JP2020178643A - 細胞培養基材、細胞培養容器、細胞の培養方法、細胞の製造方法、細胞培養基材の製造方法、および細胞培養容器の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
前記光応答層は、前記支持体層に積層され、
前記細胞培養層は、前記光応答層に積層され、
前記光応答層は、光照射により、熱および磁性の変化の少なくとも一方が生じる光応答性物質を含み、
前記細胞培養層は、細胞を培養可能である。
前記光応答層に、細胞培養層を積層する第2の積層工程を含み、
前記光応答層は、光照射により、熱および磁性の変化の少なくとも一方が生じる光応答性物質を含み、
前記細胞培養層は、細胞を培養可能である。
前記光応答層に、細胞培養層を積層する第2の積層工程と、
前記支持体層、前記光応答層、および前記細胞培養層を備える容器を形成する形成工程を含み、
前記光応答層は、光照射により、熱および磁性の変化の少なくとも一方が生じる光応答性物質を含み、
前記細胞培養層は、細胞を培養可能である。
本発明の細胞培養基材は、前述のように、支持体層と、光応答層と、細胞培養層とを備え、前記光応答層は、前記支持体層に積層され、前記細胞培養層は、前記光応答層に積層され、前記光応答層は、光照射により、熱および磁性の変化の少なくとも一方が生じる光応答性物質を含み、前記細胞培養層は、細胞を培養可能である。本発明の培養基材は、細胞を培養可能な細胞培養層が、前記光応答層に積層されていることが特徴であり、その他の構成および条件は、特に制限されない。本発明の培養基材では、前記光応答層上に、前記細胞培養層が積層されているため、前記細胞培養層上で培養されている細胞と前記光応答層との間には、前記細胞培養層が介在する。このため、本発明の培養基材によれば、光応答層と細胞との接触を回避可能であり、これにより、例えば、前記光応答層の形成に用いた溶剤または光熱変換ポリマーに未結合の側鎖(例えば、後述の色素構造等)もしくは未重合のモノマーの細胞に対する影響を抑制できる。
本実施形態は、細胞培養基材の一例である。図1は、実施形態1の培養基材10の構成を示す模式断面図である。図1に示すように、培養基材10は、支持体層11と、光応答層12と、細胞培養層13とを備える。支持体層11には、光応答層12が積層され、光応答層12には、細胞培養層13が積層されている。すなわち、培養基材10では、支持体層11、光応答層12、および細胞培養層13が、底面からこの順序で積層(配置)されている。
本実施形態は、細胞培養基材の他の例である。図4は、実施形態2の培養基材20の構成を示す模式断面図である。図4に示すように、実施形態1の培養基材10の各層に加え、足場基材層14を備える。足場基材層14は、細胞培養層13に積層されている。すなわち、培養基材20では、支持体層11、光応答層12、細胞培養層13、および足場基材層14が、底面からこの順序で積層されている。この点を除き、実施形態2の培養基材20は、実施形態1の培養基材10と同様の構成を備え、その説明を援用できる。
本発明の細胞培養容器は、前述のように、前記本発明の細胞培養基材を備える。本発明の培養容器は、前記本発明の培養基材を備えることが特徴であり、その他の構成および条件は、特に制限されない。本発明の培養容器では、前記光応答層上に、前記細胞培養層が積層されているため、前記細胞培養層上で培養されている細胞と前記光応答層との間には、前記細胞培養層が介在する。このため、本発明の培養容器によれば、光応答層と細胞との接触を回避可能であり、これにより、例えば、前記光応答層の形成に用いた溶剤または光熱変換ポリマーに未結合の側鎖(例えば、前記色素構造等)もしくは未重合のモノマーの細胞に対する影響を抑制できる。また、本発明の培養容器は、例えば、後述のように、前記本発明の培養基材を用いて製造できるため、培養容器の形状を任意の形状とすることができる。本発明の培養容器は、前記本発明の培養基材の説明を援用できる。
