JP2577527B2 - 磁気トランスデューサ/サスペンション・アセンブリおよびその製造方法並びにディスク・ドライブ・アセンブリ - Google Patents
磁気トランスデューサ/サスペンション・アセンブリおよびその製造方法並びにディスク・ドライブ・アセンブリInfo
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Description
装置およびその記録要素に関し、詳しくはバッチ製造に
適したトランスデューサ・サスペンション構造と該構造
を製造する工程に関する。
発明の出願人に譲渡された米国特許第4624048号
は、本発明に有用な磁気ヘッド・スライダを製造する方
法を開示している。
の出願人に譲渡された米国特許第4251841号は、
本発明に有用なウェーハ基板材料を開示している。
明の出願人に譲渡された米国特許第3849800号
は、本発明を使用する駆動機構に有用な回転式アクチュ
エータを開示している。
の出願人に譲渡された米国特許第4167765号は、
本発明に有用なサスペンション・システムを開示してい
る。
ライブはすぐれたメモリ装置である。これは、その非揮
発性メモリ記憶機能が拡張されていること、および比較
的コストが低いことによる。これらの装置から、記憶さ
れているメモリを正確に検索することが重大になり、磁
気トランスデューサを媒体のできるだけ近くに位置決め
することが必要になっている。最適な方法としては、ト
ランスデューサを媒体に実際に接触させるべきである。
同心データ・トラックを備えた少なくとも1枚の回転可
能磁気媒体ディスクと、様々なトラックに対してデータ
の読取りまたは書込みを行うための読取り/書込みトラ
ンスデューサと、一般的に媒体上の飛翔モードでトラン
スデューサをトラックに隣接して保持するスライダと、
データ・トラック上でスライダおよびトランスデューサ
を弾性的に保持するサスペンションと、トランスデュー
サ/サスペンションの組合せに接続された、トランスデ
ューサを媒体上の所望のデータ・トラックまで移動し
て、読取りまたは書込み操作中にトランスデューサをデ
ータ・トラックの中心線上に維持するための位置決めア
クチュエータとを利用する、情報記憶装置である。トラ
ンスデューサは、空気軸受スライダに取り付けられる。
このスライダは、回転ディスクによって生成される空気
のクッションによってディスクのトラック上にトランス
デューサを支持する。またトランスデューサは、ディス
クと接触して動作することもある。サスペンションは、
スライダとアクチュエータ・アームの間に所望のスライ
ダ負荷および寸法安定性を提供する。サスペンション
は、トランスデューサとスライダを、できるだけ少ない
負荷力でディスクのデータ表面に隣接して維持する必要
がある。アクチュエータは、読取り操作に所望のデータ
に従って適切なトラック上にトランスデューサを位置決
めし、また書込み操作時にはデータの位置に適切なトラ
ックにトランスデューサを位置決めする。アクチュエー
タは、組合せを一般にトラックに沿った方向を横切って
シフトさせることによって、正しいトラック上にトラン
スデューサを位置決めするように制御される。
デューサとスライダは、サスペンションとは別に形成し
てから、手動のオペレータ制御の精密操作によって取り
付ける。通常、これらの構成要素は小形であり、各構成
要素の他の構成要素との相対的な位置決めは正確でなけ
ればならない。操作中、トランスデューサをデータ・ト
ラックに対して正確に位置決めしなければならない。す
なわち、サスペンションをスライダ上に正確に位置決め
しなければならない。サスペンションは、回転ディスク
の移動方向に対するスライダの縦揺れおよび横揺れ運動
に対する柔軟性を与え、しかも片揺れ運動に対する抵抗
力を与えなければならない。スライダに対するサスペン
ションの相対位置に誤差が発生すると、両方の構成要素
が破壊される恐れがある。サスペンションおよびスライ
ダが正しく位置決めされている場合でも、トランスデュ
ーサへの導体リード線をトランスデューサに接続しなけ
ればならない。導体リード線を、サスペンションに沿っ
て導き、サスペンションまたはアクチュエータ上に配置
された増幅器に接続する。導体リード線は、スライダの
ばね剛性を増加させてはならず、かつ良好な電気的相互
接続を提供しなければならない。導体リード線は一般
に、オペレータがたとえば、はんだ付けまたは超音波ボ
ンディングによってトランスデューサ出力端子と増幅器
の両方に接着する。この場合も、誤差があると、組合せ
全体が破壊される可能性がある。媒体に触れると、摩耗
に関する固有の問題が発生し、ディスク・ファイルの動
作中に、媒体が「破壊」される可能性がある。摩耗の問
題および「破壊」の可能性を削減するために、サスペン
ション・システムの質量を最小にしなければならないこ
とが認識されている。質量が最小であれば、ヘッドが媒
体に及ぼす物理的「影響」が最適化されて、損傷および
摩耗の可能性が削減される。
法を使用してトランスデューサ・スライダ・サスペンシ
ョンを製造する様々な機構が開示されている。これらの
装置は、垂直記録環境で動作する構造になっており、
(i)正確なのど高さ制御、(ii)空気軸受の正確な形
成による指定の飛翔高さの実現、(iii)スライダのサ
スペンションへのボンディング、および(iv)導体リー
ド線の容易な経路指定が可能な、ヘッドおよびサスペン
ションが容易に製造できる。
242号、および第5111351号は、磁気読取り/
書込みトランスデューサがその一端に埋め込まれた細長
い誘電体フレクシャまたはサスペンション本体の形の一
体型磁気トランスデューサ/サスペンション/導電構造
を開示している。好ましい実施例では、フレクシャ本体
の一端に一体的に形成された磁気磁極構造および螺旋コ
イルを有し、埋め込まれた銅製導体リード線がフレクシ
ャ本体の全長にわたって延びて、トランスデューサの電
気接続を提供する、酸化アルミニウムの細長い誘電体フ
レクシャ本体が開示されている。この一体構造は、従来
の蒸着技法およびフォトリソグラフィ技法を使用して製
造される。これらの特許で開示された一体型トランスデ
ューサ/サスペンション構造は、接触記録システム、ま
たはトランスデューサが空気のクッションによって記憶
媒体上を飛翔するシステムで使用することができる。
さの変動による規制を受けない、高レベルの信号と高い
分解能を得ることができる。残念なことに、接触記録に
