JP2020104210A - ウェーハの製造方法およびウェーハ - Google Patents
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Abstract
Description
特許文献1には、最終の研磨処理後における、ノッチ部の深さとノッチ部における面取り部の径方向の幅との和を、900μm以下に調整することが開示されている。
本発明のウェーハは、ノッチ部を有するウェーハであって、前記ノッチ部のノッチ面取り部のエッジロールオフ量が、前記ウェーハにおける外周部の外周面取り部のエッジロールオフ量よりも小さいことを特徴とする。
まず、本発明の関連技術として、上記特許文献1に記載のウェーハの製造方法について説明する。
関連技術のウェーハの製造方法は、図1に示すように、ウェーハの両主面を粗研磨する両面研磨工程S11と、両面研磨工程S11が施されたウェーハにおけるノッチ部の面取り部を鏡面研磨するノッチ鏡面研磨工程S12と、ノッチ鏡面研磨工程S12が施されたウェーハにおけるノッチ部以外の外周部の面取り部を鏡面研磨する外周鏡面研磨工程S13と、外周鏡面研磨工程S13が施されたウェーハの一方の主面を仕上げ研磨する仕上げ研磨工程S14とを備えている。
以下、各工程の詳細について説明する。
まず、図2に示すようなノッチ部Nを有するウェーハWを準備する。このウェーハWの外周部およびノッチ部Nには、一次面取り工程によって外周面取り部WCおよびノッチ面取り部NC(図4(A)参照)がそれぞれ形成されている。
両面研磨装置1を用いて、ウェーハWの第1,第2の主面W1,W2を粗研磨し、ウェーハWの平坦性を向上させる。
まず、下定盤10上にキャリア11をセットし、孔111内にウェーハWを収納した後、昇降機構12により上定盤13を下降させ、上定盤13を下方向に所定の圧力で加圧する。そして、上定盤13に形成された図示しない孔から研磨スラリーを供給しつつ、下定盤10、上定盤13、インナーギア14、アウターギア15をそれぞれの中心を中心にして独立して回転させることによって、上定盤13の図示しない研磨パッドおよび下定盤10の研磨パッド101によって、第1,第2の主面W1,W2を粗研磨する。両面研磨における片面あたりの取り代は、3μm以上13μm以下であることが好ましい。
次に、図4(A),(B)に示すようなノッチ研磨装置2を用いて、ウェーハWのノッチ面取り部NCを鏡面研磨する。
まず、ウェーハWを図示しない吸着保持部で保持させる。次に、図4(A)に示すように、面方向がウェーハWの面方向と直交する円板状のノッチ研磨ホイール20を、回転軸201を中心に回転させるとともに、ノッチ研磨ホイール20とウェーハWとを相対移動させて、図4(B)に二点鎖線で示すように、ノッチ研磨ホイール20の外周縁全体にわたって設けられた研磨パッド21とウェーハWのノッチ部Nとを接触させることで、ノッチ部Nを鏡面研磨する。さらに、図4(A)に二点鎖線で示すように、ウェーハWをその端部WE近傍を中心にして上方向および下方向にそれぞれ角度αだけ傾けるとともに、ノッチ研磨ホイール20の回転方向を調整した状態で、研磨パッド21とノッチ部Nとを所定時間ずつ接触させ、鏡面研磨を行う。ノッチ鏡面研磨工程における取り代は、2μm以上8μm以下であることが好ましい。
次に、図5(A),(B)に示すような外周研磨装置3を用いて、ウェーハWの外周面取り部WCを鏡面研磨する。
まず、ウェーハWを吸着保持部30で保持させる。次に、上方傾斜面研磨部31、垂直面研磨部32および下方傾斜面研磨部33の研磨パッド311,321,331を所定の圧力で、ウェーハWの外周部にそれぞれ押し付ける。なお、研磨パッド311,321,331は、図5(A)では、ウェーハWの外周部に対する位置関係を理解しやすくするために、ウェーハWの右側に並べて示しているが、実際には、図5(B)に示すように、研磨パッド311,321,331は、それぞれ同じ長さの円弧状に形成され、ウェーハWの周りに配置されている。
そして、配管34から研磨スラリーを研磨パッド311,321,331に供給しながら、吸着保持部30を回転させてウェーハWを回転させるとともに、各研磨部31,32,33を回転させることによって、外周面取り部WCの上方が研磨パッド311によって、中央部が研磨パッド321によって、下方が研磨パッド331によってそれぞれ鏡面研磨される。外周鏡面研磨における取り代は、2μm以上8μm以下であることが好ましい。
