JP2610524B2 - 育毛剤 - Google Patents
育毛剤Info
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- JP2610524B2 JP2610524B2 JP27355489A JP27355489A JP2610524B2 JP 2610524 B2 JP2610524 B2 JP 2610524B2 JP 27355489 A JP27355489 A JP 27355489A JP 27355489 A JP27355489 A JP 27355489A JP 2610524 B2 JP2610524 B2 JP 2610524B2
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- JP
- Japan
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- hair
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- yield
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- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は育毛剤に関し、更に詳細には、フタリド誘導
体を有効成分として含有する育毛剤に関する。
体を有効成分として含有する育毛剤に関する。
男性型脱毛症、円形脱毛症などの多くの脱毛症は、未
だその発症メカニズムの詳細が不明である。従来、その
治療には経験的に、血行促進剤、免疫抑制剤、代謝亢進
剤、ビタミン剤、抗男性ホルモン剤等が用いられてい
る。
だその発症メカニズムの詳細が不明である。従来、その
治療には経験的に、血行促進剤、免疫抑制剤、代謝亢進
剤、ビタミン剤、抗男性ホルモン剤等が用いられてい
る。
しかしながら、これらの薬剤は、症状や個人によって
は効果がない場合が多いだけでなく、その効果も未だ満
足できるものではなかった。
は効果がない場合が多いだけでなく、その効果も未だ満
足できるものではなかった。
従って、症状や個人にかかわらず、多くの脱毛症に有
効な育毛剤の開発が望まれていた。
効な育毛剤の開発が望まれていた。
斯かる実情において、本発明者らは、多くの化合物の
育毛作用について鋭意研究を行った結果、後記一般式
（Ｉ）で表わされるフタリド誘導体が強い育毛作用を有
することを見出し、本発明を完成した。
育毛作用について鋭意研究を行った結果、後記一般式
（Ｉ）で表わされるフタリド誘導体が強い育毛作用を有
することを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、一般式（Ｉ） （式中、R1は炭素数３〜16の直鎖もしくは分岐アルキル
基または炭素数３〜４の直鎖もしくは分岐アルコキシ基
を示し、R2は水素原子、ヒドロキシ基またはメトキシ基
を示す） で表わされるフタリド誘導体を含有することを特徴とす
る育毛剤を提供するものである。
基または炭素数３〜４の直鎖もしくは分岐アルコキシ基
を示し、R2は水素原子、ヒドロキシ基またはメトキシ基
を示す） で表わされるフタリド誘導体を含有することを特徴とす
る育毛剤を提供するものである。
本発明で用いられるフタリド誘導体は、一般式（Ｉ）
で表わされるが、式中、R1のうち炭素数３〜16の直鎖ア
ルキル基としては、例えばプロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシル、ドデシ
ル、ヘキサデシル基が挙げられ、分岐アルキル基として
は、例えばイソプロピル、イソブチル、イソアミルなど
が挙げられ、また炭素数３〜４の直鎖もしくは分岐アル
コキシ基としては、例えばイソプロポキシ、プロポキ
シ、ブトキシ基などが挙げられる。
で表わされるが、式中、R1のうち炭素数３〜16の直鎖ア
ルキル基としては、例えばプロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシル、ドデシ
ル、ヘキサデシル基が挙げられ、分岐アルキル基として
は、例えばイソプロピル、イソブチル、イソアミルなど
が挙げられ、また炭素数３〜４の直鎖もしくは分岐アル
コキシ基としては、例えばイソプロポキシ、プロポキ
シ、ブトキシ基などが挙げられる。
これらのフタリド誘導体（Ｉ）は、天然または合成さ
れたものの何れでも良く、例えばセリ科植物からエタノ
ール等の有機溶媒または熱水により抽出されるもののほ
か、例えば次の方法により合成することができる。
れたものの何れでも良く、例えばセリ科植物からエタノ
ール等の有機溶媒または熱水により抽出されるもののほ
か、例えば次の方法により合成することができる。
（１） 無水フタル酸と酸無水物との反応 （式中、R3は炭素数２〜15の直鎖もしくは分岐アルキル
基を示す） すなわち、無水フタル酸と種々の酸無水物とを加熱反
応せしめてアルキリデンフタリドとし、次いでこれを水
素添加することによりフタリド誘導体（II）が得られ
る。
基を示す） すなわち、無水フタル酸と種々の酸無水物とを加熱反
応せしめてアルキリデンフタリドとし、次いでこれを水
素添加することによりフタリド誘導体（II）が得られ
る。
（２） フタルアルデヒド酸とアルキル金属との反応 （式中、R4は炭素数３〜16の直鎖もしくは分岐アルキル