伴う摩耗は通常受け入れられない。もう1つの欠点は、
垂直ヘッドでは、2つの垂直な平面が必要であるが、そ
のために加工上の問題が生じることである。このような
欠点のために、従来技術の垂直記録ヘッドは、高密度記
録には適していない。
強化されたトランスデューサ構成を含むヘッド構造を有
する、機能強化された磁気移動記憶装置を提供すること
である。
ヘッド・サスペンション構造を作成することである。
ドが、摩耗と空気軸受の輪郭の変動に耐えるようにする
ことである。
基板の表面に平行な平面でのバッチ処理に適した、縦型
ヘッドを作成することである。
帯域幅を得るための異方性補剛および成形を可能にする
サスペンション・システムを作成することである。
びに媒体上の飛翔に使用できる縦方向記録媒体に使用す
るための組合せサスペンション/トランスデューサ磁気
ヘッドを提供する。まず基板上に剥離層を付着し、次に
トランスデューサの個々の薄膜層を付着することが好ま
しい。コイルは水平であり、第1の磁極片に対して垂直
またはほぼ垂直な第2の磁極片を備えている。バックギ
ャップは、磁極端から水平に変位している。トランスデ
ューサを、ウェーハ上に行列の形に付着する。次に、サ
スペンション層を、好ましくは該サスペンション層と基
板の間の剥離層上のトランスデューサ行上に付着する。
剥離層を腐食することによって基板を除去すると、バッ
チ製造によって作成された組合せサスペンション/トラ
ンスデューサが残る。
て製造する。サスペンションは、付着されたアルミナに
よって作成し、アルミナを所望の形状にエッチングし、
続いて基板表面からアルミナを分離することによって形
成する。完成したリード・アセンブリを基板から除去す
る際は、剥離層を利用することが好ましい。
ヘッドおよびサスペンションの加工をすべてウェーハ基
板上で行うことができる。これにより、ヘッドとサスペ
ンションを1つのユニットとしてバッチ製造することが
可能になる。
で耐摩耗性材料を使用することである。これにより、ヘ
ッドの磁極端領域が保護され、かつサスペンション表面
のパターン形成によってそれを局在化し、ヘッドおよび
サスペンションの好ましい空気軸受負荷条件を確立する
ことができる。
システムや、パーソナル・コンピュータで一般に使用さ
れる単一ディスク・ファイルなどに見られる、高密度直
接アクセス記憶装置で使用することが好ましい。たとえ
ばディスク・ドライブやファイルなどの装置で、磁気メ
モリ・ディスクを媒体として使用する。
0と、データ記録ディスク・ファイルの関連するディス
ク12の1セグメントが示されている。線形アクチュエ
ータ10は、ボイス・コイル・モータを含む。ボイス・
コイル・モータは、固定永久磁石アセンブリ(図示せ
ず)の磁界内で動くことができるコイル14を備えてい
る。磁石アセンブリは、コイル14内のコアと、ハウジ
ング16によって支持される外部構造を含む。アクチュ
エータ・アーム20の一端が、コイル14に接続されて
いる。アクチュエータ・アーム20の他端には、複数の
支持アーム21が取り付けられる。各支持アーム21
は、本明細書に記載の手順によって作成される組合せト
ランスデューサ・スライダ・サスペンション・リード・
アセンブリ22を支持する。組合せトランスデューサ・
スライダ・サスペンション・リード・アセンブリ22
は、サスペンション部26と、その一端にサスペンショ
ン部26と一体形に形成されたトランスデューサ・スラ
イダ24を含む。サスペンション部26は、ディスク1
2の表面上で、ディスク12の回転によって生成される
空気軸受またはクッション上にトランスデューサ・スラ
イダ24を支持する。あるいは、サスペンション部26
は、トランスデューサ・スライダ24をディスク12と
接触して支持することができる。空気軸受または空気軸
受面(ABS)とは、ディスク表面に平行でありかつ隣
接するスライダの表面を言う。サスペンション部26に
は、ウィンチェスタ型駆動機構と呼ばれることもある、
スライダがディスク上に飛翔するように設計された構成
と、スライダが動作中に記録媒体のディスク12に接触
するように設計された構成の両方がある。
ーム21を含み、各アーム21がそれぞれディスク12
の各表面と関連する組合せトランスデューサ・スライダ
・サスペンション・リード・アセンブリ22を支持す
る。したがって、またディスク12には、その下面で、
アクチュエータ・アーム20のアーム21に組合せトラ
ンスデューサ・スライダ・サスペンション・リード・ア
センブリ22が取り付けられている。さらに、他の組合
せアセンブリは、他のディスクの上面および下面と関連
しており、ディスクのトランスデューサ・アクセスは線
形アクチュエータ10によって制御される。
ペンション・リード・アセンブリ22のサスペンション
部26は、一般にディスク12の表面に垂直な負荷をト
ランスデューサ・スライダ24に与える。この垂直負荷
は、ディスク12が回転していないときに、トランスデ
ューサ・スライダ24をディスク12のデータ表面に接
触して維持する。ディスク・ドライブの動作中、トラン
スデューサ・スライダ24のABSと回転ディスク12
の間に、トランスデューサ・スライダ24に付与される
垂直な負荷に対抗する揚力が生じて、トランスデューサ
・スライダ24をディスク表面上に飛翔させる。あるい
は、接触記録では、ディスク12の回転中に、トランス
デューサ・スライダ24が、データを読み取りまたは記
録するために媒体と接触したままになる。
イダ24は、コイル14によって、ディスク12のデー
タ表面上に画定された複数の同心データ・トラックのう
ち所望のトラックに移動される。コイル14は、位置決
め信号によって、磁石アセンブリの磁界内で移動するよ
うに制御される。読取りまたは書込み操作のためにトラ
ンスデューサ・スライダ24を1つのトラックから別の
トラックへと迅速にアクセスできるようにすることが望
ましいので、トランスデューサが所望のトラック上に適
切に位置決めされ、最短時間でそのトラックに到達する
必要がある。図1に示す線形アクチュエータ10は、デ
ータ・トラックを横切って正確な方向に組合せトランス
デューサ・スライダ・サスペンション・リード・アセン
ブリ22を移動させる線形アクチュエータであるが、他
の種類の従来型のディスク・ファイルでは、前述の米国
特許第3849800号および本明細書の図2に示され
るような回転アクチュエータを使用することに留意され
たい。組合せトランスデューサ・スライダ・サスペンシ
