JP2522663B2 - 液状硬化性樹脂組成物 - Google Patents
液状硬化性樹脂組成物Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は液状硬化性樹脂組成物に関し、特に光ファイ
バー用被覆材料として好適な液状硬化性樹脂組成物に関
する。
バー用被覆材料として好適な液状硬化性樹脂組成物に関
する。
光ファイバーの製造においては、ガラスファイバーの
熱溶融紡糸直後に保護補強を目的として樹脂被覆が施さ
れている。
熱溶融紡糸直後に保護補強を目的として樹脂被覆が施さ
れている。
この樹脂被覆として、光ファイバー表面にまず柔軟な
第１次被覆層を設けその外側により剛性の高い第２次被
覆層を設けた構造がよく知られている。
第１次被覆層を設けその外側により剛性の高い第２次被
覆層を設けた構造がよく知られている。
この第１次被覆層の材料としてはポリエステル（メ
タ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウ
レタン（メタ）アクリレート等を主成分とする種々の液
状硬化性樹脂組成物が知られている。
タ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウ
レタン（メタ）アクリレート等を主成分とする種々の液
状硬化性樹脂組成物が知られている。
ところで、光ファイバーは多様な環境下で使用される
ので、例えば−40℃程度においても伝送損失が小さいこ
とが求められる。一般に、光ファイバーの被覆材料の柔
軟性が損なわれると伝送損失が増大するので、光ファイ
バーの第１次被覆層には−40℃程度の低温においてもヤ
ング率が小さく柔軟であることが求められる。一方、光
ファイバーの被覆材料はガラスファイバーを保護補強す
るものであるからその第１次被覆層にはガラスファイバ
ーとの高い密着性も要求される。
ので、例えば−40℃程度においても伝送損失が小さいこ
とが求められる。一般に、光ファイバーの被覆材料の柔
軟性が損なわれると伝送損失が増大するので、光ファイ
バーの第１次被覆層には−40℃程度の低温においてもヤ
ング率が小さく柔軟であることが求められる。一方、光
ファイバーの被覆材料はガラスファイバーを保護補強す
るものであるからその第１次被覆層にはガラスファイバ
ーとの高い密着性も要求される。
しかし、従来の第１次被覆層用の材料は、前記したも
のを含め、一般に、光ファイバーとの密着性を高めると
低温におけるヤング率が大きくなるという問題を有して
いる。
のを含め、一般に、光ファイバーとの密着性を高めると
低温におけるヤング率が大きくなるという問題を有して
いる。
そこで、本発明の目的は、光ファイバー用被覆材料と
して用いた場合に、光ファイバーに対する密着性に優
れ、しかも−40℃程度の低温においても得られる硬化物
のヤング率が5kg/mm2以下と小さい液状硬化性樹脂組成
物を提供することにある。
して用いた場合に、光ファイバーに対する密着性に優
れ、しかも−40℃程度の低温においても得られる硬化物
のヤング率が5kg/mm2以下と小さい液状硬化性樹脂組成
物を提供することにある。
本発明は、前記問題点を解決するものとして、 （ａ）炭素原子数２〜６のオキシアルキレン基２種以上
から構成されるポリオキシアルキレン構造およびエチレ
ン性不飽和基を有するポリウレタン 65〜90重量％ （ｂ）分子中にアミノ基を少なくとも１個有するエチレ
ン性不飽和モノマー〔ただし、下記式： で表わされるアクリロイルモルホリンは除く〕２〜20重
量％ （ｃ）一般式（Ｉ）： 〔式中、R1は水素原子またはメチル基、R2は水素原子ま
たは炭素原子数１〜12のアルキル基、R3は炭素原子数２
〜６のアルキレン基であり、ｎは平均値であって１〜２
である〕 で表わされる（メタ）アクリレート ２〜20重量％ （ｄ）重合開始剤 0.1〜10重量％ を含有してなる液状硬化性樹脂組成物。
から構成されるポリオキシアルキレン構造およびエチレ
ン性不飽和基を有するポリウレタン 65〜90重量％ （ｂ）分子中にアミノ基を少なくとも１個有するエチレ
ン性不飽和モノマー〔ただし、下記式： で表わされるアクリロイルモルホリンは除く〕２〜20重
量％ （ｃ）一般式（Ｉ）： 〔式中、R1は水素原子またはメチル基、R2は水素原子ま
たは炭素原子数１〜12のアルキル基、R3は炭素原子数２
〜６のアルキレン基であり、ｎは平均値であって１〜２
である〕 で表わされる（メタ）アクリレート ２〜20重量％ （ｄ）重合開始剤 0.1〜10重量％ を含有してなる液状硬化性樹脂組成物。
を提供するものである。
本発明の液状硬化性樹脂組成物（以下、「組成物」と
称す）に用いられる（ａ）成分であるポリウレタン（以
下、「ポリマー（ａ）」と称す）は、炭素数２〜６のオ
キシアルキレン基２種以上から構成されるポリオキシア
ルキレン構造（以下、「特定のポリオキシアルキレン構
造」と称す）を有するジオール、エチレン性不飽和基を
有する化合物ならびにジイソシアネートを反応させるこ
とにより得られる。
称す）に用いられる（ａ）成分であるポリウレタン（以
下、「ポリマー（ａ）」と称す）は、炭素数２〜６のオ
キシアルキレン基２種以上から構成されるポリオキシア
ルキレン構造（以下、「特定のポリオキシアルキレン構
造」と称す）を有するジオール、エチレン性不飽和基を
有する化合物ならびにジイソシアネートを反応させるこ
とにより得られる。
以下に、上記のポリマー（ａ）の製法を例示する。
〔製法１〕 特定のポリオキシアルキレン構造を有するジオールと
ジイソシアネートとを反応させて得られる重合体の官能
基に、エチレン性不飽和基を有する化合物を反応させる
方法。
ジイソシアネートとを反応させて得られる重合体の官能
基に、エチレン性不飽和基を有する化合物を反応させる
方法。
〔製法２〕 ジイソシアネートとエチレン性不飽和基を有する化合
物を反応させて得られる付加体の官能基に特定のポリオ
キシアルキレン構造を有するジオールを反応させる方
法。
物を反応させて得られる付加体の官能基に特定のポリオ
キシアルキレン構造を有するジオールを反応させる方
法。
〔製法３〕 ジイソシアネート、特定のポリオキシアルキレン構造
を有するジオールおよびエチレン性不飽和基を有する化
合物を同時に反応させる方法。
を有するジオールおよびエチレン性不飽和基を有する化
合物を同時に反応させる方法。
上記の方法で用いられる特定のポリオキシアルキレン
構造を有するジオールは、例えば、エチレンオキシド、
プロピレンオキシド、テトラヒドロフラン、オキセタ
ン、置換オキセタン、テトラヒドロピラン、オキセパン
から選ばれる少なくとも２種の化合物を開環共重合する
ことにより得られる。
構造を有するジオールは、例えば、エチレンオキシド、
プロピレンオキシド、テトラヒドロフラン、オキセタ
ン、置換オキセタン、テトラヒドロピラン、オキセパン
から選ばれる少なくとも２種の化合物を開環共重合する
ことにより得られる。
これらの特定のポリオキシアルキレン構造を有するジ
オールのうち、プロピレンオキシドとテトラヒドロフラ
