廃液タンク内へ排出され
た後に吸収綿等によって触媒の近傍へ導かれ、この吸収
綿の先端から気化する余剰現像液が触媒へ供給され、酸
化されるようになっている。According to this, the surplus developing solution is guided into the vicinity of the catalyst by absorbent cotton or the like after being discharged into the waste liquid tank, and the excess developing solution vaporized from the tip of the absorbent cotton is supplied to the catalyst and oxidized. Has become.
しかしながら、上記現像液処理装置では、気化する余
剰現像液を触媒内へ導くため吸収綿を触媒の近くまで配
設しているので、この吸収綿を伝って溶剤中の顔料（例
えばフタロシアニン）が触媒へ達し、触媒の触媒作用
（酸化作用）を妨げることがある。However, in the above developer processing apparatus, since the absorbent cotton is disposed close to the catalyst in order to guide the excess developer to be vaporized into the catalyst, the pigment (for example, phthalocyanine) in the solvent passes through the absorbent cotton and becomes the catalyst. And may hinder the catalytic action (oxidation action) of the catalyst.
本発明は上記事実を考慮し、触媒へ余剰現像液中の顔
料が到達することがない現像液処理装置を得ることが目
的である。The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and has as its object to obtain a developing solution processing apparatus in which the pigment in the surplus developing solution does not reach the catalyst.
〔問題点を解決するための手段〕 上記問題点を解決するため、本発明では、炭化水素を
主成分とする溶剤中に顔料が分散されかつ現像部から排
出された余剰現像液を処理する現像液処理装置におい
て、前記現像部から排出された前記余剰現像液を貯留す
る廃液タンクと、前記廃液タンクに貯留された前記余剰
現像液が供給管路を介して供給される燃焼タンクと、前
記燃焼タンクに設けられ燃焼タンクに供給された前記余
剰現像液を加熱して気化させる加熱手段と、前記燃焼タ
ンクの上面に設けられ前記加熱手段によって気化された
前記余剰現像液を酸化させる触媒と、前記燃焼タンクに
設けられ燃焼タンク内に貯留された前記余剰現像液を保
温する断熱材と、一端が、前記触媒よりも低くかつ前記
供給管路よりも高い位置で前記廃液タンクに接続された
排出管路と、前記排出管路の他端側に設けられ排出管路
を通って前記廃液タンクから排出された前記余剰現像液
を回収する回収タンクと、を有することを特徴とする。[Means for Solving the Problems] In order to solve the above problems, in the present invention, a developing method in which a pigment is dispersed in a solvent containing hydrocarbon as a main component and an excess developer discharged from a developing unit is processed. In the liquid processing apparatus, a waste tank for storing the surplus developer discharged from the developing unit, a combustion tank for supplying the surplus developer stored in the waste tank via a supply pipe, A heating unit provided in a tank for heating and vaporizing the excess developer supplied to the combustion tank; a catalyst provided on an upper surface of the combustion tank for oxidizing the excess developer vaporized by the heating unit; A heat insulating material provided in the combustion tank for keeping the excess developer stored in the combustion tank warm, and one end of the heat-insulating material being lower than the catalyst and higher than the supply pipe to the waste liquid tank; A discharge tank connected to the discharge pipe, and a recovery tank provided at the other end of the discharge pipe and collecting the excess developer discharged from the waste liquid tank through the discharge pipe. .
本発明によれば、現像部から排出された余剰現像液は
廃液タンクに貯留される。廃液タンクに貯留された余剰
現像液は、供給管路を介して燃焼タンクに供給されて貯
留される。According to the present invention, the surplus developer discharged from the developing unit is stored in the waste liquid tank. The surplus developer stored in the waste liquid tank is supplied to and stored in the combustion tank via a supply pipe.
燃焼タンク内に貯留された余剰現像液は、加熱手段に
よって加熱されて気化され、触媒へ供給される。供給さ
れた余剰現像液は酸化されて、例えば、二酸化炭素と水
蒸気に変化して大気中へ排出される。この場合、余剰現
像液は加熱されて余剰現像液中の溶媒が気化した後に触
媒へ供給されるので、余剰現像液の溶媒中に分散されて
いる顔料（例えばフタロシアニン）が気化されて触媒内
へ供給されることがなく、触媒の触媒作用（酸化作用）
を低下させることがない。Excess developer stored in the combustion tank is heated and vaporized by the heating means and supplied to the catalyst. The supplied surplus developing solution is oxidized, changed into, for example, carbon dioxide and water vapor, and discharged to the atmosphere. In this case, since the excess developer is heated and the solvent in the excess developer is vaporized and then supplied to the catalyst, the pigment (for example, phthalocyanine) dispersed in the solvent of the excess developer is vaporized and enters the catalyst. Not supplied, catalytic action of catalyst (oxidation action)
Is not reduced.
また、一旦、触媒の酸化作用が始まれば、加熱手段を
停止させても、触媒の酸化作用により生じる発熱によっ
て、余剰現像液中の溶媒の気化が促進されるため、触媒
の酸化作用が維持される。Further, once the oxidizing action of the catalyst starts, even if the heating means is stopped, the heat generated by the oxidizing action of the catalyst promotes the vaporization of the solvent in the excess developer, so that the oxidizing action of the catalyst is maintained. You.
さらに、燃焼タンクには断熱材が設けられているの
で、加熱手段が停止した後も、燃焼タンク内に貯留され
た余剰現像液の温度低下を防止して保温することができ
ると共に、触媒の酸化作用により生じる発熱を、逃がす
ことなく無駄なく利用できる。加えて、加熱手段を一旦
停止した後、再作動させる際に、燃焼タンク内の余剰現
像液が保温されているので、短い作動時間で余剰現像液
を気化させることができる。Further, since the combustion tank is provided with a heat insulating material, even after the heating means is stopped, the temperature of the excess developer stored in the combustion tank can be prevented from lowering and the temperature can be maintained. The heat generated by the action can be utilized without wasting without loss. In addition, when the heating means is temporarily stopped and then restarted, the excess developer in the combustion tank is kept warm, so that the excess developer can be vaporized in a short operation time.
廃液タンクには、燃焼タンクの触媒よりも低い位置
に、排出管路の一端が連通されている。また、排出管路
の他端側には、排出管路を通って排出された余剰現像液
を回収する回収タンクが設けられている。このため、現
像部から大量の余剰現像液が排出され、廃液タンクから
燃焼タンクに余剰現像液が一気に流れ込んで、燃焼タン
ク内の余剰現像液の水位が急激に上昇しても、余剰現像
液は触媒に達する前に排出管路を通って廃液タンクから
排出され、回収タンクに回収される。すなわち、余剰現
像液が一気に燃焼タンクに流れ込んで触媒に達してしま
うことがないので、余剰現像液中の顔料が触媒内へ供給
されず、触媒の触媒作用（酸化作用）が低下しない。One end of a discharge pipe is connected to the waste liquid tank at a position lower than the catalyst in the combustion tank. At the other end of the discharge pipe, a collection tank is provided for collecting the surplus developer discharged through the discharge pipe. For this reason, even if a large amount of excess developer is discharged from the developing unit and the excess developer flows from the waste liquid tank to the combustion tank at once, and the level of the excess developer in the combustion tank rises rapidly, the excess developer does not Before reaching the catalyst, it is discharged from the waste liquid tank through a discharge pipe and collected in a recovery tank. That is, since the surplus developing solution does not flow into the combustion tank at a stretch and reaches the catalyst, the pigment in the surplus developing solution is not supplied into the catalyst, and the catalytic action (oxidizing action) of the catalyst does not decrease.