ョン・リード・アセンブリ22は、半径方向の剛性を提
供し、ディスク12のデータ表面に乗るときに縦揺れお
よび横揺れ方向が極めて柔軟になるようにしなければな
らない。希望するなら、組合せトランスデューサ・スラ
イダ・サスペンション・リード・アセンブリ22のサス
ペンション部26上に集積回路増幅器アセンブリ28を
作成することもできる。
37、関連するディスク34、およびディスク34を回
転するための駆動手段32がその中に取り付けられた、
ハウジング25を含むデータ記録ディスク・ファイルが
示されている。回転式アクチュエータ27は、本発明の
組み合わせリード・アセンブリ30を、弧状経路に沿っ
てディスク34上を移動させる。回転式アクチュエータ
27は、ボイス・コイル・モータを含む。ボイス・コイ
ル・モータは、固定永久磁石アセンブリ38の磁界内で
動くことができるコイル36を備えている。アクチュエ
ータ・アーム29は、コイル36に接続されている。ア
クチュエータ・アーム39の他端は、本明細書に記載の
手順に従って作成された本発明の組合せリード・アセン
ブリ30に取り付けられている。
発明の原理による組合せサスペンション・トランスデュ
ーサ・スライダ・リード・アセンブリの好ましい実施例
が示されている。組合せリード・アセンブリ30は、た
とえば、図のようにサスペンション部37を形成するそ
の全長の大部分に沿って比較的一様な厚さを有し、一方
の端、すなわち左端で幾分厚さが大きくなった、酸化ア
ルミニウム(Al2O3)や二酸化ケイ素(SiO2)な
どの誘電材料製の、細長く全体的に長方形の本体を備え
ている。この本体中に、磁気読取り/書込みトランスデ
ューサまたはヘッド40が形成され、その下面にスライ
ダ空気軸受表面(ABS)がパターン形成されている。
上述のように、ABSという用語は、ウィンチェスタ型
ディスク・ファイルでも接触記録応用例でも、媒体表面
にほぼ平行でありかつ隣接したスライダの側面を指す。
図3に示すように、ABSはリード・アセンブリ本体3
1の下面に形成された成形突起33を備えている。この
成形突起33は、接触記録応用例用の接触パッドを形成
することが好ましい。あるいは、成型突起33は、組合
せリード・アセンブリ30と媒体の間に相対運動が存在
するとき揚力を発生して、スライダを媒体表面のすぐ上
に飛翔させるようにパターン形成された、ABSを有す
るスライダを形成することもできる。成形突起33の表
面は、たとえばダイヤモンド状炭素などの適切な材料の
摩耗層35で被覆して、リード・アセンブリが媒体表面
に接触する際の摩耗および損傷を最小限に抑える。図に
示す成形突起33は単純な構造を備えているが、本発明
の他の実施例では、多段突起を含めることにより、摩耗
によって、あるいは磁極端領域の耐摩耗層の厚さによっ
て引き起こされるヘッドとディスク表面の間の磁気分離
を削減するための短い製造後ラップ仕上げ工程によっ
て、ABSで磁気ヨーク磁極端が剥き出しになった後
も、摩耗層35が引き続きスライダ表面に摩耗保護を提
供できるようにすることも可能である。
ために、ヘッド40は、サスペンション部37と一体的
に形成する。好ましい実施例では、ヘッド40は、水平
記録応用例で使用されるリング型ヘッドを備えるが、垂
直記録応用例用のプローブ型ヘッドを備えることもでき
る。ヘッド40は、フロント・スタッド53およびバッ
クギャップ・スタッド55で下部ヨーク45に磁気的に
結合された、上部磁気ヨーク43を備えた磁気回路を含
む。下部ヨーク45は中断されて、2つの磁極片の間に
水平ギャップ47を形成する。下部ヨーク45は、成形
突起33の表面付近に水平ギャップ47をもたらす形状
になっており、磁極端がほぼ同一平面上にあって記録媒
体の近くに隣接する。磁気ヨーク構造には、水平螺旋状
コイル41が誘導結合されている。水平螺旋状コイル4
1の両端は、サスペンション部37の全長にわたって延
びるリード線導体49を介して、終端ボンディング・パ
ッド51に接続されている。
ンブリ30は、長さ12mm、幅0.5mm、リード・
アセンブリ本体31のサスペンション部37を形成する
部分の厚さ35μm、読み書きヘッド部すなわち突起3
3の最大厚さ50μmの、Al2O3から成るリード・ア
センブリ本体31を含んでいる。組合せリード・アセン
ブリ30は、周知の付着技法およびフォトリソグラフィ
技法を使用して基板上に作成する。その際に、以下に詳
細に説明するように、剥離層を使用して、完成したリー
ド・アセンブリを基板から分離する。上部および下部磁
気ヨーク43および45は、一般にパーマロイと呼ばれ
るニッケル鉄合金(NiFe)や、鉄(Fe)、ニッケ
ル(Ni)、コバルト(Co)、それらの合金などの他
の適切な磁気材料から成り、当技術分野で周知のように
めっきを施すことが好ましい。同様に、コイル巻線4
1、導体リード線49、および終端ボンディング・パッ
ド51も、たとえばめっき技術によって、銅(Cu)ま
たは金(Au)から形成する。この実施例の製造は、完
全な組合せリードアセンブリ30が、従来の周知の技法
によって支持基板に平行な層中に製造されるという点
で、大幅に単純化されている。
端構成の他の2つの実施例の断面図が示されている。図
7は、水平磁極端構成の読取り/書込みヘッド40Aの
一実施例を示す。この実施例は、ラザーリ(Lazzari)
等の論文"A New Thin Film Head Generation I.C. Hea
d"(IEEE Transactions on Magnetics、第25巻、第5
号、3190ページ、1989年)に記載されているよ
うな自立側壁技法を使用して製造する。磁極片42Aお
よび44Aは、磁気ギャップ46Aによって離隔されて
いる。これにより、水平ヘッド40Aが磁気信号を読み
書きし、これらの信号をコイル48Aを介して関連する
ディスク・ドライブの回路(図示せず)に送ることが可
能になる。
磁気ギャップ46Bによって分離された磁極片42Bお
よび44Bを使用する。水平ヘッド40Bはコイル48
Bを介して通信する。磁極片42Bは傾斜しており、図
7に示す実施例で必要とされるような自立側壁を使用せ
ずに製造することができる。
を組み込んだ本発明の好ましい実施例の製造に含まれる
工程段階を示す断面図である。まずシード層57を、た
とえばスパッタ付着によって基板52に付着する。次の
段階では、基板52上のシード層57上にフォトレジス
ト層50を付着し、傾斜54をもつレジスト・パターン
