JP2020509604A - 光電変換効率を向上可能なperc太陽電池及びその製造方法 - Google Patents

光電変換効率を向上可能なperc太陽電池及びその製造方法 Download PDF

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本出願は光電変換効率を向上可能なPERC太陽電池及びその製造方法を提供する。太陽電池は、下から上へ順次配置される裏面銀電極1、アルミニウム裏面電極2、裏面窒化シリコン膜3、裏面酸化アルミニウム膜4、P型シリコン5、N型シリコン6、表面窒化シリコン膜7及び表面銀電極8を備え、アルミニウム裏面電極2は裏面アルミストリップ10を介してP型シリコン5に接続され、P型シリコン5は電池のシリコンウェハであり、N型シリコン6はシリコンウェハの表面で拡散させて形成されたN型エミッタであり、表面窒化シリコン膜7はシリコンウェハの表面に堆積され、裏面酸化アルミニウム膜4はシリコンウェハの裏面に堆積され、シリコンウェハに表面窒化シリコン膜7が堆積された後に裏面酸化アルミニウム膜4が堆積され、裏面酸化アルミニウム膜3が堆積される前にシリコンウェハの裏面を洗浄する。【選択図】図1

Description

本発明は太陽電池の技術分野に関し、特に、光電変換効率を向上可能なPERC太陽電池及びその製造方法に関する。
結晶シリコン系太陽電池は、太陽放射エネルギーを効率的に吸収し、光起電効果によって光エネルギーを電気エネルギーに変換する素子であり、太陽光が半導体のPN接合に照射されると、新たな正孔−電子対を形成し、PN接合の電界により、正孔がN型領域からP型領域へ移動し、電子がP型領域からN型領域へ移動することにより、回路が連通して電流を形成する。
従来の結晶シリコン系太陽電池は、基本的に表面パッシベーション技術のみを使用しており、シリコンウェハの表面にPECVD(Plasma−Enhanced Chemical Vapor Deposition、プラズマ促進化学気相堆積)の方法で窒化シリコンを一層堆積し、少数キャリアの表面での再結合速度を下げ、結晶シリコン系電池の開放回路電圧及び短絡電流を大幅に向上させることで、結晶シリコン系太陽電池の光電変換効率を向上させることができる。
結晶シリコン系電池の光電変換効率に対する要求が高まるにつれて、裏面パッシベーション型(Back purification)太陽電池技術を研究し始めた。
本発明は、裏面酸化アルミニウム膜のパッシベーション効果を著しく向上させ、電池の汚染を減らし、電池の開放電圧及び短絡電流を高めることで、電池の光電変換効率を向上させることができる光電変換効率を向上可能なPERC太陽電池を提供すること目的の一つとする。
本発明は、上記光電変換効率を向上可能なPERC太陽電池の製造方法を提供することを2つ目の目的とする。
本発明のこの目的は、下記の技術手段によって実現される。
光電変換効率を向上可能なPERC太陽電池は、下から上へ順次配置される裏面銀電極、アルミニウム裏面電極、裏面窒化シリコン膜、裏面酸化アルミニウム膜、P型シリコン、N型シリコン、表面窒化シリコン膜及び表面銀電極を備え、裏面には、さらに、前記裏面窒化シリコン膜及び裏面酸化アルミニウム膜を開口してP型シリコンまでわたる複数のレーザーグルービング領域が開設され、複数のレーザーグルービング領域が平行に設置され、各レーザーグルービング領域内のそれぞれには裏面アルミストリップが充填され、前記裏面アルミストリップ及び前記アルミニウム裏面電極はアルミニウムペーストによって一体的に印刷によって成形され、アルミニウム裏面電極は裏面アルミストリップを介してP型シリコンに接続され、前記裏面銀電極、アルミニウム裏面電極、裏面窒化シリコン膜、裏面酸化アルミニウム膜、P型シリコン、N型シリコン、表面窒化シリコン膜及び表面銀電極は、下から上へ順次に接続され、前記P型シリコンは電池のシリコンウェハであり、N型シリコンはシリコンウェハの表面で拡散して形成されたN型エミッタであり、前記表面窒化シリコン膜はシリコンウェハの表面に堆積され、前記裏面酸化アルミニウム膜は前記シリコンウェハの裏面に堆積され、シリコンウェハに前記表面窒化シリコン膜が堆積された後に前記裏面酸化アルミニウム膜が堆積され、前記裏面酸化アルミニウム膜が堆積される前にシリコンウェハの裏面を洗浄することを特徴とする。
本発明の太陽電池は、上記裏面酸化アルミニウム膜を堆積する前にシリコンウェハの裏面を洗浄し、シリコンウェハの裏面の酸化層及び汚れを除去し、電池の汚染を低減することで、裏面酸化アルミニウム膜の堆積を有効に行い、また、当該電池は裏面酸化アルミニウム膜のパッシベーション効果を著しく向上させ、電池の開放電圧及び短絡電流を高めることで、電池の光電変換効率を大幅に向上させることができる。
好ましい実施例として、本発明において、上記表面窒化シリコン膜の厚さは50〜300μmであり、最も好ましくは60〜90μmである。
上記裏面窒化シリコン膜の厚さは80〜300μmであり、最も好ましくは100〜200μmである。