また大気中へ排出される二酸化炭素、水蒸気は無臭・
無害であるので、周囲の環境に悪影響を与えることがな
い。In addition, carbon dioxide and water vapor emitted into the atmosphere are odorless.
Since it is harmless, it does not adversely affect the surrounding environment.
第３図には本発明が適用されたマイクロフイルム画像
形成用プロセスヘツド10の実施例が示されている。FIG. 3 shows an embodiment of a process head 10 for forming a microfilm image to which the present invention is applied.
第３図に示されるように、プロセスヘツド10は、比較
的偏平とされた略直方体形状の本体部12と、本体部12の
下部に位置する一対の脚部13とが一体とされて構成さ
れ、取付物を除いて合成樹脂で一体成形されている。As shown in FIG. 3, the process head 10 is formed by integrating a relatively flat main body 12 having a substantially rectangular parallelepiped shape and a pair of legs 13 located below the main body 12. Except for the attachment, it is integrally formed of synthetic resin.
プロセスヘツド10の本体部12には、第３図に示される
ように、幅方向に順次、帯電露光部14、現像部16、乾燥
部18及び定着部20が電子写真フイルム22の一駒間隔に相
当する一定のピツチで形成されている。As shown in FIG. 3, the main body 12 of the process head 10 includes a charging exposure unit 14, a developing unit 16, a drying unit 18 and a fixing unit 20 which are sequentially arranged in the width direction at intervals of one frame of the electrophotographic film 22. It is formed with a corresponding constant pitch.
帯電露光部14では、この部分に位置した電子写真フイ
ルム22（一駒に相当する）が、帯電された後原稿の画像
光を照射されて露光される。これにより電子写真フイル
ム22には原稿の画像パターンに対応した静電荷潜像が形
成される。現像部16では、帯電露光部14で露光された電
子写真フイルム22に液体現像液が塗布されて静電荷潜像
が顕像化される。乾燥部18では、液体現像液で湿潤され
た電子写真フイルム22に乾燥空気が吹き付けられて湿分
が除去される。定着部20では、定着ランプ等によって電
子写真フイルム22に画像が定着される。In the charging exposure section 14, the electrophotographic film 22 (corresponding to one frame) located in this portion is exposed after being charged with the image light of the document. Thus, an electrostatic latent image corresponding to the image pattern of the document is formed on the electrophotographic film 22. In the developing unit 16, a liquid developer is applied to the electrophotographic film 22 exposed in the charging and exposing unit 14, and the electrostatic latent image is visualized. In the drying section 18, dry air is blown against the electrophotographic film 22 moistened with the liquid developer to remove moisture. In the fixing unit 20, an image is fixed on the electrophotographic film 22 by a fixing lamp or the like.
現像部16には、第１図及び第３図に示されるように、
マスク24が形成されており、マスク24は、上部枠24A及
び左右枠24B、24Cが前面壁26に形成された凹部28の面か
ら立ち上がっている。マスク24の下部枠24Dは、下面側
が前面壁26から立ち上がっている。また、下部枠24Dは
両端部が左右枠24B、24Cとの連結部から、さらに左右方
向に延出されている。マスク24の突出高さは帯電露光部
14に形成されたマスク30と同一レベルとなる高さとされ
ている。As shown in FIGS. 1 and 3, the developing unit 16 includes:
A mask 24 is formed, and the mask 24 rises from a surface of a concave portion 28 in which an upper frame 24A and left and right frames 24B and 24C are formed in a front wall 26. The lower surface of the lower frame 24D of the mask 24 rises from the front wall 26. Further, both ends of the lower frame 24D are further extended in the left-right direction from a connection portion with the left and right frames 24B and 24C. The protruding height of the mask 24 is the charged exposure part
The height is set to be the same level as the mask 30 formed in FIG.
マスク24の開口幅は前記マスク30の開口幅より極く僅
かに短くされている。また、マスク24の開口高さ、即ち
上部枠24A及び下部枠24Dの内壁間の距離は、下部枠24D
の内壁が前記マスク30のそれよりも下部に位置してお
り、その分だけ長くされている。The opening width of the mask 24 is extremely slightly shorter than the opening width of the mask 30. Also, the opening height of the mask 24, that is, the distance between the inner walls of the upper frame 24A and the lower frame 24D is equal to the lower frame 24D.
Is located below that of the mask 30, and is longer by that amount.
マスク24開口内には、第１図に示されるように、背面
壁32に支持されて現像電極34が配設されている。現像電
極34はリレーの接点36を介してバイアス電極38に接続さ
れている。このリレーの接点36は常閉状態とされて現像
電極34へバイアス電圧を印加しており、開状態とされる
とバイアス電圧を遮断できるようになっている。このリ
レーの接点36、バイアス電源38は制御回路35と接続され
ている。制御回路35は第１図に示されるようにCPU41、R
AM43、ROM45、入力ポート37、出力ポート39より構成さ
れておりそれらはデータバス47で夫々接続されている。In the opening of the mask 24, as shown in FIG. 1, a developing electrode 34 supported by the back wall 32 is provided. The developing electrode 34 is connected to a bias electrode 38 via a relay contact 36. The contact 36 of the relay is normally closed to apply a bias voltage to the developing electrode 34, and when opened, the bias voltage can be cut off. The contact 36 and the bias power supply 38 of this relay are connected to the control circuit 35. The control circuit 35 includes the CPU 41 and the R as shown in FIG.
It comprises an AM 43, a ROM 45, an input port 37, and an output port 39, which are connected by a data bus 47, respectively.
現像電極34は表面がマスク24の端面から僅かに内側に
位置しており、現像電極34とマスク24の内壁とで囲まれ
る空間が現像室40とされている。現像電極34の上部及び
下部は開口されて、それぞれ現像液・スクイズ用空気流
入口42及び現像液・スクイズ用空気流出口44とされてい
る。The surface of the developing electrode 34 is located slightly inside the end face of the mask 24, and a space surrounded by the developing electrode 34 and the inner wall of the mask 24 is a developing chamber 40. The upper and lower portions of the developing electrode 34 are opened to form a developer / squeeze air inlet 42 and a developer / squeeze air outlet 44, respectively.