をエッチングまたはその他の方法で形成する。図の基板
52は、後で図15に関して詳細に説明する基板および
剥離層を表す。図10に示すように、たとえばNiFe
から成る第1の磁極片層56と、たとえば銅(Cu)か
ら成る分離層58をシード層57上に付着する。分離層
58は、ヘッドの2つの磁極片間を分離する。分離層5
8の唯一の要件は、非磁性材料であることである。レジ
スト・パターンの傾斜54によって、第1の磁極片層5
6および分離層58が傾斜60付きで形成される。第1
の磁極片層56およびCu分離層58は、基板52上に
連続的にめっきすることが好ましい。次に、図11に示
すように、フォトレジスト層50のレジスト・パターン
を除去した後に、第1の磁極片層56および分離層58
上に磁気ギャップ材料の層62を付着する。図12で
は、次に、たとえばレジスト・マスクおよびエッチ段階
によって磁気ギャップ層62の不要な材料を除去して
(図示せず)、第1の磁極片層56および分離層58の
傾斜60(図10参照)だけを覆う磁気ギャップ層62
をもたらす。次に、図14に示すように、第2の磁極片
を付着するためにフォトレジスト・パターン64を設け
る。次に、やはり好ましくはめっきによって、たとえば
NiFeの層を付着し、図14に示すように、フォトレ
ジスト・パターン64を除去して第2の磁極片層68を
形成する。第1の磁極片層56は、図14に示すよう
に、得られる磁極端構造70ののど高さを決定する。磁
極端構造70は、第1の磁極片層56によって形成され
る第1の磁極片と、第2の磁極片層68によって形成さ
れる第2の磁極片を備え、それらの間に、磁気ギャップ
層62によって形成されるギャップを有する。分離層5
8の厚さは、第1の磁極片層56によって形成される第
1の磁極片と、後から付着される第2の磁極片68との
間の最小必要分離距離によって決定される。図14は傾
斜60によって形成される角度で傾斜した磁気ギャップ
層62を示しているが、傾斜ギャップ層は図の傾斜に限
定されるものではない。すなわち、傾斜ギャップ層の傾
斜は、基板52の平面に対して90度、すなわち該平面
に対して垂直から±70度の範囲内の任意の角度にする
ことができる。
考慮点は、第1の磁極片層56と第2の磁極片層68の
両方の付着に必要な、シード層57に使用する材料であ
る。めっき工程を使用することが好ましく、両方の磁極
をめっきするのに単一のシード層57を使用することが
できる。しかし、使用するシード層材料が磁性材料であ
る場合、ギャップ65の磁気的短絡を防止するために、
ギャップ65中にシード層材料が存在してはならない。
シード層が非磁性材料であり、ギャップ65上に付着さ
れ、マイクロインチの数分の1を上回る場合、一般に磁
気ヘッド/ディスクの分離を最小限に抑えるためにシー
ド層を除去すべきである。非磁性シード層が摩耗層とし
て使用するのに適した材料から成る場合、別個の摩耗層
を付着する必要はなくなる。
い実施例の製造に使用される様々な処理層を示す断面図
が示されている。本発明の一目的は、水平型ヘッドを作
成し、たとえばAl2O3(アルミナ)などの誘電材料の
薄膜付着によって製造されたサスペンション構造中にこ
れらのヘッドを密封することである。サスペンションの
形状については、当業者に周知の従来のエッチング技法
を使用して水平ヘッドの周囲にパターン形成する。完成
したヘッダ/サスペンション・アセンブリは、基板と誘
電サスペンション材料の間の剥離層または犠牲層を使用
して、基板から分離する。すべての処理は、ウェーハ基
板表面に平行な平面内で行う。
キャリア基板81は、たとえばアルミナチタニウムカー
バイド(AlTiC)やケイ素など、当業者に周知の任
意の適切な材料で構成することができる。次に、基板8
1上に犠牲層または剥離層83を形成する。剥離層83
は、複数の目的に役立つ。剥離層83は、最終的に溶解
されて、完成したサスペンション/トランスデューサ・
アセンブリ80を基板81から解放する、犠牲層であ
る。剥離層83は、後で付着される摩耗層を成形するた
めにパターン形成することもできる。剥離層83は、た
とえば導電材料とすることができ、それによって、トラ
ンスデューサの磁極片など、後でめっき技法を使用して
付着される層のためのシード層またはめっきベース層と
して機能することができる。剥離層83の有望な候補と
しては、スパッタリングまたはめっき法によって付着で
きるNiFeまたはCuがある。次に、剥離層83上に
バリア層85を形成する。
複数の機能を果たす。バリア層85は、剥離層83か
ら、後で付着される層を分離するために使用される。た
とえば、図9ないし14に関して説明したように形成さ
れる磁極片構造70およびヘッド90を、後で付着され
る層とすることができる。したがって、図15の磁極片
71および73はそれぞれ、図9ないし14の磁極片6
8および56に関して説明したのと同じ方法で形成する
ことができる。バリア層85は、後で剥離層83を溶解
するのに使用されるエッチング材から磁極片を保護する
ためのエッチ・ストップとして働く。また、バリア層8
5は、たとえば前述の、磁極片71および73をめっき
するためのシード層として使用することができる。さら
に、バリア層85を摩耗層として使用して、回転する磁
気媒体に近接した動作中に磁極片を保護することができ
る。この使用法では、バリア層85を、接触記録モード
で寿命を延ばすのに役立つ導電材料とすることが好まし
い。バリア層85を摩耗層としては使用しない場合は、
剥離層83を溶解した後にそれを除去することが好まし
い。
70を作成するための薄膜付着工程を、図9ないし14
に関して説明した。説明した工程は、磁極端とそれらの
磁極端間の磁気ギャップの形成だけに関するものだった
が、磁極片構造70の製造が、分離した工程ではなく、
ヘッド90全体の製造と統合されたものであることが、
当業者には理解されよう。たとえば、下部磁極片または
下部ヨーク73の全体は通常、第1の磁極片層56を形
成してから下部ヨーク73の残り部分を形成するのでは
なく、1回のめっき処理で形成される。一方、製造時に
生じる、当業者に周知の様々な問題のために、上側の第
2の磁極片68は別のめっき段階で形成し、上部の磁極
片または上部ヨーク71の残り部分は、コイル巻線77
およびリード線導体79を形成した後に次の工程段階で
めっきし、第2の磁極片68に「スティッチする」。あ
るいは、第2の磁極片68を含む上部磁極片71全体
を、コイル巻線77およびリード線導体79をめっきし