基を示し、Ｍは金属原子、金属ハライド等を示す） すなわち、フタルアルデヒド酸とアルキル金属、例え
ばグリニャール試薬などを無水条件下に反応させること
により、フタリド誘導体（III）が得られる。
基を示し、Ｍは金属原子、金属ハライド等を示す） すなわち、フタルアルデヒド酸とアルキル金属、例え
ばグリニャール試薬などを無水条件下に反応させること
により、フタリド誘導体（III）が得られる。
（３） フタルアルデヒド酸とアルコールとの反応 （式中、R5は炭素数３〜４の直鎖もしくは分岐アルキル
基を示す） すなわち、フタルアルデヒド酸とアルコールとを加熱
反応させることにより、フタリド誘導体（IV）が得られ
る。
基を示す） すなわち、フタルアルデヒド酸とアルコールとを加熱
反応させることにより、フタリド誘導体（IV）が得られ
る。
（４） 安息香酸誘導体のｏ−位アルキル化（J.Org.Ch
em.,49,737（1984），特開昭63−83080号、同63−83081
号） （式中、R6は炭素数３〜16の直鎖もしくは分岐アルキル
基を示し、R7はアルキル基を示す） すなわち、安息香酸アミド誘導体に、ブチルリチウム
などの塩基を作用させ、これとアルデヒドを反応させた
後、加水分解することによりフタリド誘導体（Ｖ）が得
られる。
em.,49,737（1984），特開昭63−83080号、同63−83081
号） （式中、R6は炭素数３〜16の直鎖もしくは分岐アルキル
基を示し、R7はアルキル基を示す） すなわち、安息香酸アミド誘導体に、ブチルリチウム
などの塩基を作用させ、これとアルデヒドを反応させた
後、加水分解することによりフタリド誘導体（Ｖ）が得
られる。
（式中、R6は前記と同じ意味を有する） すなわち、４−メトキシフタリドに、三臭化ホウ素、
三フッ化ホウ素などのルイス酸を作用させることにより
フタリド誘導体（VI）が得られる。これらフタリド誘導
体は、単独または二種以上を組合わせて用いることがで
き、全組成中に0.01〜10重量％（以下、単に％で示
す）、好ましくは0.1〜５％配合される。
三フッ化ホウ素などのルイス酸を作用させることにより
フタリド誘導体（VI）が得られる。これらフタリド誘導
体は、単独または二種以上を組合わせて用いることがで
き、全組成中に0.01〜10重量％（以下、単に％で示
す）、好ましくは0.1〜５％配合される。
本発明の育毛剤には、有効成分として上記必須成分の
ほか、通常用いられる養毛薬効剤、例えば抗炎症剤、細
胞賦活剤、皮脂分泌抑制剤、末梢血管拡張剤、アミノ酸
類、ビタミン類等を必要に応じて適宜配合することもで
きる。
ほか、通常用いられる養毛薬効剤、例えば抗炎症剤、細
胞賦活剤、皮脂分泌抑制剤、末梢血管拡張剤、アミノ酸
類、ビタミン類等を必要に応じて適宜配合することもで
きる。
また、本発明の育毛剤は、外用剤として用いられるも
のであればその剤形は特に制限されないが、特に軟膏、
ローション、トニック、スプレー、懸濁液、乳剤などの
塗布剤とするのが好ましい。これらの製剤は通常の方法
により製造することができ、前記有効成分以外に、蒸留
水；エタノール等の低級アルコール類；セタノール等の
高級アルコール類；ポリエチレングリコール、プロピレ
ングリコール等の多価アルコール類；カルボキシメルセ
ルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のセルロー
ス類；動物性、植物性および合成油脂成分；ワセリン、
ロウ、シリコーン、界面活性剤などを本発明の効果を損
なわない範囲で配合することができる。
のであればその剤形は特に制限されないが、特に軟膏、
ローション、トニック、スプレー、懸濁液、乳剤などの
塗布剤とするのが好ましい。これらの製剤は通常の方法
により製造することができ、前記有効成分以外に、蒸留
水；エタノール等の低級アルコール類；セタノール等の
高級アルコール類；ポリエチレングリコール、プロピレ
ングリコール等の多価アルコール類；カルボキシメルセ
ルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のセルロー
ス類；動物性、植物性および合成油脂成分；ワセリン、
ロウ、シリコーン、界面活性剤などを本発明の効果を損
なわない範囲で配合することができる。
次に、参考例および実施例を挙げて本発明を更に説明
する。
する。
参考例１ ３−ブチルフタリドの合成： 無水フタル酸（60.0g,0.41mol）、無水吉草酸（79.3
g,0.4mol）および酢酸ナトリウム（21.0g,0.26mol）の
混合物を170℃に加熱すると、CO2の発泡と共に反応が進
行する。７時間後、減圧蒸留によりブチリデンフタリド
を41.7g（0.22mol）得た。収率55％。このブチリデンフ
タリドをエタノールに溶かし、５％パラジウム−炭素2.
0g（５％）を加えて、水素圧40atmで水添を行う。２時
間後、濾過により触媒を除去する。減圧蒸留により、３
−ブチルフタリドを得た。収率55％。
g,0.4mol）および酢酸ナトリウム（21.0g,0.26mol）の
混合物を170℃に加熱すると、CO2の発泡と共に反応が進
行する。７時間後、減圧蒸留によりブチリデンフタリド
を41.7g（0.22mol）得た。収率55％。このブチリデンフ
タリドをエタノールに溶かし、５％パラジウム−炭素2.