現像液・スクイズ用空気流入口42はプロセスヘツド10
の内部空間で構成される通路46と連通されている。通路
46はプロセスヘツド10の背面に開口された現像液供給口
48及びスクイズ用空気供給口50と連通されている。ま
た、現像液・スクイズ用空気流出口44はプロセスヘツド
10の内部空間で構成される通路52と連通されている。通
路52はプロセスヘツド10の下面に開口された現像液・ス
クイズ用空気排出口54と連通されている。The developer and squeeze air inlet 42 is connected to the process head 10
Is communicated with the passage 46 constituted by the internal space of aisle
46 is a developer supply port opened on the back of the process head 10.
48 and the squeeze air supply port 50. The developer / squeeze air outlet 44 is connected to the process head.
It communicates with a passage 52 composed of ten internal spaces. The passage 52 communicates with a developer / squeeze air discharge port 54 opened on the lower surface of the process head 10.
第１図に示されるように、前記現像液供給口48は途中
に電極弁58を介して管路60、62で現像液タンク64と連結
されている。現像液タンク64は電磁弁58よりも上部に位
置されている。管路62の先端には液注出用針70が取り付
けられており、現像液タンク64の側壁下部に差し込まれ
て、管路62と現像液タンク64とを連通している。これら
の管路60、62は直径が0.8〜1.5mmのものが使用されてい
る。As shown in FIG. 1, the developing solution supply port 48 is connected to a developing solution tank 64 via conduits 60 and 62 via an electrode valve 58 on the way. The developer tank 64 is located above the solenoid valve 58. A liquid discharging needle 70 is attached to the end of the pipe 62 and is inserted into the lower part of the side wall of the developer tank 64 to communicate the pipe 62 with the developer tank 64. The pipes 60 and 62 have a diameter of 0.8 to 1.5 mm.
管路62の途中には、点滴用の管などに設けられている
公知の気泡抜きのための空気留部66が配設されている。
また管路60の現像液タンク64と空気留部66との間には、
第１送液検出器68が配置されている。この第１送液検出
器68は管路62内の現像液75内に含まれるトナー粒子の有
無を検出することによって現像液タンク64内の現像液75
の有無が検出されるようになっている。この第１送液検
出器68は制御回路35の入力ポート37へ接続されている。In the middle of the conduit 62, a known air trap 66 for removing air bubbles, which is provided in a drip tube or the like, is provided.
Also, between the developer tank 64 and the air retaining section 66 of the pipe 60,
A first liquid sending detector 68 is provided. The first liquid sending detector 68 detects the presence or absence of toner particles contained in the developing solution 75 in the pipe line 62, thereby detecting the presence of the toner particles in the developing solution tank 64.
Is detected. The first liquid sending detector 68 is connected to the input port 37 of the control circuit 35.
管路60は電磁弁58と一端が連結されており鉛直方向下
方へ向って延出され、中間部が略水平に屈曲されて屈曲
部が設けられ、先端が現像液供給口48と連通されてい
る。One end of the conduit 60 is connected to the solenoid valve 58 and extends downward in the vertical direction, the middle portion is bent substantially horizontally, and a bent portion is provided, and the tip is communicated with the developer supply port 48. I have.
管路60の屈曲部と現像液供給口48との間は現像液供給
口48より低い現像液残留部72となっている。Between the bent portion of the conduit 60 and the developer supply port 48, there is a developer residual portion 72 lower than the developer supply port 48.
この現像液残留部72と現像液供給口48との間には、第
２送液検出器74が配置されている。この第２送液検出器
74は、管路60内を通る現像液75のトナー粒子の流れを検
出するようになっている。すなわち、管路60内を現像液
75が流れていることを検出する。この第２送液検出器74
は制御回路35の入力ポート37へ接続されている。A second liquid supply detector 74 is arranged between the developer residual portion 72 and the developer supply port 48. This second liquid sending detector
74 detects the flow of the toner particles of the developer 75 passing through the pipe 60. That is, the developing solution is
Detects that 75 is flowing. This second liquid sending detector 74
Is connected to the input port 37 of the control circuit 35.
スクイズ用空気供給口50は管路76で加圧スクイズ用の
エアポンプ78と連結されている。The squeeze air supply port 50 is connected to an air pump 78 for pressurized squeeze through a pipe 76.
通路46は、本体部12の上面を貫通する管路80でリンス
液ボトル82と連通されている。管路80の途中にはリンス
用電磁弁84が配置されている。このリンス用電磁弁84は
制御回路35の出力ポート39へ接続されている。また管路
80の先端には液抽出用針85が管路62と同様に取り付けら
れており、リンス液ボトル82の側壁へ差し込まれて、リ
ンス液ボトル82と通路46とを連通している。リンス液ボ
トル82には、現像液中の溶媒成分であるアイソパーＧ
（商品名：エツソ（株））がリンス液83として収容され
ている。The passage 46 communicates with the rinsing liquid bottle 82 through a conduit 80 penetrating the upper surface of the main body 12. A rinse solenoid valve 84 is arranged in the middle of the pipe 80. The rinse solenoid valve 84 is connected to the output port 39 of the control circuit 35. Also pipeline
A liquid extraction needle 85 is attached to the tip of 80 in the same manner as the conduit 62, is inserted into the side wall of the rinse liquid bottle 82, and connects the rinse liquid bottle 82 and the passage 46. The rinse liquid bottle 82 contains Isopar G, a solvent component in the developer.
(Trade name: Etsuso Co., Ltd.) is contained as a rinsing liquid 83.
現像液・スクイズ用空気排出口54の下方には現像液処
理装置86が配置されている。A developer processing device 86 is arranged below the developer / squeeze air outlet 54.
この現像液処理装置86には廃液タンク88が備えられて
いる。廃液タンク88の上面には、貫通穴88Aが設けられ
ており、管路90の一端が挿入されている。管路90の他端
は現像液・スクイズ用空気排出口54と連通されており、
現像後の余剰現像液が管路90内を通って廃液タンク88内
へ排出されるようになっている。The developer processing apparatus 86 is provided with a waste liquid tank 88. A through hole 88A is provided on the upper surface of the waste liquid tank 88, and one end of the pipe 90 is inserted. The other end of the pipe 90 is communicated with the developer / squeeze air discharge port 54,
The surplus developer after the development passes through the pipe 90 and is discharged into the waste liquid tank 88.
