JPH06102608B2 - 皮膚化粧料 - Google Patents
皮膚化粧料Info
- Publication number
- JPH06102608B2 JPH06102608B2 JP18244290A JP18244290A JPH06102608B2 JP H06102608 B2 JPH06102608 B2 JP H06102608B2 JP 18244290 A JP18244290 A JP 18244290A JP 18244290 A JP18244290 A JP 18244290A JP H06102608 B2 JPH06102608 B2 JP H06102608B2
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- JP
- Japan
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- skin
- group
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は皮膚化粧料に関し、更に詳細には、特定のフタ
リド誘導体を有効成分として含有する、保湿作用を有し
乾燥性皮膚に対して有用な皮膚化粧料に関する。
リド誘導体を有効成分として含有する、保湿作用を有し
乾燥性皮膚に対して有用な皮膚化粧料に関する。
従来より、健常な皮膚を保持する為に、皮膚に適度な水
分と油分を与える親水性の皮膚保湿剤と油性の皮膚柔軟
剤を皮膚化粧料に配合することが行われている。
分と油分を与える親水性の皮膚保湿剤と油性の皮膚柔軟
剤を皮膚化粧料に配合することが行われている。
皮膚保湿剤には、グリセリン、プロピレングリコール、
ポリエチレングリコール、ピロリドンカルボン酸塩等が
利用されているが、これらは、皮膚の最外層である角質
層の水分を吸水して、かえって皮膚の水分を損失する原
因となることがあり、また、多量に含有する皮膚化粧料
にあっては、べたつくなどの違和感を与えるなど、必ず
しも満足出来るものではなかった。
ポリエチレングリコール、ピロリドンカルボン酸塩等が
利用されているが、これらは、皮膚の最外層である角質
層の水分を吸水して、かえって皮膚の水分を損失する原
因となることがあり、また、多量に含有する皮膚化粧料
にあっては、べたつくなどの違和感を与えるなど、必ず
しも満足出来るものではなかった。
また、皮膚柔軟剤には、流動パラフィン、ワセリン、オ
リーブ油、スクアラン、ラノリン、合成エステル油等が
利用されているが、これらも、表皮よりの水分蒸散を充
分に防ぐ程度に皮膚化粧料に含有せしめるときには、皮
膚の正常なる新陳代謝を阻害する原因となるなどの欠点
を有していた。
リーブ油、スクアラン、ラノリン、合成エステル油等が
利用されているが、これらも、表皮よりの水分蒸散を充
分に防ぐ程度に皮膚化粧料に含有せしめるときには、皮
膚の正常なる新陳代謝を阻害する原因となるなどの欠点
を有していた。
従って、使用感が良好で、皮膚の新陳代謝等を阻害せ
ず、乾燥性皮膚に対して保湿作用を有する薬剤の開発が
望まれていた。
ず、乾燥性皮膚に対して保湿作用を有する薬剤の開発が
望まれていた。
斯かる実情において、本発明者らは多くの化合物につい
て鋭意研究を行った結果、後記一般式（Ｉ）で表わされ
るフタリド誘導体が優れた保湿作用を有することを見出
し、本発明を完成した。
て鋭意研究を行った結果、後記一般式（Ｉ）で表わされ
るフタリド誘導体が優れた保湿作用を有することを見出
し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は一般式（Ｉ） （式中、R1は水素原子、水酸基、メトキシ基、アミノ基
又はジメチルアミノ基を示し、R2及びR3は水素原子又は
メトキシ基を示し、R4は水素原子、アミノ基又はジメチ
ルアミノ基を示し、R5は水素原子、炭素数３〜16の直鎖
若しくは分岐アルキル基又は炭素数３〜４の直鎖若しく
は分岐アルコキシ基を示す） で表わされるフタリド誘導体を含有することを特徴とす
る皮膚化粧料を提供するものである。
又はジメチルアミノ基を示し、R2及びR3は水素原子又は
メトキシ基を示し、R4は水素原子、アミノ基又はジメチ
ルアミノ基を示し、R5は水素原子、炭素数３〜16の直鎖
若しくは分岐アルキル基又は炭素数３〜４の直鎖若しく
は分岐アルコキシ基を示す） で表わされるフタリド誘導体を含有することを特徴とす
る皮膚化粧料を提供するものである。
本発明で用いられるフタリド誘導体は、一般式（Ｉ）で
表わされるが、式中、R5のうち炭素数３〜16の直鎖アル
キル基としては、例えばプロピル、ブチル、ペンチル、
ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシル、ドデシル、ヘ
キサデシル基が挙げられ、分岐アルキル基としては、例
えばイソプロピル、イソブチル、イソアミルなどが挙げ