ンを重量比60:40〜5:95で共重合することにより得られ
るポリ（オキシプロピレン−オキシテトラメチレン）構
造を有するジオール、例えばポリオキシプロピレンポリ
オキシテトラメチレングリコール（以下、「PPTG」と称
する）が、特に好ましい。この場合、プロピレンオキシ
ドとテトラヒドロフランの重量比（プロピレンオキシド
／テトラヒドロフラン）が60/40を超えると、組成物の
硬化後の耐熱性が悪くなる。また、プロピレンオキシド
とテトラヒドロフランの重量比（プロピレンオキシド／
テトラヒドロフラン）が5/95より小さくなると組成物の
粘度が高くなる。
オールのうち、プロピレンオキシドとテトラヒドロフラ
ンを重量比60:40〜5:95で共重合することにより得られ
るポリ（オキシプロピレン−オキシテトラメチレン）構
造を有するジオール、例えばポリオキシプロピレンポリ
オキシテトラメチレングリコール（以下、「PPTG」と称
する）が、特に好ましい。この場合、プロピレンオキシ
ドとテトラヒドロフランの重量比（プロピレンオキシド
／テトラヒドロフラン）が60/40を超えると、組成物の
硬化後の耐熱性が悪くなる。また、プロピレンオキシド
とテトラヒドロフランの重量比（プロピレンオキシド／
テトラヒドロフラン）が5/95より小さくなると組成物の
粘度が高くなる。
またポリマー（ａ）の製造に用いられるジオールとし
ては、前記特定のポリオキシアルキレン構造を有するジ
オールとフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレ
イン酸、フマール酸、アジピン酸、セバシン酸等の多塩
基酸とを反応して得られるポリエステルジオール、前記
特定のポリオキシアルキレン構造を有するジオールとε
−カプロラクトンとを反応して得られるポリカプロラク
トンジオール等を挙げることができる。
ては、前記特定のポリオキシアルキレン構造を有するジ
オールとフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレ
イン酸、フマール酸、アジピン酸、セバシン酸等の多塩
基酸とを反応して得られるポリエステルジオール、前記
特定のポリオキシアルキレン構造を有するジオールとε
−カプロラクトンとを反応して得られるポリカプロラク
トンジオール等を挙げることができる。
上記特定のポリオキシアルキレン構造を有するジオー
ルは、例えばユニセーフ DC 1100（日本油脂（株）
製）、ユニセーフ 1800（同）、ユニセーフ DCB 110
0（同）、ユニセーフ DCB 1800（同）、PPTG 4000
（保土ヶ谷化学）、PPTG 2000（同）、PPTG 1000
（同）等の市販品としても入手することができる。
ルは、例えばユニセーフ DC 1100（日本油脂（株）
製）、ユニセーフ 1800（同）、ユニセーフ DCB 110
0（同）、ユニセーフ DCB 1800（同）、PPTG 4000
（保土ヶ谷化学）、PPTG 2000（同）、PPTG 1000
（同）等の市販品としても入手することができる。
これらのポリマー（ａ）は１種単独で用いても２種以
上併用してもよい。
上併用してもよい。
これらの特定のポリオキシアルキレン構造を有するジ
オールには特定のポリオキシアルキレン構造を有さない
ジオールおよび／またはジアミンを、本発明の効果が失
われない程度、併用することができる。
オールには特定のポリオキシアルキレン構造を有さない
ジオールおよび／またはジアミンを、本発明の効果が失
われない程度、併用することができる。
特定のポリオキシアルキレン構造を有さないジオール
としては、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポ
リエーテルジオール；エチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレン
グリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメ
チレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペン
チルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノールの
ような多価アルコールとフタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸、マレイン酸、フマール酸、アジピン酸、セバ
シン酸のような多塩基酸とを反応して得られるポリエス
テルジオール；水酸基を１分子中に２個有する液状ポリ
ブタジエンまたはこの化合物の水添物；ε−カプロラク
トンと、エチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコ
ール、ポリテトラメチレングリコール、1,6−ヘキサン
ジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキ
サンジメタノール、1,4−ブタンジオール等の２価のジ
オールを反応させて得られるポリカプロラクトンジオー
ル、DN−980（日本ポリウレタン（株））、DN−981
（同）、DN−982（同）、DN−983（同）、PC−8000（米
国PPG社）等の商品名で表わされるポリカーボネートジ
オール等を挙げることができる。
としては、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポ
リエーテルジオール；エチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレン
グリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメ
チレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペン
チルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノールの
ような多価アルコールとフタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸、マレイン酸、フマール酸、アジピン酸、セバ
シン酸のような多塩基酸とを反応して得られるポリエス
テルジオール；水酸基を１分子中に２個有する液状ポリ
ブタジエンまたはこの化合物の水添物；ε−カプロラク
トンと、エチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコ
ール、ポリテトラメチレングリコール、1,6−ヘキサン
ジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキ
サンジメタノール、1,4−ブタンジオール等の２価のジ
オールを反応させて得られるポリカプロラクトンジオー
ル、DN−980（日本ポリウレタン（株））、DN−981
（同）、DN−982（同）、DN−983（同）、PC−8000（米