た後の単一の工程段階に含めることもできる。同様に、
コイル巻線77が埋め込まれる分離層58を含む誘電層
75の形成を、第2の磁極片68をめっきする前の単一
の段階または一連の段階で行うこともできる。ただし、
Cuなどの非磁性導電材料を分離層58として使用する
場合は、絶縁材料中にコイル巻線77を埋め込まねばな
らないので、誘電層75を別個に形成することが必要に
なる。
点で、磁気トランスデューサ70上に、たとえばアルミ
ナなどの適切な誘電材料の層を付着して、トランスデュ
ーサ/サスペンション・アセンブリ80を形成し、トラ
ンスデューサ70を(図1および2に示すように)磁気
媒体に対して検知可能な位置関係で支持する。サスペン
ション部87は、サスペンション部87を形成する層中
に埋め込まれたコイル巻線77および関連するリード線
導体79を含む。サスペンション部87中の、トランス
デューサ90に対向する端部にある、導体リード線79
の外部端子の所に接触スタッド78を形成する。
83を一次シード層として使用し、可能ならその上に薄
い導電性バリア層85を設けて、完成した磁極片構造7
0用の摩耗層を提供することである。それによって、ラ
ップ仕上げ工程なしで摩耗層を薄くすることができる。
この実施例では、磁極片71および73をめっき・パー
マロイ工程によって形成することが好ましい。この製造
工程で平坦な磁極片構造70を得るために、磁極片を軽
くラップ仕上げしなければならない場合がある。
アセンブリ本体を所望の形状に製造して特定のサスペン
ション特性を提供する、本発明の実施例の透視図が示さ
れている。リード・アセンブリは薄膜技法によって基板
上に製造されるので、サスペンションを局部的に成形し
補剛することが可能である。サスペンション・システム
の形状は、前述の米国特許第4167765号、または
一般に使用されている他の平面図の形状に示された形状
にすることができる。サスペンションの平面形状は、本
発明を限定するものとみなすべきではない。図16で、
リード・アセンブリ本体92は、全体として長方形の
(並列パイプ式)形状をもつ細長い構造を有する。この
構造では、サスペンション特性が、主として、材質と、
構造の長さ、幅、および厚さによって決定される。図1
6で、リード・アセンブリ本体94はサスペンション部
91を備えている。サスペンション部91中に、本体の
幅を変えることによって、トランスデューサ部95に向
かって幅が狭くなっていく台形部93が形成されてい
る。この実施例では、サスペンション特性は、主とし
て、サスペンション部91とトランスデューサ部95の
間の幅の変化と、幅変化率、すなわち台形部93の長さ
とによって決定される。図18および19は、図16の
リード・アセンブリを示している。このリード・アセン
ブリでは、リード・アセンブリ本体96および98のそ
れぞれのサスペンション部の上面に、1つまたは複数の
縦リブ97あるいは1つまたは複数の横溝99がそれぞ
れ形成されている。これらの実施例では、縦リブ97ま
たは横溝99の数および寸法がそれぞれ、選択的な補剛
をもたらし、あるいはリード・アセンブリのサスペンシ
ョンの剛性の削減をもたらす。
ターン形成を行ってプロセス・キャリア基板の上面に平
行な平面内に薄膜サスペンション・システムを作成し、
選択的な補剛を提供するために使用される、1つの加工
技法を示す、図19のリード・アセンブリのサスペンシ
ョン部の側面図が示されている。図20に示すように、
基板102上に剥離層100が形成される。剥離層10
0の厚さを局部的に変化させて、薄い部分104と厚い
部分106を形成し、逆レリーフの所望のサスペンショ
ン・パターンを有する鋳型を提供する。これは、たとえ
ば、2つの剥離材料の層をめっきすることによって行
う。フォトレジストにより、または剥離材料の薄い層を
めっきしてから剥離層100の各領域を局部的にミリン
グまたはエッチングすることによって、第2の層をパタ
ーン形成する。この方法は、ABS輪郭鋳型の作成にも
役立つ。剥離層100の鋳型上にサスペンション材料1
08を付着し、サスペンション材料108の厚さを選択
的に変化させる。サスペンション材料108は、剥離層
100から分離すると、図21に示す薄膜トランスデュ
ーサ/サスペンション・リード・アセンブリのサスペン
ション部110になる。
ン材料層111を局部的にエッチングまたはパターン形
成する第2の手法を、図22および23に示す。剥離層
112は、基板114上に剥離材料を付着することによ
って形成する。サスペンション層110の上部にフォト
レジストでパターンを形成し、各部分116にエッチン
グを施して、その全長に沿って柔軟なサスペンション層
を設ける。サスペンション層の上部は、各部分116で
エッチングするが、剥離層112および基板114に取
り付けたままにしておく。剥離層112を溶解した後、
輪郭付きのサスペンション部118が得られる。図20
および22に示す技法を組み合わせて使用することによ
り、サスペンション・システムの上面および下面にバッ
チ工程で所望のフィーチャを形成することができる。図
示した技法を使用し、局部パターン形成によってサスペ
ンション構造を得ることができ、局部的に剛性を増減す
ると共に、所望の空気軸受表面輪郭を得ることができ
る。
トランスデューサを組み込んだ組合せトランスデューサ
/サスペンション・アセンブリ120の側面図が示され
ている。アセンブリ120は、前述のラザーリ側壁工程
によって製造可能な水平トランスデューサ122を含
む。摩耗層124およびコイル126を同じ工程で製造
することができる。導体リード線128およびスタッド
・パッド130は、図15に関して説明したように薄膜
サスペンション部132の全長に沿って設けることがで
きる。サスペンション部132は、トランスデューサ1
22を支持する1つまたは複数の補剛部134および1
36と、トランスデューサ122の飛翔高さを制御する
輪郭付き空気軸受表面部136を含むことができる。
あることが好ましい。導体リード線128は、サスペン
ション部132に沿ってスタッド・パッド130まで延
びる。導体リード線128はストライプ・ライン配列に
構成する。これは、サスペンション部132が薄く、か
つ必要とされる応力対称性がストライプライン設計と整
合するからである。サスペンション部132は、図20
の剥離層上にアルミナまたは他の適切な材料を付着する
ことによって製造することが好ましい。標準スタッドお