0g（５％）を加えて、水素圧40atmで水添を行う。２時
間後、濾過により触媒を除去する。減圧蒸留により、３
−ブチルフタリドを得た。収率55％。
b.p. 111−114℃/0.05mmHg1 H−NMR（270MHz,CDCl3,TMS） δ:0.80−0.95（3H,t,J＝5.9Hz）,1.25−1.60（4H,m）,
1.65−2.20（2H,m）,5.45−5.50（1H,q,J＝4.0Hz）,7.4
5−7.9（4H,m） IR（NaCl,cm-1） 3000（ｓ）,2950（ｓ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）,1640
（ｍ）,1490（ｍ） 参考例２ ３−ペンチルフタリドの合成： 参考例１と同様にして３−ペンチルフタリドを得た。
収率29％。1 H−NMR（60MHz,CDCl3,TMS） δ:8.10−7.25（4H,m）,5.45（1H,dd,J＝4.0Hz,6.0H
z）,2.30−1.10（8H,m）,0.80（3H,t） 参考例３ ３−イソアミルフタリドの合成： 窒素ガス雰囲気下、乾燥テトラヒドロフラン（THF）
中、臭化イソアミル（15.1g,100mmol）、金属マグネシ
ウム（2.2g,90mg原子）より、臭化イソアミルマグネシ
ウムを調製した、このグリニャール（Grignard）溶液中
に、室温下、ｏ−フタルアルデヒド酸（6.0g,40mmol）/
THFを徐々に滴下する。THF還流下２時間、更に室温下12
時間熟成後、加水分解さらに酸処理を行った。シリカゲ
ルクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝20/1）
により精製し、３−イソアミルフタリドを得た。収率38
％。1 H−NMR（270MHz,CDCl3,TMS） δ:0.8（3H,d,J＝2.9Hz）,0.9（3H,d,J＝2.9Hz）,1.30
−2.10（5H,m）,5.5（1H,dd,J＝7.7Hz,4.0Hz）,7.5−7.
9（4H,m） IR（NaCl,cm-1） 2950（ｓ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）,1620（ｗ）,1490
（ｍ） 参考例４ ３−オクチルフタリドの合成： 臭化−ｎ−オクチル、金属マグネシウムより調製した
臭化−ｎ−オクチルマグネシムを用い、参考例３と同様
にして３−オクチルフタリドを得た。収率38％。1 H−NMR（60MHz,CDCl3,TMS） δ:0.7−1.0（3H,m）,1.0−2.3（14H,m）,1.3−2.1（5
H,m）,5.3−5.6（1H,m）,7.8−8.0（4H,m） IR（NaCl,cm-1） 2950（ｓ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）,1620（ｗ）,1480
（ｍ） 参考例５ ３−ヘキシルフタリドの合成： 参考例３と同様にして３−ヘキシルフタリドを得た。
収率51％。1 H−NMR（200MHz,CDCl3,TMS） δ:0.88（3H,t,J＝6.49Hz）,2.2−1.1（10H,m）,5.47
（1H,dd,J＝4.05Hz）,7.44（1H,d,J＝7.4Hz）,7.52（1
H,t,J＝7.34Hz）,7.67（1H,dt,J＝1.01Hz,7.4Hz）,7.89
（1H,d,J＝7.6Hz） IR（NaCl,cm-1） 2950（ｍ）,2880（ｍ）,1780（ｓ）,1620（ｗ）,1480
（ｍ）,1300（ｍ）,1070（ｍ） 参考例６ ３−ヘプチルフタリドの合成： 参考例１と同様にして、カプリル酸無水物（71.4g,26
4mmol）、無水フタル酸（30.0g,203mmol）、酢酸ナトリ
ウム（12.5g,152mmol）より、３−ヘプチリデンフタリ
ドを合成した後、水添し、３−ヘプチルフタリドを得
た。収率27％。1 H−NMR（60MHz,CDCl3,TMS） δ:8.0−7.2（4H,m）,5.6−5.3（1H,m）,2.3−1.7（2H,
m）,1.7−1.0（8H,m）,1.0−0.7（3H,m） 参考例７ ３−デシルフタリドの合成： 参考例３と同様にして３−デシルフタリドを合成し
た。収率35％。
1.65−2.20（2H,m）,5.45−5.50（1H,q,J＝4.0Hz）,7.4
5−7.9（4H,m） IR（NaCl,cm-1） 3000（ｓ）,2950（ｓ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）,1640
（ｍ）,1490（ｍ） 参考例２ ３−ペンチルフタリドの合成： 参考例１と同様にして３−ペンチルフタリドを得た。
収率29％。1 H−NMR（60MHz,CDCl3,TMS） δ:8.10−7.25（4H,m）,5.45（1H,dd,J＝4.0Hz,6.0H
z）,2.30−1.10（8H,m）,0.80（3H,t） 参考例３ ３−イソアミルフタリドの合成： 窒素ガス雰囲気下、乾燥テトラヒドロフラン（THF）
中、臭化イソアミル（15.1g,100mmol）、金属マグネシ
ウム（2.2g,90mg原子）より、臭化イソアミルマグネシ
ウムを調製した、このグリニャール（Grignard）溶液中
に、室温下、ｏ−フタルアルデヒド酸（6.0g,40mmol）/
THFを徐々に滴下する。THF還流下２時間、更に室温下12
時間熟成後、加水分解さらに酸処理を行った。シリカゲ
ルクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝20/1）
により精製し、３−イソアミルフタリドを得た。収率38
％。1 H−NMR（270MHz,CDCl3,TMS） δ:0.8（3H,d,J＝2.9Hz）,0.9（3H,d,J＝2.9Hz）,1.30
−2.10（5H,m）,5.5（1H,dd,J＝7.7Hz,4.0Hz）,7.5−7.