国PPG社）等の商品名で表わされるポリカーボネートジ
オール等を挙げることができる。
これらの特定のポリオキシアルキレン構造を有さない
ジオールおよびジアミンはそれぞれ１種単独で用いて
も、２種以上併用してもよい。
ジオールおよびジアミンはそれぞれ１種単独で用いて
も、２種以上併用してもよい。
上記ジアミンとしては、例えばエチレンジアミン、テ
トラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、パラ
−フェニレンジアミン、4,4′−ジアミノジフェニルメ
タン等のジアミン；ヘテロ原子を含むジアミン；ポリエ
ーテルジアミンが挙げられる。
トラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、パラ
−フェニレンジアミン、4,4′−ジアミノジフェニルメ
タン等のジアミン；ヘテロ原子を含むジアミン；ポリエ
ーテルジアミンが挙げられる。
ジイソシアネート化合物としては、2,4−トリレンジ
イソシアネート、2,6−トルエンジイソシアネート、1,3
−キシレンジイソシアネート、1,4−キシレンジイソシ
アネート、１、５−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−
フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシ
アネート、3,3′−ジメチル−4,4′−ジフェニルメタン
ジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンシイソシ
アネート、3,3′−ジチメルフェニレンジイソシアネー
ト、4,4′−ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサメ
チレンジイソシアネート、イソフォロンジイソシアネー
ト、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネー
ト）等が挙げられる。
イソシアネート、2,6−トルエンジイソシアネート、1,3
−キシレンジイソシアネート、1,4−キシレンジイソシ
アネート、１、５−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−
フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシ
アネート、3,3′−ジメチル−4,4′−ジフェニルメタン
ジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンシイソシ
アネート、3,3′−ジチメルフェニレンジイソシアネー
ト、4,4′−ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサメ
チレンジイソシアネート、イソフォロンジイソシアネー
ト、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネー
ト）等が挙げられる。
これらのジイソシアネートは１種単独で用いても、２
種以上併用してもよい。
種以上併用してもよい。
さらに、エチレン性不飽和基を有する化合物として
は、例えば、水酸基、酸ハライド基またはエポキシ基を
有する（メタ）アクリル系化合物を挙げることができ
る。
は、例えば、水酸基、酸ハライド基またはエポキシ基を
有する（メタ）アクリル系化合物を挙げることができ
る。
水酸基を有する（メタ）アクリル系化合物としては、
例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２
−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒド
ロキシオクチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロ
キシペンタ（メタ）アクリレート、1,4−ブタンジオー
ルモノ（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘ
キシル（メタ）アクリレート、1,6−ヘキサンジオール
モノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモ
ノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ
（メタ）アクリレート、トリメチロールエタンジ（メ
タ）アクリレート、アルキルグリシジルエーテル、アリ
ールグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレ
ート等のグリシジル基含有化合物と（メタ）アクリル酸
との付加反応により得られる化合物、および下記の構造
式で表わされる（メタ）アクリレートを挙げることがで
きる。
例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２
−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒド
ロキシオクチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロ
キシペンタ（メタ）アクリレート、1,4−ブタンジオー
ルモノ（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘ
キシル（メタ）アクリレート、1,6−ヘキサンジオール
モノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモ
ノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ
（メタ）アクリレート、トリメチロールエタンジ（メ
タ）アクリレート、アルキルグリシジルエーテル、アリ
ールグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレ
ート等のグリシジル基含有化合物と（メタ）アクリル酸
との付加反応により得られる化合物、および下記の構造
式で表わされる（メタ）アクリレートを挙げることがで
きる。
（式中、R1は水素原子またはメチル基であり、ｎは１〜
５である） エポキシ基を有する（メタ）アクリル系化合物として
は、（メタ）アクリル酸のグリシジルエステル等が挙げ
られる。
５である） エポキシ基を有する（メタ）アクリル系化合物として
は、（メタ）アクリル酸のグリシジルエステル等が挙げ
られる。
酸ハライド基を有する（メタ）アクリル系化合物とし
ては、（メタ）アクリル酸クロライド、（メタ）アクリ
ル酸ブロマイド等の（メタ）アクリル酸ハライドを例示
することができる。これらのエチレン性不飽和基を有す
る化合物は１種単独で用いても、２種以上併用してもよ
い。
ては、（メタ）アクリル酸クロライド、（メタ）アクリ
ル酸ブロマイド等の（メタ）アクリル酸ハライドを例示
することができる。これらのエチレン性不飽和基を有す
る化合物は１種単独で用いても、２種以上併用してもよ