廃液タンク88の側壁上部からは、排出管路としての管
路92の一端が連通されている。この管路92は中間部が下
方へ向けて略直角に屈曲されており、他端はオーバーフ
ロー液回収タンク94内へ開口している。このオーバーフ
ロー液回収タンク94内へは廃液タンク88内へ排出された
余剰現像液がオーバーフローして排出されるようになっ
ている。このオーバーフローは通常使用時には、行われ
ないが、電子写真フイルムの現像処理が連続的に大量に
行われると、余剰現像液が廃液タンク88内へ収容しきれ
なくなるので、所定量（廃液タンク88の容積）を越える
と管路92からオーバーフローしてオーバーフロー液回収
タンク94へ回収されるようになっている。One end of a pipe 92 as a discharge pipe communicates with an upper portion of the side wall of the waste liquid tank 88. The pipe 92 has an intermediate portion bent downward at a substantially right angle, and has the other end opened into the overflow liquid recovery tank 94. Excess developer discharged into the waste liquid tank 88 overflows into the overflow liquid recovery tank 94 and is discharged. This overflow is not performed during normal use, but if a large amount of electrophotographic film development processing is continuously performed, excess developer cannot be contained in the waste liquid tank 88. When the volume exceeds the capacity, the liquid overflows from the pipe 92 and is collected in the overflow liquid collecting tank 94.
また廃液タンク88は、管路92が連通された側壁の反対
側の側壁下部で、供給管路としての管路96を介して燃焼
タンク98と連通されており、廃液タンク88内へ排出され
た余剰現像液が燃焼タンク98へ供給され、廃液タンク88
内の液面の高さと燃焼タンク98内の液面の高さとが同じ
になる。この燃焼タンク98はステンレス等の金属で成形
されている。Further, the waste liquid tank 88 communicates with the combustion tank 98 via a pipe 96 serving as a supply pipe at a lower portion of the side wall opposite to the side wall to which the pipe 92 is connected, and is discharged into the waste tank 88. Excess developer is supplied to the combustion tank 98, and the waste liquid tank 88
And the liquid level in the combustion tank 98 is the same. The combustion tank 98 is formed of a metal such as stainless steel.
燃焼タンク98の底部外方には加熱手段であるヒータ10
0が配置されている。このヒータ100は、肉厚0.5mm程度
のステンレス製の容器102内に収容されており、燃焼タ
ンク98の底部へ熱を伝え易いように上面が平面状に形成
されている。ヒータ100は途中にリレーの接点104を介し
て電源105と接続されている。リレーの接点104は制御回
路35の出力ポート39へ接続されている。このヒータ100
は、燃焼タンクに小容量のものを用いた場合には40W程
度のヒータ容量で、約30秒間作動され、大型の場合には
200W程度のヒータ容量で、約２分間作動されて、燃焼タ
ンク98内の余剰現像液を加熱し気化させるようになって
いる。この燃焼タンク98の大きさは小容量のもので30×
30×20mm、大容量のもので100×100×50mm程度である。Outside the bottom of the combustion tank 98 is a heater 10 as a heating means.
0 is arranged. The heater 100 is housed in a stainless steel container 102 having a thickness of about 0.5 mm, and has a flat upper surface so as to easily transmit heat to the bottom of the combustion tank 98. The heater 100 is connected to a power source 105 via a relay contact 104 on the way. The contact 104 of the relay is connected to the output port 39 of the control circuit 35. This heater 100
Is operated for about 30 seconds with a heater capacity of about 40W when a small capacity tank is used, and for a large tank
The heater is operated for about 2 minutes with a heater capacity of about 200 W to heat and vaporize the excess developer in the combustion tank 98. The size of this combustion tank 98 is 30 ×
30 × 20mm, large capacity, about 100 × 100 × 50mm.
また燃焼タンク98の底部及び側壁には断熱材106が配
置されており、燃焼タンク98の温度が低下しないように
なっている。Further, a heat insulating material 106 is arranged on the bottom and side walls of the combustion tank 98 so that the temperature of the combustion tank 98 does not decrease.
燃焼タンク98の上面には、触媒（例えば白金族触媒、
ニツケル系、クロム系の触媒）108が、下面を燃焼タン
ク98内へ、上面を外方へ露出して固定されている。ま
た、第１図からも明らかなように、この触媒108の底面
は、管路92の一端よりも高くなっている。このため、廃
液タンク88内に一気に大量の余剰現像液が流入しても、
その液面が触媒108の底面に達する前に、管路92から排
出されるようになっている。この触媒108へは、燃焼タ
ンク98内で気化した余剰現像液中の溶媒が供給されるよ
うになっている。触媒108の上部には触媒点火用ヒータ1
10（例えば白金フイラメントで形成されたもの）が配置
されており、リレーの接点112を介して電源114と接続さ
れている。このリレーの接点112は制御回路35の出力ポ
ート39へ接続されている。A catalyst (eg, a platinum group catalyst,
A nickel-based or chromium-based catalyst) 108 is fixed with its lower surface exposed inside the combustion tank 98 and its upper surface exposed outward. 1, the bottom surface of the catalyst 108 is higher than one end of the pipe 92. For this reason, even if a large amount of excess developer flows into the waste liquid tank 88 at a stretch,
Before the liquid surface reaches the bottom surface of the catalyst 108, the liquid is discharged from the pipe 92. The solvent in the excess developer vaporized in the combustion tank 98 is supplied to the catalyst 108. Above the catalyst 108, a catalyst ignition heater 1
10 (for example, formed of platinum filament) is arranged, and is connected to a power supply 114 via a contact point 112 of a relay. The contact 112 of this relay is connected to the output port 39 of the control circuit 35.
触媒108、触媒点火用ヒータ110を被うようにして、燃
焼タンク98の上部にはカバー116が設けられてこのカバ
ー116と燃焼タンク98の上面とで囲まれる空間が排気室1
8となっている。このカバー116の側壁には内外を連通す
る空気取入口116Aが設けられていおり、排気室118内へ
空気が取り入れられるようになっている。取り入れられ
た空気は、触媒108の酸化用に用いられる。A cover 116 is provided on the upper portion of the combustion tank 98 so as to cover the catalyst 108 and the catalyst ignition heater 110, and the space surrounded by the cover 116 and the upper surface of the combustion tank 98 is an exhaust chamber 1
It is 8. The side wall of the cover 116 is provided with an air inlet 116A communicating between the inside and the outside, so that air can be taken into the exhaust chamber 118. The introduced air is used for the oxidation of the catalyst 108.
カバー116の上面には複数の排気口116Bが設けられて
おり、これらの排気口116B間から上方に向けて、放熱フ
イン120が５枚立設されている。この放熱フイン120は、
触媒108の酸化作用によって生じる発熱により、高温と
なったカバー116の温度を低下させるようになってい
る。A plurality of exhaust ports 116B are provided on the upper surface of the cover 116, and five heat radiation fins 120 are provided upright from between the exhaust ports 116B. This heat radiation fin 120
The heat generated by the oxidizing action of the catalyst 108 lowers the temperature of the cover 116, which has become high.