られ、また炭素数３〜４の直鎖若しくは分岐アルコキシ
基としては、例えばイソプロポキシ、プロポキシ、ブト
キシ基などが挙げられる。
表わされるが、式中、R5のうち炭素数３〜16の直鎖アル
キル基としては、例えばプロピル、ブチル、ペンチル、
ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシル、ドデシル、ヘ
キサデシル基が挙げられ、分岐アルキル基としては、例
えばイソプロピル、イソブチル、イソアミルなどが挙げ
られ、また炭素数３〜４の直鎖若しくは分岐アルコキシ
基としては、例えばイソプロポキシ、プロポキシ、ブト
キシ基などが挙げられる。
これらのフタリド誘導体（Ｉ）は、天然又は合成された
ものの何れでも良く、例えばセリ科植物からエタノール
等の有機溶媒又は熱水により抽出されるもののほか、例
えば次の方法により合成したものを用いることができ
る。
ものの何れでも良く、例えばセリ科植物からエタノール
等の有機溶媒又は熱水により抽出されるもののほか、例
えば次の方法により合成したものを用いることができ
る。
（１） 無水フタル酸誘導体と酸無水物との反応（特開
昭63-83080号） （式中、R1、R2、R3及びR4は前記と同じく意味を有し、
R6は炭素数２〜15の直鎖若しくは分岐アルキル基を示
す） すなわち、無水フタル酸誘導体と種々の酸無水物とを加
熱反応せしめてアルキリデンフタリド誘導体とし、次い
でこれを水添加することによりフタリド誘導体（II）が
得られる。
昭63-83080号） （式中、R1、R2、R3及びR4は前記と同じく意味を有し、
R6は炭素数２〜15の直鎖若しくは分岐アルキル基を示
す） すなわち、無水フタル酸誘導体と種々の酸無水物とを加
熱反応せしめてアルキリデンフタリド誘導体とし、次い
でこれを水添加することによりフタリド誘導体（II）が
得られる。
（２） 安息香酸誘導体のｏ−位アルキル化（J.Org.Ch
em.,49,737（1984），特開昭63-83080号、同63-83081
号） （式中、R2、R3及びR4は前記と同じ意味を有し、R7は炭
素数３〜16の直鎖若しくは分岐アルキル基を示し、R8は
アルキル基を示す） すなわち、案息香酸アミド誘導体に、ブチルリチウムな
どの塩基を作用させ、これとアルデヒドを反応させた
後、加水分解することによりフタリド誘導体（III）が
得られる。
em.,49,737（1984），特開昭63-83080号、同63-83081
号） （式中、R2、R3及びR4は前記と同じ意味を有し、R7は炭
素数３〜16の直鎖若しくは分岐アルキル基を示し、R8は
アルキル基を示す） すなわち、案息香酸アミド誘導体に、ブチルリチウムな
どの塩基を作用させ、これとアルデヒドを反応させた
後、加水分解することによりフタリド誘導体（III）が
得られる。
（式中、R2、R3、R4及びR7は前記と同じく意味を有す
る） すなわち、４−メトキシフタリド誘導体（III）に、三
臭化ホウ素、三フッ化ホウ素などのルイス酸を作用させ
ることによりフタリド誘導体（IV）が得られる。
る） すなわち、４−メトキシフタリド誘導体（III）に、三
臭化ホウ素、三フッ化ホウ素などのルイス酸を作用させ
ることによりフタリド誘導体（IV）が得られる。
また、R1、R2、R3及びR4が水素原子のものは例えば次の
（４）又は（５）の方法により合成することができる。
（４）又は（５）の方法により合成することができる。
（４） フタルアルデヒド酸とアルキル金属との反応 （式中、R9は炭素数３〜16の直鎖若しくは分岐アルキル
基を示し、Ｍは金属原子、金属ハライド等を示す） すなわち、フタルアルデヒド酸とアルキル金属、例えば
グリニャール試薬などを無水条件下に反応させることに
より、フタリド誘導体（Ｖ）が得られる。
基を示し、Ｍは金属原子、金属ハライド等を示す） すなわち、フタルアルデヒド酸とアルキル金属、例えば
グリニャール試薬などを無水条件下に反応させることに
より、フタリド誘導体（Ｖ）が得られる。
（５） フタルアルデヒド酸とアルコールとの反応 （式中、R10は炭素数３〜４の直鎖若しくは分岐アルキ
ル基を示す） すなわち、フタルアルデヒド酸とアルコールとを加熱反
応させることにより、フタリド誘導体（VI）が得られ
る。
ル基を示す） すなわち、フタルアルデヒド酸とアルコールとを加熱反
応させることにより、フタリド誘導体（VI）が得られ
る。
これらのフタリド誘導体（Ｉ）は単独で又は二種以上を
組合わせて用いることができ、全組成中に0.1〜10重量
％の範囲で配合されることが好ましい。配合量が0.1重
量％未満であると本発明の効果が充分に発揮されず、10
重量％を超えてもその増加分に見合った効果の向上は望
めない。
組合わせて用いることができ、全組成中に0.1〜10重量
％の範囲で配合されることが好ましい。配合量が0.1重
量％未満であると本発明の効果が充分に発揮されず、10