上記裏面酸化アルミニウム膜の厚さは2〜50nmであり、最も好ましくは5〜30nmである。
上記光電変換効率を向上可能なPERC太陽電池の製造方法において、
(1)P型シリコンであるシリコンウェハの表面にテクスチャを形成するステップと、
(2)前記シリコンウェハの表面で拡散させて、N型シリコン、即ちN型エミッタを形成するステップと、
(3)シリコンウェハの周辺のPN接合及び拡散中に形成された表面PSGを除去し、シリコンウェハの表面をオゾン酸化処理するステップと、
(4)シリコンウェハの表面に表面窒化シリコン膜を堆積するステップと、
(5)シリコンウェハの裏面を洗浄するステップと、
(6)シリコンウェハの裏面に裏面酸化アルミニウム膜を堆積するステップと、
(7)シリコンウェハの裏面に裏面窒化シリコン膜を堆積するステップと、
(8)シリコンウェハの裏面をレーザーグルービングし、裏面窒化シリコン膜、裏面酸化アルミニウム膜を開口してシリコンウェハまでわたる複数のレーザーグルービング領域を形成するステップと、
(9)前記シリコンウェハの裏面に裏面電極ペーストを印刷して乾燥するステップと、
(10)前記シリコンウェハの裏面にアルミニウムペーストを印刷してアルミニウム裏面電極を形成し、アルミニウム裏面電極を印刷すると共にレーザーグルービング領域内にアルミニウムペーストを印刷して裏面アルミストリップを形成し、裏面アルミストリップがアルミニウム裏面電極は一体的に印刷によって成形され、印刷の後に乾燥するステップと、
(11)前記シリコンウェハの表面に表面電極ペーストを印刷して乾燥するステップと、
(12)シリコンウェハを高温で焼結して、裏面銀電極、アルミニウム裏面電極及び表面銀電極を形成するステップと、
(13)シリコンウェハをアンチLID(anti−LID)アニーリング処理し、太陽電池を形成するステップと、を備えることを特徴とする。
本発明のステップ(3)の後、実際の状況に応じてシリコンウェハの裏面を研磨する必要があるかどうかを決定する。ステップ(3)の後に裏面研磨が行われない場合、本発明のステップ(5)の洗浄ステップは、必要に応じてKOHまたはNaOHの濃度および洗浄時間を調整することによって、裏面研磨を施すことができる。
本発明におけるステップ(1)〜ステップ(8)は、順番通りに実行される必要がなく、当業者は、実際の状況に応じて各ステップの間の前後順位を調整することができる。
本発明において、シリコンウェハの裏面を洗浄する上記ステップ(5)は、具体的には、
(51)シリコンウェハをKOHの質量分率が0.1%〜6%であり、かつHの質量分率が0.1%〜5%であるKOHとHの混合溶液内に放置し、混合溶液の温度は60〜99度であり、放置時間は30〜300秒であるステップと、
(52)シリコンウェハを脱イオン水に浸漬してからすすぎ、すすぎ時間は30〜300秒であるステップと、
(53)シリコンウェハをKOHの質量分率が0.3%〜18%であるKOH溶液内に放置し、KOH溶液の温度は60〜99度であり、放置時間は30〜300秒であるステップと、
(54)シリコンウェハをKOHの質量分率が0.1%〜6%であり、かつHの質量分率が0.1%〜5%であるKOHとHの混合溶液内に放置し、混合溶液の温度は60〜99度であり、放置時間は30〜300秒であるステップと、
(55)シリコンウェハを脱イオン水に浸漬してからすすぎ、すすぎ時間は30〜300秒であるステップと、
(56)シリコンウェハをHFの質量分率が0.2%〜6%であるHF溶液、または、HCLの質量分率が0.2%〜5%であるHCL溶液、または、HFの質量分率が0.2%〜6%であり、かつHCLの質量分率が0.2%〜5%であるHF及びHCLの混合溶液内に放置し、HF溶液またはHCL溶液またはHF及びHCLの混合溶液の温度は60〜90度であり、放置時間は5〜300秒であるステップと、
(57)シリコンウェハを脱イオン水に浸漬してからすすぎ、脱イオン水の温度は60〜99度であり、すすぎ時間は30〜300秒であり、すすぎが完了した後、シリコンウェハを水面から引き出すステップと、
(58)シリコンウェハを乾燥するステップと、を備え、
前記ステップ(51)〜(58)はこの順で実行される。
上記ステップ(51)とステップ(54)は、シリコンウェハの有機不純物またはアルカリと反応した後に付着した副産物を洗浄することを目的とする。ステップ(53)は、シリコンウェハの裏面をエッチングすることを目的とする。
その中でも、上記ステップ(5)では、すべてのKOHをNaOHで全て置き換えることができる。
酸性溶液を入れる上記ステップ(56)は、前のステップでシリコンウェハに残存した残留アルカリ液を中和し、金属イオンを除去し、シリコンウェハの裏面の酸化層を取り除くためである。
上記ステップ(57)において、すすぎが完了した後、スローリフティング(Slow−lifting)技術を用いてシリコンウェハを水面から引き出す。スローリフティング技術を用いて、即ち、シリコンウェハを熱い脱イオン水に浸入した後、水面からゆっくり引き出すことで、シリコンウェハの疎水化に寄与する。