本実施形態は、細胞培養容器の一例である。図5は、実施形態3の培養容器30の構成を示す模式図であり、(A)は、培養容器30の模式斜視図を示し、(B)は、(A)におけるI−I方向から見た模式断面図である。図5(A)に示すように、培養容器30は、容器15と、培養基材10とを備える。容器15は、底面15aおよび側壁15bを備える。また、図5(B)に示すように、培養基材10は、その底面(支持体層11の底面)が底面15aの上面と接触するように配置されている。すなわち、培養容器30では、底面15a、支持体層11、光応答層12、および細胞培養層13が、底面からこの順序で積層(配置)されている。培養基材10の構成は、実施形態1の培養基材10の構成と同様であり、その説明を援用できる。
本発明の細胞の培養方法は、前述のように、前記本発明の細胞培養基材を用いて、細胞を培養する培養工程を含む。本発明の培養方法は、前記培養工程において、前記本発明の培養基材を用いることが特徴であり、その他の工程および条件は、特に制限されない。本発明の培養方法は、前記本発明の培養基材および培養容器の説明を援用できる。
本発明の細胞の製造方法は、前述のように、前記本発明の細胞培養基材を用いて、細胞を培養する培養工程を含む。本発明の製造方法は、前記培養工程において、前記本発明の培養基材を用いることが特徴であり、その他の工程および条件は、特に制限されない。本発明の細胞の製造方法は、前記本発明の培養基材、培養容器、および培養方法の説明を援用できる。
本発明の細胞培養基材の製造方法は、前述のように、支持体層に光応答層を積層する第1の積層工程と、前記光応答層に、細胞培養層を積層する第2の積層工程を含み、前記光応答層は、光照射により、熱および磁性の変化の少なくとも一方が生じる光応答性物質を含み、前記細胞培養層は、細胞を培養可能である。本発明の培養基材の製造方法は、前記第2の積層工程を含むことが特徴であり、その他の工程および条件は、特に制限されない。本発明の培養基材の製造方法では、前記光応答層上に、前記細胞培養層が積層されているため、前記細胞培養層上で培養されている細胞と前記光応答層との間には、前記細胞培養層が介在する培養基材を製造できる。このため、本発明の培養基材の製造方法により得られる培養基材によれば、光応答層と細胞との接触を回避可能であり、これにより、例えば、前記光応答層の形成に用いた溶剤または光熱変換ポリマーに未結合の側鎖(例えば、前記色素構造等)もしくは未重合のモノマーの細胞に対する影響を抑制できる。本発明の培養基材の製造方法は、前記本発明の培養基材、培養容器、および培養方法の説明を援用できる。
本発明の細胞培養容器の製造方法は、前述のように、支持体層に光応答層を積層する第1の積層工程と、前記光応答層に、細胞培養層を積層する第2の積層工程と、前記支持体層、前記光応答層、および前記細胞培養層を備える容器を形成する形成工程を含み、前記光応答層は、光照射により、熱および磁性の変化の少なくとも一方が生じる光応答性物質を含み、前記細胞培養層は、細胞を培養可能である。本発明の培養容器の製造方法は、前記第2の積層工程を含むことが特徴であり、その他の工程および条件は、特に制限されない。本発明の培養容器の製造方法では、前記光応答層上に、前記細胞培養層が積層されているため、前記細胞培養層上で培養されている細胞と前記光応答層との間には、前記細胞培養層が介在する培養基材を製造できる。このため、本発明の培養容器の製造方法により得られる培養基材によれば、光応答層と細胞との接触を回避可能であり、これにより、例えば、前記光応答層の形成に用いた溶剤または光熱変換ポリマーに未結合の側鎖(例えば、前記色素構造等)もしくは未重合のモノマーの細胞に対する影響を抑制できる。本発明の培養容器の製造方法は、前記本発明の培養基材、培養容器、および培養方法の説明を援用できる。
