JP2020018574A - Analysis method of local clarification device, decontamination method of local clarification device and local clarification device - Google Patents

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Abstract

To provide an analysis method of a local clarification device allowing for highly accurate estimation of concentration of hydrogen peroxide gas.SOLUTION: The analysis method of a local clarification device according to the present invention is an analysis method for analyzing concentration of HOgas in an operation booth part 2 of a local clarification device 10 having: a plenum part 1 having an air filter 11; the operation booth part 2; and a hydrogen peroxide (HO) gas generation part 3. The analysis method has a step S11 of calculating first gas concentration of HOgas when the plenum part 1 and the operation part 2 are presumed as a unit and the air filter 11 is not provided, an adsorption amount calculation step S12 of calculating adsorption amount CA of the HOgas adsorbed to the air filter 11 when HOgas concentration is the first concentration C1, and a second gas concentration calculation step S13 of calculating second concentration C2 of the HOgas in the operation booth part 2 by extracting the adsorption amount CA from the first concentration C1.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、局所清浄化装置の解析方法、局所清浄化装置の除染方法および局所清浄化装置に関する。   The present invention relates to an analysis method of a local cleaning device, a decontamination method of the local cleaning device, and a local cleaning device.

無菌製剤工場や食品工場、半導体製造工場などにおいて、空気中のゴミや塵埃を取り除いて清浄空気によって局所的に清浄化された作業ブース部を備えた局所清浄化装置が用いられている。このような局所清浄化装置において、近年、作業者のアクセスを物理的に遮断した気流自己循環型クローズド系の局所清浄化装置が無菌製剤工場を中心に普及しつつある。このようなクローズド系の局所清浄化装置においては、気流が周囲環境に拡散するオープン系と異なり開口部がほとんどなく、開口箇所を密封手段（気密弁など）で密封して内部に除染剤（ガスやミスト）を充満させて、除染することが可能である。クローズド系の局所清浄化装置においては、過酸化水素ガスを用いた除染（殺菌）が行われているものがある。過酸化水素ガスを用いた除染としては、例えば、前記した作業ブース部などの除染対象部内に供給した過酸化水素ガスを当該除染対象部内で凝縮させる湿式除染（ウェット法）と、除染対象部内に供給した過酸化水素ガスを凝縮させずに気相のままで除染対象部内に存在させる乾式除染（ドライ法）と、過酸化水素水のミストを噴霧して、ミストが浮遊している間に揮発させる方法（ミスト噴霧法）とがある。   2. Description of the Related Art In a sterile formulation factory, a food factory, a semiconductor manufacturing factory, and the like, a local cleaning device including a work booth section that removes dust and dust in the air and is locally cleaned by clean air is used. In such a local cleaning apparatus, in recent years, an airflow self-circulation type closed local cleaning apparatus that physically blocks the access of an operator has been widely used mainly in a sterile pharmaceutical factory. In such a closed local cleaning device, unlike an open system in which an air flow diffuses to the surrounding environment, there are few openings, and the opening is sealed with a sealing means (such as an airtight valve) and the decontaminant ( Gas and mist) to decontaminate. In some closed type local cleaning devices, decontamination (sterilization) using hydrogen peroxide gas is performed. Examples of decontamination using hydrogen peroxide gas include, for example, wet decontamination (wet method) in which hydrogen peroxide gas supplied to a decontamination target section such as the above-described work booth section is condensed in the decontamination target section, Dry decontamination (dry method) in which the hydrogen peroxide gas supplied to the decontamination target is present in the decontamination target in a gas phase without condensing, and spraying a mist of hydrogen peroxide water, There is a method of vaporizing while floating (mist spraying method).

ドライ法に関して、例えば、特許文献１に次の発明が開示されている。すなわち、この発明は、気液平衡を表す２つの所定の式がともに成立する解有りの状態が存在したとき、過酸化水素蒸気の室内凝縮が生じると判定するステップを備えている除染管理装置、というものである。   Regarding the dry method, for example, Patent Document 1 discloses the following invention. That is, the present invention provides a decontamination management device including a step of determining that hydrogen peroxide vapor is condensed in a room when there is a solution state in which two predetermined equations representing the vapor-liquid equilibrium are both satisfied. That is.

特許第４９７７２３３号公報Japanese Patent No. 4977233

特許文献１に開示されている発明は、除染対象室の室内温度、室内湿度、室内過酸化水素濃度などをセンシングして前記したように２つの所定の式を算出して、室内の気相と液相のシミュレーションを行っている。しかしながら、特許文献１に開示されている発明においては、演算により凝縮が生じるか否かを自動判定ができ、不測に凝縮が生じることを回避するようにシステム構成がなされているが、室内過酸化水素濃度を算出、予測できるものではない。
また、気化させる過酸化水素水の量と過酸化水素水を揮発させる操作時の過酸化水素の分解率などを用い、一般的な物質収支式を用いて、室内の平均過酸化水素濃度を算出することは可能である。しかし、空気中のゴミや塵埃を取り除いて清浄空気にするＨＥＰＡフィルタ（High Efficiency Particulate Air Filter）やＵＬＰＡフィルタ（Ultra Low Penetration Air Filter）などのエアフィルタに、過酸化水素ガスを通過させて除染を実施する場合は、エアフィルタに吸着する過酸化水素成分量は室内の過酸化水素濃度に反映されない。これらのエアフィルタは主にガラス繊維が充填されて形成されているものが多く、またその表面積も大きいので、過酸化水素ガス（引用文献１における過酸化水素蒸気に相当）が多量に吸着する。そのため、従来の物質収支式を用いて、エアフィルタを備えた局所清浄化装置や除染対象室などにおける過酸化水素ガスの濃度を高い精度で推算できなかった。 The invention disclosed in Patent Literature 1 senses indoor temperature, indoor humidity, indoor hydrogen peroxide concentration and the like of a room to be decontaminated, calculates two predetermined equations as described above, and calculates the indoor gas phase. And liquid phase simulation. However, in the invention disclosed in Patent Literature 1, a system configuration is made so that it is possible to automatically determine whether or not condensation occurs by calculation and to avoid occurrence of accidental condensation. The hydrogen concentration cannot be calculated and predicted.
In addition, the average hydrogen peroxide concentration in the room is calculated using a general material balance equation, using the amount of hydrogen peroxide to be vaporized and the decomposition rate of hydrogen peroxide during the operation of volatilizing the hydrogen peroxide. It is possible to do. However, hydrogen peroxide gas is passed through an air filter such as a HEPA filter (High Efficiency Particulate Air Filter) or an ULPA filter (Ultra Low Penetration Air Filter) to remove dust and dirt from the air to produce clean air, and decontamination is performed. Is performed, the amount of the hydrogen peroxide component adsorbed on the air filter is not reflected in the hydrogen peroxide concentration in the room. Many of these air filters are mainly formed by filling glass fibers and have a large surface area, so that a large amount of hydrogen peroxide gas (corresponding to hydrogen peroxide vapor in Patent Document 1) is adsorbed. For this reason, the concentration of hydrogen peroxide gas in a local cleaning device equipped with an air filter, a room to be decontaminated, and the like cannot be estimated with high accuracy using the conventional material balance equation.

本発明は前記状況に鑑みてなされたものであり、過酸化水素ガスの濃度を高い精度で推算できる局所清浄化装置の解析方法、局所清浄化装置の除染方法および局所清浄化装置を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides an analysis method of a local cleaning device, a decontamination method of the local cleaning device, and a local cleaning device that can estimate the concentration of hydrogen peroxide gas with high accuracy. That is the task.

前記課題を解決するため本発明に係る局所清浄化装置の解析方法は、空気中のゴミや塵埃を取り除いて清浄空気にするエアフィルタを有するプレナム部と、前記エアフィルタから前記清浄空気が供給されて局所的に清浄化される作業ブース部と、前記エアフィルタ、前記プレナム部および前記作業ブース部に結露が生じない濃度の過酸化水素ガスを発生させて前記プレナム部に導入する過酸化水素ガス発生部と、を備える局所清浄化装置における前記作業ブース部内の前記過酸化水素ガスの濃度を解析する解析方法であり、前記プレナム部および前記作業ブース部を一体とみなし、かつ前記エアフィルタを備えていないとした場合における前記過酸化水素ガスの第１の濃度を計算する第１のガス濃度計算ステップと、前記第１の濃度である場合における、前記エアフィルタに吸着する前記過酸化水素ガスの吸着量を計算する吸着量計算ステップと、前記第１の濃度から前記吸着量を差し引いて前記作業ブース部内の前記過酸化水素ガスの第２の濃度を計算する第２のガス濃度計算ステップと、を有する。   In order to solve the above-described problem, the analysis method of the local cleaning device according to the present invention includes a plenum portion having an air filter that removes dust and dirt from the air to make clean air, and the clean air is supplied from the air filter. And a hydrogen peroxide gas that generates hydrogen peroxide gas at a concentration that does not cause dew condensation in the air filter, the plenum portion, and the work booth portion and is introduced into the plenum portion. And a generator for analyzing the concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth in the local cleaning device comprising: the plenum and the work booth being regarded as an integral unit, and including the air filter. A first gas concentration calculating step of calculating a first concentration of the hydrogen peroxide gas in a case where the first concentration is not set; Calculating an adsorption amount of the hydrogen peroxide gas adsorbed on the air filter; and subtracting the adsorption amount from the first concentration to obtain a second amount of the hydrogen peroxide gas in the work booth. And a second gas concentration calculating step of calculating the concentration of the gas.