プロセスヘツド10の前面壁26の手前には、押え板が配
設されており図示しないフイルム押え機構によって作動
され、電子写真フイルム22をプロセスヘツド10の前面壁
26へ押圧するようになっている。この場合押圧される電
子写真フイルム22の各駒は、帯電露光部14、現像部16、
乾燥部18、定着部20へ夫々位置して当接されるようにな
っている。A pressing plate is provided in front of the front wall 26 of the process head 10 and is operated by a film holding mechanism (not shown) to move the electrophotographic film 22 to the front wall of the process head 10.
Press to 26. In this case, each frame of the electrophotographic film 22 pressed is a charging exposure unit 14, a developing unit 16,
The drying unit 18 and the fixing unit 20 are respectively positioned and abutted.
次に本実施例の作用について説明する。 Next, the operation of the present embodiment will be described.
プロセスヘツド10に夫々隣接配置された帯電・露光部
14、現像部16、乾燥部18及び定着部20へ、電子写真フイ
ルム22の各駒が、上記順序で送られて夫々処理され、電
子写真フイルム22へ画像が記録される。Charging / exposure units located adjacent to the process head 10, respectively
The respective frames of the electrophotographic film 22 are sent to the developing unit 16, the drying unit 18, and the fixing unit 20 in the above-mentioned order, processed respectively, and an image is recorded on the electrophotographic film 22.
この場合、図示しないフイルム移動モータが駆動され
て、未だ記録されていない駒の中から自由に選択された
所定の一駒が帯電・露光部14のマスク30の前面に位置さ
れる。この操作は、プロセスヘツド10が組込まれた電子
写真装置を操作する図示しないコントロールキーボード
で、所定の一駒を指定することでなされる。In this case, a film moving motor (not shown) is driven, and a predetermined frame freely selected from frames that have not yet been recorded is positioned on the front surface of the mask 30 of the charging / exposure unit 14. This operation is performed by designating a predetermined frame with a control keyboard (not shown) for operating an electrophotographic apparatus in which the process head 10 is incorporated.
ここでこの所定の一駒に着目して、この所定の一駒が
上記帯電・露光部14から現像部16、乾燥部18及び定着部
20へ送られて画像が記録される場合について第４図を用
いて説明する。Here, paying attention to this predetermined frame, the predetermined frame is transferred from the charging / exposing section 14 to the developing section 16, the drying section 18, and the fixing section.
The case where the image is sent to 20 and an image is recorded will be described with reference to FIG.
未だ記録されていない駒の中から自由に選択された所
定の一駒が帯電・露光部14へ位置され、この所定の一駒
が帯電・露光されて静電荷潜像が形成される。この帯電
・露光が終了したか否かがステツプ200で判断される。
帯電・露光が終了していなければこの判断がくり返され
る。A predetermined frame freely selected from the frames which have not been recorded yet is located at the charging / exposure section 14, and the predetermined frame is charged / exposed to form an electrostatic latent image. It is determined in step 200 whether or not the charging / exposure has been completed.
If the charging and exposure have not been completed, this determination is repeated.
帯電・露光が終了し、電子写真フイルムへ静電荷潜像
が形成されると、押え板によるフイルム押えが解除さ
れ、図示しないフイルム移動モータが作動される（ステ
ツプ202、204）。これにより、静電荷潜像が形成された
所定の一駒は、帯電・露光部14から移動する。この移動
によって、所定の一駒が現像部16へ位置したか否かがス
テツプ206で判断される。この場合電子写真フイルム22
に一定間隔で形成された図示しない多数のブリツプマー
クを計数することで、電子写真フイルム22の移動距離が
求められ、これによって所定の一駒が現像部16へ位置し
たか否かが判断される。また所定の一駒が現像部16へ位
置していなければ、フイルム移動モータは作動を続け、
所定の一駒が現像部16へ位置すると、フイルム移動モー
タが停止される（ステツプ208）。When the charging / exposure is completed and an electrostatic latent image is formed on the electrophotographic film, the pressing of the film by the pressing plate is released, and a film moving motor (not shown) is operated (steps 202 and 204). As a result, a predetermined frame on which the electrostatic latent image has been formed moves from the charging / exposure unit 14. By this movement, it is determined in step 206 whether or not a predetermined frame has been positioned in the developing unit 16. In this case, electrophotographic film 22
By counting a number of unillustrated blip marks formed at regular intervals, the moving distance of the electrophotographic film 22 is obtained, and it is determined whether or not a predetermined frame has been positioned in the developing unit 16. If a predetermined frame is not located at the developing unit 16, the film moving motor continues to operate,
When a predetermined frame is located at the developing section 16, the film moving motor is stopped (step 208).
押え板の動作に先立って第４図に示されるように、リ
レーの接点36が常閉状態から開状態となって、現像電極
34へのバイアス電圧の印加を停止する（ステツプ21
0）。フイルム移動モータが停止されると押え板が作動
して電子写真フイルム22が現像室40へ押圧当接される
（ステツプ212）。バイアス電圧の印加を停止する所定
時間Ｈは約30msecに設定されており、電子写真フイルム
22が、押え板によってプロセスヘツド10のマスク24へ押
圧されたときに生じる振動が減衰する時間とされてい
る。これにより電子写真フイルム22が不用意に現像電極
34へ接近しすぎて、現像電極34との間で放電が生じるこ
とがない。所定時間Ｈが経過していなければ、リレーの
接点36は開状態とされ、所定時間Ｈ経過すると、リレー
の接点36が閉状態とされる（ステツプ216）。これによ
り再び現像電極34へバイアス電圧を印加する。Prior to the operation of the holding plate, as shown in FIG. 4, the contact 36 of the relay changes from the normally closed state to the open state, and the developing electrode
Stop applying the bias voltage to 34 (step 21).
0). When the film moving motor is stopped, the holding plate is activated, and the electrophotographic film 22 is pressed against the developing chamber 40 (step 212). The predetermined time H for stopping the application of the bias voltage is set to about 30 msec.
The time 22 is the time during which the vibration generated when the process head 10 is pressed against the mask 24 by the holding plate is attenuated. As a result, the electrophotographic film 22 is inadvertently developed.
There is no possibility that a discharge is generated between the developing electrode 34 and the developing electrode 34 because it is too close to the developing electrode 34. If the predetermined time H has not elapsed, the contact 36 of the relay is opened, and if the predetermined time H has elapsed, the contact 36 of the relay is closed (step 216). Thus, a bias voltage is applied to the developing electrode 34 again.
電子写真フイルム22が現像室40へ押圧当接された後現
像液供給用電磁弁58が所定時間Ｔ開放される（ステツプ
218、220）。電磁弁58が開放されると現像液タンク64内
の現像液75が管路62、60内を自然流化してプロセスヘツ
ド10へ至り、現像部16の現像液・スクイズ用空気流入口
42から現像室40へ流入する。After the electrophotographic film 22 is pressed against the developing chamber 40, the developer supply solenoid valve 58 is opened for a predetermined time T (step
218, 220). When the solenoid valve 58 is opened, the developing solution 75 in the developing solution tank 64 naturally flows through the pipes 62 and 60 to reach the process head 10, and the developing solution / squeeze air inlet of the developing unit 16 is provided.