よびパッド技法を使用してスタッド・パッド130を作
成すると、アセンブリ120が完成する。アルミナの薄
い付着を使用して、水平型トランスデューサ122を完
全に密封してから、ラップ仕上げ処理によってトランス
デューサ・サスペンション・アセンブリの上面を平坦化
することができる。
いし50μmの厚さにスパッタ付着することが好まし
い。サスペンションの形状は、アルミナのオーバーコー
トおよびアンダーコートをエッチングすることによって
形成する。サスペンション形状を形成した後、剥離層を
溶解すると、ヘッド/サスペンション装置が解放されて
実際に使用できるようになる。
例は、縦方向記録に適しており、磁極端および空気軸受
表面輪郭に沿って耐摩耗性がある。この構造は、出発ウ
ェーハ表面に平行な平面内でバッチ処理することがで
き、最大のアクチュエータ帯域幅を得るための異方性補
剛を可能にする。広範囲なラップ仕上げ工程が不要とな
るので、これらのサスペンション/トランスデューサ・
アセンブリの製造が容易になる。
明したが、本発明の趣旨および範囲から逸脱することな
く、その形態および詳細に様々な変更を加えられること
が、当業者には理解されよう。たとえば、本発明の出願
人に譲渡された米国特許第4190872号に記載され
たウェーハ上にトランスデューサを作成することができ
る。ウェーハは、本発明の出願人に譲渡された米国特許
第4251841号の主題である材料などで製造するこ
とができる。本発明のサスペンション部はスパッタ付着
されたアルミナで構成することが好ましいが、他の付着
方法を使用することもでき、他の適切な酸化物、窒化
物、炭化物、ガラス、無定形炭素、ダイヤモンド状炭
素、適切な導電材料および絶縁材料の積層結合材料を含
む、他の材料を使用することもできる。好ましい実施例
によるサスペンション部は、ポリイミド材料とその上に
付着された金属層から成る二重層として、サスペンショ
ン・アセンブリに必要な十分な弾性および剛性を提供す
ることができる。単一の層で適切な厚さおよび剛性が得
られる場合は、単一の層でサスペンション・アセンブリ
を作成できることに留意されたい。また、導電回路およ
びトランスデューサ・リード線を形成するのに、多数の
導電材料が利用可能であることにも留意されたい。銅ま
たは金が好ましい導電材料であるが、当技術分野で周知
の他の多数の材料も利用可能である。本明細書では空気
軸受サスペンションについて論じたが、本発明は、空気
軸受表面が、動作中に媒体と接触させることが可能な任
意の適切な表面である、接触記録を含む。また、本発明
から逸脱することなく、線形アクチュエータを回転式ア
クチュエータとすることができる点にも留意されたい。
ルのディスク表面に対して変換の可能な位置関係に位置
決めするために取り付けられた、本発明による組合せリ
ード・アセンブリの透視図である。
ード・アセンブリを使用する、磁気記録機構の平面図で
ある。
/サスペンション・アセンブリの好ましい実施例の断面
図である。
る。
み込まれた磁極端設計の断面図である。
施例の断面図である。
施例の断面図である。
1実施例の製造に含まれる、最初の工程段階を示す断面
図である。
の1実施例の製造に含まれる、図9に続く工程段階を示
す断面図である。
の1実施例の製造に含まれる、図10に続く工程段階を
示す断面図である。
の1実施例の製造に含まれる、図11に続く工程段階を
示す断面図である。
の1実施例の製造に含まれる、図12に続く工程段階を
示す断面図である。
の1実施例の製造に含まれる、図13に続く工程段階を
示す断面図である。
処理層を示す断面図である。
ンブリの透視図である。
ンブリの透視図である。
ンブリの透視図である。
・アセンブリの透視図である。
空気軸受表面(ABS)の輪郭形成を行うための処理技
法を示す側面図である。
空気軸受表面(ABS)の輪郭形成を行うための処理技
法を示す側面図である。
空気軸受表面(ABS)の輪郭形成を行うための処理技
法を示す側面図である。
空気軸受表面(ABS)の輪郭形成を行うための処理技
法を示す側面図である。
トランスデューサ・ヘッドおよびサスペンションから構
成される別の好ましいリード・アセンブリの側面図であ
る。
センブリ 24 トランスデューサ・スライダ 26 サスペンション部 33 成形突起 35 摩耗層 37 回転式アクチュエータ 40 ヘッド 42A 磁極端 43 上部ヨーク 45 下部ヨーク 47 水平ギャップ 49 導体リード線 51 終端ボンディング・パッド 53 フロント・スタッド 55 バックギャップ・スタッド
Claims (16)
- 【請求項1】水平な第1の磁極片と、 傾斜したギャップ層と、 前記ギャップ層に隣接する傾斜した構成要素と、前記第
1の磁極片から磁気的に分離されているが該磁極片に隣
接する水平構成要素とを有する、第2の磁極片とを備
え、 前記第1および第2の磁極片がそれぞれ対向する第1お
よび第2の磁極端を有し、第1の磁極片と第2の磁極片
の間に磁気ギャップを画定し、前記傾斜ギャップ層の一
部分が前記磁気ギャップ内に配設され、前記第1および
第2の磁極片がバックギャップ領域において磁気的に接
続されており、 さらに、前記第1および第2の磁極片から電気的に分離
されているが、該磁極片を磁気的に活性化するコイル
と、 前記第2の磁極片の水平構成要素を覆い、前記バックギ
ャップ領域を越えて延びる少なくとも1つの弾性材料層
を含み、前記第2の磁極片から電気的および磁気的に分
離されたサスペンション手段と、 前記ギャップ層の外部と前記第1および第2の磁極端と
を覆う摩耗層と、 前記サスペンション手段を補剛する手段とを備えること
を特徴とする、 組合せ薄膜磁気トランスデューサ/サスペンション・ア
センブリ。 - 【請求項2】a)誘電材料から形成され、第1の端部お
よび第2の端部を有する、本体部と、前記第1の端部に
配設された延長部とを有する形状に成形された、細長い
部材と、 b)前記細長い部材に埋め込まれ、前記細長い部材の前
記延長部の外面に配設された磁気ギャップを画定する少
なくとも2つの磁極片を有する、磁気トランスデューサ
手段と、 c)前記細長い部材の外面にアクセスすることができ、
前記細長い部材に含まれ、前記磁気トランスデューサ手
段と磁気的に連通する、導電体と、 d)前記細長い部材が、前記部材の第1の端部と第2と
の端部の間に配設された、前記部材を選択的に補剛する
手段とを備えることを特徴とする、 一体型トランスデューサ/サスペンション・アセンブ