本発明の製造方法においては、表面に表面窒化シリコン膜を堆積した後、シリコンウェハの裏面を洗浄して取り出し、裏面に裏面酸化アルミニウム膜を堆積する。裏面の洗浄によりシリコンウェハの裏面の酸化層及び汚れを除去し、電池の汚染を低減することができ、裏面酸化アルミニウム膜の堆積に有効に行い、裏面酸化アルミニウム膜のパッシベーション効果を著しく向上させ、電池の開放電圧及び短絡電流を高めることができ、電池の光電変換効率を大幅に向上させる。また、機器の投入コストが低く、工程が簡単であり、現在の生産ラインとの互換性が良い。
以下、図面及び具体の実施的形態を参照しながら、本発明をより詳細に説明する。
本発明に係る光電変換効率を向上可能なPERC太陽電池の全体構造を示す断面図である。 本発明に係る光電変換効率を向上可能なPERC太陽電池の製造方法のステップ5を示すフローチャートである。
実施例1
図1に示されるように、光電変換効率を向上可能なPERC(Passivated Emitter and Rear Cell)太陽電池において、下から上へ順次配置される裏面銀電極1、アルミニウム裏面電極2、裏面窒化シリコン膜3、裏面酸化アルミニウム膜4、P型シリコン5、N型シリコン6、表面窒化シリコン膜7及び表面銀電極8を備え、太陽電池は、裏面に裏面窒化シリコン膜3及び裏面酸化アルミニウム膜4を開口してP型シリコン5までわたる複数のレーザーグルービング領域9が開設され、複数のレーザーグルービング領域9が平行に設置され、各レーザーグルービング領域9にはいずれも裏面アルミストリップ10が充填され、裏面アルミストリップ10及びアルミニウム裏面電極2はアルミニウムペーストによって一体的に印刷によって成形され、アルミニウム裏面電極2は裏面アルミストリップ10によってP型シリコン5に接続され、裏面銀電極1、アルミニウム裏面電極2、裏面窒化シリコン膜3、裏面酸化アルミニウム膜4、P型シリコン5、N型シリコン6、表面窒化シリコン膜7及び表面銀電極8は、下から上へ順次に接続され、P型シリコン5は電池のシリコンウェハであり、N型シリコン6はシリコンウェハの表面で拡散して形成されたN型エミッタであり、表面窒化シリコン膜7はシリコンウェハの表面に堆積され、裏面酸化アルミニウム膜4はシリコンウェハの裏面に堆積され、シリコンウェハに表面窒化シリコン膜7を堆積した後、裏面酸化アルミニウム膜4を堆積し、なお、裏面酸化アルミニウム膜4を堆積する前にシリコンウェハの裏面を洗浄する。
この実施例の裏面酸化アルミニウム膜4の材質は、酸化アルミニウム(Al)であり、裏面窒化シリコン膜3及び表面窒化シリコン膜7の材質は同じであり、いずれも窒化シリコン(Si)である。
この実施例において、表面窒化シリコン膜7の厚さは75μmであり、裏面窒化シリコン膜3の厚さは150μmであり、裏面酸化アルミニウム膜4の厚さは8nmである。表面窒化シリコン膜7の厚さは50〜300μmの範囲であってもよく、最も好ましくは、60〜90μmであり、裏面窒化シリコン膜3の厚さは80〜300μmの範囲であってもよく、最も好ましくは、100〜200μmであり、裏面酸化アルミニウム膜4の厚さは2〜50nmの範囲であってもよく、例えば、10nm、20nm、30nm、40nmであり、最も好ましくは、5〜30nmである。
上記光電変換効率を向上可能なPERC太陽電池の製造方法は、下記のステップ(1)〜(13)を備え、具体的には、
(1)P型シリコン5であるシリコンウェハの表面にテクスチャを形成し、
(2)シリコンウェハの表面で拡散させ、N型シリコン6、即ちN型エミッタを形成する、
(3)シリコンウェハの周辺のPN接合及び拡散中に形成された表面PSG(phospho−silicate Glass)を除去し、シリコンウェハの表面をオゾン酸化処理し、ステップ(3)の後、実際の状況に応じてシリコンウェハの裏面を研磨する必要があるかどうかを決定し、
(4)シリコンウェハの表面に表面窒化シリコン膜7を堆積し、
(5)シリコンウェハの裏面を洗浄し、図2に示されるように、シリコンウェハの裏面を洗浄するステップは、順次的に実行される下記のステップ(51)〜(58)を備え、具体的には、
(51)シリコンウェハをKOHの質量分率が0.1%であり、かつHの質量分率が0.1%であるKOH及びHの混合溶液内に放置し、混合溶液の温度は99度であり、放置時間は300秒であり、
(52)シリコンウェハを脱イオン水に浸漬してからすすぎ、すすぎ時間は30秒であり、
(53)シリコンウェハをKOHの質量分率が0.3%であるKOH溶液内に放置し、KOH溶液の温度は99度であり、放置時間は300秒であり、
(54)シリコンウェハをKOHの質量分率が0.1%であり、かつHの質量分率が0.1%であるKOH及びHの混合溶液内に放置し、混合溶液の温度は99度であり、放置時間は300秒であり、
(55)シリコンウェハを脱イオン水に浸漬してからすすぎ、すすぎ時間は30秒であり、