い。
次に上記製法１の好ましい実施態様を示す。
特定のポリオキシアルキレン構造を有するジオールの
水酸基１当量あたりのジイソシアネートの使用量は、約
0.5〜２モルである。この反応においては、通常、ナフ
テン酸銅、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、ラウ
リル酸ｎ−ブチルスズ、トリエチルアミン等の触媒を反
応物の総量100重量部に対して0.01〜1.0重量部用いて反
応を行う。この反応における反応温度は、通常、０〜80
℃である。
水酸基１当量あたりのジイソシアネートの使用量は、約
0.5〜２モルである。この反応においては、通常、ナフ
テン酸銅、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、ラウ
リル酸ｎ−ブチルスズ、トリエチルアミン等の触媒を反
応物の総量100重量部に対して0.01〜1.0重量部用いて反
応を行う。この反応における反応温度は、通常、０〜80
℃である。
このようにして得られる中間生成物の官能基に対して
エチレン性不飽和基を有する化合物を反応させるが、エ
チレン性不飽和基を有する化合物の使用量は、該中間生
成物の官能基１当量に対して約１モルであり、その反応
条件は、前記の中間生成物をつくる反応条件と同様であ
る。
エチレン性不飽和基を有する化合物を反応させるが、エ
チレン性不飽和基を有する化合物の使用量は、該中間生
成物の官能基１当量に対して約１モルであり、その反応
条件は、前記の中間生成物をつくる反応条件と同様であ
る。
次に上記製法２の好ましい実施態様を示す。
ジイソシアネート１モルに対してエチレン性不飽和基
を有する化合物約１モルを製法１と同様の反応条件で反
応させて得られる中間生成物の官能基１当量に対して特
定のポリオキシアルキレン構造を有するジオールの水酸
基が約１当量となるように使用し、製法１と同様の反応
条件で反応させる。
を有する化合物約１モルを製法１と同様の反応条件で反
応させて得られる中間生成物の官能基１当量に対して特
定のポリオキシアルキレン構造を有するジオールの水酸
基が約１当量となるように使用し、製法１と同様の反応
条件で反応させる。
次に上記製法３の好ましい実施態様を示す。
特定のポリオキシアルキレン構造を有するジオール１
モルに対してジイソシアネート0.5〜２モルおよびエチ
レン性不飽和基を有する化合物0.5〜２モルを製法１と
同様の反応条件で反応させる。
モルに対してジイソシアネート0.5〜２モルおよびエチ
レン性不飽和基を有する化合物0.5〜２モルを製法１と
同様の反応条件で反応させる。
上記製法１〜３の実施に際しては、ジオールに対して
二官能以外のポリオール、ジアミンに対して二官能以外
のポリアミンまたはジイソシアネートに対して二官能以
外のポリイソシアネートを生成物がゲル化しない程度に
併用することができ、通常、その併用量は、ジオール、
ジアミンまたはジイソシアネート100重量部に対して５
〜30重量部である。ここにおける二官能以外のポリオー
ルとしては、例えばグリセリンとプロピレンオキサイド
の付加生成物、グリセリン、1,2,3−ペンタントリオー
ル、1,2,3−ブタントリオール、トリ（２−ヒドロキシ
ポリオキシプロピル）ポリシロキサン、ポリカプロラク
トントリオール、ポリカプロラクトンテトラオール、１
分子中に２個を超える数の水酸基を有する液状ポリブタ
ジエンまたはこの化合物の水添物等を挙げることができ
る。二官能以外のポリアミンとしては、例えばジエチレ
ントリアミン、1,2,3−トリアミノプロパン、ポリオキ
シプロピレンアミン等を挙げることができ、二官能以外
のポリイソシアネート化合物としては、例えばポリメチ
レンポリフェニルイソシアネート、トリフェニルメタン
4,4′,4″−トリイソシアネート等を挙げることができ
る。
二官能以外のポリオール、ジアミンに対して二官能以外
のポリアミンまたはジイソシアネートに対して二官能以
外のポリイソシアネートを生成物がゲル化しない程度に
併用することができ、通常、その併用量は、ジオール、
ジアミンまたはジイソシアネート100重量部に対して５
〜30重量部である。ここにおける二官能以外のポリオー
ルとしては、例えばグリセリンとプロピレンオキサイド
の付加生成物、グリセリン、1,2,3−ペンタントリオー
ル、1,2,3−ブタントリオール、トリ（２−ヒドロキシ
ポリオキシプロピル）ポリシロキサン、ポリカプロラク
トントリオール、ポリカプロラクトンテトラオール、１
分子中に２個を超える数の水酸基を有する液状ポリブタ
ジエンまたはこの化合物の水添物等を挙げることができ
る。二官能以外のポリアミンとしては、例えばジエチレ
ントリアミン、1,2,3−トリアミノプロパン、ポリオキ
シプロピレンアミン等を挙げることができ、二官能以外
のポリイソシアネート化合物としては、例えばポリメチ
レンポリフェニルイソシアネート、トリフェニルメタン
4,4′,4″−トリイソシアネート等を挙げることができ
る。
本発明において、ポリマー（ａ）の総量に対する特定
のポリオキシアルキレン構造の割合は、通常、50〜95重
量％、好ましくは70〜90重量％、エチレン性不飽和基の
割合は、通常、0.5〜10重量％、好ましくは１〜８重量
％である。
のポリオキシアルキレン構造の割合は、通常、50〜95重
量％、好ましくは70〜90重量％、エチレン性不飽和基の
割合は、通常、0.5〜10重量％、好ましくは１〜８重量
％である。
また、ポリマー（ａ）は、通常、数平均分子量が3000
〜10000であり、3500〜8000であることが好ましい。こ
の数平均分子量が、3000未満であると得られる硬化物の
低温におけるヤング率が上昇し、10000を超えると組成
物の粘度が上昇し光ファイバーに対する塗工性が低下す
る。また、ポリマー（ａ）の組成物中に占める割合は、
65〜90重量％であることが必要であり、70〜85重量％で
あることが好ましい。この組成物中に占める割合が65重
量％未満であると、低温における硬化物のヤング率が上
昇し、90重量％を超えると光ファイバーに対する塗工性
が低下する。
〜10000であり、3500〜8000であることが好ましい。こ
の数平均分子量が、3000未満であると得られる硬化物の
低温におけるヤング率が上昇し、10000を超えると組成
物の粘度が上昇し光ファイバーに対する塗工性が低下す
る。また、ポリマー（ａ）の組成物中に占める割合は、
65〜90重量％であることが必要であり、70〜85重量％で
あることが好ましい。この組成物中に占める割合が65重
量％未満であると、低温における硬化物のヤング率が上
昇し、90重量％を超えると光ファイバーに対する塗工性
が低下する。
本発明の組成物に用いられる（ｂ）成分の分子中にア
ミノ基を少なくとも１個有するエチレン性不飽和モノマ
ーとしては、例えばＮ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル
カプロラクタム、アクリルアミド、N,N−ジメチルアク
リルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルア
ミド、オクチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアミノ
エチルアクリレート、N,N−ジエチルアミノエチルアク
リレート等の第３級アミノ基を有するモノエチレン性不
飽和モノマーが挙げられる。これらのうち、Ｎ−ビニル
ピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、比較的人間の
皮ふに対する刺戟が少ないので好ましい。
ミノ基を少なくとも１個有するエチレン性不飽和モノマ
ーとしては、例えばＮ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル
カプロラクタム、アクリルアミド、N,N−ジメチルアク
リルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルア
ミド、オクチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアミノ
エチルアクリレート、N,N−ジエチルアミノエチルアク
リレート等の第３級アミノ基を有するモノエチレン性不
飽和モノマーが挙げられる。これらのうち、Ｎ−ビニル
ピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、比較的人間の
皮ふに対する刺戟が少ないので好ましい。
これらの分子中にアミノ基を少なくとも１個有するエ
チレン性不飽和モノマーは１種単独で用いてもよいし、
２種以上併用してもよい。
チレン性不飽和モノマーは１種単独で用いてもよいし、
２種以上併用してもよい。
（ｂ）成分の組成物中に占める割合は、２〜20重量％
であることが必要であり、３〜12重量％であることが好
ましい。この（ｂ）成分の割合が２重量％未満である
と、得られる硬化物の光ファイバーに対する密着性が低
下し、20重量％を超えると、硬化物の吸水率が高くな
る。
であることが必要であり、３〜12重量％であることが好
ましい。この（ｂ）成分の割合が２重量％未満である
と、得られる硬化物の光ファイバーに対する密着性が低
下し、20重量％を超えると、硬化物の吸水率が高くな
る。
本発明の組成物に用いられる（ｃ）成分の（メタ）ア
クリレートを表わす一般式（Ｉ）において、R2で表わさ
れる炭素数１〜12のアルキル基としては、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、ノニル基
等、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基等が挙げ
られ、R3で表わされる炭素数２〜６のアルキレン基とし
ては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラ
メチレン基、ブチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメ
チレン基等が挙げられる。また、一般式（Ｉ）において
ｎが２を超えると得られる硬化物の光ファイバーに対す
る密着性が低下する。
クリレートを表わす一般式（Ｉ）において、R2で表わさ
れる炭素数１〜12のアルキル基としては、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、ノニル基
等、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基等が挙げ
られ、R3で表わされる炭素数２〜６のアルキレン基とし
ては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラ
メチレン基、ブチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメ
チレン基等が挙げられる。また、一般式（Ｉ）において
ｎが２を超えると得られる硬化物の光ファイバーに対す
る密着性が低下する。
（ｃ）成分の一般式（Ｉ）で表わされる（メタ）アク
リレートとしては、フェノキシエチル（メタ）アクリレ
ート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリ
レート、フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等が
挙げられ、市販品としてはアロニクスM101（東亜合成
（株）製）、アロニクスM111（東亜合成（株）製）等が
挙げられる。
リレートとしては、フェノキシエチル（メタ）アクリレ
ート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリ
レート、フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等が
挙げられ、市販品としてはアロニクスM101（東亜合成
（株）製）、アロニクスM111（東亜合成（株）製）等が
挙げられる。
これらの（ｃ）成分のうちではフェノキシエチルアク
リレートが好ましい。
リレートが好ましい。
（ｃ）成分の組成物中に占める割合は、２〜20重量％
であることが必要であり、３〜12重量％であることが好
ましい。この（ｃ）成分の割合が２重量％未満である
と、組成物の硬化速度が遅くなり、20重量％を超える
と、硬化物の低温におけるヤング率が大きくなる。
であることが必要であり、３〜12重量％であることが好
ましい。この（ｃ）成分の割合が２重量％未満である
と、組成物の硬化速度が遅くなり、20重量％を超える
と、硬化物の低温におけるヤング率が大きくなる。
本発明の組成物に用いられる（ｄ）成分として用い得
る光重合開始剤は、特に限定されず、例えば、１−ヒド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキ
シ−２−フェニルアセトフェノン、アセトフェノン、ベ
ンゾフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアル
デヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルア
ミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−
クロロベンゾフェノン、4,4′−ジメトキシベンゾフェ
ノン、4,4′−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケト
ン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプ
ロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパ
ン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェ
ニルプロパン−１−オン、チオキサントン系化合物、２