上記の実施形態および実施例の一部または全部は、以下の付記のように記載されうるが、以下には限られない。
(付記1)
支持体層と、光応答層と、細胞培養層とを備え、
前記光応答層は、前記支持体層に積層され、
前記細胞培養層は、前記光応答層に積層され、
前記光応答層は、光照射により、熱および磁性の変化の少なくとも一方が生じる光応答性物質を含み、
前記細胞培養層は、細胞を培養可能である、細胞培養基材。
(付記2)
前記光応答層は、光照射により、熱が生じる光熱変換分子を含む、付記1記載の細胞培養基材。
(付記3)
前記光応答層は、光照射により、磁性の変化が生じる磁性体を含む、付記1または2記載の細胞培養基材。
(付記4)
足場基材層を備え、
前記足場基材層は、足場基材を含み、
前記足場基材層は、前記細胞培養層に積層されている、付記1から3のいずれかに記載の細胞培養基材。
(付記5)
前記支持体層は、シート状支持体である、付記1から4のいずれかに記載の細胞培養基材。
(付記6)
付記1から5のいずれかに記載の細胞培養基材を備える、細胞培養容器。
(付記7)
付記1から5のいずれかに記載の細胞培養基材を用いて、細胞を培養する培養工程を含む、細胞の培養方法。
(付記8)
前記細胞培養基材は、前記細胞培養基材を備える細胞培養容器である、付記7記載の培養方法。
(付記9)
前記細胞から所望の細胞を選抜する選抜工程を含む、付記7または8記載の培養方法。
(付記10)
付記1から5のいずれかに記載の細胞培養基材を用いて、細胞を培養する培養工程を含む、細胞の製造方法。
(付記11)
支持体層に光応答層を積層する第1の積層工程と、
前記光応答層に、細胞培養層を積層する第2の積層工程を含み、
前記光応答層は、光照射により、熱および磁性の変化の少なくとも一方が生じる光応答性物質を含み、
前記細胞培養層は、細胞を培養可能である、細胞培養基材の製造方法。
(付記12)
前記光応答層は、光照射により、熱が生じる光熱変換分子を含み、
前記第1の積層工程において、前記光熱変換分子を用いて、前記光応答層を積層する、付記11記載の細胞培養基材の製造方法。
(付記13)
前記光応答層は、磁性の変化が生じる磁性体を含み、
前記第1の積層工程において、前記磁性体を用いて、前記光応答層を積層する、付記11または12記載の細胞培養基材の製造方法。
(付記14)
前記細胞培養層に、足場基材層を積層する第3の積層工程を含み、
前記足場基材層は、足場基材を含む、付記11から13のいずれかに記載の細胞培養基材の製造方法。
(付記15)
支持体層に光応答層を積層する第1の積層工程と、
前記光応答層に、細胞培養層を積層する第2の積層工程と、
前記支持体層、前記光応答層、および前記細胞培養層を備える容器を形成する形成工程を含み、
前記光応答層は、光照射により、熱および磁性の変化の少なくとも一方が生じる光応答性物質を含み、
前記細胞培養層は、細胞を培養可能である、細胞培養容器の製造方法。
(付記16)
前記第2の積層工程と前記形成工程とを同時に実施する、付記15記載の細胞培養容器の製造方法。
(付記17)
前記光応答層は、光照射により、熱が生じる光熱変換分子を含み、
前記第1の積層工程において、前記光熱変換分子を用いて、前記光応答層を積層する、付記15または16記載の細胞培養容器の製造方法。
(付記18)
前記光応答層は、磁性の変化が生じる磁性体を含み、
前記第1の積層工程において、前記磁性体を用いて、前記光応答層を積層する、付記15から17のいずれかに記載の細胞培養容器の製造方法。
(付記19)
前記細胞培養層に、足場基材層を積層する第3の積層工程を含み、
前記足場基材層は、足場基材を含む、付記15から18のいずれかに記載の細胞培養容器の製造方法。