重量％を超えてもその増加分に見合った効果の向上は望
めない。
本発明の皮膚化粧料は、例えば、ローション、乳液、ク
リーム、パック等の種々の態様に調製し、使用される。
リーム、パック等の種々の態様に調製し、使用される。
尚、本発明の皮膚化粧料には上記必須成分以外に色素、
香料、防腐剤、界面活性剤、顔料、抗酸化剤等の任意成
分を本発明の効果を妨げない範囲において、適宜配合す
ることができる。
香料、防腐剤、界面活性剤、顔料、抗酸化剤等の任意成
分を本発明の効果を妨げない範囲において、適宜配合す
ることができる。
次に、参考例及び実施例を挙げて本発明を更に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。
が、本発明はこれに限定されるものではない。
参考例１ ３−ブチルフタリドの合成： 無水フタル酸（60.0g,0.41mol）、無水吉草酸（79.3g,
0.43mol）及び酢酸ナトリウム（21.0g,0.26mol）の混合
物を170℃に加熱すると、CO2の発泡と共に反応が進行す
る。７時間後、減圧蒸留によりブチリデンフタリドを4
1.7g（0.22mol）得た。収率55％。このブチリデンフタ
リドをエタノールに溶かし、５％パラジウム−炭素2.0g
（５％）を加えて、水素圧40atmで水添を行う。２時間
後、濾過により触媒を除去する。減圧蒸留により、３−
ブチルフタリドを得た。収率55％。
0.43mol）及び酢酸ナトリウム（21.0g,0.26mol）の混合
物を170℃に加熱すると、CO2の発泡と共に反応が進行す
る。７時間後、減圧蒸留によりブチリデンフタリドを4
1.7g（0.22mol）得た。収率55％。このブチリデンフタ
リドをエタノールに溶かし、５％パラジウム−炭素2.0g
（５％）を加えて、水素圧40atmで水添を行う。２時間
後、濾過により触媒を除去する。減圧蒸留により、３−
ブチルフタリドを得た。収率55％。
b.p. 111-114℃/0.05mmHg1 H-NMR（270MHz,CDCl3,TMS）δ： 0.8-−0.95（3H,t,J＝5.9Hz）,1.25-1.60（4H,m）,1.65
-2.20（2H,m）,5.45-5.50（1H,q,J＝4.0Hz）,7.45-7.9
（4H,m） IR（NaCl,cm-1） 3000（ｓ）,2950（ｓ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）， 1640（ｍ）,1490（ｍ）， 参考例２ ３−ペンチルフタリドの合成： 参考例１と同様にして３−ペンチルフタリドを得た。収
率29％。1 H-NMR（60MHz,CDCl3,TMS）δ： 8.10-7.25（4H,m）,5.45（4H,dd,J＝4.0Hz,6.0Hz）,2.3
0-1.10（8H,m）,0.80（3H,t） 参考例３ ３−イソアミルフタリドの合成： 窒素ガス雰囲気下、乾燥テトラヒドロフラン（THF）
中、臭化イソアミル（15.1g,100mmol）、金属マグネシ
ウム（2.2g,90mg原子）より、臭化イソアミルマグネシ
ウムを調製した。このグリニャール（Grigard）溶液中
に、室温下、ｏ−フタルアルデヒド酸（6.0g,40mmol）/
THFを徐々に滴下する。THF還流下２時間、更に室温下12
時間熟成後、加水分解更に酸処理を行った。シリカゲル
クロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝20/1）に
より精製し、３−イソアミルフタリドを得た。収率38
％。1 H-NMR（270MHz,CDCl3,TMS）δ： 0.8（3H,d,J＝2.9Hz）,0.9（3H,d,J＝2.9Hz）,1.30-2.1
0（5H,m）,5.5（1H,dd,J＝7.7Hz,4.0Hz）,7.5-7.9（4H,
m） IR（NaCl,cm-1） 2950（ｓ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）,1620（ｗ）,1490
（ｍ） 参考例４ ３−オクチルフタリドの合成： 臭化−ｎ−オクチル、金属マグネシウムより調製した臭
化−ｎ−オクチルマグネシウムを用い、参考例３と同様
にして３−オクチルフタリドを得た。収率38％。1 H-NMR（60MHz,CDCl3,TMS）δ： 0.7-1.0（3H,m）,1.0-2.3（14H,m）,1.3-2.1（5H,m）,
5.3-5.6（1H,m）,7.2-8.0（4H,m） IR（NaCl,cm-1） 2950（ｓ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）,1620（ｗ）,1480
（ｍ） 参考例５ ３−ヘキシルフタリドの合成： 参考例３と同様にして３−ヘキシルフタリドを得た。収
率51％。1 H-NMR（200MHz,CDCl3,TMS）δ： 0.88（3H,t,J＝6.49Hz）,2.2-1.1（10H,m）,5.47（1H,d