また、本発明に係る局所清浄化装置の除染方法は、空気中のゴミや塵埃を取り除いて清浄空気にするエアフィルタを有するプレナム部と、前記エアフィルタから前記清浄空気が供給されて局所的に清浄化される作業ブース部と、前記エアフィルタ、前記プレナム部および前記作業ブース部に結露が生じない濃度の過酸化水素ガスを発生させて前記プレナム部に導入する過酸化水素ガス発生部と、を備える局所清浄化装置における前記作業ブース部内を除染する除染方法であり、前記プレナム部および前記作業ブース部を一体とみなし、かつ前記エアフィルタを備えていないとした場合における前記過酸化水素ガスの第１の濃度を計算する第１のガス濃度計算ステップと、前記第１の濃度である場合における、前記エアフィルタに吸着する前記過酸化水素ガスの吸着量を計算する吸着量計算ステップと、前記第１の濃度から前記吸着量を差し引いて前記作業ブース部内の前記過酸化水素ガスの第２の濃度を計算する第２のガス濃度計算ステップと、計測された過酸化水素ガスの濃度が前記第２の濃度に近付くように前記過酸化水素ガス発生部で発生させる過酸化水素ガスの発生量を制御する発生量制御ステップと、を有する。   Further, the decontamination method of the local cleaning device according to the present invention includes a plenum portion having an air filter that removes dust and dirt from the air to make clean air, and the clean air is supplied from the air filter to locally clean the air. A work booth section to be cleaned, and a hydrogen peroxide gas generation section that generates hydrogen peroxide gas having a concentration that does not cause condensation in the air filter, the plenum section and the work booth section, and introduces the hydrogen peroxide gas into the plenum section. A decontamination method for decontaminating the inside of the work booth in the local cleaning device comprising: the peroxidation in the case where the plenum and the work booth are regarded as integral and the air filter is not provided. A first gas concentration calculating step of calculating a first concentration of hydrogen gas; and a step of adsorbing to the air filter when the concentration is the first concentration. An adsorption amount calculating step of calculating an adsorption amount of the hydrogen oxide gas, and a second gas concentration of calculating the second concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth section by subtracting the adsorption amount from the first concentration. A calculation step, and a generation amount control step of controlling the generation amount of the hydrogen peroxide gas generated by the hydrogen peroxide gas generation unit so that the measured concentration of the hydrogen peroxide gas approaches the second concentration. Have.

さらに、本発明に係る局所清浄化装置は、空気中のゴミや塵埃を取り除いて清浄空気にするエアフィルタを有するプレナム部と、前記エアフィルタから前記清浄空気が供給されて局所的に清浄化される作業ブース部と、前記エアフィルタ、前記プレナム部および前記作業ブース部に結露が生じない濃度の過酸化水素ガスを発生させて前記プレナム部に導入する過酸化水素ガス発生部と、を備えるとともに、前記作業ブース部内の前記過酸化水素ガスの濃度を解析する解析部を備え、前記解析部は、前記プレナム部および前記作業ブース部を一体とみなし、かつ前記エアフィルタを備えていないとした場合における前記過酸化水素ガスの第１の濃度を計算する第１のガス濃度計算手段と、前記第１の濃度である場合における、前記エアフィルタに吸着する前記過酸化水素ガスの吸着量を計算する吸着量計算手段と、前記第１の濃度から前記吸着量を差し引いて前記作業ブース部内の前記過酸化水素ガスの第２の濃度を計算する第２のガス濃度計算手段と、を有する。   Further, the local cleaning device according to the present invention is a plenum portion having an air filter that removes dust and dirt from the air to make clean air, and the clean air is supplied from the air filter to be locally cleaned. A work booth section, and a hydrogen peroxide gas generation section that generates hydrogen peroxide gas having a concentration that does not cause condensation in the air filter, the plenum section, and the work booth section and introduces the hydrogen peroxide gas into the plenum section. An analysis unit for analyzing the concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth unit, wherein the analysis unit regards the plenum unit and the work booth unit as one, and does not include the air filter. First gas concentration calculating means for calculating a first concentration of the hydrogen peroxide gas in the above, and the air filter in the case of the first concentration An adsorption amount calculating means for calculating an adsorption amount of the hydrogen peroxide gas to be adsorbed, and a second concentration calculating means for calculating a second concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth section by subtracting the adsorption amount from the first concentration. 2 gas concentration calculating means.

また、本発明に係る局所清浄化装置は、空気中のゴミや塵埃を取り除いて清浄空気にするエアフィルタを有するプレナム部と、前記エアフィルタから前記清浄空気が供給されて局所的に清浄化される作業ブース部と、前記エアフィルタ、前記プレナム部および前記作業ブース部に結露が生じない濃度の過酸化水素ガスを発生させて前記プレナム部に導入する過酸化水素ガス発生部と、を備えるとともに、前記過酸化水素ガス発生部で発生させる前記過酸化水素ガスの発生量を調節して前記作業ブース部内における前記過酸化水素ガスの濃度を制御する制御部を備え、前記制御部は、前記プレナム部および前記作業ブース部を一体とみなし、かつ前記エアフィルタを備えていないとした場合における前記過酸化水素ガスの第１の濃度を計算する第１のガス濃度計算手段と、前記第１の濃度である場合における、前記エアフィルタに吸着する前記過酸化水素ガスの吸着量を計算する吸着量計算手段と、前記第１の濃度から前記吸着量を差し引いて前記作業ブース部内の前記過酸化水素ガスの第２の濃度を計算する第２のガス濃度計算手段と、計測された過酸化水素ガスの濃度が前記第２の濃度に近付くように前記過酸化水素ガス発生部で発生させる過酸化水素ガスの発生量を制御する発生量制御手段と、を有する。   In addition, the local cleaning device according to the present invention is a plenum portion having an air filter that removes dust and dirt from the air to make clean air, and the clean air is supplied from the air filter to be locally cleaned. A work booth section, and a hydrogen peroxide gas generation section that generates hydrogen peroxide gas having a concentration that does not cause condensation in the air filter, the plenum section, and the work booth section and introduces the hydrogen peroxide gas into the plenum section. A control unit that controls a concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth unit by adjusting a generation amount of the hydrogen peroxide gas generated by the hydrogen peroxide gas generation unit, wherein the control unit includes the plenum. Unit and the work booth unit are regarded as one body, and the first concentration of the hydrogen peroxide gas is calculated when the air filter is not provided. A gas concentration calculator, an adsorption amount calculator for calculating an adsorption amount of the hydrogen peroxide gas adsorbed on the air filter when the gas concentration is the first concentration, and an adsorption amount based on the first concentration. A second gas concentration calculating means for calculating a second concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth section by subtracting the second concentration from the second concentration so that the measured concentration of the hydrogen peroxide gas approaches the second concentration. A generation amount control unit that controls the generation amount of the hydrogen peroxide gas generated in the hydrogen peroxide gas generation unit.

本発明によれば、過酸化水素ガスの濃度を高い精度で推算できる局所清浄化装置の解析方法、局所清浄化装置の除染方法および局所清浄化装置を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the analysis method of the local cleaning apparatus which can estimate the density | concentration of hydrogen peroxide gas with high precision, the decontamination method of the local cleaning apparatus, and the local cleaning apparatus can be provided.