From 42 flows into the developing chamber 40.
第１回目の現像の場合には、管路60、現像液残留部72
には、現像液75が入っておらず、管路60現像液残留部72
を充満させるのに要する時間分だけ、電磁弁58を開状態
とするまでの時間を延長する必要がある。現像液残留部
72には、充電式の第２送液検出器74が設けられ、現像液
が管路60内へ満たされているかどうかを検知するように
なっており、第１回目の現像時には、第２送液検出器74
にて現像液を検知してから、所定時間Ｔ経過後、電磁弁
58を閉状態とすることにより、遅れによる現像不足を防
ぐようになっている。この現像液75の供給によって、現
像液中に分散されたに帯電しているトナー粒子が、電
子写真フイルムのに帯電している部分に付着して、静
電荷潜像が顕像化される。現像室40へ供給されて、現像
室40を流下した余剰の現像液75は、現像液・スクイズ用
空気流出口44から通路52を通り、現像液・スクイズ用空
気排出口54から管路90を通って廃液タンク88内へ排出さ
れる。In the case of the first development, the pipeline 60 and the developer remaining portion 72
Does not contain the developing solution 75, and the line 60 contains the developing solution residual portion 72.
It is necessary to extend the time required to open the solenoid valve 58 by the time required to fill the valve. Residual developer
A rechargeable second liquid feed detector 74 is provided at 72 to detect whether or not the developer is filled in the pipeline 60. At the time of the first development, the second liquid feed detector 74 is provided. Liquid detector 74
After a predetermined time T has passed since the developer was detected at
By closing 58, shortage of development due to delay is prevented. By supplying the developing solution 75, the charged toner particles dispersed in the developing solution adhere to the charged portion of the electrophotographic film, and the electrostatic latent image is visualized. The excess developer 75 supplied to the developing chamber 40 and flowing down the developing chamber 40 passes through the passage 52 from the developer / squeeze air outlet 44 and passes through the conduit 90 from the developer / squeeze air outlet 54. Then, the waste liquid is discharged into the waste liquid tank 88.
廃液タンク88へ排出された余剰現像液75は管路96から
燃焼タンク98内へ供給される。余剰現像液75の最初の燃
焼タンク98内への供給時には、触媒点火用ヒータ110が
通電されるのと同時にヒータ100も同時に作動され、燃
焼タンク98内の余剰現像液75を加熱して強制的に気化さ
せ触媒108へ供給する。供給された余剰現像液75は、触
媒点火用ヒータ110によって点火されて酸化を開始す
る。一度点火された後は、ヒータ100及び触媒点火用ヒ
ータ110は停止され触媒108の酸化作用による発熱で、触
媒108の作用が維持される。The surplus developer 75 discharged to the waste liquid tank 88 is supplied into the combustion tank 98 through a pipe 96. When the surplus developing solution 75 is supplied into the first combustion tank 98, the heater 100 for the catalyst ignition is energized and the heater 100 is simultaneously operated at the same time, and the surplus developing solution 75 in the combustion tank 98 is heated to forcibly. And supplied to the catalyst 108. The supplied surplus developing solution 75 is ignited by the catalyst ignition heater 110 to start oxidation. Once ignited, the heater 100 and the catalyst ignition heater 110 are stopped, and the action of the catalyst 108 is maintained by the heat generated by the oxidizing action of the catalyst 108.
触媒の酸化作用が進み、連続的に余剰現像液を酸化し
ていると、燃焼タンク98、カバー116、排気室118内の温
度は上昇するが、放熱フイン120によって放熱されるの
で、高温になることはない。When the oxidizing action of the catalyst advances and continuously oxidizes the surplus developer, the temperature in the combustion tank 98, the cover 116, and the exhaust chamber 118 rises, but the temperature is increased because the heat is radiated by the radiation fin 120. Never.
この触媒108の酸化作用によって、余剰現像液中の炭
化水素を主成分とする溶媒Cn Hm（アイソパーＧ（商品
名：エツソ（株））が二酸化炭素（nCO2）と水蒸気（m/
2H2O）に変化して、排気口116Bから外方へ排出される。
これにより、余剰現像液が処理される。The oxidation of the catalyst 108, solvent C n H m (Isopar G (trade name composed mainly of hydrocarbons excess developer: Esso Corporation) carbon dioxide (nCO 2) and water vapor (m /
2H 2 O) and is discharged outward from the exhaust port 116B.
Thus, the surplus developer is processed.
このように本実施例では、余剰現像液中の溶媒をヒー
タ100によって加熱して気化させ、触媒へ供給するの
で、余剰現像液中の顔料（トナー粒子）が触媒108へ到
達することがない。As described above, in the present embodiment, the solvent in the excess developer is heated and vaporized by the heater 100 and supplied to the catalyst, so that the pigment (toner particles) in the excess developer does not reach the catalyst.
トナー粒子は燃焼タンク98内へ残るが、少量であるの
で処理は容易である。Although the toner particles remain in the combustion tank 98, the processing is easy because the amount is small.
またこの場合排出される二酸化炭素、水蒸気は無臭・
無害であるので周囲の環境に悪影響を与えることがな
い。In this case, the carbon dioxide and water vapor emitted are odorless.
It is harmless and does not adversely affect the surrounding environment.
また燃焼タンク98の底部、すなわち余剰現像液が収容
される部分は、ヒータ100を停止した後は温度が低下す
るが、酸化作用による発熱で温められ、断熱材106によ
って、保温されるようになっている。このため、ヒータ
100を一旦停止した後、再作動させる場合に、燃焼タン
ク98内の余剰現像液の温度低下が少ないので、ヒータ10
0の作動時間を短くできる。Although the temperature of the bottom of the combustion tank 98, that is, the portion where the excess developer is stored, decreases after the heater 100 is stopped, it is heated by the heat generated by the oxidizing action and is kept warm by the heat insulating material 106. ing. Therefore, the heater
When the heater 100 is temporarily stopped and then restarted, the temperature of the surplus developer in the combustion tank 98 decreases little.
The operation time of 0 can be shortened.
また廃液タンク88及び燃焼タンク98中へ余剰現像液が
収容しきれない場合には、管路92からオーバーフローし
てオーバーフロー液回収タンク94へ回収される。ただし
通常使用時にはオーバーフローすることはなく、連続し
て大量に現像処理が行われ、大量の余剰現像液が排出さ
れた場合にオーバーフローする。When the excess developer cannot be accommodated in the waste liquid tank 88 and the combustion tank 98, the excess developer overflows from the pipe 92 and is collected in the overflow liquid collection tank 94. However, overflow does not occur during normal use, and the developing process is continuously performed in a large amount, and overflows when a large amount of excess developer is discharged.