d,J＝4.05Hz）,7.44（1H,d,J＝7.4Hz）,7.52（1H,t,J＝
7.34Hz）,7.67（1H,dt,J＝1.01Hz,7.4Hz）,7.89（1H,d,
J＝7.6Hz） IR（NaCl,cm-1） 2950（ｍ）,2880（ｍ）,1780（ｓ）,1620（ｗ）,1480
（ｍ）,1300（ｍ）,1070（ｍ） 参考例６ ３−ヘプチルフタリドの合成： 参考例１と同様にして、カプリル酸無水物（71.4g,264m
mol）、無水フタル酸（30.0g,203mmol）、酢酸ナトリウ
ム（12.5g,152mmol）より、３−ヘプチリデンフタリド
を合成した後、水添し、３−ヘプチルフタリドを得た。
収率27％。1 H-NMR（60MHz,CDCl3,TMS）δ： 8.0-7.2（4H,m）,5.6−‐.3（1H,m）,2.3-1.7（2H,m）,
1.7-1.0（8H,m）,1.0-0.7（3H,m） 参考例７ ３−デシルフタリドの合成： 参考例３と同様にして３−デシルフタリドを合成した。
収率35％。
-2.20（2H,m）,5.45-5.50（1H,q,J＝4.0Hz）,7.45-7.9
（4H,m） IR（NaCl,cm-1） 3000（ｓ）,2950（ｓ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）， 1640（ｍ）,1490（ｍ）， 参考例２ ３−ペンチルフタリドの合成： 参考例１と同様にして３−ペンチルフタリドを得た。収
率29％。1 H-NMR（60MHz,CDCl3,TMS）δ： 8.10-7.25（4H,m）,5.45（4H,dd,J＝4.0Hz,6.0Hz）,2.3
0-1.10（8H,m）,0.80（3H,t） 参考例３ ３−イソアミルフタリドの合成： 窒素ガス雰囲気下、乾燥テトラヒドロフラン（THF）
中、臭化イソアミル（15.1g,100mmol）、金属マグネシ
ウム（2.2g,90mg原子）より、臭化イソアミルマグネシ
ウムを調製した。このグリニャール（Grigard）溶液中
に、室温下、ｏ−フタルアルデヒド酸（6.0g,40mmol）/
THFを徐々に滴下する。THF還流下２時間、更に室温下12
時間熟成後、加水分解更に酸処理を行った。シリカゲル
クロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝20/1）に
より精製し、３−イソアミルフタリドを得た。収率38
％。1 H-NMR（270MHz,CDCl3,TMS）δ： 0.8（3H,d,J＝2.9Hz）,0.9（3H,d,J＝2.9Hz）,1.30-2.1
0（5H,m）,5.5（1H,dd,J＝7.7Hz,4.0Hz）,7.5-7.9（4H,
m） IR（NaCl,cm-1） 2950（ｓ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）,1620（ｗ）,1490
（ｍ） 参考例４ ３−オクチルフタリドの合成： 臭化−ｎ−オクチル、金属マグネシウムより調製した臭
化−ｎ−オクチルマグネシウムを用い、参考例３と同様
にして３−オクチルフタリドを得た。収率38％。1 H-NMR（60MHz,CDCl3,TMS）δ： 0.7-1.0（3H,m）,1.0-2.3（14H,m）,1.3-2.1（5H,m）,
5.3-5.6（1H,m）,7.2-8.0（4H,m） IR（NaCl,cm-1） 2950（ｓ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）,1620（ｗ）,1480
（ｍ） 参考例５ ３−ヘキシルフタリドの合成： 参考例３と同様にして３−ヘキシルフタリドを得た。収
率51％。1 H-NMR（200MHz,CDCl3,TMS）δ： 0.88（3H,t,J＝6.49Hz）,2.2-1.1（10H,m）,5.47（1H,d
d,J＝4.05Hz）,7.44（1H,d,J＝7.4Hz）,7.52（1H,t,J＝
7.34Hz）,7.67（1H,dt,J＝1.01Hz,7.4Hz）,7.89（1H,d,
J＝7.6Hz） IR（NaCl,cm-1） 2950（ｍ）,2880（ｍ）,1780（ｓ）,1620（ｗ）,1480
（ｍ）,1300（ｍ）,1070（ｍ） 参考例６ ３−ヘプチルフタリドの合成： 参考例１と同様にして、カプリル酸無水物（71.4g,264m
mol）、無水フタル酸（30.0g,203mmol）、酢酸ナトリウ
ム（12.5g,152mmol）より、３−ヘプチリデンフタリド
を合成した後、水添し、３−ヘプチルフタリドを得た。
収率27％。1 H-NMR（60MHz,CDCl3,TMS）δ： 8.0-7.2（4H,m）,5.6−‐.3（1H,m）,2.3-1.7（2H,m）,