第１実施形態に係る局所清浄化装置の構成を説明する概略構成図である。It is a schematic structure figure explaining the composition of the local cleaning device concerning a 1st embodiment. 作業ブース部内を除染する際の過酸化水素ガスの概念的な濃度変遷を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining the conceptual transition of the concentration of hydrogen peroxide gas when decontaminating the inside of the work booth. 第２実施形態に係る局所清浄化装置の構成を説明する概略構成図である。It is a schematic structure figure explaining the composition of the local cleaning device concerning a 2nd embodiment. 本発明に係る局所清浄化装置の解析方法の一実施形態を説明するフローチャートである。It is a flow chart explaining one embodiment of an analysis method of a local cleaning device concerning the present invention. 本発明に係る局所清浄化装置の除染方法の一実施形態を説明するフローチャートである。It is a flow chart explaining one embodiment of a decontamination method of a local cleaning device concerning the present invention. 過酸化水素ガスの濃度を比較例１および実施例１でそれぞれ解析した結果を示すグラフである。図中、横軸は、経過時間［ｍｉｎ］であり、縦軸は、過酸化水素ガスの濃度［ｐｐｍ］である。4 is a graph showing the results of analyzing the concentration of hydrogen peroxide gas in Comparative Example 1 and Example 1. In the figure, the horizontal axis is the elapsed time [min], and the vertical axis is the concentration of the hydrogen peroxide gas [ppm]. 本発明に係る制御方法で過酸化水素ガスの濃度を制御した場合（実施例２）と、供給量を固定して過酸化水素ガスを供給した場合（比較例２）と、を比較したグラフである。図中、横軸は、経過時間［ｍｉｎ］であり、縦軸は、過酸化水素ガスの濃度［ｐｐｍ］である。FIG. 5 is a graph comparing the case where the concentration of hydrogen peroxide gas is controlled by the control method according to the present invention (Example 2) and the case where hydrogen peroxide gas is supplied with a fixed supply amount (Comparative Example 2). is there. In the figure, the horizontal axis is the elapsed time [min], and the vertical axis is the concentration of the hydrogen peroxide gas [ppm]. 本発明の他の実施形態を示す概略構成図である。It is a schematic structure figure showing other embodiments of the present invention.

以下、適宜図面を参照して本発明の一実施形態に係る局所清浄化装置の解析方法、局所清浄化装置の除染方法および局所清浄化装置について詳細に説明する。なお、参照する図面において共通する構成要素には同一の符号を付し、重複した説明を省略する。また、部材のサイズおよび形状は、説明の便宜上、変形または誇張して模式的に表す場合がある。
本明細書では、説明の便宜上、はじめに、局所清浄化装置の実施形態について説明し、次いで、局所清浄化装置の解析方法および除染方法の実施形態について説明する。 Hereinafter, an analysis method of a local cleaning device, a decontamination method of the local cleaning device, and a local cleaning device according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as appropriate. In the drawings to be referred to, the same components are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted. Further, the size and shape of the member may be schematically represented by being deformed or exaggerated for convenience of explanation.
In this specification, for convenience of explanation, first, an embodiment of a local cleaning device will be described, and then, an embodiment of an analysis method and a decontamination method of the local cleaning device will be described.

［局所清浄化装置］
（第１実施形態）
図１は、第１実施形態に係る局所清浄化装置１０の構成を説明する概略構成図である。図２は、作業ブース部２内を除染する際の過酸化水素ガスの概念的な濃度変遷を説明する模式図である。
図１に示す局所清浄化装置１０は、例えば、アクセス制限バリアシステム（Closed-Restricted Access Barrier Systems）やアイソレータなどとして用いられる。なお、本明細書において、アクセス制限バリアシステムとは、無菌操作のためのシステムであり、その内部と周辺環境を分離するために剛性壁による閉空間および吹き出し空気を利用することで、密閉されてはいないが包囲された、ＩＳＯクラス５（グレードＡ、Ｃｌａｓｓ１００）の条件を満たす環境を実現するシステムをいう。また、本明細書において、アイソレータとは、製品充填用容器や充填後の製品を受け渡すマウスポートを除いて、環境および作業者の直接介入から物理的にほぼ完全に隔離された無菌操作区域を有する装置であって、除染した後にＨＥＰＡフィルタやＵＬＰＡフィルタなどのエアフィルタによりろ過した空気を供給し、外部環境からの汚染の危険性を防ぎながら連続して使用できる装置をいう。
なお、局所清浄化装置１０をアクセス制限バリアシステムとして用いる場合は、空気の清浄度レベルがＩＳＯクラス７（グレードＢ、Ｃｌａｓｓ１００００）以上の環境下で用いることが好ましい。一方、局所清浄化装置１０をアイソレータとして用いる場合は、空気の清浄度レベルがＩＳＯクラス８（グレードＣ、Ｃｌａｓｓ１０００００）またはグレードＤの環境下で用いることができる。 [Local cleaning device]
(1st Embodiment)
FIG. 1 is a schematic configuration diagram illustrating a configuration of a local cleaning device 10 according to the first embodiment. FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a conceptual change in the concentration of hydrogen peroxide gas when decontaminating the inside of the work booth unit 2.
The local cleaning apparatus 10 shown in FIG. 1 is used as, for example, a closed-restricted access barrier system or an isolator. Note that, in the present specification, the access restriction barrier system is a system for aseptic operation, and is closed by using a closed space by a rigid wall and blown air to separate the inside from the surrounding environment. A system that realizes an environment that meets the requirements of ISO class 5 (grade A, Class 100) that is not enclosed. As used herein, the term "isolator" refers to a sterile operation area physically and almost completely isolated from the environment and direct intervention by an operator, except for a product filling container and a mouse port for delivering a filled product. A device having air that is filtered by an air filter such as a HEPA filter or a ULPA filter after decontamination and can be used continuously while preventing the risk of contamination from the external environment.
When the local cleaning device 10 is used as an access restriction barrier system, it is preferable to use it in an environment where the air cleanliness level is ISO class 7 (grade B, Class 10000) or higher. On the other hand, when the local cleaning device 10 is used as an isolator, it can be used in an environment where the air cleanliness level is ISO class 8 (grade C, Class 100000) or grade D.

図１に示すように、局所清浄化装置１０は、プレナム部１と、作業ブース部２と、過酸化水素ガス発生部３と、を備えるとともに、解析部３１を備えている。この解析部３１は、後述するように、局所清浄化装置１０を所定の手段として機能させることで、後述する他の実施形態に係る局所清浄化装置１０の解析方法を行うことができる。
また、局所清浄化装置１０には、作業用のグローブ１０ｂが設けられている。このグローブ１０ｂは、局所清浄化装置１０の壁部１０ａと作業ブース部２とを貫通して、作業ブース部２内に到達するように設けられている。そのため、作業者は当該グローブ１０ｂを介して作業ブース部２内で各種の作業が行えるようになっている。 As shown in FIG. 1, the local cleaning device 10 includes a plenum unit 1, a work booth unit 2, a hydrogen peroxide gas generation unit 3, and an analysis unit 31. The analysis unit 31 can perform the analysis method of the local cleaning device 10 according to another embodiment described later by causing the local cleaning device 10 to function as a predetermined unit, as described later.
The local cleaning device 10 is provided with a working glove 10b. The glove 10b is provided so as to penetrate the wall 10a of the local cleaning device 10 and the work booth 2, and reach the inside of the work booth 2. Therefore, the operator can perform various operations in the work booth unit 2 via the glove 10b.

（プレナム部）
プレナム部１は、後記する作業ブース部２と隔壁を介して隣接して設けられている。なお、局所清浄化装置１０におけるプレナム部１の容積は問わない（特に限定されない）。プレナム部１は、エアフィルタ１１を有しており、このエアフィルタ１１によって空気中のゴミや塵埃を取り除いて清浄空気にする。なお、エアフィルタ１１は、気流において上流となる面にエアフィルタ用ファン１３が設けられており、下流となる面に吹出口１２が設けられている。プレナム部１は、エアフィルタ用ファン１３を駆動させることで、エアフィルタ１１によって得られた清浄空気を当該吹出口１２から作業ブース部２内に向けて吹き出すことができる。なお、清浄空気は温度、湿度、清浄度などが適宜調整されていることが好ましい。エアフィルタ１１としては、例えば、前記したＨＥＰＡフィルタまたはＵＬＰＡフィルタを好適に用いることができるが、これらに限定されない。エアフィルタ１１は、例えば、ガラス繊維が充填されて形成されたものを好適に用いることができる。 (Plenum)
The plenum section 1 is provided adjacent to a work booth section 2 described later via a partition. In addition, the volume of the plenum 1 in the local cleaning device 10 does not matter (it is not particularly limited). The plenum section 1 has an air filter 11, and the air filter 11 removes dust and dirt from the air to make clean air. In the air filter 11, an air filter fan 13 is provided on a surface that is upstream in the airflow, and an air outlet 12 is provided on a surface that is downstream. By driving the air filter fan 13, the plenum 1 can blow clean air obtained by the air filter 11 from the outlet 12 into the work booth 2. It is preferable that the temperature, humidity, cleanliness, and the like of the clean air are appropriately adjusted. As the air filter 11, for example, the above-described HEPA filter or ULPA filter can be preferably used, but is not limited thereto. As the air filter 11, for example, a filter formed by filling with glass fibers can be suitably used.