−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−
モルホリノ−プロパン−１−オン、2,4,6−トリメチル
ベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等が挙げ
られる。
る光重合開始剤は、特に限定されず、例えば、１−ヒド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキ
シ−２−フェニルアセトフェノン、アセトフェノン、ベ
ンゾフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアル
デヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルア
ミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−
クロロベンゾフェノン、4,4′−ジメトキシベンゾフェ
ノン、4,4′−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケト
ン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプ
ロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパ
ン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェ
ニルプロパン−１−オン、チオキサントン系化合物、２
−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−
モルホリノ−プロパン−１−オン、2,4,6−トリメチル
ベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等が挙げ
られる。
本発明の組成物に使用される（ｄ）成分として用い得
る熱重合開始剤も特に限定されず、種々のものを使用す
ることができ、例えば過酸化物、アゾ化合物を挙げるこ
とができ、具体例としては、ベンゾイルパーオキサイ
ド、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、アゾビスイソ
ブチロニトリル等を挙げることができる。
る熱重合開始剤も特に限定されず、種々のものを使用す
ることができ、例えば過酸化物、アゾ化合物を挙げるこ
とができ、具体例としては、ベンゾイルパーオキサイ
ド、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、アゾビスイソ
ブチロニトリル等を挙げることができる。
これらの重合開始剤は、１種単独で用いてもよいし、
２種以上を併用してもよく、また光重合開始剤を用いる
場合には必要に応じてアミン系化合物等の増感剤（光重
合促進剤）を併用することができる。
２種以上を併用してもよく、また光重合開始剤を用いる
場合には必要に応じてアミン系化合物等の増感剤（光重
合促進剤）を併用することができる。
（ｄ）成分の組成物中に占める割合は、0.1〜10重量％
であることが必要であり、２〜５重量％であることが好
ましい。この（ｄ）成分の割合が0.1重量％未満である
と、組成物の硬化速度が遅くなり、10重量％を超える
と、組成物の保存安定性、硬化後の耐熱耐汚水性が低下
する。
であることが必要であり、２〜５重量％であることが好
ましい。この（ｄ）成分の割合が0.1重量％未満である
と、組成物の硬化速度が遅くなり、10重量％を超える
と、組成物の保存安定性、硬化後の耐熱耐汚水性が低下
する。
本発明においては前記（ａ）〜（ｄ）成分以外にシラ
ンカップリング剤、例えばγ−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−
（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メ
ルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）ア
ミノプロピルトリエトキシシラン等を、組成物中に含ん
でいてもよい。これらのシランカップリング剤の組成物
中に占める割合は、通常、0.1〜５重量％であり、0.3〜
３重量％であることが好ましい。このシランカップリン
グ剤の割合が0.1重量％未満であると、湿度が高い場合
には得られる硬化物の光ファイバーに対する密着性が低
下し、５重量％を超えると、組成物の保存安定性が低下
する。
ンカップリング剤、例えばγ−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−
（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メ
ルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）ア
ミノプロピルトリエトキシシラン等を、組成物中に含ん
でいてもよい。これらのシランカップリング剤の組成物
中に占める割合は、通常、0.1〜５重量％であり、0.3〜
３重量％であることが好ましい。このシランカップリン
グ剤の割合が0.1重量％未満であると、湿度が高い場合
には得られる硬化物の光ファイバーに対する密着性が低
下し、５重量％を超えると、組成物の保存安定性が低下
する。
また、本発明の組成物には、必要に応じて他の添加剤
を使用することができ、例えば、エチレン性不飽和基を
有する前記（ｂ），（ｃ）成分以外の反応性希釈剤、老
化防止剤、重合禁止剤、レベリング剤等を配合すること
ができる。
を使用することができ、例えば、エチレン性不飽和基を
有する前記（ｂ），（ｃ）成分以外の反応性希釈剤、老
化防止剤、重合禁止剤、レベリング剤等を配合すること
ができる。
エチレン性不飽和基を有する（ｂ），（ｃ）成分以外
の反応希釈剤は、本発明の組成物の硬化性、得られる硬
化物の力学特性等に悪影響を及ぼさない範囲で使用する
ことができる。このような反応性希釈剤は、特に制限さ
れず、例えば２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−
ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフ
リルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エチ
ルジエチレングリコールアクリレート、イソボルニルア
クリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、シクロ
ヘキシルアクリレート、ジシクロペンタジエンアクリレ
ート、ポリエチレングリコールアクリレート、ポリプロ
ピレングリコールアクリレート、メチルトリエチレング
リコールアクリレート、７−アミノ−3,7−ジメチルオ
クチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ポリプ