11 支持体層
12 光応答層
13 細胞培養層
14 足場基材層
15 容器
15a 底面
15b 側壁
21、21a、21b 成型金型
21c ゲート
30 培養容器
Claims (19)
- 支持体層と、光応答層と、細胞培養層とを備え、
前記光応答層は、前記支持体層に積層され、
前記細胞培養層は、前記光応答層に積層され、
前記光応答層は、光照射により、熱および磁性の変化の少なくとも一方が生じる光応答性物質を含み、
前記細胞培養層は、細胞を培養可能である、細胞培養基材。 - 前記光応答層は、光照射により、熱が生じる光熱変換分子を含む、請求項1記載の細胞培養基材。
- 前記光応答層は、光照射により、磁性の変化が生じる磁性体を含む、請求項1または2記載の細胞培養基材。
- 足場基材層を備え、
前記足場基材層は、足場基材を含み、
前記足場基材層は、前記細胞培養層に積層されている、請求項1から3のいずれか一項に記載の細胞培養基材。 - 前記支持体層は、シート状支持体である、請求項1から4のいずれか一項に記載の細胞培養基材。
- 請求項1から5のいずれか一項に記載の細胞培養基材を備える、細胞培養容器。
- 請求項1から5のいずれか一項に記載の細胞培養基材を用いて、細胞を培養する培養工程を含む、細胞の培養方法。
- 前記細胞培養基材は、前記細胞培養基材を備える細胞培養容器である、請求項7記載の培養方法。
- 前記細胞から所望の細胞を選抜する選抜工程を含む、請求項7または8記載の培養方法。
- 請求項1から5のいずれか一項に記載の細胞培養基材を用いて、細胞を培養する培養工程を含む、細胞の製造方法。
- 支持体層に光応答層を積層する第1の積層工程と、
前記光応答層に、細胞培養層を積層する第2の積層工程を含み、
前記光応答層は、光照射により、熱および磁性の変化の少なくとも一方が生じる光応答性物質を含み、
前記細胞培養層は、細胞を培養可能である、細胞培養基材の製造方法。 - 前記光応答層は、光照射により、熱が生じる光熱変換分子を含み、
前記第1の積層工程において、前記光熱変換分子を用いて、前記光応答層を積層する、請求項11記載の細胞培養基材の製造方法。 - 前記光応答層は、磁性の変化が生じる磁性体を含み、
前記第1の積層工程において、前記磁性体を用いて、前記光応答層を積層する、請求項11または12記載の細胞培養基材の製造方法。 - 前記細胞培養層に、足場基材層を積層する第3の積層工程を含み、
前記足場基材層は、足場基材を含む、請求項11から13のいずれか一項に記載の細胞培養基材の製造方法。 - 支持体層に光応答層を積層する第1の積層工程と、
前記光応答層に、細胞培養層を積層する第2の積層工程と、
前記支持体層、前記光応答層、および前記細胞培養層を備える容器を形成する形成工程を含み、
前記光応答層は、光照射により、熱および磁性の変化の少なくとも一方が生じる光応答性物質を含み、
前記細胞培養層は、細胞を培養可能である、細胞培養容器の製造方法。 - 前記第2の積層工程と前記形成工程とを同時に実施する、請求項15記載の細胞培養容器の製造方法。
- 前記光応答層は、光照射により、熱が生じる光熱変換分子を含み、
前記第1の積層工程において、前記光熱変換分子を用いて、前記光応答層を積層する、請求項15または16記載の細胞培養容器の製造方法。 - 前記光応答層は、磁性の変化が生じる磁性体を含み、
前記第1の積層工程において、前記磁性体を用いて、前記光応答層を積層する、請求項15から17のいずれか一項に記載の細胞培養容器の製造方法。 - 前記細胞培養層に、足場基材層を積層する第3の積層工程を含み、
前記足場基材層は、足場基材を含む、請求項15から18のいずれか一項に記載の細胞培養容器の製造方法。
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