また、プレナム部１は、内部の気体を攪拌するファン１４を備えていることが好ましい。このようにすると、過酸化水素ガス発生部３から導入された過酸化水素ガスをプレナム部１の内部で十分に攪拌することができ、均一に分布させることができる。そして、プレナム部１内で均一に分布する過酸化水素ガスを作業ブース部２内に導入できるため、作業ブース部２内における過酸化水素ガスの濃度を均一にすることができる。   Further, it is preferable that the plenum section 1 includes a fan 14 for stirring the gas inside. By doing so, the hydrogen peroxide gas introduced from the hydrogen peroxide gas generation unit 3 can be sufficiently stirred inside the plenum 1 and can be uniformly distributed. Since the hydrogen peroxide gas uniformly distributed in the plenum 1 can be introduced into the work booth 2, the concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth 2 can be made uniform.

（作業ブース部）
作業ブース部２は、前記したようにプレナム部１と隣接して設けられている。作業ブース部２は、前記したエアフィルタ１１から清浄空気が供給されることにより、局所的に清浄化されている。作業ブース部２には局所清浄化装置１０の壁部１０ａに設けられているグローブ１０ｂの届く範囲に各種の作業を行う作業台１０ｃや各種の生産用装置（図示せず）などが配置されている。なお、局所清浄化装置１０における作業ブース部２の容積は問わない（特に限定されない）。 (Work booth)
The work booth section 2 is provided adjacent to the plenum section 1 as described above. The work booth 2 is locally cleaned by supplying clean air from the air filter 11 described above. In the work booth section 2, a work table 10c for performing various works and various production devices (not shown) are arranged within a reach of a glove 10b provided on a wall 10a of the local cleaning device 10. I have. In addition, the volume of the work booth unit 2 in the local cleaning device 10 does not matter (it is not particularly limited).

前記した吹出口１２から作業ブース部２内に導入される過酸化水素ガスの風速は０．４ｍ／ｓ以下であればよいが、０．２ｍ／ｓ以下とすることが好ましい。なお、過酸化水素ガスの風速を０．２ｍ／ｓ以下とすると、風速が十分に遅いので、プレナム部１内において過酸化水素ガスが十分均一な状態となる。そのため、局所清浄化装置１０は、作業ブース部２内における過酸化水素ガスの濃度をより均一にできる。   The wind speed of the hydrogen peroxide gas introduced from the outlet 12 into the work booth 2 may be 0.4 m / s or less, but is preferably 0.2 m / s or less. When the wind speed of the hydrogen peroxide gas is set to 0.2 m / s or less, the wind speed is sufficiently low, so that the hydrogen peroxide gas is in a sufficiently uniform state in the plenum portion 1. Therefore, the local cleaning device 10 can make the concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth unit 2 more uniform.

（過酸化水素ガス発生部）
過酸化水素ガス発生部３は、プレナム部１と連通する第１連通部３ａと、作業ブース部２の下方で連通する第２連通部３ｂと、を有する。過酸化水素ガス発生部３は、例えば、生産作業終了後や生産作業開始前などの適時に行う除染処理において、プレナム部１とエアフィルタ１１とを介して作業ブース部２内に過酸化水素ガスを導入する。したがって、過酸化水素ガス発生部３は、図２の模式図に示すように、作業ブース部２内を除湿し（除湿工程Ｓ１）、作業ブース部２内の過酸化水素ガスの濃度を上昇させ（濃度上昇工程Ｓ２）、所定時間、所定の濃度を維持して除染を行うことができる（除染工程Ｓ３）。そして、除染工程Ｓ３が終了したら、過酸化水素ガス発生部３は運転を停止し、作業ブース部２内を換気して過酸化水素ガスの濃度を低下させ、製品などに対して無害な環境にすることができる（無害化工程Ｓ４）。 (Hydrogen peroxide gas generation section)
The hydrogen peroxide gas generating section 3 has a first communicating section 3 a communicating with the plenum section 1 and a second communicating section 3 b communicating below the work booth section 2. In the decontamination process performed at an appropriate time, for example, after the end of the production operation or before the start of the production operation, the hydrogen peroxide gas generation unit 3 stores the hydrogen peroxide in the operation booth unit 2 via the plenum unit 1 and the air filter 11. Introduce gas. Therefore, the hydrogen peroxide gas generator 3 dehumidifies the inside of the work booth 2 (dehumidification step S1) and increases the concentration of hydrogen peroxide gas in the work booth 2, as shown in the schematic diagram of FIG. (Concentration increasing step S2), decontamination can be performed for a predetermined time while maintaining a predetermined concentration (decontamination step S3). When the decontamination step S3 is completed, the operation of the hydrogen peroxide gas generation unit 3 is stopped, the inside of the work booth unit 2 is ventilated to reduce the concentration of the hydrogen peroxide gas, and an environment harmless to products and the like. (Detoxification step S4).

つまり、過酸化水素ガス発生部３は、除染処理の濃度上昇工程Ｓ２および除染工程Ｓ３において、エアフィルタ１１を含む局所清浄化装置１０内面、具体的にはエアフィルタ１１、プレナム部１および作業ブース部２に結露が生じない濃度で過酸化水素ガスを発生させ、前記した第１連通部３ａから過酸化水素ガスをプレナム部１に導入する。なお、前記した第１連通部３ａからプレナム部１への過酸化水素ガスの吹き出し風速は、例えば、１５ｍ３／ｈとすることができるが、これに限定されるものではなく、任意に設定することができる。 That is, the hydrogen peroxide gas generation unit 3 performs the internal cleaning of the local cleaning device 10 including the air filter 11 in the concentration increasing step S2 and the decontamination step S3 of the decontamination process, specifically, the air filter 11, the plenum unit 1 and Hydrogen peroxide gas is generated at a concentration at which dew condensation does not occur in the work booth section 2, and the hydrogen peroxide gas is introduced into the plenum section 1 from the first communication section 3 a. In addition, the blowing speed of the hydrogen peroxide gas from the first communication portion 3a to the plenum portion 1 can be, for example, 15 m 3 / h, but is not limited thereto, and is set arbitrarily. be able to.

また、図示しないがエアフィルタ１１の後段に、整流用として、例えば、ポリエステル製のスクリーンを設置する場合がある。この場合、過酸化水素ガス発生部３は、このスクリーンにも結露が生じない濃度で過酸化水素ガスを発生させる。プレナム部１に導入された過酸化水素ガスは前記したように、エアフィルタ１１を介して作業ブース部２内に導入される。そして、作業ブース部２内に導入された過酸化水素ガスは、作業ブース部２を除染した後、作業ブース部２の下方に設けられた排出口２ａから排出され、大部分はレターンスペース１ａを通って排出口２ｂからプレナム部１に戻り、一部は前記した第２連通部３ｂを通って過酸化水素ガス発生部３に戻る。   Although not shown, for example, a polyester screen may be installed downstream of the air filter 11 for rectification. In this case, the hydrogen peroxide gas generator 3 generates hydrogen peroxide gas at a concentration at which dew does not form on the screen. The hydrogen peroxide gas introduced into the plenum 1 is introduced into the work booth 2 via the air filter 11 as described above. The hydrogen peroxide gas introduced into the work booth 2 is discharged from an outlet 2a provided below the work booth 2 after decontaminating the work booth 2, and most of the return space 1a Through the outlet 2b to the plenum portion 1 and partially returns to the hydrogen peroxide gas generating portion 3 through the second communication portion 3b.

また、過酸化水素ガス発生部３は、作業ブース部２内における過酸化水素ガスの濃度が予め設定された濃度となるように制御する。具体的には、過酸化水素ガス発生部３は、過酸化水素ガス発生部３に戻ってきた過酸化水素ガスを触媒３ｃで分解し、戻ってきた過酸化水素ガスに含まれている水分を除湿剤３ｄで除去する。過酸化水素ガス発生部３は、触媒３ｃと除湿剤３ｄとで処理した気体を必要に応じて図示しないヒータ等で加熱（予熱）する。そして、過酸化水素ガス発生部３は、これらの処理を行った気体と、新たに発生させた過酸化水素ガスと、を混合して第１連通部３ａからプレナム部１に導入する。ここで、作業ブース部２から戻ってきた過酸化水素ガスは、エアフィルタ１１でゴミや塵埃などが取り除かれているので装置外から新たに空気を取り入れる場合と比較すると清浄度が高く、エアフィルタ１１の負担を低減することができる（エアフィルタ１１を長期利用できる）。また、過酸化水素ガス発生部３は、過酸化水素ガスを触媒３ｃで分解するので、除湿剤３ｄとその後段のラインを保護することができる。また、過酸化水素ガス発生部３は、水分を除湿剤３ｄで除去するので、エアフィルタ１１を含む局所清浄化装置１０内面に結露が発生しないようにすることができる。   Further, the hydrogen peroxide gas generation unit 3 controls the concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth unit 2 to be a preset concentration. Specifically, the hydrogen peroxide gas generation unit 3 decomposes the hydrogen peroxide gas returned to the hydrogen peroxide gas generation unit 3 with the catalyst 3c, and removes the moisture contained in the returned hydrogen peroxide gas. It is removed by the dehumidifying agent 3d. The hydrogen peroxide gas generator 3 heats (preheats) the gas treated with the catalyst 3c and the dehumidifier 3d by a heater (not shown) or the like as necessary. Then, the hydrogen peroxide gas generation unit 3 mixes the gas subjected to these treatments and the newly generated hydrogen peroxide gas, and introduces the mixed gas into the plenum unit 1 from the first communication unit 3a. Here, the hydrogen peroxide gas returned from the work booth section 2 has a higher cleanliness than the case where air is newly taken in from outside the apparatus because dust and dust are removed by the air filter 11. 11 can be reduced (the air filter 11 can be used for a long time). Further, since the hydrogen peroxide gas generating unit 3 decomposes the hydrogen peroxide gas with the catalyst 3c, it is possible to protect the dehumidifying agent 3d and the subsequent line. In addition, since the hydrogen peroxide gas generator 3 removes moisture with the dehumidifier 3 d, it is possible to prevent dew condensation from occurring on the inner surface of the local cleaning device 10 including the air filter 11.