一方、研磨パッド311,321,331がノッチ部Nの内部に接触することはないため、ノッチ部Nは研磨されない。その結果、外周鏡面研磨後のノッチ部Nの形状は、図3(A)の中央の図に実線で示すノッチ鏡面研磨後の状態が維持される。
次に、図6に示すような仕上げ研磨装置4を用いて、ウェーハWの第1の主面W1を仕上げ研磨し、粗研磨により生じる加工ダメージを除去したり、第1の主面W1の表面粗さを改善したりする。
まず、研磨ヘッド40の図示しないウェーハチャックでウェーハWを保持させる。次に、定盤41を回転させるとともに、当該定盤41上の研磨パッド411に研磨スラリーを供給する。そして、研磨ヘッド40を回転させながら下降させ、ウェーハWを研磨パッド411に接触させることによって、第1の主面W1を仕上げ研磨する。仕上げ研磨における取り代は、0.4μm以上1.2μm以下であることが好ましい。
仕上げ研磨が行われると、第1の主面W1とダレ面r1が同じ取り代だけ削られ、ダレ面r1のダレR1は、ほとんど変化しない。この仕上げ研磨の際、研磨パッド411が軟質のポリウレタン樹脂で構成されているため、さらにダレ面r1とノッチ面取り部NCとの境界部分にダレ面r2が発生するため、図3(A)の右側の図に二点鎖線で示す仕上げ研磨直前の状態から、実線で示す状態となる。その結果、仕上げ研磨後のダレR2は、外周鏡面研磨後のダレR1よりさらに大きくなる。
次に、本発明の一実施形態に係るウェーハの製造方法について説明する。
ウェーハの製造方法は、図7に示すように、ノッチ面取り部NCを鏡面研磨するノッチ鏡面研磨工程S1と、ノッチ鏡面研磨工程S1が施されたウェーハWの両主面を粗研磨する両面研磨工程S2と、両面研磨工程S2が施されたウェーハWの外周面取り部WCを鏡面研磨する外周鏡面研磨工程S3と、外周鏡面研磨工程S3が施されたウェーハWの第1の主面W1を仕上げ研磨する仕上げ研磨工程S4とを備えている。つまり、本実施形態のウェーハの製造方法は、ノッチ鏡面研磨工程を最初に行う点で、上記関連技術と異なっている。
なお、ウェーハとしては、シリコン、ゲルマニウム、ヒ化ガリウム、リン化ガリウム、リン化インジウムなどの材料で構成されたものを適用できる。
まず、上記関連技術のノッチ鏡面研磨工程S12と同じ装置および同じ条件を用いて、ウェーハWのノッチ部Nを鏡面研磨する。
この鏡面研磨の際、研磨パッド21が軟質の不織布で構成されている上、ウェーハWを傾けて鏡面研磨を行うため、各主面W1,W2とノッチ面取り部NCとの境界部分には、図3(B)の左側の図に示すように、大きなダレR1が生じる。
研磨パッド21の硬度としては、70以上80以下であることが好ましい。硬度が80を超える場合、ノッチ面取り部NCを十分に研磨できないという不具合があり70未満の場合、オーバーポリッシュ過多によるノッチ部Nの周辺形状の悪化という不具合があるからである。
次に、上記関連技術の両面研磨工程S11と同じ装置および同じ条件を用いて、ウェーハWの各主面W1,W2を粗研磨する。
この両面研磨の取り代は、仕上げ研磨と比べて大きい。このため、両面研磨後のノッチ部Nの形状は、図3(B)の中央の図に二点鎖線で示す両面研磨工程前の状態から、実線で示す状態となり、各主面W1,W2とノッチ面取り部NCとの境界部分のダレR1がなくなる。
しかし、上述したように、両面研磨時に研磨パッドが若干凹むため、各主面W1,W2と外周面取り部WCとの境界部分、および、各主面W1,W2とノッチ面取り部NCとの境界部分には、最終的に、微小なダレが発生する。
次に、上記関連技術の外周鏡面研磨工程S13と同じ装置および同じ条件を用いて、ウェーハWの外周面取り部WCを鏡面研磨する。
この外周鏡面研磨の際、上述のように、各主面W1,W2と外周面取り部WCとの境界部分に小さなダレが付加される一方で、当該小さなダレは、各主面W1,W2とノッチ面取り部NCとの境界部分に付加されない。その結果、ノッチ部Nの形状は、図3(B)の中央の図に実線で示す外周鏡面研磨直前の状態とほとんど変わらない。
次に、上記関連技術の仕上げ研磨工程S14と同じ装置および同じ条件を用いて、ウェーハWの第1の主面W1を仕上げ研磨する。
仕上げ研磨が行われると、外周面取り部WCとノッチ面取り部NCが同じ取り代だけ削られ、仕上げ研磨後のノッチ部Nの形状は、図3(B)の右側の図に二点鎖線で示す仕上げ研磨直前の状態から、実線で示すダレ面r2が付加された状態となる。