(56)シリコンウェハをHFの質量分率が0.2%であるHF溶液内に放置し、HF溶液の温度は90度であり、放置時間は300秒であり、このステップにおいて、HF溶液をHCL溶液で置き換えることもでき、この時、HCLの質量分率が0.2%であり、または、HF溶液をHFの質量分率が0.2%であり、かつHCLの質量分率が0.2%であるHF及びHCLの混合溶液で置き換えることもでき、
(57)シリコンウェハを脱イオン水に浸漬してからすすぎ、脱イオン水の温度は60度であり、すすぎ時間は300秒であり、すすぎが完了した後、スローリフティング技術を用い、シリコンウェハを水面から引き出し、
(58)シリコンウェハを乾燥する。
(6)シリコンウェハの裏面に裏面酸化アルミニウム膜4を堆積し、
(7)シリコンウェハの裏面に裏面窒化シリコン膜3を堆積し、
(8)シリコンウェハの裏面をレーザーグルービングし、裏面窒化シリコン膜3及び裏面酸化アルミニウム膜4を開口してシリコンウェハまでわたる複数のレーザーグルービング領域9を形成し、
(9)シリコンウェハの裏面に裏面電極ペーストを印刷して乾燥し、
(10)シリコンウェハの裏面にアルミニウムペーストを印刷してアルミニウム裏面電極2を形成し、アルミニウム裏面電極2を印刷すると共にレーザーグルービング領域9内にアルミニウムペーストを印刷して裏面アルミストリップ10を形成し、裏面アルミストリップ10とアルミニウム裏面電極2とは一体的に印刷によって成形され、印刷の後に乾燥し、
(11)シリコンウェハの表面に表面電極ペーストを印刷して乾燥し、
(12)シリコンウェハを高温で焼結し、裏面銀電極1、アルミニウム裏面電極2及び表面銀電極8を形成し、
(13)シリコンウェハをアンチLID(anti−LID)アニーリング処理し、太陽電池を形成する。
この実施例において、ステップ(5)において、すべてのKOHがNaOHで置き換えることができる。
本発明におけるステップ(1)〜ステップ(8)は、順番通りに実行する必要がなく、当業者は、実際の状況に応じて各ステップの前後順位を調整することができる。
実施例2
本発明に係る光電変換効率を向上可能なPERC太陽電池の実施例2と実施例1との相違点は以下のようである。実施例2において、表面窒化シリコン膜7の厚さは180μmであり、裏面窒化シリコン膜3の厚さは200μmであり、裏面酸化アルミニウム膜4の厚さは9nmである。
この実施例のPERC太陽電池の製造方法は、下記のステップ(1)〜(13)を備え、具体的には、
(1)P型シリコン5であるシリコンウェハの表面にテクスチャを形成し、
(2)シリコンウェハの表面で拡散させ、N型シリコン6、即ちN型エミッタを形成する、
(3)シリコンウェハの周辺のPN接合及び拡散中に形成された表面PSG(phospho−silicate Glass)を除去し、シリコンウェハの表面をオゾン酸化処理し、ステップ(3)の後、実際の状況に応じてシリコンウェハの裏面を研磨する必要があるかどうかを決定し、
(4)シリコンウェハの表面に表面窒化シリコン膜7を堆積し、
(5)シリコンウェハの裏面を洗浄し、図2に示されるように、シリコンウェハの裏面を洗浄するステップは、順次的に実行される下記のステップ(51)〜(58)を備え、具体的には、
(51)シリコンウェハをNaOHの質量分率が1.5%であり、かつHの質量分率が1.3%であるNaOH及びHの混合溶液内に放置し、混合溶液の温度は90度であり、放置時間は240秒であり、
(52)シリコンウェハを脱イオン水に浸漬してからすすぎ、すすぎ時間は240秒であり、
(53)シリコンウェハをNaOHの質量分率が4.5%であるNaOH溶液内に放置し、温度は90度であり、放置時間は240秒であり、
(54)シリコンウェハをNaOHの質量分率が1.5%であり、かつHの質量分率が1.3%であるNaOH及びHの混合溶液内に放置し、混合溶液の温度は90度であり、放置時間は250秒であり、
(55)シリコンウェハを脱イオン水に浸漬してからすすぎ、すすぎ時間は250秒であり、
(56)シリコンウェハをHFの質量分率が1.5%であるHF溶液内に放置し、HF溶液の温度は80度であり、放置時間は240秒であり、このステップにおいて、HF溶液をHCL溶液で置き換えることもでき、この時、HCLの質量分率が1.2%であり、または、HF溶液をHFの質量分率1.5%であり、かつHCLの質量分率が1.2%であるHF及びHCLの混合溶液で置き換えることもでき、
(57)シリコンウェハを脱イオン水に浸漬してからすすぎ、脱イオン水の温度は90度であり、すすぎ時間は250秒であり、すすぎが完了した後、スローリフティング技術を用い、シリコンウェハを水面から引き出し、
(58)シリコンウェハを乾燥する。
(6)シリコンウェハの裏面に裏面酸化アルミニウム膜4を堆積し、
(7)シリコンウェハの裏面に裏面窒化シリコン膜3を堆積し、
(8)シリコンウェハの裏面をレーザーグルービングし、裏面窒化シリコン膜3及び裏面酸化アルミニウム膜4を開口してシリコンウェハまでわたる複数のレーザーグルービング領域9を形成し、
(9)シリコンウェハの裏面に裏面電極ペーストを印刷して乾燥し、