過酸化水素ガスは、過酸化水素ガス発生部３から得られる高濃度の過酸化水素ガスを含む気体が第１連通部３ａを介して局所清浄化装置１０に供給されるため、第１連通部３ａの設置位置によっては、除染対象となる作業ブース部２内でも濃度分布が生じる。そこで、本実施形態では、好ましくは、局所清浄化装置１０内における少なくとも２箇所、より具体的には、作業ブース部２の内部における少なくとも２箇所の過酸化水素ガスの濃度をセンサＳで計測する。例えば、図１に示すように、作業ブース部２の中心と作業ブース部２の下方の角部にセンサＳを設けて過酸化水素ガスの濃度を計測する。このように、局所清浄化装置１０は、装置内の少なくとも２箇所で過酸化水素ガスの濃度を計測することにより、装置内で過酸化水素ガスが均一に分布しているか否かを確認できる。なお、この態様において、少なくとも２箇所の過酸化水素ガスの濃度を計測するセンサＳによって計測されるそれぞれの過酸化水素ガスの濃度差が、例えば、２０ｐｐｍ以下であるときに、均一になったと判断することができる。   As the hydrogen peroxide gas, a gas containing a high-concentration hydrogen peroxide gas obtained from the hydrogen peroxide gas generation unit 3 is supplied to the local cleaning device 10 via the first communication unit 3a. Depending on the installation position of 3a, a concentration distribution also occurs in the work booth unit 2 to be decontaminated. Therefore, in the present embodiment, preferably, the concentration of the hydrogen peroxide gas is measured by the sensor S in at least two places in the local cleaning device 10, more specifically, in at least two places in the work booth section 2. . For example, as shown in FIG. 1, a sensor S is provided at the center of the work booth section 2 and at the lower corner of the work booth section 2 to measure the concentration of hydrogen peroxide gas. As described above, the local cleaning apparatus 10 can check whether the hydrogen peroxide gas is uniformly distributed in the apparatus by measuring the concentration of the hydrogen peroxide gas at at least two points in the apparatus. In this embodiment, when the difference between the concentrations of the hydrogen peroxide gas measured by the sensors S that measure the concentration of the hydrogen peroxide gas in at least two places is, for example, 20 ppm or less, it is determined that the hydrogen peroxide gas has become uniform. can do.

センサＳは、装置内の少なくとも２箇所で過酸化水素ガスの濃度を計測できればよく、設置形態は特に限定されない。センサＳは、装置内の所定の箇所に固定する固定式であってもよいし、アクチュエータによる駆動力を利用して計測位置を移動させる可動式であってもよい。センサＳとしては、例えば、過酸化水素ガス濃度計を用いることができる。ただし、過酸化水素ガス濃度計は一般に高価であることから、局所清浄化装置１０の立上げ時に濃度分布を確認しておき、普段の運用では１箇所の代表点に設置した過酸化水素ガス濃度計で濃度を計測するという使い方もあり得る。センサＳは、過酸化水素ガスに耐性があるものであれば、市販されているものを任意に用いることができる。   The sensor S only needs to be able to measure the concentration of hydrogen peroxide gas at at least two points in the apparatus, and the installation form is not particularly limited. The sensor S may be of a fixed type that is fixed at a predetermined position in the device, or may be of a movable type that moves a measurement position using a driving force of an actuator. As the sensor S, for example, a hydrogen peroxide gas concentration meter can be used. However, since the hydrogen peroxide gas concentration meter is generally expensive, the concentration distribution should be checked when the local cleaning device 10 is started up, and the hydrogen peroxide gas concentration meter installed at one representative point should be used in normal operation. It is also possible to measure the concentration with a meter. As the sensor S, any commercially available sensor can be used as long as it has resistance to hydrogen peroxide gas.

センサＳによって計測される過酸化水素ガスの濃度が所定の範囲を外れたら、過酸化水素ガス発生部３は、内蔵する気化器３ｅに滴下する過酸化水素水の液量を増減して過酸化水素ガスの濃度を調節する。   When the concentration of the hydrogen peroxide gas measured by the sensor S deviates from a predetermined range, the hydrogen peroxide gas generation unit 3 increases or decreases the amount of the hydrogen peroxide solution dropped into the built-in vaporizer 3e to perform the peroxidation. Adjust the concentration of hydrogen gas.

また、本実施形態においては、センサＳがプレナム部１の内部の少なくとも２箇所に備えられていてもよい（図１においてこの態様は図示せず）。このようにすると、局所清浄化装置１０は、これらのセンサＳで計測される過酸化水素ガスの濃度が均一になっていることを確認した後に、プレナム部１からエアフィルタ１１を介して過酸化水素ガスを作業ブース部２内に導入することができる。そのため、局所清浄化装置１０は、作業ブース部２内における過酸化水素ガスの濃度をより均一にすることができる。なお、この態様においても、少なくとも２箇所の過酸化水素ガスの濃度を計測するセンサＳによって計測されるそれぞれの過酸化水素ガスの濃度差が、例えば、２０ｐｐｍ以下であるときに、均一になったと判断することができる。   In the present embodiment, the sensors S may be provided in at least two places inside the plenum 1 (this aspect is not shown in FIG. 1). In this manner, the local cleaning device 10 checks that the concentration of the hydrogen peroxide gas measured by these sensors S is uniform, and then performs the peroxidation from the plenum 1 via the air filter 11. Hydrogen gas can be introduced into the work booth section 2. Therefore, the local cleaning device 10 can make the concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth section 2 more uniform. In addition, also in this aspect, when the concentration difference of each hydrogen peroxide gas measured by the sensor S that measures the concentration of the hydrogen peroxide gas in at least two places is equal to or less than 20 ppm, for example, it becomes uniform. You can judge.

気化器３ｅとしては、例えば、過酸化水素水が滴下されて当該過酸化水素水と接触する接触面が９０〜１５０℃に加熱できる電気ヒータなどを好適に用いることができるが、これに限定されない。気化器３ｅは、過酸化水素水を気化させて過酸化水素ガスを発生させることができるものであれば任意のものを用いることができる。   As the vaporizer 3e, for example, an electric heater or the like capable of heating a contact surface in contact with the hydrogen peroxide solution to which the hydrogen peroxide solution is dropped and heated to 90 to 150 ° C can be preferably used, but is not limited thereto. . As the vaporizer 3e, any one can be used as long as it can vaporize the hydrogen peroxide solution and generate a hydrogen peroxide gas.

また、過酸化水素ガス発生部３は、気化器３ｅへの過酸化水素水の供給量を測定する測定部３ｆを有していることが好ましい。過酸化水素ガス発生部３は、気化器３ｅへの過酸化水素水の供給量を測定部３ｆで測定することにより、過酸化水素ガス発生部３（気化器３ｅ）で発生させる過酸化水素ガスの発生量Ｇを正確に制御できる。なお、過酸化水素ガスの発生量Ｇについては、後述する第１のガス濃度計算手段３２で説明する。測定部３ｆとしては、例えば、質量計や流量計などを挙げることができる。測定部３ｆとして質量計を用いる場合は、当該質量計に過酸化水素水を容れた容器３ｈを載せておき、過酸化水素水を使用して過酸化水素ガスを発生させている間、その質量を計測することが好ましい。このようにすると、局所清浄化装置１０は、過酸化水素水の使用量を把握することができ、当該使用量から過酸化水素ガスの発生量Ｇを算出することもできる。なお、過酸化水素ガス発生部３において、気化器３ｅ、測定部３ｆ、容器３ｈは、解析部３１とともに過酸化水素ガス発生装置３Ａに収められている。   Further, it is preferable that the hydrogen peroxide gas generating section 3 has a measuring section 3f for measuring the supply amount of the hydrogen peroxide water to the vaporizer 3e. The hydrogen peroxide gas generation unit 3 measures the supply amount of the hydrogen peroxide water to the vaporizer 3e by the measurement unit 3f, and thereby generates the hydrogen peroxide gas generated by the hydrogen peroxide gas generation unit 3 (vaporizer 3e). Can be accurately controlled. The generation amount G of the hydrogen peroxide gas will be described later in a first gas concentration calculation unit 32. Examples of the measuring unit 3f include a mass meter and a flow meter. When a mass meter is used as the measuring unit 3f, the container 3h containing the hydrogen peroxide solution is placed on the mass meter, and while the hydrogen peroxide gas is used to generate the hydrogen peroxide gas, the mass of the container is measured. Is preferably measured. In this way, the local cleaning device 10 can grasp the usage amount of the hydrogen peroxide water, and can also calculate the generation amount G of the hydrogen peroxide gas from the usage amount. In the hydrogen peroxide gas generator 3, the vaporizer 3e, the measuring unit 3f, and the container 3h are housed together with the analyzer 31 in the hydrogen peroxide gas generator 3A.