9（4H,m） IR（NaCl,cm-1） 2950（ｓ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）,1620（ｗ）,1490
（ｍ） 参考例４ ３−オクチルフタリドの合成： 臭化−ｎ−オクチル、金属マグネシウムより調製した
臭化−ｎ−オクチルマグネシムを用い、参考例３と同様
にして３−オクチルフタリドを得た。収率38％。1 H−NMR（60MHz,CDCl3,TMS） δ:0.7−1.0（3H,m）,1.0−2.3（14H,m）,1.3−2.1（5
H,m）,5.3−5.6（1H,m）,7.8−8.0（4H,m） IR（NaCl,cm-1） 2950（ｓ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）,1620（ｗ）,1480
（ｍ） 参考例５ ３−ヘキシルフタリドの合成： 参考例３と同様にして３−ヘキシルフタリドを得た。
収率51％。1 H−NMR（200MHz,CDCl3,TMS） δ:0.88（3H,t,J＝6.49Hz）,2.2−1.1（10H,m）,5.47
（1H,dd,J＝4.05Hz）,7.44（1H,d,J＝7.4Hz）,7.52（1
H,t,J＝7.34Hz）,7.67（1H,dt,J＝1.01Hz,7.4Hz）,7.89
（1H,d,J＝7.6Hz） IR（NaCl,cm-1） 2950（ｍ）,2880（ｍ）,1780（ｓ）,1620（ｗ）,1480
（ｍ）,1300（ｍ）,1070（ｍ） 参考例６ ３−ヘプチルフタリドの合成： 参考例１と同様にして、カプリル酸無水物（71.4g,26
4mmol）、無水フタル酸（30.0g,203mmol）、酢酸ナトリ
ウム（12.5g,152mmol）より、３−ヘプチリデンフタリ
ドを合成した後、水添し、３−ヘプチルフタリドを得
た。収率27％。1 H−NMR（60MHz,CDCl3,TMS） δ:8.0−7.2（4H,m）,5.6−5.3（1H,m）,2.3−1.7（2H,
m）,1.7−1.0（8H,m）,1.0−0.7（3H,m） 参考例７ ３−デシルフタリドの合成： 参考例３と同様にして３−デシルフタリドを合成し
た。収率35％。
m.pp. 39.5−40.9℃1 H−NMR（60MHz,CDCl3,TMS） δ:8.0−7.2（4H,m）,5.6−5.2（1H,m）,2.2−0.6（21
H,m） IR（KBr,cm-1） 2950（ｓ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）,1620（ｗ）,1490
（ｍ）,1080（ｍ） 参考例８ ３−ドデシルフタリドの合成： 参考例３と同様にして３−ドデシルフタリドを得た。
収率31％。
H,m） IR（KBr,cm-1） 2950（ｓ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）,1620（ｗ）,1490
（ｍ）,1080（ｍ） 参考例８ ３−ドデシルフタリドの合成： 参考例３と同様にして３−ドデシルフタリドを得た。
収率31％。
m.p. 52.8−53.3℃1 H−NMR（60MHz,CDCl3,TMS） δ:8.0−7.2（4H,m）,5.6−5.2（1H,m）,2.0−0.7（25
H,m） IR（KBr,cm-1） 2980（ｓ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）,1630（ｗ）,1620
（ｗ）,1480（ｍ）,1080（ｍ） 参考例９ ３−ヘキサデシルフタリドの合成： 臭化ヘキサデシルと金属マグネシウムより臭化ヘキサ
デシルマグネシウムを調製し、参考例３と同様にして３
−ヘキサデシルフタリドを得た。収率15.4％。1 H−NMR（270MHz,CDCl3,TMS） δ:7.91（1H,d,J＝7.69Hz）,7.69−7.51（2H,m）,7.45
（1H,d,J＝6.59Hz）,5.51−5.48（1H,m）,2.04−1.76
（1H,m）,1.57−0.92（28H,m）,0.90（3H,t,J＝6.22H
z） IR（KBr,cm-1） 2950（ｓ）,2900（ｍ）,1770（ｓ）,1630（ｗ）,1490
（ｍ）,1100（ｍ） 参考例10 ３−イソプロポキシフタリドの合成： ｏ−フタルアルデヒド酸（6.0g,40mmol）、イソプロ
ピルアルコール（4.8g,80.0mmol）の混合物を100℃、６
時間反応させ、３−イソプロポキシフタリドを得た。収
率75.0％。
H,m） IR（KBr,cm-1） 2980（ｓ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）,1630（ｗ）,1620
（ｗ）,1480（ｍ）,1080（ｍ） 参考例９ ３−ヘキサデシルフタリドの合成： 臭化ヘキサデシルと金属マグネシウムより臭化ヘキサ
デシルマグネシウムを調製し、参考例３と同様にして３
−ヘキサデシルフタリドを得た。収率15.4％。1 H−NMR（270MHz,CDCl3,TMS） δ:7.91（1H,d,J＝7.69Hz）,7.69−7.51（2H,m）,7.45
（1H,d,J＝6.59Hz）,5.51−5.48（1H,m）,2.04−1.76