ロピレングリコールメタクリレート、ジエチルアミノエ
チルメタクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、エチレングリコールジアクリレート、テトラ
エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリ
コールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリ
レート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリオキシエチルアクリレート、トリメチロール
プロパントリオキシプロピルアクリレート、ビニルフェ
ノール、アクリルアミド、酢酸ビニル、ビニルエーテ
ル、スチレン等が挙げられる。
の反応希釈剤は、本発明の組成物の硬化性、得られる硬
化物の力学特性等に悪影響を及ぼさない範囲で使用する
ことができる。このような反応性希釈剤は、特に制限さ
れず、例えば２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−
ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフ
リルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エチ
ルジエチレングリコールアクリレート、イソボルニルア
クリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、シクロ
ヘキシルアクリレート、ジシクロペンタジエンアクリレ
ート、ポリエチレングリコールアクリレート、ポリプロ
ピレングリコールアクリレート、メチルトリエチレング
リコールアクリレート、７−アミノ−3,7−ジメチルオ
クチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ポリプ
ロピレングリコールメタクリレート、ジエチルアミノエ
チルメタクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、エチレングリコールジアクリレート、テトラ
エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリ
コールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリ
レート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリオキシエチルアクリレート、トリメチロール
プロパントリオキシプロピルアクリレート、ビニルフェ
ノール、アクリルアミド、酢酸ビニル、ビニルエーテ
ル、スチレン等が挙げられる。
このようにして調製される本発明の組成物の粘度は、
通常、1000〜20000cP/25℃、好ましくは2000〜10000cP/
25℃であり、硬化後のヤング率は、通常、0.01〜0.7kg/
mm2（温度23℃）である。
通常、1000〜20000cP/25℃、好ましくは2000〜10000cP/
25℃であり、硬化後のヤング率は、通常、0.01〜0.7kg/
mm2（温度23℃）である。
本発明の組成物を光ファイバーに施して第１次被覆層
を形成するには、例えば、紡糸直後にガラスファイバー
の表面に組成物を硬化後の膜厚が10〜200μｍ程度とな
るように適宜な方法で塗工した後、紫外線、電子線等の
放射線を照射して、または加熱して組成物を硬化させれ
ばよい。
を形成するには、例えば、紡糸直後にガラスファイバー
の表面に組成物を硬化後の膜厚が10〜200μｍ程度とな
るように適宜な方法で塗工した後、紫外線、電子線等の
放射線を照射して、または加熱して組成物を硬化させれ
ばよい。
こうして得られた柔軟な第１次被覆層の外側により剛
性の高い第２次被覆層を設ける場合には、さらに、第１
次被覆層の上にポリアミド樹脂、液晶ポリエステル樹脂
や一般の熱硬化型または紫外線ないし電子線硬化型材
料、例えば、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポ
キシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレ
ート等を塗工しこれを硬化させればよい。
性の高い第２次被覆層を設ける場合には、さらに、第１
次被覆層の上にポリアミド樹脂、液晶ポリエステル樹脂
や一般の熱硬化型または紫外線ないし電子線硬化型材
料、例えば、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポ
キシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレ
ート等を塗工しこれを硬化させればよい。
実施例 以下本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明は、これら実施例に限定されるものではない。な
お、実施例中「部」は重量部を意味する。
本発明は、これら実施例に限定されるものではない。な
お、実施例中「部」は重量部を意味する。
実施例１ 攪拌機を備えた反応容器に、2,4−トリレンジイソシ
アナート81.46g、ジブチル錫ジラウレート1gおよび重合
禁止剤である2,6−ジｔ−ブチル−４−メチルフェノー
ル1gを仕込んだ。これに数平均分子量3700のポリオキシ
プロピレンポリオキシテトラメチレングリコール（商品
名PPTG4000,保土谷化学（株）製）864.23gを内温を40〜
50℃に保持しながら２時間にわたって添加した。添加終
了後、更に、40〜50℃で１時間攪拌を続けた。その後、
ヒドロキシエチルアクリレート54.31gを内温を40〜50℃
に保持しながら添加して、（ａ）成分である数平均分子
量4300のポリマー（Ａ）を得た。
アナート81.46g、ジブチル錫ジラウレート1gおよび重合
禁止剤である2,6−ジｔ−ブチル−４−メチルフェノー
ル1gを仕込んだ。これに数平均分子量3700のポリオキシ
プロピレンポリオキシテトラメチレングリコール（商品
名PPTG4000,保土谷化学（株）製）864.23gを内温を40〜
50℃に保持しながら２時間にわたって添加した。添加終
了後、更に、40〜50℃で１時間攪拌を続けた。その後、
ヒドロキシエチルアクリレート54.31gを内温を40〜50℃
に保持しながら添加して、（ａ）成分である数平均分子
量4300のポリマー（Ａ）を得た。
次に上記ポリマー（Ａ）75部に対しフェノキシエチル
アクリレート８部、Ｎ−ビニルピロリドン10部、ベンジ
ルジメチルケタール５部、γ−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン２部を均一に混合して、25℃におけ
る粘度が7500cPの組成物を得た。
アクリレート８部、Ｎ−ビニルピロリドン10部、ベンジ
ルジメチルケタール５部、γ−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン２部を均一に混合して、25℃におけ