1.7-1.0（8H,m）,1.0-0.7（3H,m） 参考例７ ３−デシルフタリドの合成： 参考例３と同様にして３−デシルフタリドを合成した。
収率35％。
m.p. 39.5-40.9℃1 H-NMR（60MHz,CDCl3,TMS）δ： 8.0-7.2（4H,m）,5.6-5.2（1H,m）,2.2-0.6（21H,m） IR（KBr,cm-1） 2950（ｓ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）,1620（ｗ）,1490
（ｍ）,1080（ｍ） 参考例８ ３−デシルフタリドの合成： 参考例３と同様にして３−ドデシルフタリドを得た。収
率31％。
（ｍ）,1080（ｍ） 参考例８ ３−デシルフタリドの合成： 参考例３と同様にして３−ドデシルフタリドを得た。収
率31％。
m.p, 52.8-53.3℃1 H-NMR（60MHz,CDCl3,TMS）δ： 8.0-7.2（4H,m）,5.6-5.2（1H,m）,2.0-0.7（25H,m） IR（KBr,cm-1） 2980（ｓ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）,1630（ｗ）,1620
（ｗ）,1480（ｍ）,1080（ｍ） 参考例９ ３−ヘキサデシルフタリドの合成： 臭化ヘキサデシルと金属マグネシウムより臭化ヘキサデ
シルマグネシウムを調製し、参考例３と同様にして３−
ヘキサデシルフタリドを得た。収率15.4％。1 H-NMR（270MHz,CDCl3,TMS）δ： 7.91（1H,d,J＝7.69Hz）,7.69-7.51（2H,m），（7.45
（1H,d,J＝6.59Hz）,5.51-5.48（1H,m）,2.04-1.76（1
H,m）,1.57-0.92（28H,m）,0.90（3H,t,J＝6.22Hz） IR（KBr,cm-1） 2950（ｓ）,2900（ｍ）,1770（ｓ）,1630（ｗ）,1490
（ｍ）,1110（ｍ） 参考例10 ３−イソプロポキシフタリドの合成： ｏ−フタルアルデヒド酸（6.0g,40mmol）、イソプロピ
ルアルコール（4.8g,80.0mmol）の混合物を100℃、６時
間反応させ、３−イソプロポキシフタリドを得た。収率
75.0％。
（ｗ）,1480（ｍ）,1080（ｍ） 参考例９ ３−ヘキサデシルフタリドの合成： 臭化ヘキサデシルと金属マグネシウムより臭化ヘキサデ
シルマグネシウムを調製し、参考例３と同様にして３−
ヘキサデシルフタリドを得た。収率15.4％。1 H-NMR（270MHz,CDCl3,TMS）δ： 7.91（1H,d,J＝7.69Hz）,7.69-7.51（2H,m），（7.45
（1H,d,J＝6.59Hz）,5.51-5.48（1H,m）,2.04-1.76（1
H,m）,1.57-0.92（28H,m）,0.90（3H,t,J＝6.22Hz） IR（KBr,cm-1） 2950（ｓ）,2900（ｍ）,1770（ｓ）,1630（ｗ）,1490
（ｍ）,1110（ｍ） 参考例10 ３−イソプロポキシフタリドの合成： ｏ−フタルアルデヒド酸（6.0g,40mmol）、イソプロピ
ルアルコール（4.8g,80.0mmol）の混合物を100℃、６時
間反応させ、３−イソプロポキシフタリドを得た。収率
75.0％。
m.p. 65.3-66.7℃1 H-NMR（60MHz,CDCl3,TMS）δ： 1.3（3H,d,J＝6.0Hz）,1.4（3H,d,J＝6.0Hz）,4.2（1H,
qu,J＝6.0Hz）,6.4（1H,s）,7.4-8.0（4H,m） IR（KBr,cm-1） 3000（ｍ）,2950（ｍ）,1770（ｓ）,1620（ｗ）,1480
（ｍ）,1360（ｍ）,1300（ｍ） 参考例11 ３−プロポキシフタリドの合成： イソプロピルアルコールの代わりにプロピルアルコール
を用いる以外は参考例10と同様にして３−プロポキシフ
タリドを得た。収率72％。1 H-NMR（60MHz,CDCl3,TMS）δ： 0.9（3H,t,J＝7.0Hz）,1.7（2H,q,J＝7.0Hz）,4.0-3.6
（2H,m）,6.3（1H,s）,8.0-7.3（4H,m） IR（KBr,cm-1） 3000（ｍ）,2950（ｍ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）,1630
（ｗ）,1480（ｍ）,1300（ｍ）,1080（ｍ） 参考例12 ３−ブトキシフタリドの合成： イソプロピルアルコールの代わりにブチルアルコールを
用いる以外は参考例10と同様にして３−ブトキシフタリ
ドを得た。収率87％。1 H-NMR（270MHz,CDCl3,TMS）δ： 7.86（1H,d,J＝8.06Hz）,7.70（1H,d,J＝7.33Hz）,7.61
-7.57（2H,m）,3.93-3.77（2H,m）,1.69-1.61（2H,