（1H,m）,1.57−0.92（28H,m）,0.90（3H,t,J＝6.22H
z） IR（KBr,cm-1） 2950（ｓ）,2900（ｍ）,1770（ｓ）,1630（ｗ）,1490
（ｍ）,1100（ｍ） 参考例10 ３−イソプロポキシフタリドの合成： ｏ−フタルアルデヒド酸（6.0g,40mmol）、イソプロ
ピルアルコール（4.8g,80.0mmol）の混合物を100℃、６
時間反応させ、３−イソプロポキシフタリドを得た。収
率75.0％。
m.p. 65.3−66.7℃1 H−NMR（60MHz,CDCl3,TMS） δ:1.3（3H,d,J＝6.0Hz）,1.4（3H,d,J＝6.0Hz）,4.2
（1H,qu,J＝6.0Hz）,6.4（1H,s）,7.4−8.0（4H,m） IR（KBr,cm-1） 3000（ｍ）,2950（ｍ）,1770（ｓ）,1620（ｗ）,1480
（ｍ）,1360（ｍ）,1300（ｍ） 参考例11 ３−プロポキシフタリドの合成： イソプロピルアルコールの代わりにプロピルアルコー
ルを用いる以外は参考例10と同様にして３−プロポキシ
フタリドを得た。収率72％。1 H−NMR（60MHz,CDCl3,TMS） δ:0.9（3H,t,J＝7.0Hz）,1.7（2H,q,J＝7.0Hz）,4.0−
3.6（2H,m）,6.3（1H,s）,8.0−7.3（4H,m） IR（KBr,cm-1） 3000（ｍ）,2950（ｍ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）,1630
（ｗ）,1480（ｍ）,1300（ｍ）,1080（ｍ） 参考例12 ３−ブトキシフタリドの合成： イソプロピルアルコールの代わりにブチルアルコール
を用いる以外は参考例10と同様にして３−ブトキシフタ
リドを得た。収率87％。1 H−NMR（270MHz,CDCl3,TMS） δ:7.86（1H,d,J＝8.06Hz）,7.70（1H,d,J＝7.33Hz）,
7.61−7.57（2H,m）,3.93−3.77（2H,m）,1.69−1.61
（2H,m）,1.45−1.37（2H,m）,0.93（3H,t,J＝7.33Hz） 参考例13 ４−メトキシ−３−ブチルフタリドの合成： 乾燥THF40ml、ｎ−ブチルリチウム/n−ヘキサン14ml
（22.0mmol）、テトラメチルエチレンジアミン（2.56g,
22.0mmol）を混和し、−68℃に冷却し、N,N−ジエチル
−３−メトキシ安息香酸アミド（4.15g,20.0mmol）/THF
を徐々に加え、30分後に、白色結晶を得た。臭化マグネ
シウム・エーテル（11.0g,42.6mmol）を加え反応させた
後、１−ペンタナール（3.5g,40.0mmol）を−78℃で反
応させた。酸加水分解、クロロホルム抽出後、減圧蒸留
により、４−メトキシ−３−ブチルフタリドを得た。収
率22％。
（1H,qu,J＝6.0Hz）,6.4（1H,s）,7.4−8.0（4H,m） IR（KBr,cm-1） 3000（ｍ）,2950（ｍ）,1770（ｓ）,1620（ｗ）,1480
（ｍ）,1360（ｍ）,1300（ｍ） 参考例11 ３−プロポキシフタリドの合成： イソプロピルアルコールの代わりにプロピルアルコー
ルを用いる以外は参考例10と同様にして３−プロポキシ
フタリドを得た。収率72％。1 H−NMR（60MHz,CDCl3,TMS） δ:0.9（3H,t,J＝7.0Hz）,1.7（2H,q,J＝7.0Hz）,4.0−
3.6（2H,m）,6.3（1H,s）,8.0−7.3（4H,m） IR（KBr,cm-1） 3000（ｍ）,2950（ｍ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）,1630
（ｗ）,1480（ｍ）,1300（ｍ）,1080（ｍ） 参考例12 ３−ブトキシフタリドの合成： イソプロピルアルコールの代わりにブチルアルコール
を用いる以外は参考例10と同様にして３−ブトキシフタ
リドを得た。収率87％。1 H−NMR（270MHz,CDCl3,TMS） δ:7.86（1H,d,J＝8.06Hz）,7.70（1H,d,J＝7.33Hz）,
7.61−7.57（2H,m）,3.93−3.77（2H,m）,1.69−1.61
（2H,m）,1.45−1.37（2H,m）,0.93（3H,t,J＝7.33Hz） 参考例13 ４−メトキシ−３−ブチルフタリドの合成： 乾燥THF40ml、ｎ−ブチルリチウム/n−ヘキサン14ml
（22.0mmol）、テトラメチルエチレンジアミン（2.56g,
22.0mmol）を混和し、−68℃に冷却し、N,N−ジエチル
−３−メトキシ安息香酸アミド（4.15g,20.0mmol）/THF
を徐々に加え、30分後に、白色結晶を得た。臭化マグネ
シウム・エーテル（11.0g,42.6mmol）を加え反応させた
後、１−ペンタナール（3.5g,40.0mmol）を−78℃で反
応させた。酸加水分解、クロロホルム抽出後、減圧蒸留
により、４−メトキシ−３−ブチルフタリドを得た。収
率22％。
m.p. 44.3−45.3℃1 H−NMR（270MHz,CDCl3,TMS） δ:0.89（3H,t,J＝6.96Hz）,1.5−1.2（4H,m）,1.8−1.