る粘度が7500cPの組成物を得た。
実施例２ 実施例１において、フェノキシエチルアクリレートの
使用量を８部から13部に、Ｎ−ビニルピロリドンの使用
量を10部から５部に変えた以外は実施例１と同様にし
て、25℃における粘度が9500cPの組成物を得た。
使用量を８部から13部に、Ｎ−ビニルピロリドンの使用
量を10部から５部に変えた以外は実施例１と同様にし
て、25℃における粘度が9500cPの組成物を得た。
実施例３ 実施例１において、フェノキシエチルアクリレート８
部の代りにアローニックスM101（商品名、東亜合成化学
（株）製）８部を用いた以外は、実施例１と同様にして
25℃における粘度が10000cPの組成物を得た。
部の代りにアローニックスM101（商品名、東亜合成化学
（株）製）８部を用いた以外は、実施例１と同様にして
25℃における粘度が10000cPの組成物を得た。
実施例４ 実施例１においてＮ−ビニルピロリドン10部の代りに
Ｎ−ビニルカプロラクタム10部を用いた以外は、実施例
１と同様にして25℃における粘度が9000cPの組成物を得
た。
Ｎ−ビニルカプロラクタム10部を用いた以外は、実施例
１と同様にして25℃における粘度が9000cPの組成物を得
た。
比較例１ 実施例１において前記ポリマー（Ａ）の使用量を75部
から60部に、フェノキシエチルアクリレートの使用量を
８部から23部に変えた以外は、実施例１と同様にして25
℃における粘度が3000cPの組成物を得た。
から60部に、フェノキシエチルアクリレートの使用量を
８部から23部に変えた以外は、実施例１と同様にして25
℃における粘度が3000cPの組成物を得た。
比較例２ 実施例１においてフェノキシエチルアクリレート８部
の代りに式： で表わされるアローニクスM113（商品名、東亜合成化学
（株）製）８部を用いた以外は実施例１と同様にして、
25℃における粘度が14000cPの組成物を得た。
の代りに式： で表わされるアローニクスM113（商品名、東亜合成化学
（株）製）８部を用いた以外は実施例１と同様にして、
25℃における粘度が14000cPの組成物を得た。
試験例 上記実施例および比較例で調製した各組成物につい
て、下記の方法で基材に対する密着性および硬化物のヤ
ング率を測定した。結果を表１に示す。
て、下記の方法で基材に対する密着性および硬化物のヤ
ング率を測定した。結果を表１に示す。
密着性の測定 （ｉ）組成物を石英板上に硬化後の厚さが0.2mmとなる
ように塗布した後、その上に合計照射エネルギーが1J/c
m2に相当する紫外線をメタルハライドランプを用いて照
射し、硬化皮膜を得た。
ように塗布した後、その上に合計照射エネルギーが1J/c
m2に相当する紫外線をメタルハライドランプを用いて照
射し、硬化皮膜を得た。
（ii）石英板上の硬化皮膜を幅1cmのテープ状に石英板
上に残し、硬化皮膜の一端を石英板に対して垂直方向に
引張って剥離させ、剥離に要する力を測定しその平均値
を硬化皮膜の石英板に対する密着力として評価した。
上に残し、硬化皮膜の一端を石英板に対して垂直方向に
引張って剥離させ、剥離に要する力を測定しその平均値
を硬化皮膜の石英板に対する密着力として評価した。
ヤング率の測定 密着性の評価試験と同様にして石英板上に形成した硬
化皮膜を幅6mmのテープ状に残し、剥離したものを試料
とし、JIS K6911に規定の引張試験法により標線間25mm
で23℃および−40℃におけるヤング率を測定した。
化皮膜を幅6mmのテープ状に残し、剥離したものを試料
とし、JIS K6911に規定の引張試験法により標線間25mm
で23℃および−40℃におけるヤング率を測定した。
〔発明の効果〕 本発明の組成物は、種々の放射線、例えば、電子線、
紫外線、可視光線等により、または加熱により硬化する
ものである。
紫外線、可視光線等により、または加熱により硬化する
ものである。
本発明の組成物から得られる硬化物は、基材、例えば
石英に対する密着性に優れ、しかも広い温度範囲でヤン
グ率が小さく、例えば−40℃程度の低温においてもヤン
グ率が5kg/mm2以下と著しく優れたものである。
石英に対する密着性に優れ、しかも広い温度範囲でヤン
グ率が小さく、例えば−40℃程度の低温においてもヤン
グ率が5kg/mm2以下と著しく優れたものである。
したがって、本発明の組成物は、光ァイバー用被覆材
料として優れたものであり、また種々基材の被覆材料等
としても優れたものである。
料として優れたものであり、また種々基材の被覆材料等
としても優れたものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 五十嵐 勝利 東京都中央区築地２丁目11番24号 日本 合成ゴム株式会社内 (72)発明者 布施 和雄 東京都中央区築地２丁目11番24号 日本 合成ゴム株式会社内 (72)発明者 クライヴ・コウデイ アメリカ合衆国，イリノイ州 60195, ハノーバー・パーク，ビクター・レイン 1875 (72)発明者 ブライアン ハンラハン アメリカ合衆国，イリノイ州 60195, シアウムブルク，エー・ピー・ティー. ２−０，イー・アルゴンキアン ロード 1304 (56)参考文献 特開 昭61−98716（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−133275（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−130608（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】（ａ）炭素原子数２〜６のオキシアルキレ
ン基２種以上から構成されるポリオキシアルキレン構造
およびエチレン性不飽和基を有するポリウレタン 65〜90重量％ （ｂ）分子中にアミノ基を少なくとも１個有するエチレ
ン性不飽和モノマー〔ただし、下記式： で表わされるアクリロイルモルホリンは除く〕２〜20重
量％ （ｃ）一般式（Ｉ）： 〔式中、R1は水素原子またはメチル基、R2は水素原子ま
たは炭素原子数１〜12のアルキル基、R3は炭素原子数２
〜６のアルキレン基であり、ｎは平均値であって１〜２
である〕 で表わされる（メタ）アクリレート ２〜20重量％ （ｄ）重合開始剤 0.1〜10重量％ を含有してなる液状硬化性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62146823A JP2522663B2 (ja) | 1987-06-12 | 1987-06-12 | 液状硬化性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62146823A JP2522663B2 (ja) | 1987-06-12 | 1987-06-12 | 液状硬化性樹脂組成物 |
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