m），（1.45-1.37）（2H,m）,0.93（3H,t,J＝7.33Hz） 参考例13 ４−メトキシ−３−ブチルフタリドの合成： 乾燥THF40ml、ｎ−ブチルリチウム/n−ヘキサン14ml（2
2.0mmol）、テトラメチルエチレンジアミン（2.56g、2
2.0mmol）を混和し、−68℃に冷却し、N,N−ジエチル−
３−メトキシ安息香酸アミド（4.15g、20.0mmol）/THF
を徐々に加え、30分後に、白色結晶を得た。臭化マグネ
シウム・エーテル（11.0g、42.6mmol）を加え反応させ
た後、１−ペンタナール（3.5g、40.0mmol）を−78℃で
反応させた。酸加水分解、クロロホルム抽出後、減圧蒸
留により、４−メトキシ−３−ブチルフタリドを得た。
収率22％。
qu,J＝6.0Hz）,6.4（1H,s）,7.4-8.0（4H,m） IR（KBr,cm-1） 3000（ｍ）,2950（ｍ）,1770（ｓ）,1620（ｗ）,1480
（ｍ）,1360（ｍ）,1300（ｍ） 参考例11 ３−プロポキシフタリドの合成： イソプロピルアルコールの代わりにプロピルアルコール
を用いる以外は参考例10と同様にして３−プロポキシフ
タリドを得た。収率72％。1 H-NMR（60MHz,CDCl3,TMS）δ： 0.9（3H,t,J＝7.0Hz）,1.7（2H,q,J＝7.0Hz）,4.0-3.6
（2H,m）,6.3（1H,s）,8.0-7.3（4H,m） IR（KBr,cm-1） 3000（ｍ）,2950（ｍ）,2900（ｍ）,1780（ｓ）,1630
（ｗ）,1480（ｍ）,1300（ｍ）,1080（ｍ） 参考例12 ３−ブトキシフタリドの合成： イソプロピルアルコールの代わりにブチルアルコールを
用いる以外は参考例10と同様にして３−ブトキシフタリ
ドを得た。収率87％。1 H-NMR（270MHz,CDCl3,TMS）δ： 7.86（1H,d,J＝8.06Hz）,7.70（1H,d,J＝7.33Hz）,7.61
-7.57（2H,m）,3.93-3.77（2H,m）,1.69-1.61（2H,
m），（1.45-1.37）（2H,m）,0.93（3H,t,J＝7.33Hz） 参考例13 ４−メトキシ−３−ブチルフタリドの合成： 乾燥THF40ml、ｎ−ブチルリチウム/n−ヘキサン14ml（2
2.0mmol）、テトラメチルエチレンジアミン（2.56g、2
2.0mmol）を混和し、−68℃に冷却し、N,N−ジエチル−
３−メトキシ安息香酸アミド（4.15g、20.0mmol）/THF
を徐々に加え、30分後に、白色結晶を得た。臭化マグネ
シウム・エーテル（11.0g、42.6mmol）を加え反応させ
た後、１−ペンタナール（3.5g、40.0mmol）を−78℃で
反応させた。酸加水分解、クロロホルム抽出後、減圧蒸
留により、４−メトキシ−３−ブチルフタリドを得た。
収率22％。
m.p. 44.3-45.3℃1 H-NMR（270MHz,CDCl3,TMS）δ： 0.89（3H,t,J＝6.96Hz）,1.5-1.2（4H,m）,1.8-1.6（1
H,m）,2.35-2.20（1H,m）,5.5（1H,dd,J＝7.69Hz,2.93H
z）,7.09（1H,t,J＝4.4Hz）,7.5-7.4（2H,m） IR（KBr,cm-1） 3000（ｍ）,2960（ｍ）,2900（ｗ）,1780（ｓ）,1630
（ｍ）,1520（ｍ）,1300（ｓ）,1060（ｓ） 参考例14 ４−メトキシ−３−ヘプチルフタリドの合
成： 窒素ガス雰囲気下、乾燥THF中、ｍ−アニス酸（15.2g,1
00mmol）と塩化チオニル（36.3g,305mmol）から、ｍ−
アニシルクロリドを得た。２−アミノ−２−メチル−１
−プロパノール（17.8g,200mmol）と、このｍ−アニシ
ルクロリドを反応させ、更に塩化チオニルを作用させ、
２−（３−メトキシフェニル）−4,4−ジメチルオキサ
ゾリン塩酸塩を得た。次にｎ−ブチルリチウム/n−ヘキ
サン（1.6N,20.6ml）と反応させ、更に、オクタナール
（7.7g,60mmol）を加え、反応後、反応物を6N HCl中、1
20℃で処理し、４−メトキシ−３−ヘプチルフタリドを
得た。収率48％。
H,m）,2.35-2.20（1H,m）,5.5（1H,dd,J＝7.69Hz,2.93H
z）,7.09（1H,t,J＝4.4Hz）,7.5-7.4（2H,m） IR（KBr,cm-1） 3000（ｍ）,2960（ｍ）,2900（ｗ）,1780（ｓ）,1630
（ｍ）,1520（ｍ）,1300（ｓ）,1060（ｓ） 参考例14 ４−メトキシ−３−ヘプチルフタリドの合
成： 窒素ガス雰囲気下、乾燥THF中、ｍ−アニス酸（15.2g,1
00mmol）と塩化チオニル（36.3g,305mmol）から、ｍ−
アニシルクロリドを得た。２−アミノ−２−メチル−１
−プロパノール（17.8g,200mmol）と、このｍ−アニシ