(10)シリコンウェハの裏面にアルミニウムペーストを印刷してアルミニウム裏面電極2を形成し、アルミニウム裏面電極2を印刷すると共にレーザーグルービング領域9内にアルミニウムペーストを印刷して裏面アルミストリップ10を形成し、裏面アルミストリップ10とアルミニウム裏面電極2とは一体的に印刷によって成形され、印刷の後に乾燥し、
(11)シリコンウェハの表面に表面電極ペーストを印刷して乾燥し、
(12)シリコンウェハを高温で焼結し、裏面銀電極1、アルミニウム裏面電極2及び表面銀電極8を形成し、
(13)シリコンウェハをアンチLID(anti−LID)アニーリング処理し、太陽電池を形成する。
この実施例において、ステップ(5)において、すべてのNaOHがKOHで置き換えることができる。
本発明におけるステップ(1)〜ステップ(8)は、順番通りに実行する必要がなく、当業者は、実際の状況に応じて各ステップの前後順位を調整することができる。
実施例3
本発明に係る光電変換効率を向上可能なPERC太陽電池の実施例3と実施例1との相違点は以下のようである。実施例3において、表面窒化シリコン膜7の厚さは260μmであり、裏面窒化シリコン膜3の厚さは250μmであり、裏面酸化アルミニウム膜4の厚さは16nmである。
この実施例のPERC太陽電池の製造方法は、下記のステップ(1)〜(13)を備え、具体的には、
(1)P型シリコン5であるシリコンウェハの表面にテクスチャを形成し、
(2)シリコンウェハの表面で拡散させ、N型シリコン6、即ちN型エミッタを形成する、
(3)シリコンウェハの周辺のPN接合及び拡散中に形成された表面PSG(phospho−silicate Glass)を除去し、シリコンウェハの表面をオゾン酸化処理し、ステップ(3)の後、実際の状況に応じてシリコンウェハの裏面を研磨する必要があるかどうかを決定し、
(4)シリコンウェハの表面に表面窒化シリコン膜7を堆積し、
(5)シリコンウェハの裏面を洗浄し、図2に示されるように、シリコンウェハの裏面を洗浄するステップは、順次的に実行される下記のステップ(51)〜(58)を備え、具体的には、
(51)シリコンウェハをKOHの質量分率が3%であり、かつHの質量分率が2.5%であるKOH及びHの混合溶液内に放置し、混合溶液の温度は80度であり、放置時間は150秒であり、
(52)シリコンウェハを脱イオン水に浸漬してからすすぎ、すすぎ時間は150秒であり、
(53)シリコンウェハをKOHの質量分率が9%であるKOH溶液内に放置し、KOH溶液の温度は80度であり、放置時間は160秒であり、
(54)シリコンウェハをKOHの質量分率が3%であり、かつHの質量分率が2.5%であるKOH及びHの混合溶液内に放置し、混合溶液の温度は82度であり、放置時間は160秒であり、
(55)シリコンウェハを脱イオン水に浸漬してからすすぎ、すすぎ時間は150秒であり、
(56)シリコンウェハをHFの質量分率が3%であるHF溶液内に放置し、HF溶液の温度は75度であり、放置時間は150秒であり、このステップにおいて、HF溶液をHCL溶液で置き換えることもでき、この時、HCLの質量分率が2.5%であり、または、HF溶液をHFの質量分率3%であり、かつHCLの質量分率が2.5%であるHF及びHCLの混合溶液で置き換えることもでき、
(57)シリコンウェハを脱イオン水に浸漬してからすすぎ、脱イオン水の温度は80度であり、すすぎ時間は160秒であり、すすぎが完了した後、スローリフティング技術を用い、シリコンウェハを水面から引き出し、
(58)シリコンウェハを乾燥する。
(6)シリコンウェハの裏面に裏面酸化アルミニウム膜4を堆積し、
(7)シリコンウェハの裏面に裏面窒化シリコン膜3を堆積し、
(8)シリコンウェハの裏面をレーザーグルービングし、裏面窒化シリコン膜3及び裏面酸化アルミニウム膜4を開口してシリコンウェハまでわたる複数のレーザーグルービング領域9を形成し、
(9)シリコンウェハの裏面に裏面電極ペーストを印刷して乾燥し、
(10)シリコンウェハの裏面にアルミニウムペーストを印刷してアルミニウム裏面電極2を形成し、アルミニウム裏面電極2を印刷すると共にレーザーグルービング領域9内にアルミニウムペーストを印刷して裏面アルミストリップ10を形成し、裏面アルミストリップ10とアルミニウム裏面電極2とは一体的に印刷によって成形され、印刷の後に乾燥し、
(11)シリコンウェハの表面に表面電極ペーストを印刷して乾燥し、
(12)シリコンウェハを高温で焼結し、裏面銀電極1、アルミニウム裏面電極2及び表面銀電極8を形成し、
(13)シリコンウェハをアンチLID(anti−LID)アニーリング処理し、太陽電池を形成する。
この実施例において、ステップ(5)において、すべてのKOHがNaOHで置き換えることができる。
本発明におけるステップ(1)〜ステップ(8)は、順番通りに実行する必要がなく、当業者は、実際の状況に応じて各ステップの前後順位を調整することができる。
実施例4