管路92の一端は、触媒108の底面よりも低くなってい
るので、余剰現像液の液面が触媒108の底面に到達する
前に、余剰現像液は管路92から回収タンク94へ排出され
る。すなわち、連続して大量に現像処理が行われ、大量
の余剰現像液が排出された場合でも、余剰現像液中の顔
料が触媒108へ到達することがなく、触媒108の酸化作用
が妨げられない。Since one end of the pipe 92 is lower than the bottom of the catalyst 108, the excess developer is discharged from the pipe 92 to the collection tank 94 before the liquid level of the excess developer reaches the bottom of the catalyst 108. You. That is, even when a large amount of the developing process is continuously performed and a large amount of the excess developer is discharged, the pigment in the excess developer does not reach the catalyst 108, and the oxidizing action of the catalyst 108 is not hindered. .
電磁弁58が開放されてから所定時間Ｔが経過するとス
テツプ222で電磁弁58が閉止される。When a predetermined time T has elapsed since the solenoid valve 58 was opened, the solenoid valve 58 is closed at step 222.
電磁弁58が閉止された後ステツプ224、226でリンス用
電磁弁84が所定時間T0開放される。このリンス用電磁弁
84の開放によってリンス液ボトル82内のリンス液83が、
現像室40内へ供給される。このリンス液83によって現像
電極34内に付着している余剰現像液が洗い流され廃液タ
ンク88内へリンス液83と共に排出される。Rinsing solenoid valve 84 at step 224 and 226 after the solenoid valve 58 is closed by a predetermined time T 0 opened. This rinse solenoid valve
Rinsing liquid 83 in rinsing liquid bottle 82 is opened by opening 84,
The developer is supplied into the developing chamber 40. Excess developer adhering to the inside of the developing electrode 34 is washed away by the rinsing liquid 83 and discharged into the waste liquid tank 88 together with the rinsing liquid 83.
廃液タンク88内へ排出されたリンス液83及び余剰現像
液は廃液タンク88へ排出された後、燃焼タンク98へ送ら
れて気化し、触媒108を通過して二酸化炭素と水蒸気と
に変化し大気中へ排出される。The rinsing liquid 83 and excess developer discharged into the waste liquid tank 88 are discharged to the waste liquid tank 88, then sent to the combustion tank 98 and vaporized, pass through the catalyst 108, change into carbon dioxide and water vapor, and It is discharged inside.
リンス用電磁弁84が開放されて所定時間T0経過すると
リンス用電磁弁84が閉止される（ステツプ228）。リン
ス用電磁弁84の閉止と同時に、第１図に示されるスクイ
ズ用のエアポンプ78が作動されて、スクイズ用空気供給
口50から現像室40へ加圧空気が供給され（ステツプ23
0、232）、電子写真フイルム22に余剰に付着している現
像液75が吹き落とされて液切れされる。吹き落とされた
現像液75は廃液タンク88へ排出される。Rinsing solenoid valve 84 is opened the rinsing solenoid valve 84 a predetermined time T 0 has elapsed is closed (step 228). Simultaneously with the closing of the rinse electromagnetic valve 84, the squeeze air pump 78 shown in FIG. 1 is operated, and pressurized air is supplied from the squeeze air supply port 50 to the developing chamber 40 (step 23).
0, 232), the developing solution 75 adhering to the electrophotographic film 22 is blown off and drained. The blown-down developer 75 is discharged to a waste liquid tank 88.
この現像室40への加圧空気の供給は、余剰現像液が現
像室40内に十分残っている間は弱風とされ（ステツプ23
0）、高速な吹き落としによる画像の劣化が防止され
る。送風が開始されてから所定時間経過後に強風とされ
る。このエアポンプ78の作動が停止して（ステツプ23
4）加圧空気の供給が停止され、押え板のフイルムの押
圧が解除される（ステツプ236）。これにより現像部16
での現像が終了する（ステツプ238）。The supply of the pressurized air to the developing chamber 40 is made to be a weak wind while the excess developing solution is sufficiently left in the developing chamber 40 (step 23).
0) Deterioration of the image due to high-speed blow-down is prevented. After a lapse of a predetermined time from the start of blowing, the wind is made strong. The operation of the air pump 78 is stopped (step 23).
4) The supply of pressurized air is stopped, and the pressing of the film on the holding plate is released (step 236). This makes the developing unit 16
Is completed (step 238).
次いでフイルム移動モータの駆動で電子写真フイルム
22は一駒移動されて、現像部16に位置していた所定の一
駒が乾燥部18に位置する。フイルム移動モータが停止さ
れた後押え板が作動して押圧当接され、所定時間経過後
に温空気が、乾燥部18へ吹き出され、現像液75が乾燥さ
れる。Next, the electrophotographic film is driven by driving the film moving motor.
22 is moved one frame, and a predetermined frame located in the developing unit 16 is located in the drying unit 18. After the film moving motor is stopped, the presser plate is actuated to press and contact, and after a lapse of a predetermined time, warm air is blown out to the drying unit 18 to dry the developer 75.
次いで押え板のフイルム押圧が解除されフイルム移動
モータが駆動されて、乾燥部18に位置していた駒は定着
部20に移動される。フイルム移動モータの駆動が停止さ
れた後にフイルム押え機構により押え板が作動して押圧
当接され定着部20に冷風が供給される。Next, the pressing of the film on the presser plate is released, and the film moving motor is driven, and the piece located at the drying unit 18 is moved to the fixing unit 20. After the driving of the film moving motor is stopped, the pressing plate is actuated by the film pressing mechanism to press and contact the fixing unit 20, and cool air is supplied to the fixing unit 20.
フイルム押え機構の作動から所定時間経過後に図示し
ないキセノンランプが発光されてトナー粒子は電子写真
フイルム22の表面に融合して定着され、定着工程が終了
する。After a lapse of a predetermined time from the operation of the film holding mechanism, a xenon lamp (not shown) is emitted, and the toner particles are fused and fixed on the surface of the electrophotographic film 22, and the fixing process is completed.
以上の工程を終ることで、電子写真フイルム22への画
像の記録が完了する。By completing the above steps, the recording of the image on the electrophotographic film 22 is completed.
全ての処理が終了した段階で、現像液タンク64から現
像液供給口48の間の管路62、60、現像液残留部72内に
は、トナー液が充満している。At the stage when all the processes are completed, the pipes 62 and 60 between the developing solution tank 64 and the developing solution supply port 48 and the developing solution remaining portion 72 are filled with the toner solution.
トナー液を管路中に入れたまま長期間放置すると、液
中に分散しているトナー粒子が沈降し、管中のトナー濃
度にムラが生じるため、好ましくない。If the toner liquid is left in the pipe for a long period of time, the toner particles dispersed in the liquid will settle, and the toner concentration in the pipe will be uneven, which is not preferable.