6（1H,m）,2.35−2.20（1H,m）,5.5（1H,dd,J＝7.69Hz,
2.93Hz）,7.09（1H,t,J＝4.4Hz）,7.5−7.4（2H,m） IR（KBr,cm-1） 3000（ｍ）,2960（ｍ）,2900（ｗ）,1780（ｓ）,1630
（ｍ）,1520（ｍ）,1300（ｓ）,1060（ｓ） 参考例14 ４−メトキシ−３−ヘプチルフタリドの合
成： 窒素ガス雰囲気下、乾燥THF中、ｍ−アニス酸（15.2
g,100mmol）と塩化チオニル（36.3g,305mmol）から、ｍ
−アニシルクロリドを得た。２−アミノ−２−メチル−
１−プロパノール（17.8g,200mmol）と、このｍ−アニ
シルクロリドを反応させ、更に塩化チオニルを作用さ
せ、２−（３−メトキシフェニル）−4,4−ジメチルオ
キサゾリン塩酸塩を得た。次に、ｎ−ブチルリチウム/n
−ヘキサン（1.6N,20.6ml）と反応させ、更に、オクタ
ナール（7.7g,60mmol）を加え、反応後、反応物を6N HC
l中、120℃で処理し、４−メトキシ−３−ヘプチルフタ
リドを得た。収率48％。
6（1H,m）,2.35−2.20（1H,m）,5.5（1H,dd,J＝7.69Hz,
2.93Hz）,7.09（1H,t,J＝4.4Hz）,7.5−7.4（2H,m） IR（KBr,cm-1） 3000（ｍ）,2960（ｍ）,2900（ｗ）,1780（ｓ）,1630
（ｍ）,1520（ｍ）,1300（ｓ）,1060（ｓ） 参考例14 ４−メトキシ−３−ヘプチルフタリドの合
成： 窒素ガス雰囲気下、乾燥THF中、ｍ−アニス酸（15.2
g,100mmol）と塩化チオニル（36.3g,305mmol）から、ｍ
−アニシルクロリドを得た。２−アミノ−２−メチル−
１−プロパノール（17.8g,200mmol）と、このｍ−アニ
シルクロリドを反応させ、更に塩化チオニルを作用さ
せ、２−（３−メトキシフェニル）−4,4−ジメチルオ
キサゾリン塩酸塩を得た。次に、ｎ−ブチルリチウム/n
−ヘキサン（1.6N,20.6ml）と反応させ、更に、オクタ
ナール（7.7g,60mmol）を加え、反応後、反応物を6N HC
l中、120℃で処理し、４−メトキシ−３−ヘプチルフタ
リドを得た。収率48％。
m.p. 63.9−64.5℃1 H−NMR（60MHz,CDCl3,TMS） δ:1.0−0.6（3H,m）,2.3−1.0（12H,m）,3.9（3H,m）,
5.6−5.3（1H,m）,7.1（1H,t,J＝4Hz）,7.5（2H,J＝4H
z） IR（KBr,cm-1） 2950（ｍ）,2900（ｗ）,1780（ｓ）,1640（ｗ）,1520
（ｍ）,1300（ｓ）,1060（ｍ） 参考例15 ４−メトキシ−３−デシルフタリドの合成： 参考例14と同様にして４−メトキシ−３−デシルフタ
リドを得た。収率99.3％。
5.6−5.3（1H,m）,7.1（1H,t,J＝4Hz）,7.5（2H,J＝4H
z） IR（KBr,cm-1） 2950（ｍ）,2900（ｗ）,1780（ｓ）,1640（ｗ）,1520
（ｍ）,1300（ｓ）,1060（ｍ） 参考例15 ４−メトキシ−３−デシルフタリドの合成： 参考例14と同様にして４−メトキシ−３−デシルフタ
リドを得た。収率99.3％。
m.p. 57.8−60.7℃1 H−NMR（200MHz,CDCl3,TMS） δ:0.88（3H,t,J＝6.2Hz）,1.5−1.1（18H,m）,5.55（1
H,dd,J＝3.1Hz,7.8Hz）,7.00（1H,d,J＝7.7Hz）,7.37
（1H,t,J＝7.6Hz）,7.47（1H,d,J＝7.1Hz） IR（KBr,cm-1） 2950（ｍ）,2900（ｗ）,1790（ｓ）,1640（ｗ）,1520
（ｓ）,1500（ｓ）,1295（ｓ）,1060（ｍ） 参考例16 ４−ヒドロキシ−３−ブチルフタリドの合
成： 窒素ガス雰囲気下、参考例13で合成した４−メトキシ
−３−ブチルフタリドと三臭化ホウ素／塩化メチレン
（9ml,1N）を作用させ、４−ヒドロキシ−３−ブチルフ
タリドを得た。収率63％。
H,dd,J＝3.1Hz,7.8Hz）,7.00（1H,d,J＝7.7Hz）,7.37
（1H,t,J＝7.6Hz）,7.47（1H,d,J＝7.1Hz） IR（KBr,cm-1） 2950（ｍ）,2900（ｗ）,1790（ｓ）,1640（ｗ）,1520
（ｓ）,1500（ｓ）,1295（ｓ）,1060（ｍ） 参考例16 ４−ヒドロキシ−３−ブチルフタリドの合
成： 窒素ガス雰囲気下、参考例13で合成した４−メトキシ
−３−ブチルフタリドと三臭化ホウ素／塩化メチレン
（9ml,1N）を作用させ、４−ヒドロキシ−３−ブチルフ
タリドを得た。収率63％。
m.p. 162.5−164℃1 H−NMR（60MHz,CDCl3,TMS） δ:0.9（3H,t,J＝5Hz）,2.3−1.2（6H,m）,2.9（1H,b
s）,5.6（1H,dd,J＝8.4Hz）,7.5−7.1（3H,m） IR（KBr,cm-1） 3240（br）,2980（ｗ）,2880（ｗ）,1730（ｓ）,1620
（ｍ）,1510（ｍ）,1480（ｍ）,1300（ｍ）,1100（ｗ） 参考例17 ４−ヒドロキシ−３−ヘプチルフタリドの合
成： 参考例14で合成した４−メトキシ−３−ヘプチルフタ
リドと三臭化ホウ素を用い、参考例16と同様にして４−
ヒドロキシ−３−ヘプチルフタリドを得た。収率74％。1 H−NMR（60MHz,CDCl3,TMS） δ:0.9（3H,t,J＝5Hz）,2.3−1.2（6H,m）,2.8（1H,b