本実施形態においては、過酸化水素ガス発生部３は、前記したように、エアフィルタ１１を含む局所清浄化装置１０内面に結露が生じない濃度の過酸化水素ガスを発生させる。すなわち、本実施形態においてはドライ法を採用する。このようにすると、局所清浄化装置１０は、後述するシミュレーション、具体的には、解析部３１による作業ブース部２内の過酸化水素ガスの濃度の解析を好適に行うことができる。また、このようにすると、局所清浄化装置１０は、当該解析に基づいて、例えば、後記する制御部４１（図３参照）による作業ブース部２内の過酸化水素ガスの濃度の制御を好適に行うことができる。つまり、局所清浄化装置１０は、後述する実施形態に係る解析方法や除染方法を好適に行うことができる。他方、過酸化水素ガス発生部３がエアフィルタ１１を含む局所清浄化装置１０内面に結露が生じる濃度で過酸化水素ガスを発生させると、エアフィルタ１１に液体が現れるため、局所清浄化装置１０は、後述する解析（シミュレーション）や制御を正しく行うことができない。   In the present embodiment, as described above, the hydrogen peroxide gas generator 3 generates hydrogen peroxide gas having a concentration that does not cause condensation on the inner surface of the local cleaning device 10 including the air filter 11. That is, in the present embodiment, a dry method is employed. By doing so, the local cleaning device 10 can suitably perform a simulation described later, specifically, analysis of the concentration of hydrogen peroxide gas in the work booth unit 2 by the analysis unit 31. Further, in this case, the local cleaning apparatus 10 preferably controls the concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth unit 2 by the control unit 41 (see FIG. 3) described below, based on the analysis. It can be carried out. That is, the local cleaning apparatus 10 can suitably perform the analysis method and the decontamination method according to the embodiment described later. On the other hand, when the hydrogen peroxide gas generator 3 generates hydrogen peroxide gas at a concentration that causes dew condensation on the inner surface of the local cleaning device 10 including the air filter 11, a liquid appears on the air filter 11. Cannot correctly perform analysis (simulation) and control described later.

前記したエアフィルタ１１を含む局所清浄化装置１０内面に結露が生じない濃度の過酸化水素ガスを発生させる過酸化水素ガス発生部３としては、例えば、特表２００４−５２４０８６号公報に記載されているシステムを好適に用いることができる。   The hydrogen peroxide gas generation unit 3 that generates a hydrogen peroxide gas having a concentration that does not cause dew condensation on the inner surface of the local cleaning device 10 including the air filter 11 described above is described in, for example, JP-T-2004-524086. System can be suitably used.

（解析部）
解析部３１は、作業ブース部２内の過酸化水素ガスの濃度を解析する。当該解析を行うため、解析部３１は、第１のガス濃度計算手段３２と、吸着量計算手段３３と、第２のガス濃度計算手段３４と、を有する。解析を行う際、解析部３１は、これら第１のガス濃度計算手段３２と、吸着量計算手段３３と、第２のガス濃度計算手段３４と、による各処理をこの順で行う。そして、これらの一連の処理は、連続的に行うこともできるし、間欠的に行うこともできる。なお、本明細書において、連続的に行うとは、前回の一連のステップが全て終了し次第、続けて次回の一連のステップを行うことをいう。また、本明細書において、間欠的に行うとは、前回の一連のステップが全て終了した後、所定時間のインターバルを置いてから次回の一連のステップを行うことをいう。 (Analysis section)
The analysis unit 31 analyzes the concentration of hydrogen peroxide gas in the work booth unit 2. In order to perform the analysis, the analysis unit 31 includes a first gas concentration calculation unit 32, an adsorption amount calculation unit 33, and a second gas concentration calculation unit 34. When performing the analysis, the analysis unit 31 performs each processing by the first gas concentration calculation unit 32, the adsorption amount calculation unit 33, and the second gas concentration calculation unit 34 in this order. These series of processes can be performed continuously or intermittently. In this specification, the term “continuously performed” means that the next series of steps is continuously performed as soon as all the previous series of steps are completed. In this specification, the term “intermittently” refers to performing the next series of steps after a predetermined time interval after all the previous series of steps are completed.

解析部３１は、例えば、図示しない中央演算処理装置（ＣＰＵ）と、ＣＰＵを前記した各手段として機能させるプログラムが記録された記録媒体（図示せず）と、を含んで構成される。記録媒体としては、例えば、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）、ソリッドステートドライブ（ＳＳＤ）、リードオンリーメモリ（ＲＯＭ）などが挙げられる。すなわち、本実施形態に係る局所清浄化装置１０は、前記ＣＰＵと記録媒体とを備え、コンピュータと同様の構成・機能を有する。そのため、本実施形態に係る局所清浄化装置１０は、記録媒体に記録されたプログラムを読み出して前記した各手段として機能し、前記したように作業ブース部２内の過酸化水素ガスの濃度を解析できる。   The analysis unit 31 includes, for example, a central processing unit (CPU), not shown, and a recording medium (not shown) in which a program for causing the CPU to function as each unit described above is recorded. Examples of the recording medium include a hard disk drive (HDD), a solid state drive (SSD), and a read-only memory (ROM). That is, the local cleaning device 10 according to the present embodiment includes the CPU and the recording medium, and has the same configuration and function as a computer. Therefore, the local cleaning device 10 according to the present embodiment reads the program recorded on the recording medium and functions as each of the above-described units, and analyzes the concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth unit 2 as described above. it can.

（第１のガス濃度計算手段）
第１のガス濃度計算手段３２は、プレナム部１および作業ブース部２を一体とみなし、かつエアフィルタ１１を備えていないとした場合における過酸化水素ガスの第１の濃度Ｃ１を計算する。つまり、過酸化水素ガスの導入対象となるプレナム部１と作業ブース部２とを合わせて一つの構造物と仮定し、当該構造物の容積Ｖと、任意の運転時間Ｔと、前記任意の運転時間Ｔにおける過酸化水素ガスの発生量（具体的には、単位時間当たりの局所清浄化装置１０（プレナム部１および作業ブース部２）への過酸化水素ガス導入量ＩＴ）と、前記任意の運転時間Ｔにおける第２連通部３ｂから排出される過酸化水素ガスの排出量（具体的には、単位時間当たりの排出量ＥＴ）と、に基づいて、前記構造物内（プレナム部１および作業ブース部２内）の過酸化水素ガスの濃度（前記した第１の濃度Ｃ１）を計算する。なお、この計算では、エアフィルタ１１を備えていないと仮定しているので、エアフィルタ１１に吸着される過酸化水素ガスの分量を考慮する必要はない。第１の濃度Ｃ１は、例えば、局所清浄化装置１０内の過酸化水素ガスの物質収支式（式１）を解いた（式２）で求めることができる。
ｄ（Ｃ１・Ｖ）／ｄＴ＝ＩＴ−ＥＴ …（式１）
（式１）をＣ１について解くと、次式が得られる。
Ｃ１＝（ＩＴ／Ｑ）（１−ｅ−（Ｑ／Ｖ）Ｔ） …（式２）
ＥＴ＝Ｃ１×Ｑ (First gas concentration calculating means)
The first gas concentration calculating means 32 calculates the first concentration C1 of the hydrogen peroxide gas when the plenum section 1 and the work booth section 2 are regarded as one and the air filter 11 is not provided. That is, assuming that the plenum section 1 and the work booth section 2 to which the hydrogen peroxide gas is introduced are combined into one structure, the volume V of the structure, any operation time T, and any operation The amount of hydrogen peroxide gas generated at the time T (specifically, the amount of hydrogen peroxide gas introduced into the local cleaning device 10 (the plenum unit 1 and the work booth unit 2) per unit time I T ) Of the hydrogen peroxide gas discharged from the second communication portion 3b during the operation time T (specifically, the discharge amount E T per unit time), the inside of the structure (the plenum portion 1). And the concentration of hydrogen peroxide gas (in the work booth section 2) (the above-described first concentration C1). In this calculation, since it is assumed that the air filter 11 is not provided, it is not necessary to consider the amount of the hydrogen peroxide gas adsorbed on the air filter 11. The first concentration C1 can be determined, for example, by solving (Equation 2) the mass balance equation (Equation 1) of the hydrogen peroxide gas in the local cleaning device 10.
d (C1 · V) / dT = I T -E T ... ( Equation 1)
By solving (Equation 1) for C1, the following equation is obtained.
C1 = ( IT / Q) (1-e- (Q / V) T ) (formula 2)
E T = C1 × Q