本発明に係る光電変換効率を向上可能なPERC太陽電池の実施例4と実施例1との相違点は以下のようである。実施例4において、表面窒化シリコン膜7の厚さは300μmであり、裏面窒化シリコン膜3の厚さは300μmであり、裏面酸化アルミニウム膜4の厚さは23nmである。
この実施例のPERC太陽電池の製造方法は、下記のステップ(1)〜(13)を備え、具体的には、
(1)P型シリコン5であるシリコンウェハの表面にテクスチャを形成し、
(2)シリコンウェハの表面で拡散させ、N型シリコン6、即ちN型エミッタを形成する、
(3)シリコンウェハの周辺のPN接合及び拡散中に形成された表面PSG(phospho−silicate Glass)を除去し、シリコンウェハの表面をオゾン酸化処理し、ステップ(3)の後、実際の状況に応じてシリコンウェハの裏面を研磨する必要があるかどうかを決定し、
(4)シリコンウェハの表面に表面窒化シリコン膜7を堆積し、
(5)シリコンウェハの裏面を洗浄し、図2に示されるように、シリコンウェハの裏面を洗浄するステップは、順次的に実行される下記のステップ(51)〜(58)を備え、具体的には、
(51)シリコンウェハをNaOHの質量分率が4.5%であり、かつHの質量分率が3.8%であるNaOH及びHの混合溶液内に放置し、混合溶液の温度は70度であり、放置時間は60秒であり、
(52)シリコンウェハを脱イオン水に浸漬してからすすぎ、すすぎ時間は100秒であり、
(53)シリコンウェハをNaOHの質量分率が14%であるNaOH溶液内に放置し、NaOH溶液の温度は70度であり、放置時間は60秒であり、
(54)シリコンウェハをNaOHの質量分率が4.5%であり、かつHの質量分率が3.8%であるNaOH及びHの混合溶液内に放置し、混合溶液の温度は70度であり、放置時間は60秒であり、
(55)シリコンウェハを脱イオン水に浸漬してからすすぎ、すすぎ時間は90秒であり、
(56)シリコンウェハをHFの質量分率が4.5%であるHF溶液内に放置し、HF溶液の温度は70度であり、放置時間は40秒であり、このステップにおいて、HF溶液をHCL溶液で置き換えることもでき、この時、HCLの質量分率が3.8%であり、または、HF溶液をHFの質量分率4.5%であり、かつHCLの質量分率が3.8%であるHF及びHCLの混合溶液で置き換えることもでき、
(57)シリコンウェハを脱イオン水に浸漬してからすすぎ、脱イオン水の温度は65度であり、すすぎ時間は250秒であり、すすぎが完了した後、スローリフティング技術を用い、シリコンウェハを水面から引き出し、
(58)シリコンウェハを乾燥する。
(6)シリコンウェハの裏面に裏面酸化アルミニウム膜4を堆積し、
(7)シリコンウェハの裏面に裏面窒化シリコン膜3を堆積し、
(8)シリコンウェハの裏面をレーザーグルービングし、裏面窒化シリコン膜3及び裏面酸化アルミニウム膜4を開口してシリコンウェハまでわたる複数のレーザーグルービング領域9を形成し、
(9)シリコンウェハの裏面に裏面電極ペーストを印刷して乾燥し、
(10)シリコンウェハの裏面にアルミニウムペーストを印刷してアルミニウム裏面電極2を形成し、アルミニウム裏面電極2を印刷すると共にレーザーグルービング領域9内にアルミニウムペーストを印刷して裏面アルミストリップ10を形成し、裏面アルミストリップ10とアルミニウム裏面電極2とは一体的に印刷によって成形され、印刷の後に乾燥し、
(11)シリコンウェハの表面に表面電極ペーストを印刷して乾燥し、
(12)シリコンウェハを高温で焼結し、裏面銀電極1、アルミニウム裏面電極2及び表面銀電極8を形成し、
(13)シリコンウェハをアンチLID(anti−LID)アニーリング処理し、太陽電池を形成する。
この実施例において、ステップ(5)において、すべてのNaOHがKOHで置き換えることができる。
本発明におけるステップ(1)〜ステップ(8)は、順番通りに実行する必要がなく、当業者は、実際の状況に応じて各ステップの前後順位を調整することができる。
実施例5
本発明に係る光電変換効率を向上可能なPERC太陽電池の実施例5と実施例1との相違点は以下のようである。実施例5において、表面窒化シリコン膜7の厚さは80μmであり、裏面窒化シリコン膜3の厚さは80μmであり、裏面酸化アルミニウム膜4の厚さは30nmである。
この実施例のPERC太陽電池の製造方法は、下記のステップ(1)〜(13)を備え、具体的には、
(1)P型シリコン5であるシリコンウェハの表面にテクスチャを形成し、
(2)シリコンウェハの表面で拡散させ、N型シリコン6、即ちN型エミッタを形成する、
(3)シリコンウェハの周辺のPN接合及び拡散中に形成された表面PSG(phospho−silicate Glass)を除去し、シリコンウェハの表面をオゾン酸化処理し、ステップ(3)の後、実際の状況に応じてシリコンウェハの裏面を研磨する必要があるかどうかを決定し、
(4)シリコンウェハの表面に表面窒化シリコン膜7を堆積し、
(5)シリコンウェハの裏面を洗浄し、図2に示されるように、シリコンウェハの裏面を洗浄するステップは、順次的に実行される下記のステップ(51)〜(58)を備え、具体的には、