s）,5.6−5.3（1H,m）,7.5−7.0（3H,m） IR（KBr,cm-1） 3250（br）,2980（ｗ）,2950（ｍ）,2900（ｍ）,1740
（ｓ）,1630（ｍ）,1480（ｍ）,1300（ｓ）,1110（ｍ） 参考例18 ４−ヒドロキシ−３−デシルフタリドの合
成： 参考例15で合成した４−メトキシ−３−デシルフタリ
ドと三臭化ホウ素を用い、参考例16と同様にして４−ヒ
ドロキシ−３−デシルフタリドを得た。収率62％。
s）,5.6（1H,dd,J＝8.4Hz）,7.5−7.1（3H,m） IR（KBr,cm-1） 3240（br）,2980（ｗ）,2880（ｗ）,1730（ｓ）,1620
（ｍ）,1510（ｍ）,1480（ｍ）,1300（ｍ）,1100（ｗ） 参考例17 ４−ヒドロキシ−３−ヘプチルフタリドの合
成： 参考例14で合成した４−メトキシ−３−ヘプチルフタ
リドと三臭化ホウ素を用い、参考例16と同様にして４−
ヒドロキシ−３−ヘプチルフタリドを得た。収率74％。1 H−NMR（60MHz,CDCl3,TMS） δ:0.9（3H,t,J＝5Hz）,2.3−1.2（6H,m）,2.8（1H,b
s）,5.6−5.3（1H,m）,7.5−7.0（3H,m） IR（KBr,cm-1） 3250（br）,2980（ｗ）,2950（ｍ）,2900（ｍ）,1740
（ｓ）,1630（ｍ）,1480（ｍ）,1300（ｓ）,1110（ｍ） 参考例18 ４−ヒドロキシ−３−デシルフタリドの合
成： 参考例15で合成した４−メトキシ−３−デシルフタリ
ドと三臭化ホウ素を用い、参考例16と同様にして４−ヒ
ドロキシ−３−デシルフタリドを得た。収率62％。
m.p. 155.6−157.1℃ IR（KBr,cm-1） 3250（br）,2950（ｍ）,2900（ｗ）,1740（ｓ）,1640
（ｍ）,1500（ｍ）,1310（ｍ）,1120（ｍ） 実施例１ 参考例１〜18で合成した各種フタリド誘導体を、50％
エタノール水に１％で溶解または懸濁させ、育毛剤を調
製した。それぞれの育毛剤を本発明品１〜18と称する。
（ｍ）,1500（ｍ）,1310（ｍ）,1120（ｍ） 実施例１ 参考例１〜18で合成した各種フタリド誘導体を、50％
エタノール水に１％で溶解または懸濁させ、育毛剤を調
製した。それぞれの育毛剤を本発明品１〜18と称する。
試験例１ 本発明品１〜18の育毛剤を用い、C3Hマウス背部毛に
於ける養毛・育毛効果について評価した。すなわち、休
止期にある生後７週目のマウス（雄）の背部毛を皮膚に
傷をつけない様に電気バリカン、電気カミソリを用いて
剃毛した（２×4cm2）。これらのマウスを20匹ずつの群
に分け、翌日から、本発明品１〜18の試料を各々の群
に、１匹当り、１日20μ、週５回背後皮膚に塗布し、
これを１ケ月間続けた。また、対照群として、50％エタ
ノール水を用い、同様の実験を行った。試料塗布開始翌
日より剃毛部を写真に撮り、印画紙上で剃毛部に対する
毛の再生の認められた面積の割合（％）を求め、その増
加速度を調べた。表１に15日目と24日目の結果を示し
た。
於ける養毛・育毛効果について評価した。すなわち、休
止期にある生後７週目のマウス（雄）の背部毛を皮膚に
傷をつけない様に電気バリカン、電気カミソリを用いて
剃毛した（２×4cm2）。これらのマウスを20匹ずつの群
に分け、翌日から、本発明品１〜18の試料を各々の群
に、１匹当り、１日20μ、週５回背後皮膚に塗布し、
これを１ケ月間続けた。また、対照群として、50％エタ
ノール水を用い、同様の実験を行った。試料塗布開始翌
日より剃毛部を写真に撮り、印画紙上で剃毛部に対する
毛の再生の認められた面積の割合（％）を求め、その増
加速度を調べた。表１に15日目と24日目の結果を示し
た。
表１の結果から明らかなように、本発明の育毛剤塗布
群での毛の再生速度は、対照群に比べ有意に速かった。
特に参考例４で合成した３−オクチルフタリドと参考例
17で合成した４−ヒドロキシ−３−ヘプチルフタリドは
他のフタリド類に比べ育毛活性が強かった。また、これ
らの育毛剤を塗布されたマウスはすべて健康で、塗布部
位の皮膚には紅斑や落屑等の皮疹も認められなかった。
群での毛の再生速度は、対照群に比べ有意に速かった。
特に参考例４で合成した３−オクチルフタリドと参考例
17で合成した４−ヒドロキシ−３−ヘプチルフタリドは
他のフタリド類に比べ育毛活性が強かった。また、これ
らの育毛剤を塗布されたマウスはすべて健康で、塗布部
位の皮膚には紅斑や落屑等の皮疹も認められなかった。
実施例２ 参考例４で合成した３−オクチルフタリドと参考例17
で合成した４−ヒドロキシ−３−ヘプチルフタリドを、
表２に示す組成のヘアートニック基剤に有効成分として
それぞれ0.2％配合し、育毛剤を調製した。
で合成した４−ヒドロキシ−３−ヘプチルフタリドを、
表２に示す組成のヘアートニック基剤に有効成分として
それぞれ0.2％配合し、育毛剤を調製した。
これらの育毛剤について、育毛効果を評価した。すな
わち、日頃抜け毛の多いことで悩んでいる31から40歳ま
での男性52名を対象とし、頭部正中線より左右に分け、
一方を育毛剤、残る一方をヘアートニック基剤を塗布す
る部位とし、連日使用させた。試験開始０日、１ケ月、
３ケ月、６ケ月目に頭頂部周囲の正中線より、3cmはな
れた３ケ所の７×7mm2の面積のトリコグラムを測定し、
休止期毛率および毛群中の成長期毛の本数を求めた。結