ここで、Ｑは、第２連通部３ｂを通って過酸化水素ガス発生部３から第１連通部３ａに至るラインの気体の単位時間あたりの循環風量、すなわち、図示しない風量計で計測された単位時間あたりの循環風量である。この循環風量Ｑを計測するため、本実施形態における過酸化水素ガス発生部３は、除湿剤３ｄと気化器３ｅの間に風量計（図示せず）を備え、予め設定した風量となるよう、過酸化水素ガス発生部３内に備えた図示しないファンを制御することが好ましい。   Here, Q is a circulating air volume per unit time of gas in a line from the hydrogen peroxide gas generation unit 3 to the first communication unit 3a through the second communication unit 3b, that is, measured by an air flow meter (not shown). It is the circulating air volume per unit time. In order to measure the circulating air volume Q, the hydrogen peroxide gas generator 3 in the present embodiment includes an air volume meter (not shown) between the dehumidifier 3d and the vaporizer 3e so that the air volume becomes a preset air volume. It is preferable to control a fan (not shown) provided in the hydrogen peroxide gas generator 3.

なお、気化器３ｅで気化した過酸化水素ガスの発生量Ｇ（具体的には、単位時間あたりの発生量）と、風量計で計測された単位時間あたりの循環風量Ｑとから、プレナム部１への過酸化水素ガスの導入濃度ＣＩを正確に計算することができる。この計算は、例えば、（式３）で行うことができる。つまり、循環風量Ｑは、図示しない過酸化水素ガス濃度計などの任意の手段によってプレナム部１への過酸化水素ガスの導入濃度ＣＩが分かっている場合は、この（式３）から算出することができる（式３．１）。
ＣＩ＝Ｇ／Ｑ …（式３）
Ｑ＝Ｇ／ＣＩ …（式３．１） Note that the plenum section 1 is obtained from the generation amount G (specifically, the generation amount per unit time) of the hydrogen peroxide gas vaporized by the vaporizer 3e and the circulation air amount Q per unit time measured by the air flow meter. the introduction concentration C I of hydrogen peroxide gas to can be accurately calculated. This calculation can be performed by, for example, (Equation 3). That is, the circulating air volume Q, if you know the introduction concentration C I of hydrogen peroxide gas into the plenum section 1 by any means, such as a hydrogen peroxide gas concentration meter (not shown) is calculated from this (Equation 3) (Equation 3.1).
C I = G / Q (Equation 3)
Q = G / C I (Equation 3.1)

ここで、本実施形態では、前記した単位時間当たりの局所清浄化装置１０への過酸化水素ガス導入量ＩＴと、気化器３ｅで気化した過酸化水素ガスの発生量Ｇとは、ＩＴ＝Ｇと仮定することもできる。 In the present embodiment, the hydrogen peroxide gas introduction amount I T to a local cleaning device 10 per unit of the said time, the generation amount G of hydrogen peroxide gas vaporized by the vaporizer. 3e, I T = G can also be assumed.

（吸着量計算手段）
吸着量計算手段３３は、第１のガス濃度計算手段３２で計算して得られた第１の濃度Ｃ１である場合における、エアフィルタ１１に吸着する過酸化水素ガスの吸着量ＣＡ（具体的には、フィルタ単位面積あたりの吸着量）を計算する。発明者らが鋭意検討した結果、ガラス繊維製のエアフィルタ１１については、過酸化水素ガスの吸着量ＣＡは、エアフィルタ１１周囲の過酸化水素ガスの濃度にほぼ比例して増加し、いわゆるヘンリー型の吸着特性（吸着量ＣＡが吸着成分の分圧に比例する性質）を示すことを見出した。そして、過酸化水素ガスの濃度は、８００ｐｐｍまでは少なくともこの特性を示すことが分かった。なお、エアフィルタ１１に吸着する過酸化水素ガス成分の量は、エアフィルタ１１を通過してトラップされた過酸化水素ガス成分の量になることも考えられた。しかし、ガラス繊維製のエアフィルタ１１の場合、ある濃度まではエアフィルタ１１を通過する過酸化水素ガス濃度（分圧）で吸着量ＣＡが決まることが明らかになった。本実施形態において、周辺の濃度がＣである過酸化水素ガスを通気したエアフィルタ１１の吸着量ＣＡは、温度が一定の場合、例えば、（式４）で求めることができる。なお、ＣＨは定数、Ｃはエアフィルタ１１周辺の過酸化水素ガスの濃度である。
ＣＡ＝ＣＨ×Ｃ …（式４） (Adsorption amount calculation means)
The adsorption amount calculation means 33 calculates the adsorption amount CA of hydrogen peroxide gas adsorbed on the air filter 11 when the first concentration C1 is obtained by the first gas concentration calculation means 32 (specifically, Calculates the amount of adsorption per unit area of the filter. As a result of the inventor's diligent studies, as for the air filter 11 made of glass fiber, the adsorption amount CA of the hydrogen peroxide gas increases almost in proportion to the concentration of the hydrogen peroxide gas around the air filter 11. It has been found that the mold exhibits adsorption characteristics (the amount of adsorption CA is proportional to the partial pressure of the adsorbed component). And it turned out that the density | concentration of hydrogen peroxide gas shows this characteristic at least up to 800 ppm. It is considered that the amount of the hydrogen peroxide gas component adsorbed on the air filter 11 may be the amount of the hydrogen peroxide gas component trapped through the air filter 11. However, in the case of the air filter 11 made of glass fiber, it has been found that the adsorption amount CA is determined by the concentration (partial pressure) of the hydrogen peroxide gas passing through the air filter 11 up to a certain concentration. In this embodiment, when the temperature is constant, the adsorption amount CA of the air filter 11 through which the hydrogen peroxide gas having the concentration of C in the periphery can be obtained can be obtained by, for example, (Equation 4). Here, CH is a constant, and C is the concentration of hydrogen peroxide gas around the air filter 11.
CA = CH × C (Equation 4)

ここで、局所清浄化装置１０内の湿度環境によってＣＨの値は異なり、同じ温度の場合は相対湿度が高い方がＣＨの値は大きくなることが実験的に確認されている。なお、用いるエアフィルタ１１によって吸着特性が異なってくる可能性がある。そのため、吸着量ＣＡを計算するにあたって事前に使用予定のエアフィルタ１１を用いて吸着試験を行うなどして、これらの特性を調べておくことが好ましい。本実施形態では、フィルタ特性に応じて、吸着量計算手段３３における計算にあたり、適宜の式を適用することができる。適宜の式としては、例えば、ヘンリーの吸着等温式（前記（式４）参照）のほか、ラングミュアの吸着等温式、ＢＥＴの吸着等温式、Ｆｒｅｕｎｄｌｉｃｈの吸着等温式、Ｇｉｂｂｓの吸着等温式などが挙げられる。   Here, the value of CH differs depending on the humidity environment in the local cleaning device 10, and it has been experimentally confirmed that, for the same temperature, the value of CH increases as the relative humidity increases. Note that the adsorption characteristics may be different depending on the air filter 11 used. Therefore, in calculating the adsorption amount CA, it is preferable to check these characteristics in advance by performing an adsorption test using the air filter 11 to be used. In the present embodiment, an appropriate equation can be applied to the calculation by the adsorption amount calculation means 33 according to the filter characteristics. Examples of suitable formulas include, in addition to Henry's adsorption isotherm (see (Equation 4) above), Langmuir's adsorption isotherm, BET's adsorption isotherm, Freundlich's adsorption isotherm, Gibbs' adsorption isotherm, and the like. Can be

