JP2020102540A - 半導体装置 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 121
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 claims abstract description 86
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 74
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 12
- 210000000746 body region Anatomy 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 7
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 230000036413 temperature sense Effects 0.000 description 2
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 1
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- -1 boron ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
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- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
10 :半導体基板
11 :コレクタ領域
12 :バッファ領域
13 :ドリフト領域
14 :ボディ領域
15 :ボディコンタクト領域
16 :エミッタ領域
22 :コレクタ電極
24 :エミッタ電極
30 :トレンチゲート部
32 :ゲート電極
34 :ゲート絶縁膜
100 :アバランシェ降伏部
Claims (1)
- 半導体基板の一方の主面に設けられている第1主面電極と他方の主面に設けられている第2主面電極の間を電流が縦方向に流れる縦型の半導体装置であって、
前記半導体基板は、トランジスタ構造が形成されている素子領域と、前記素子領域の周囲に位置する周辺領域と、に区画されており、
前記半導体基板の前記素子領域は、前記半導体基板内に設けられているドリフト領域の厚みが薄く形成されている複数のアバランシェ降伏部を有しており、
前記複数のアバランシェ降伏部が、前記素子領域内に亘って分散して配置されている、半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018239925A JP2020102540A (ja) | 2018-12-21 | 2018-12-21 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018239925A JP2020102540A (ja) | 2018-12-21 | 2018-12-21 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020102540A true JP2020102540A (ja) | 2020-07-02 |
Family
ID=71139907
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018239925A Pending JP2020102540A (ja) | 2018-12-21 | 2018-12-21 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2020102540A (ja) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2018
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Date | Code | Title | Description |
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A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20200720 |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20221215 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A02 | Decision of refusal |
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