果を表３および表４に示す。
わち、日頃抜け毛の多いことで悩んでいる31から40歳ま
での男性52名を対象とし、頭部正中線より左右に分け、
一方を育毛剤、残る一方をヘアートニック基剤を塗布す
る部位とし、連日使用させた。試験開始０日、１ケ月、
３ケ月、６ケ月目に頭頂部周囲の正中線より、3cmはな
れた３ケ所の７×7mm2の面積のトリコグラムを測定し、
休止期毛率および毛群中の成長期毛の本数を求めた。結
果を表３および表４に示す。
表３および表４の結果から明らかなように、処理期間
１ケ月では、本発明の育毛剤とヘアートニック基剤の塗
布部位には変化を認めなかったが、３ケ月、６ケ月目で
はそれぞれ育毛剤の塗布部位において、休止期毛率の減
少が認められた。また、毛群中の成長期毛の本数におい
ても、それぞれの育毛剤塗布部位で１本の成長期毛より
なる毛群の割合が減少し、これに反比例するように、３
本および４本以上の成長期毛よりなる毛群の割合が増加
しており、本発明の育毛剤処理部での毛の密度の増加が
認められた。
１ケ月では、本発明の育毛剤とヘアートニック基剤の塗
布部位には変化を認めなかったが、３ケ月、６ケ月目で
はそれぞれ育毛剤の塗布部位において、休止期毛率の減
少が認められた。また、毛群中の成長期毛の本数におい
ても、それぞれの育毛剤塗布部位で１本の成長期毛より
なる毛群の割合が減少し、これに反比例するように、３
本および４本以上の成長期毛よりなる毛群の割合が増加
しており、本発明の育毛剤処理部での毛の密度の増加が
認められた。
本発明の育毛剤は、優れた育毛効果を有し、症状や個
人にかかわらず、多くの脱毛症に有効なものである。
人にかかわらず、多くの脱毛症に有効なものである。
Claims (1)
- 【請求項１】 （式中、R1は炭素数３〜16の直鎖もしくは分岐アルキル
基または炭素数３〜４の直鎖もしくは分岐アルコキシ基
を示し、R2は水素原子、ヒドロキシ基またはメトキシ基
を示す） で表わされるフタリド誘導体を含有することを特徴とす
る育毛剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27355489A JP2610524B2 (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | 育毛剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27355489A JP2610524B2 (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | 育毛剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03135907A JPH03135907A (ja) | 1991-06-10 |
| JP2610524B2 true JP2610524B2 (ja) | 1997-05-14 |
Family
ID=17529429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27355489A Expired - Fee Related JP2610524B2 (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | 育毛剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2610524B2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| JPH0818955B2 (ja) * | 1993-06-14 | 1996-02-28 | 花王株式会社 | 養毛・育毛料 |
| KR20010103107A (ko) * | 2001-10-08 | 2001-11-23 | 이혜복 | 갯벌의 점액성분을 함유하는 발모제 및 그의 제조방법 |
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| CN105310896B (zh) * | 2014-07-28 | 2020-07-03 | 易珈生技股份有限公司 | 促进毛发生长的方法及其所使用的组合物 |
| TWI564031B (zh) * | 2014-11-07 | 2017-01-01 | 白金淩 | 含有正－丁烯基苯酞的奈米顆粒組合物、製備方法及其用途 |
| US10543191B2 (en) * | 2017-01-25 | 2020-01-28 | Ejia Biotechnology Co., Ltd. | Use of butylidenephthalide (Bdph), method of using the same, and method for preparing pharmaceutical composition containing the same |
-
1989
- 1989-10-20 JP JP27355489A patent/JP2610524B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
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| JPH03135907A (ja) | 1991-06-10 |
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