(51)シリコンウェハをKOHの質量分率が6%であり、かつHの質量分率が5%であるKOH及びHの混合溶液内に放置し、混合溶液の温度は60度であり、放置時間は30秒であり、
(52)シリコンウェハを脱イオン水に浸漬してからすすぎ、すすぎ時間は300秒であり、
(53)シリコンウェハをKOHの質量分率が18%であるKOH溶液内に放置し、KOH溶液の温度は60度であり、放置時間は30秒であり、
(54)シリコンウェハをKOHの質量分率が6%であり、かつHの質量分率が5%であるKOH及びHの混合溶液内に放置し、混合溶液の温度は60度であり、放置時間は30秒であり、
(55)シリコンウェハを脱イオン水に浸漬してからすすぎ、すすぎ時間は300秒であり、
(56)シリコンウェハをHFの質量分率が6%であるHF溶液内に放置し、HF溶液の温度は90度であり、放置時間は5秒であり、このステップにおいて、HF溶液をHCL溶液で置き換えることもでき、この時、HCLの質量分率が5%であり、または、HF溶液をHFの質量分率6%であり、かつHCLの質量分率が5%であるHF及びHCLの混合溶液で置き換えることもでき、
(57)シリコンウェハを脱イオン水に浸漬してからすすぎ、脱イオン水の温度は99度であり、すすぎ時間は30秒であり、すすぎが完了した後、スローリフティング技術を用い、シリコンウェハを水面から引き出し、
(58)シリコンウェハを乾燥する。
(6)シリコンウェハの裏面に裏面酸化アルミニウム膜4を堆積し、
(7)シリコンウェハの裏面に裏面窒化シリコン膜3を堆積し、
(8)シリコンウェハの裏面をレーザーグルービングし、裏面窒化シリコン膜3及び裏面酸化アルミニウム膜4を開口してシリコンウェハまでわたる複数のレーザーグルービング領域9を形成し、
(9)シリコンウェハの裏面に裏面電極ペーストを印刷して乾燥し、
(10)シリコンウェハの裏面にアルミニウムペーストを印刷してアルミニウム裏面電極2を形成し、アルミニウム裏面電極2を印刷すると共にレーザーグルービング領域9内にアルミニウムペーストを印刷して裏面アルミストリップ10を形成し、裏面アルミストリップ10とアルミニウム裏面電極2とは一体的に印刷によって成形され、印刷の後に乾燥し、
(11)シリコンウェハの表面に表面電極ペーストを印刷して乾燥し、
(12)シリコンウェハを高温で焼結し、裏面銀電極1、アルミニウム裏面電極2及び表面銀電極8を形成し、
(13)シリコンウェハをアンチLID(anti−LID)アニーリング処理し、太陽電池を形成する。
この実施例において、ステップ(5)において、すべてのKOHがNaOHで置き換えることができる。
本発明におけるステップ(1)〜ステップ(8)は、順番通りに実行する必要がなく、当業者は、実際の状況に応じて各ステップの前後順位を調整することができる。
本発明の上記した実施例は、本発明の保護範囲を限定するものではなく、本発明の実施的形態はこれに限定されない。本発明の上記した内容を基にして、本分野の一般的な技術知識及び常用手段を利用して、本発明の上記した基本的な技術思想を逸脱しない範囲に本発明の上記構成に対する様々な補正、置換及び変更はすべて本発明の保護範囲内に含まれる。
1 裏面銀電極
2 アルミニウム裏面電極
3 裏面窒化シリコン膜
4 裏面酸化アルミニウム膜
5 P型シリコン
6 N型シリコン
7 表面窒化シリコン膜
8 表面銀電極
9 レーザーグルービング領域
10 裏面アルミストリップ

Claims (8)

  1. 下から上へ順次配置される裏面銀電極、アルミニウム裏面電極、裏面窒化シリコン膜、裏面酸化アルミニウム膜、P型シリコン、N型シリコン、表面窒化シリコン膜及び表面銀電極を備え、裏面には、さらに、前記裏面窒化シリコン膜及び前記裏面酸化アルミニウム膜を開口して前記P型シリコンまでわたる複数のレーザーグルービング領域が開設され、複数の前記レーザーグルービング領域が平行に設置され、各レーザーグルービング領域内のそれぞれには裏面アルミストリップが充填され、前記裏面アルミストリップ及び前記アルミニウム裏面電極はアルミニウムペーストによって一体的に印刷によって成形され、前記アルミニウム裏面電極は前記裏面アルミストリップを介して前記P型シリコンに接続され、前記裏面銀電極、前記アルミニウム裏面電極、前記裏面窒化シリコン膜、前記裏面酸化アルミニウム膜、前記P型シリコン、前記N型シリコン、前記表面窒化シリコン膜及び前記表面銀電極は、下から上へ順次に接続され、前記P型シリコンは電池のシリコンウェハであり、前記N型シリコンは前記シリコンウェハの表面で拡散して形成されたN型エミッタであり、前記表面窒化シリコン膜は前記シリコンウェハの表面に堆積され、前記裏面酸化アルミニウム膜は前記シリコンウェハの裏面に堆積され、前記シリコンウェハに前記表面窒化シリコン膜が堆積された後に前記裏面酸化アルミニウム膜が堆積され、前記裏面酸化アルミニウム膜が堆積される前に前記シリコンウェハの裏面を洗浄することを特徴とする、光電変換効率を向上可能なPERC太陽電池。