リ。 - 【請求項3】ハウジングと、 前記ハウジング中に取り付けられ、データ・トラックに
データを記憶する手段を有する、少なくとも1枚の媒体
ディスクと、 前記ハウジング中で前記媒体ディスクを回転させる手段
と、 前記ハウジング中で、前記媒体ディスクに近接して位置
決めされるアクチュエータ・アームと、 前記アクチュエータ・アームに結合され、かつ 1)誘電材料から形成され、第1の端部と前記アクチュ
エータ・アームに取り付けられた第2の端部とを有し、
本体部と、第1の端部に前記媒体ディスクと接触するよ
うに配設された延長部とを有する形状に成形された、細
長い部材と、 2)前記細長い部材中に埋め込まれ、前記細長い部材の
前記延長部の外面に配設された磁気ギャップを画定する
少なくとも2つの磁極片を有する、トランスデューサ手
段と、 3)前記細長い部材の外面にアクセスすることができ、
前記細長い部材内に含まれ、前記トランスデューサ手段
と磁気的に連通する導電体と、 4)前記細長い部材の第1の端部と第2の端部の間に配
設された、前記細長い部材を選択的に補剛する手段とを
有する、 トランスデューサ/サスペンション・アセンブリとを備
えることを特徴とする、ディスク・ドライブ・アセンブ
リ。 - 【請求項4】基板表面上に剥離層を形成するステップ
と、 前記剥離層上に磁気材料から成る第1の磁気片を形成す
るステップと、 前記第1の磁極片の磁極端に磁気ギャップ層を形成する
ステップと、 前記第1の磁極片上に前記第1の磁極片を磁気的および
電気的に分離する分離層を形成するステップと、 前記分離層中に導電材料のコイルを形成するステップ
と、 その磁極端が前記磁気ギャップ層に隣接する、磁気材料
から成る第2の磁極片を形成するステップとを含み、 前記第1および第2の磁極片の前記磁極端がそれぞれ、
磁気ギャップを画定する前記磁気ギャップ層によって分
離されて対向する位置関係に配設され、前記第1および
第2の磁極片が、前記コイル中を通って延びる磁気バッ
クギャップを画定する前記磁気ギャップから離れた側の
端部に磁気的に接続され、 さらに、誘電材料から成り、前記第2の磁極片、前記分
離層、および前記コイルを覆い前記磁気バックギャップ
を越えて延びる少なくとも1つの誘電材料層を含む、サ
スペンション部材を形成するステップとを含むことを特
徴とする、 一体型磁気トランスデューサ/サスペンション・アセン
ブリを製造する方法。 - 【請求項5】前記第2の磁極片を形成するステップが、 前記第2の磁極片の前記磁極端を形成するステップと、 前記分離層の一部分の上に前記第2の磁極片の水平構成
要素を形成するステップと、 前記第2の磁極片の第1の端部を前記第2の磁極片の磁
極端に磁気的に接続するステップと、 前記第1の磁極片の、前記第1の磁極片の磁極端から離
れた側の端部に、前記コイル中を通って延びそれ自体を
前記第2の磁極片の第2の端部に磁気的に接続するバッ
クギャップ・スタッドを形成するステップとを含むこと
を特徴とする、請求項4に記載の方法。 - 【請求項6】前記サスペンション部材を形成するステッ
プが、柔軟材料の少なくとも1つの層を形成するステッ
プを含むことを特徴とする、 請求項4に記載の方法。 - 【請求項7】前記サスペンション部材を形成するステッ
プが、前記サスペンション部材を選択的に補剛するステ
ップを含むことを特徴とする、 請求項4に記載の方法。 - 【請求項8】基板表面上に剥離層を形成するステップ
と、 前記剥離層上にシード層(バリア層としてのものがある
場合を含む)を形成するステップと、 前記シード層上に磁性材料から成る第1の磁極片を形成
するステップと、 前記シード層上の前記第1の磁極片の端に磁気ギャップ
層を形成するステップと、 前記第1の磁極片を覆うようにして前記第1の磁極片を
磁気的にかつ電気的に分離する分離層を形成するステッ
プと、 前記分離層に導電材料から成るコイルを形成するステッ
プと、 磁極端が前記シード層上でかつ前記磁気ギャップ層に隣
接して形成され、当該磁極端と前記第1の磁極片の磁極
端とが各々磁気ギャップを画定するように前記磁気ギャ
ップ層によって分離された関係で配設され、前記第1の
磁極片とは当該磁気ギャップ層から離れた端において磁
気的に結合されて磁気バックギャップを画定するととも
に、かつ、前記コイルを通って延びるようにされる、磁
性材料から成る第2の磁極片を形成するステップと、 前記第2の磁極片、前記分離層および前記コイルを覆う
ような誘電材料から成る少なくとも1の層を含み、前記
磁気バックギャップから延びる、誘電材料から成るサス
ペンション部材を形成するステップと、 前記剥離層を前記基板から除去するが、磨耗層として提
供できるように前記シード層の少なくとも一部分を残し
て、一体型磁気トランスデューサ及びサスペンション・
アセンブリを得るステップとを有する、 一体型磁気トランスデューサ及びサスペンション・アセ
ンブリの製造方法 - 【請求項9】基板を提供するステップと、 前記基板上に剥離層を付着するステップと、 前記剥離層上にシード層を付着するステップと、 前記シード層上にフォトレジスト層を付着するステップ
と、 フォトレジスト層の一部分を除去するがシード層の一部
分を残すとともに、当該残されたシード層の一部分に張
り出るような傾斜のあるフォトレジスト層部分を残すス
テップと、 前記シード層上に前記傾斜のあるフォトレジスト層部分
に隣接した第1の磁極端を含む第1の磁極片を付着する
ステップと、 前記第1の磁極片上に前記傾斜のあるフォトレジスト層
部分に少なくともその一部が隣接した少なくとも1の分
離層を付着するステップと、 少なくとも前記第1の磁極端と前記分離層の一部とにほ
ぼ連続した関係での傾斜部分ができるように、フォトレ
ジスト層を除去するステップと、 前記第1の磁極端と前記分離層の一部とにできた前記傾
斜部分上にギャップ層を形成するステップと、 前記ギャップ層から所定の距離をもって壁ができるよう
にするが、当該壁と前記ギャップ層との間には前記シー
ド層の部分が残るような、パターンをもって、フォトレ
ジスト層を形成するステップと、 少なくとも前記残るようにされたシード層の部分上と前
記ギャップ層上とに第2の磁極片を付着するステップ
と、 前記第1の磁極片の厚さによって画定されるのど高さを
持つ磁極片構造が得られるように、前記パターンをもっ
たフォトレジスト層を除去するステップと、 前記剥離層を除去するステップとを有することを特徴と