ルクロリドを反応させ、更に塩化チオニルを作用させ、
２−（３−メトキシフェニル）−4,4−ジメチルオキサ
ゾリン塩酸塩を得た。次にｎ−ブチルリチウム/n−ヘキ
サン（1.6N,20.6ml）と反応させ、更に、オクタナール
（7.7g,60mmol）を加え、反応後、反応物を6N HCl中、1
20℃で処理し、４−メトキシ−３−ヘプチルフタリドを
得た。収率48％。
m.p. 63.9-64.5℃1 H-NMR（60MHz,CDCl3,TMS）δ： 1.0-0.6（3H,m）,2.3−1.0（12H,m）,3.9（3H,m）,5.6-
5.3（1H,m）,7.1（1H,t,J＝4Hz）,7.5（2H,J＝4Hz） IR（KBr,cm-1） 2950（ｍ）,2900（ｗ）,1780（ｓ）,1640（ｗ）,1520
（ｍ）,1300（ｓ）,1060（ｍ） 参考例15 ４−メトキシ−３−デシルフタリドの合成： 参考例14と同様にして４−メトキシ−３−デシルフタリ
ドを得た。収率99.3％。
5.3（1H,m）,7.1（1H,t,J＝4Hz）,7.5（2H,J＝4Hz） IR（KBr,cm-1） 2950（ｍ）,2900（ｗ）,1780（ｓ）,1640（ｗ）,1520
（ｍ）,1300（ｓ）,1060（ｍ） 参考例15 ４−メトキシ−３−デシルフタリドの合成： 参考例14と同様にして４−メトキシ−３−デシルフタリ
ドを得た。収率99.3％。
m.p. 57.8-60.7℃1 H-NMR（200MHz,CDCl3,TMS）δ： 0.88（3H,t,J＝6.2Hz）,1.5−1.1（18H,m）,5.55（1H,d
d,J＝3.1Hz,7.8Hz）,7.00（1H,d,J＝7.7Hz）,7.37（1H,
t,J＝7.6Hz）,7.47（1H,d,J＝7.1HZ） IR（KBr,cm-1） 2950（ｍ）,2900（ｗ）,1790（ｓ）,1640（ｗ）,1520
（ｓ）,1500（ｓ）,1295（ｍ）,1060（ｍ） 参考例16 ４−ヒドロキシ−３−ブチルフタリドの合
成： 窒素ガス雰囲気下、参考例13で合成した４−メトキシ−
３−ブチルフタリドと三臭化ホウ素／塩化メチレン（9m
l,1N）を作用させ、４−ヒドロキシ−３−ブチルフタリ
ドを得た。収率63％。
d,J＝3.1Hz,7.8Hz）,7.00（1H,d,J＝7.7Hz）,7.37（1H,
t,J＝7.6Hz）,7.47（1H,d,J＝7.1HZ） IR（KBr,cm-1） 2950（ｍ）,2900（ｗ）,1790（ｓ）,1640（ｗ）,1520
（ｓ）,1500（ｓ）,1295（ｍ）,1060（ｍ） 参考例16 ４−ヒドロキシ−３−ブチルフタリドの合
成： 窒素ガス雰囲気下、参考例13で合成した４−メトキシ−
３−ブチルフタリドと三臭化ホウ素／塩化メチレン（9m
l,1N）を作用させ、４−ヒドロキシ−３−ブチルフタリ
ドを得た。収率63％。
m.p. 162.5-164℃1 H-NMR（60MHz,CDCl3,TMS）δ： 0.9（3H,t,J＝5Hz）,2.3-1.2（6H,m）,2.9（1H,bs）,5.
6（1H,dd,J＝8.4Hz）,7.5-7.1（3H,m） IR（KBr,cm-1） 3240（br）,2980（ｗ）,2880（ｗ）,1730（ｓ）,1620
（ｍ）,1510（ｍ）,1480（ｍ）,1300（ｍ）,1100（ｗ） 参考例17 ４−ヒドロキシ−３−ヘプチルフタリドの合
成： 参考例14で合成した４−メトキシ−３−ヘプチルフタリ
ドと三臭化ホウ素を用い、参考例16と同様にして４−ヒ
ドロキシ−３−ヘプチルフタリドを得た。収率74％。1 H-NMR（60MHz,CDCl3,TMS）δ： 0.9（3H,t,J＝5Hz）,2.3-1.2（6H,m）,2.8（1H,bs）,5.
6-5.3（1H,m）,7.5-7.0（3H,m） IR（KBr,cm-1） 3250（br）,2980（ｗ）,2950（ｍ）,2900（ｍ）,1740
（ｓ）,1630（ｍ）,1480（ｍ）,1300（ｓ）,1110（ｍ） 参考例18 ４−ヒドロキシ−３−デシルフタリドの合
成： 参考例15で合成した４−メトキシ−３−デシルフタリド
と三臭化ホウ素を用い、参考例16と同様にして４−ヒド
ロキシ−３−デシルフタリドを得た。収率62％。
6（1H,dd,J＝8.4Hz）,7.5-7.1（3H,m） IR（KBr,cm-1） 3240（br）,2980（ｗ）,2880（ｗ）,1730（ｓ）,1620
（ｍ）,1510（ｍ）,1480（ｍ）,1300（ｍ）,1100（ｗ） 参考例17 ４−ヒドロキシ−３−ヘプチルフタリドの合
成： 参考例14で合成した４−メトキシ−３−ヘプチルフタリ
ドと三臭化ホウ素を用い、参考例16と同様にして４−ヒ
ドロキシ−３−ヘプチルフタリドを得た。収率74％。1 H-NMR（60MHz,CDCl3,TMS）δ： 0.9（3H,t,J＝5Hz）,2.3-1.2（6H,m）,2.8（1H,bs）,5.