  2. 前記表面窒化シリコン膜の厚さは50〜300μmであることを特徴とする、請求項1に記載の光電変換効率を向上可能なPERC太陽電池。
  3. 前記裏面窒化シリコン膜の厚さは80〜300μmであることを特徴とする、請求項1に記載の光電変換効率を向上可能なPERC太陽電池。
  4. 前記裏面酸化アルミニウム膜の厚さは2〜50nmであることを特徴とする、請求項1に記載の光電変換効率を向上可能なPERC太陽電池。
  5. 請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の光電変換効率を向上可能なPERC太陽電池の製造方法において、
    (1)P型シリコンであるシリコンウェハの表面にテクスチャを形成するステップと、
    (2)前記シリコンウェハの表面で拡散させて、N型シリコン、即ちN型エミッタを形成するステップと、
    (3)前記シリコンウェハの周辺のPN接合及び拡散中に形成された表面PSGを除去し、前記シリコンウェハの表面をオゾン酸化処理するステップと、
    (4)前記シリコンウェハの表面に表面窒化シリコン膜を堆積するステップと、
    (5)前記シリコンウェハの裏面を洗浄するステップと、
    (6)前記シリコンウェハの裏面に裏面酸化アルミニウム膜を堆積するステップと、
    (7)前記シリコンウェハの裏面に裏面窒化シリコン膜を堆積するステップと、
    (8)前記シリコンウェハの裏面をレーザーグルービングし、前記裏面窒化シリコン膜、前記裏面酸化アルミニウム膜を開口して前記シリコンウェハまでわたる複数のレーザーグルービング領域を形成するステップと、
    (9)前記シリコンウェハの裏面に裏面電極ペーストを印刷して乾燥するステップと、
    (10)前記シリコンウェハの裏面にアルミニウムペーストを印刷してアルミニウム裏面電極を形成し、前記アルミニウム裏面電極を印刷すると共に前記レーザーグルービング領域内にアルミニウムペーストを印刷して裏面アルミストリップを形成し、前記裏面アルミストリップと前記アルミニウム裏面電極とは一体的に印刷によって成形され、印刷の後に乾燥するステップと、
    (11)前記シリコンウェハの表面に表面電極ペーストを印刷して乾燥するステップと、
    (12)前記シリコンウェハを高温で焼結して、裏面銀電極、前記アルミニウム裏面電極及び表面銀電極を形成するステップと、
    (13)前記シリコンウェハをアンチLID(anti−LID)アニーリング処理し、太陽電池を形成するステップと、を備えることを特徴とする光電変換効率を向上可能なPERC太陽電池の製造方法。
  6. 前記シリコンウェハの裏面を洗浄する前記ステップ(5)は、具体的には、
    (51)前記シリコンウェハをKOHの質量分率が0.1%〜6%であり、かつHの質量分率が0.1%〜5%であるKOHとHの混合溶液内に放置し、前記混合溶液の温度は60〜99度であり、放置時間は30〜300秒であるステップと、
    (52)前記シリコンウェハを脱イオン水に浸漬してからすすぎ、すすぎ時間は30〜300秒であるステップと、
    (53)前記シリコンウェハをKOHの質量分率が0.3%〜18%であるKOH溶液内に放置し、前記KOH溶液の温度は60〜99度であり、放置時間は30〜300秒であるステップと、
    (54)前記シリコンウェハをKOHの質量分率が0.1%〜6%であり、かつHの質量分率が0.1%〜5%であるKOHとHの混合溶液内に放置し、前記混合溶液の温度は60〜99度であり、放置時間は30〜300秒であるステップと、
    (55)前記シリコンウェハを脱イオン水に浸漬してからすすぎ、すすぎ時間は30〜300秒であるステップと、
    (56)前記シリコンウェハをHFの質量分率が0.2%〜6%であるHF溶液、または、HCLの質量分率が0.2%〜5%であるHCL溶液、または、HFの質量分率が0.2%〜6%であり、かつHCLの質量分率が0.2%〜5%であるHF及びHCLの混合溶液内に放置し、HF溶液またはHCL溶液またはHF及びHCLの混合溶液の温度は60〜90度であり、放置時間は5〜300秒であるステップと、
    (57)前記シリコンウェハを脱イオン水に浸漬してからすすぎ、前記脱イオン水の温度は60〜99度であり、すすぎ時間は30〜300秒であり、すすぎが完了した後、前記シリコンウェハを水面から引き出すステップと、
    (58)前記シリコンウェハを乾燥するステップと、を備え、
    前記ステップ(51)〜(58)はこの順で実行されることを特徴とする、請求項5に記載の製造方法。
  7. 前記ステップ(5)において、すべてのKOHをNaOHで置き換えることができることを特徴とする、請求項6に記載の製造方法。
  8. 前記ステップ(57)において、すすぎが完了した後、スローリフティング技術を用いて前記シリコンウェハを水面から引き出すことを特徴とする、請求項6に記載の製造方法。
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