する、 磁気ヘッド・アセンブリを作成する方法。 - 【請求項10】水平に延びる空気軸受表面を有する薄膜
磁気トランスデューサであって、 ほぼ水平に延びる第1の極片と、 前記空気軸受表面にほぼ平行に延びる前記第1の極片の
長手軸に鋭角で傾斜した傾斜端を有している、第1の極
片の極端と、 前記傾斜端に隣接してかつ平行であり、前記第1の極片
の長手軸に鋭角で傾斜した、傾斜ギャップ層と、 前記傾斜ギャップ層に隣接してかつ前記第1の極片から
磁気的に分離された水平構成要素とに隣接している傾斜
極端を有し、前記第1の極片とバックギャップ領域にお
いて磁気的に結合されている、第2の極片と、 前記第1の極片と前記第2の極片とから電気的には分離
されてはいるが、前記第1の極片と前記第2の極片とを
磁気的に活性可能にする、コイルとを有していて、 前記第1の極片の極端が、空気軸受表面の上方において
前記トランスデューサののど高さを画定するような厚さ
を持つ、 薄膜磁気トランスデューサ。 - 【請求項11】一体型トランスデューサ及びサスペンシ
ョン・アセンブリであって、 誘電材料から形成されていて、第1の端と第2の端とを
有していて、かつ、本体部と当該第1の端に配設される
延長部とを有するように形成されている、細長い弾性部
材と、 前記細長い弾性部材に埋め込まれており、第1の磁極片
と第2の磁極片とを有しており、これら磁極片の間にギ
ャップ層がはさまれて、前記細長い弾性部材の前記延長
部の外面に配設されて、磁気ギャップを画定する、磁気
トランスデューサ手段と、 前記細長い弾性部材の外面から電気的に通じるようにさ
れていて、前記細長い弾性部材の内部に含まれ、かつ、
前記磁気トランスデューサ手段と磁気的に通じている、
導電体と、 前記細長い弾性部材の外面に形成されていて、前記導電
体と電気的に通じている、電気接触パッドと、 前記延長部の前記外面において前記磁気ギャップをほぼ
覆っている、磨耗層とを有する、 一体型トランスデューサ及びサスペンション・アセンブ
リ。 - 【請求項12】ディスク・ドライブ・アセンブリであっ
て、 ハウジングと、 前記ハウジング内に取り付けられて、データ・トラック
内にデータを記憶する手段を持つ、少なくとも1の媒体
ディスクと、 前記ハウジング内において前記媒体ディスクを回転させ
る手段と、 前記媒体ディスクに近接して前記ハウジング内において
位置決められる、アクチュエータ・アームと、 前記アクチュエータ・アームに結合されたトランスデュ
ーサ及びサスペンション・アセンブリとを有していて、 当該トランスデューサ及びサスペンション・アセンブリ
が、 1) 誘電材料から形成され、第1の端と第2の端とを
有していて、本体部と延長部とを有するように形成され
ていて、当該第1の端に前記延長部が位置しているとと
もに前記媒体ディスクに位置決められ、当該第2の端は
前記アクチュエータ・アームに結合されている、細長い
弾性部材と、 2) 前記細長い弾性部材に埋め込まれて、第1の極片
と第2の極片とを有していて、かつ、これら極片の間に
はさまれたギャップ層が前記細長い弾性部材の前記延長
部の外面に位置する磁気ギャップを画定する、トランス
デューサ手段と、 3) 前記細長い部材の外面から電気的に通じることが
できるようにされていて、前記細長い部材の内部に含ま
れるとともに前記トランスデューサ手段に磁気的に通じ
ている、導電体と、 4) 傾斜のある極端とともに水平な極先端を有する第
1の磁極片及び傾斜のある極先端を有する第2の磁極片
とを有していて、 前記ギャップ層には、傾斜があり、第1の表面及び第2
の表面を有していて、当該第1の表面は前記第1の磁極
片の前記傾斜のある極端に係合し、当該第2の表面は前
記第2の磁極片の前記傾斜のある極先端に係合するもの
である、 ディスク・ドライブ・アセンブリ。 - 【請求項13】空気軸受表面を持つ薄膜水平磁気ヘッド
であって、 第1及び第2の薄膜極先端を有する、第1及び第2の薄
膜極片を有していて、 これら薄膜極先端の各々が、第1及び第2の薄膜表面と
薄膜エッジ表面とによって一部分の境界を示す薄膜を含
んでいて、当該薄膜エッジ表面は前記第1及び第2の薄
膜表面に連絡するようにされていて、かつ、前記薄膜の
厚さにわたって延びていて、 前記第1及び第2の薄膜極先端のうちの少なくとも一方
の薄膜極先端にある第1及び第2の薄膜表面は、前記空
気軸受表面に実質的に平行にされていて、 前記少なくとも一方の薄膜極先端の前記薄膜エッジ表面
は、前記空気軸受表面について鋭角に位置する平面にあ
るようにされていて、 薄膜ギャップ層が前記少なくとも一方の薄膜極先端の前
記薄膜エッジ表面上にあって前記空気軸受表面に鋭角で
あるようにされていて、 前記第1及び第2の薄膜極先端のうちの前記少なくとも
一方の薄膜極先端ではない他方の薄膜極先端は、前記空
気軸受表面に鋭角である前記薄膜ギャップ層上にあるよ
うにされている、 薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項14】請求項13の薄膜磁気ヘッドを含む磁気
媒体駆動装置であって、 ハウジングと、 前記ハウジングに取付けられて前記薄膜磁気ヘッドを支
持する、支持体と、 前記ハウジングに取付けられて磁気記録媒体を移動させ
る、媒体移動手段と、 前記支持体に接続されて、前記薄膜磁気ヘッドを移動し
ている磁気記録媒体の複数の位置に移動させて、前記磁
気記録媒体上にある複数のトラックについて信号処理可
能にする、位置決め手段と、 前記薄膜磁気ヘッド、前記媒体移動手段及び前記位置決
め手段に接続されて、前記薄膜磁気ヘッドについて信号
を処理し、前記磁気記録媒体の移動を制御し、かつ、前
記薄膜磁気ヘッドの位置決めを制御する、制御手段とを
有する、 磁気媒体駆動装置。 - 【請求項15】請求項13の薄膜磁気ヘッドを含む磁気
ヘッド・アセンブリであって、 第1及び第2の薄膜表面を有していて、少なくとも一方
の薄膜表面の少なくとも一部分が前記空気軸受表面に隣
接している、細長い薄膜サスペンションを有していて、 前記薄膜磁気ヘッドが前記細長い薄膜サスペンションに
埋め込まれている、磁気ヘッド・アセンブリ。 - 【請求項16】請求項13の薄膜磁気ヘッドであって、 前記第1及び第2の薄膜極先端のうちの他方の薄膜極先
端に含まれている薄膜エッジ表面が、前記空気軸受表面
に実質的に平行にされている、 薄膜磁気ヘッド。
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