この仕上げ研磨の際、上述したように、第1の主面W1とノッチ面取り部NCとの境界部分、および、第1の主面W1と外周面取り部WCとの境界部分に、それぞれ小さなダレ面r2が付加される。仕上げ研磨前に、第1の主面W1と外周面取り部WCとの境界部分には、外周鏡面研磨によって小さなダレが付加されている。このため、仕上げ研磨後における第1の主面W1と外周面取り部WCとの境界部分のダレの大きさ(厚さ方向の長さ)は、仕上げ研磨前よりも大きくなる。
また、仕上げ研磨で付加されるダレは、ノッチ鏡面研磨で付加されるダレと比べて桁違いに小さい。したがって、仕上げ研磨後における第1の主面W1とノッチ面取り部NCとの境界部分の形状は、図3(B)の右側に実線で示すように、仕上げ研磨により作られたダレ面r2が付加された形状とほぼ同じ形状になる。
また、第1の主面W1とノッチ面取り部NCとの境界部分のダレ量(エッジロールオフ量)が、第1の主面W1と外周面取り部WCとの境界部分のダレ量よりも小さいウェーハWが得られる。
上記実施形態によれば、関連技術で例示するように、従来、行われていたウェーハWの製造方法におけるノッチ鏡面研磨工程を両面研磨工程の前に実施するだけの簡単な方法で、第1の主面W1とノッチ面取り部NCとの境界部分におけるダレR2の発生を抑制できる。よって、上記特許文献1の発明のようにノッチ部Nの形状の変更を伴うことなく、ノッチ部N近傍の平坦性を高めることができる。
まず、12枚のウェーハWを準備した。図5(B)に示すようなノッチ部Nの幅NWが3.3mm、深さNDが1.13mmのウェーハWを12枚準備した。
そして、6枚のウェーハWに対して、図1に示すような上記関連技術のウェーハの製造方法を実施し、比較例1のサンプルを得た。
また、残りの6枚のウェーハWに対して、図7に示すような上記実施形態のウェーハの製造方法を実施し、実施例1のサンプルを得た。
比較例1と実施例1とは、各工程を行う順序を異ならせたのみで、研磨装置および研磨条件を同じにした。各工程の条件を表1に示す。
平坦度測定器Wafersight2(KLA−Tencor社製)を用いて、各ウェーハWの外周部のESFQR(Edge flatness metric, Sector based, Front surface referenced, least sQuares fit reference plane, Range of the data within sector)を測定した。ESFQRの測定は、ウェーハWの最外周からウェーハ中心方向に2mm入った位置と、32mm入った位置との間の円環状領域(エッジ最外周2mmを除く、幅が30mmの円環状領域)を円周方向に72等分したものを1つのサイトとして、各サイトに対して行った。
V=V1−V2 … (1)
以上のことから、本発明のウェーハの製造方法を実施することによって、ウェーハのノッチ近傍における平坦性を高められ、ウェーハ外周部全体としても平坦性を高められることが確認できた。
以上のことから、本発明のウェーハの製造方法を実施することによって、第1の主面W1とノッチ面取り部NCとの境界部分のエッジロールオフ量が、第1の主面W1と外周面取り部WCとの境界部分のエッジロールオフ量よりも小さいウェーハWが得られることが確認できた。
Claims (3)
- ノッチ部を有するウェーハの製造方法であって、
前記ウェーハの両主面を研磨する両面研磨工程と、
前記ノッチ部のノッチ面取り部を鏡面研磨するノッチ鏡面研磨工程と、
前記ウェーハにおける外周部の外周面取り部を鏡面研磨する外周鏡面研磨工程と、
前記ウェーハの一方の主面を仕上げ研磨する仕上げ研磨工程とを備え、
前記ノッチ鏡面研磨工程と前記両面研磨工程と前記外周鏡面研磨工程とを、当該順序で行った後に、前記仕上げ研磨工程を行うことを特徴とするウェーハの製造方法。 - 請求項1に記載のウェーハの製造方法において、
前記ウェーハがシリコンウェーハであることを特徴とするウェーハの製造方法。 - ノッチ部を有するウェーハであって、
前記ノッチ部のノッチ面取り部のエッジロールオフ量が、前記ウェーハにおける外周部の外周面取り部のエッジロールオフ量よりも小さいことを特徴とするウェーハ。
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