このため全工程終了後、押え板をプロセスヘツド10前
面へ押圧させ、エアポンプ78を作動させた後、電磁弁58
を２〜３秒間開状態とするという操作を行ない、エアポ
ンプ78の空気圧を利用して、現像液供給口48、管路60、
62、現像液残留部72内の現像液を現像液タンク64中に戻
した後、電磁弁58を閉とし、エアポンプ78を停止させ、
押え板の押圧を解除する。For this reason, after all the processes are completed, the pressing plate is pressed against the front of the process head 10 to operate the air pump 78, and then the solenoid valve 58 is operated.
Is opened for 2 to 3 seconds, and the developer supply port 48, the pipeline 60,
62, after returning the developing solution in the developing solution residual portion 72 into the developing solution tank 64, close the electromagnetic valve 58, stop the air pump 78,
Release the pressing of the holding plate.
現像液タンク64中では、管路中に比べ沈降が少ないこ
とが知られており、また、何らかの撹拌手段（図示せ
ず）を用いることで沈降を完全に防止することも可能と
なる。It is known that the sedimentation in the developer tank 64 is smaller than that in the pipeline, and the sedimentation can be completely prevented by using some agitation means (not shown).
この操作で管路内から抜けきらなかった現像液は、管
路中に残るが、本実施例では、他より低い場所にある現
像液残留部72が設けられており、抜け残りの現像液はこ
の現像液残留部72に溜まる。現像液残留部72は、直径0.
8〜1.5mmの細管部分を介して現像液供給口48部分に接続
しており、現像液の蒸発が殆ど生じない部分となってい
るため、液が残っても乾燥・固化して配管が詰まるとい
った心配がない。The developer that has not been completely removed from the inside of the pipeline by this operation remains in the pipeline, but in the present embodiment, a developer remaining portion 72 is provided at a lower position than other portions, and the remaining developer is not removed. The developer remains in the developer remaining portion 72. The developer remaining portion 72 has a diameter of 0.
It is connected to the developer supply port 48 via an 8-1.5 mm thin tube part, and because it is a part where evaporation of the developer hardly occurs, even if the liquid remains, it will dry and solidify and clog the piping There is no worry.
以上説明したように本発明では、余剰現像液を加熱手
段によって気化させ、触媒へ供給するので、余剰現像液
中の溶剤に分散された顔料が触媒へ到達することがな
く、触媒の酸化作用を妨げることがないという優れた効
果が得られる。As described above, in the present invention, since the excess developer is vaporized by the heating means and supplied to the catalyst, the pigment dispersed in the solvent in the excess developer does not reach the catalyst, and the oxidizing action of the catalyst is reduced. An excellent effect of not disturbing is obtained.
第１図は本発明が適用されたプロセスヘツド現像部と他
の機器との関係を示す断面図、第２図は現像液処理装置
を示す斜視図、第３図はプロセスヘツドを示す斜視図、
第４図は現像部の作用を示すフローチヤートである。 10……プロセスヘツド、 22……電子写真フイルム、 86……現像液処理装置、 88……廃液タンク、 98……燃焼タンク、 100……ヒータ、 108……触媒。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a relationship between a process head developing section to which the present invention is applied and other devices, FIG. 2 is a perspective view showing a developer processing apparatus, FIG. 3 is a perspective view showing a process head,
FIG. 4 is a flowchart showing the operation of the developing section. 10 Process head, 22 Electrophotographic film, 86 Developer processing unit, 88 Waste tank, 98 Combustion tank, 100 Heater, 108 Catalyst.
Claims (1)
散されかつ現像部から排出された余剰現像液を処理する
現像液処理装置において、 前記現像部から排出された前記余剰現像液を貯留する廃
液タンクと、 前記廃液タンクに貯留された前記余剰現像液が供給管路
を介して供給される燃焼タンクと、 前記燃焼タンクに設けられ燃焼タンクに供給された前記
余剰現像液を加熱して気化させる加熱手段と、 前記燃焼タンクの上面に設けられ前記加熱手段によって
気化された前記余剰現像液を酸化させる触媒と、 前記燃焼タンクに設けられ燃焼タンク内に貯留された前
記余剰現像液を保温する断熱材と、 一端が、前記触媒よりも低くかつ前記供給管路よりも高
い位置で前記廃液タンクに接続された排出管路と、 前記排出管路の他端側に設けられ排出管路を通って前記
廃液タンクから排出された前記余剰現像液を回収する回
収タンクと、 を有することを特徴とする現像液処理装置。1. A developer processing apparatus for processing a surplus developer discharged from a developing unit in which a pigment is dispersed in a solvent containing a hydrocarbon as a main component, wherein the surplus developing solution discharged from the developing unit is A waste liquid tank to be stored, a combustion tank in which the surplus developer stored in the waste liquid tank is supplied via a supply pipe, and a heating tank provided in the combustion tank and heating the surplus developer supplied to the combustion tank. Heating means for evaporating the excess developer, a catalyst provided on the upper surface of the combustion tank and oxidizing the excess developer vaporized by the heating means, and a catalyst provided for the combustion tank and stored in the combustion tank. A heat insulating material for maintaining the temperature; a discharge pipe connected to the waste liquid tank at a position lower than the catalyst and higher than the supply pipe; and one end provided at the other end of the discharge pipe. A recovery tank for recovering the excess developer discharged from the waste tank through a discharge pipe.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63006402A JP2612876B2 (en) | 1988-01-14 | 1988-01-14 | Developer processing equipment |
| EP19880121540 EP0323615B1 (en) | 1987-12-28 | 1988-12-22 | Developer treatment apparatus |
| DE19883881671 DE3881671T2 (en) | 1987-12-28 | 1988-12-22 | DEVICE FOR TREATING DEVELOPERS. |
| US07/766,915 US5198195A (en) | 1987-12-28 | 1991-09-27 | Developer treatment apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63006402A JP2612876B2 (en) | 1988-01-14 | 1988-01-14 | Developer processing equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01182875A JPH01182875A (en) | 1989-07-20 |
| JP2612876B2 true JP2612876B2 (en) | 1997-05-21 |
Family
ID=11637375
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63006402A Expired - Fee Related JP2612876B2 (en) | 1987-12-28 | 1988-01-14 | Developer processing equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2612876B2 (en) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5747289U (en) * | 1980-09-03 | 1982-03-16 | ||
| JPS57104968A (en) * | 1980-12-22 | 1982-06-30 | Ricoh Co Ltd | Purifying device of solvent gas for wet type electrophotographic device |
| JPS57105637U (en) * | 1980-12-22 | 1982-06-29 | ||
| JPS62266121A (en) * | 1986-05-12 | 1987-11-18 | Asahi Glass Co Ltd | Apparatus for treating waste gas of painting drying gas |
-
1988
- 1988-01-14 JP JP63006402A patent/JP2612876B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01182875A (en) | 1989-07-20 |
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