6-5.3（1H,m）,7.5-7.0（3H,m） IR（KBr,cm-1） 3250（br）,2980（ｗ）,2950（ｍ）,2900（ｍ）,1740
（ｓ）,1630（ｍ）,1480（ｍ）,1300（ｓ）,1110（ｍ） 参考例18 ４−ヒドロキシ−３−デシルフタリドの合
成： 参考例15で合成した４−メトキシ−３−デシルフタリド
と三臭化ホウ素を用い、参考例16と同様にして４−ヒド
ロキシ−３−デシルフタリドを得た。収率62％。
m.p. 155.6-157.1℃ IR（KBr,cm-1） 3250（br）,2950（ｍ）,2900（ｗ）,1740（ｓ）,1640
（ｍ）,1500（ｍ）,1310（ｍ）,1120（ｍ） 実施例１ 皮膚コンダクタンス値の測定： 20名の乾燥性皮膚の被験者（年齢20〜27才）を２群に分
け、それぞれ10名ずつの右前腕部に下記表１に示す組成
の本発明品１あるいは比較品１を塗布し、左前腕部は無
塗布の状態とした。試験期間は冬期の３日間とし、被験
物質をそれぞれ１日２回、朝晩に塗布した。
（ｍ）,1500（ｍ）,1310（ｍ）,1120（ｍ） 実施例１ 皮膚コンダクタンス値の測定： 20名の乾燥性皮膚の被験者（年齢20〜27才）を２群に分
け、それぞれ10名ずつの右前腕部に下記表１に示す組成
の本発明品１あるいは比較品１を塗布し、左前腕部は無
塗布の状態とした。試験期間は冬期の３日間とし、被験
物質をそれぞれ１日２回、朝晩に塗布した。
３日間の塗布が終了した翌日に左右前腕部を石鹸洗浄
し、洗浄２時間後に高周波インピーダンスメーター（IB
S社製,Model IB−400）を用い、塗布部の皮膚コンダク
タンス値を測定した。その結果を表１に示す。
し、洗浄２時間後に高周波インピーダンスメーター（IB
S社製,Model IB−400）を用い、塗布部の皮膚コンダク
タンス値を測定した。その結果を表１に示す。
尚、皮膚コンダクタンス値は、無塗布部の皮膚コンダク
タンス値を100とした場合の相対値の平均値で示した。
タンス値を100とした場合の相対値の平均値で示した。
表１の結果から明らかな如く、本発明品１は比較品より
も皮膚コンダクタンス値が高く、乾燥性皮膚に対し優れ
た保湿作用を有している。
も皮膚コンダクタンス値が高く、乾燥性皮膚に対し優れ
た保湿作用を有している。
〔発明の効果〕 本発明の皮膚化粧料は優れた保湿作用を有し、乾燥性皮
膚に対し有用なものである。
膚に対し有用なものである。
Claims (1)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） （式中、R1は水素原子、水酸基、メトキシ基、アミノ基
又はジメチルアミノ基を示し、R2及びR3は水素原子又は
メトキシ基を示し、R4は水素原子、アミノ基又はジメチ
ルアミノ基を示し、R5は水素原子、炭素数３〜16の直鎖
若しくは分岐アルキル基又は炭素数３〜４の直鎖若しく
は分岐アルコキシ基を示す） で表わされるフタリド誘導体を含有することを特徴とす
る皮膚化粧料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18244290A JPH06102608B2 (ja) | 1990-07-10 | 1990-07-10 | 皮膚化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18244290A JPH06102608B2 (ja) | 1990-07-10 | 1990-07-10 | 皮膚化粧料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0469314A JPH0469314A (ja) | 1992-03-04 |
| JPH06102608B2 true JPH06102608B2 (ja) | 1994-12-14 |
Family
ID=16118340
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18244290A Expired - Fee Related JPH06102608B2 (ja) | 1990-07-10 | 1990-07-10 | 皮膚化粧料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06102608B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102178643A (zh) * | 2011-04-29 | 2011-09-14 | 石药集团恩必普药业有限公司 | 一种丁苯酞或其衍生物的微乳透皮凝胶剂及其制备方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016159021A1 (ja) * | 2015-03-30 | 2016-10-06 | 株式会社藤本分子化学 | 化合物 |
| FR3034314B1 (fr) | 2015-03-30 | 2019-10-04 | Sederma | Traitement cosmetique topique de la peau et du cuir chevelu et ingredient actif correspondant a base d'un extrait d'apium graveolens |
| FR3056401B1 (fr) * | 2016-09-27 | 2020-01-10 | Sederma | Traitement cosmetique topique amincissant |
-
1990
- 1990-07-10 JP JP18244290A patent/JPH06102608B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| CN102178643A (zh) * | 2011-04-29 | 2011-09-14 | 石药集团恩必普药业有限公司 | 一种丁苯酞或其衍生物的微乳透皮凝胶剂及其制备方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0469314A (ja) | 1992-03-04 |
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