（第２のガス濃度計算手段）
第２のガス濃度計算手段３４は、第１のガス濃度計算手段３２で計算した過酸化水素ガスの第１の濃度Ｃ１から吸着量ＣＡを差し引いて作業ブース部２内の過酸化水素ガスの第２の濃度Ｃ２を計算する。より具体的には、第２のガス濃度計算手段３４は、第１のガス濃度計算手段３２で単位時間当たりの局所清浄化装置１０への過酸化水素ガス導入量ＩＴを与えて計算した過酸化水素ガスの第１の濃度Ｃ１から、当該第１の濃度Ｃ１環境下でのエアフィルタ１１の過酸化水素ガスの吸着量ＣＡを差し引いて作業ブース部２を含む局所清浄化装置１０内の過酸化水素ガスの第２の濃度Ｃ２を計算する。つまり、第２のガス濃度計算手段３４によって、過酸化水素ガスがエアフィルタ１１に吸着した量を考慮に入れたプレナム部１および作業ブース部２（特に、作業ブース部２）内の過酸化水素ガスの濃度を推算する。この第２の濃度Ｃ２は、（式５）で求めることができる。なお、Ａはエアフィルタ１１の有効膜面積である。
Ｃ２＝Ｃ１−ＣＡ×Ａ …（式５） (Second gas concentration calculation means)
The second gas concentration calculation means 34 subtracts the adsorption amount CA from the first concentration C1 of the hydrogen peroxide gas calculated by the first gas concentration calculation means 32, and calculates the second hydrogen concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth 2. Calculate the concentration C2 of 2. More specifically, the second gas concentration calculating means 34 was calculated by applying the hydrogen peroxide gas introduction amount I T to a local cleaning device 10 per unit time in the first gas concentration calculating means 32 over The amount of adsorption of the hydrogen peroxide gas CA of the air filter 11 under the environment of the first concentration C1 is subtracted from the first concentration C1 of the hydrogen oxide gas to remove the excess amount in the local cleaning device 10 including the work booth 2. The second concentration C2 of the hydrogen oxide gas is calculated. That is, the second gas concentration calculating means 34 takes into account the amount of hydrogen peroxide gas adsorbed on the air filter 11 and takes into account the hydrogen peroxide in the plenum 1 and the work booth 2 (particularly, the work booth 2). Estimate gas concentration. This second concentration C2 can be obtained by (Equation 5). A is the effective film area of the air filter 11.
C2 = C1−CA × A (Equation 5)

（効果）
以上に説明したように、第１実施形態に係る局所清浄化装置１０は、過酸化水素ガスがエアフィルタ１１に吸着した量をも考慮に入れて作業ブース部２内における過酸化水素ガスの濃度を計算する。そのため、第１実施形態に係る局所清浄化装置１０は、過酸化水素ガスの濃度を高い精度で推算できる。また、第１実施形態に係る局所清浄化装置１０は、過酸化水素ガスの濃度を高い精度で推算できるので、これに基づいて、過酸化水素ガス発生部３で用いる装置の設計や運転条件の事前検討（机上検討）を行うことができる。
また、例えば、図２の模式図で示した濃度上昇工程Ｓ２では、作業ブース部２内の過酸化水素ガスの濃度を上昇させるために過酸化水素ガス発生部３を最大の能力で運転することになる。そのため、濃度上昇工程Ｓ２の過程を局所清浄化装置１０で推算できることは、適切な発生能力を持つ過酸化水素ガス発生部３を設計できることにつながる。したがって、局所清浄化装置１０は、無駄に発生能力の大きい過酸化水素ガス発生部を設計してしまうという事態を避けることができる。また、局所清浄化装置１０は、過酸化水素ガスの濃度を所望の時間までにターゲット濃度まで上昇させることができない発生能力の小さい過酸化水素ガス発生部を設計してしまうという事態を避けることができる。 (effect)
As described above, the local cleaning apparatus 10 according to the first embodiment includes the concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth 2 in consideration of the amount of the hydrogen peroxide gas adsorbed on the air filter 11. Is calculated. Therefore, the local cleaning device 10 according to the first embodiment can estimate the concentration of the hydrogen peroxide gas with high accuracy. Further, since the local cleaning device 10 according to the first embodiment can estimate the concentration of the hydrogen peroxide gas with high accuracy, the design and operating conditions of the device used in the hydrogen peroxide gas generation unit 3 are determined based on this. Preliminary examination (desk examination) can be performed.
Further, for example, in the concentration increasing step S2 shown in the schematic diagram of FIG. 2, the hydrogen peroxide gas generating unit 3 is operated at the maximum capacity in order to increase the concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth unit 2. become. Therefore, the fact that the process of the concentration increasing step S2 can be estimated by the local cleaning device 10 leads to the design of the hydrogen peroxide gas generation unit 3 having an appropriate generation capability. Therefore, the local cleaning apparatus 10 can avoid a situation in which a hydrogen peroxide gas generation unit having a large generation ability is wastefully designed. In addition, the local cleaning apparatus 10 avoids the situation of designing a hydrogen peroxide gas generation unit having a small generation capacity that cannot increase the concentration of the hydrogen peroxide gas to the target concentration by a desired time. it can.

（第２実施形態）
次に、第２実施形態に係る局所清浄化装置について説明する。図３は、第２実施形態に係る局所清浄化装置２０の構成を説明する概略構成図である。
図３に示すように、局所清浄化装置２０は、プレナム部１と、作業ブース部２と、過酸化水素ガス発生部３と、を備えるとともに、制御部４１を備えている。この制御部４１は、後述するように、局所清浄化装置２０を所定の手段として機能させることで、後述する他の実施形態に係る局所清浄化装置の除染方法を行うことができる。 (2nd Embodiment)
Next, a local cleaning device according to a second embodiment will be described. FIG. 3 is a schematic configuration diagram illustrating the configuration of the local cleaning device 20 according to the second embodiment.
As shown in FIG. 3, the local cleaning device 20 includes a plenum unit 1, a work booth unit 2, a hydrogen peroxide gas generation unit 3, and a control unit 41. The control unit 41 can perform the decontamination method of the local cleaning device according to another embodiment described later by causing the local cleaning device 20 to function as a predetermined unit, as described later.

図３に示す第２実施形態におけるプレナム部１、作業ブース部２および過酸化水素ガス発生部３と、図１に示す第１実施形態におけるプレナム部１、作業ブース部２および過酸化水素ガス発生部３とは共通する構成要素である。そこで、これらについては説明を省略し、相違する構成要素である制御部４１について説明する。なお、過酸化水素ガス発生部３において、制御部４１は、気化器３ｅ、測定部３ｆ、容器３ｈとともに過酸化水素ガス発生装置３Ａに収められている。   The plenum 1, work booth 2, and hydrogen peroxide gas generator 3 in the second embodiment shown in FIG. 3 and the plenum 1, work booth 2, and hydrogen peroxide gas generator 3 in the first embodiment shown in FIG. The unit 3 is a common component. Therefore, the description thereof will be omitted, and the control unit 41 which is a different component will be described. In the hydrogen peroxide gas generation unit 3, the control unit 41 is housed in the hydrogen peroxide gas generation device 3A together with the vaporizer 3e, the measurement unit 3f, and the container 3h.

制御部４１は、過酸化水素ガス発生部３で発生させる過酸化水素ガスの発生量Ｇを制御する。当該制御を行うため、制御部４１は、第１のガス濃度計算手段３２と、吸着量計算手段３３と、第２のガス濃度計算手段３４と、発生量制御手段３５と、を有する。除染処理を行う際、制御部４１は、これら第１のガス濃度計算手段３２と、吸着量計算手段３３と、第２のガス濃度計算手段３４と、発生量制御手段３５と、による各処理をこの順で行う。そして、これらの一連の処理は、連続的に行うこともできるし、間欠的に行うこともできる。   The control unit 41 controls the generation amount G of the hydrogen peroxide gas generated by the hydrogen peroxide gas generation unit 3. To perform the control, the control unit 41 includes a first gas concentration calculation unit 32, an adsorption amount calculation unit 33, a second gas concentration calculation unit 34, and a generation amount control unit 35. When performing the decontamination processing, the control unit 41 performs each processing by the first gas concentration calculation unit 32, the adsorption amount calculation unit 33, the second gas concentration calculation unit 34, and the generation amount control unit 35. Are performed in this order. These series of processes can be performed continuously or intermittently.

制御部４１は、前記した解析部３１と同様、ＣＰＵと記録媒体とを含んで構成される（いずれも図示せず）。すなわち、本実施形態に係る局所清浄化装置２０は、前記ＣＰＵと記録媒体とを備え、コンピュータと同様の構成・機能を有する。そのため、本実施形態に係る局所清浄化装置２０は、記録媒体に記録されたプログラムを読み出し、前記した各手段として機能して前記したように過酸化水素ガス発生部３で発生させる過酸化水素ガスの発生量Ｇを制御できる。   The control unit 41 includes a CPU and a recording medium, similarly to the analysis unit 31 (both are not shown). That is, the local cleaning device 20 according to the present embodiment includes the CPU and the recording medium, and has the same configuration and functions as a computer. Therefore, the local cleaning device 20 according to the present embodiment reads the program recorded on the recording medium, and functions as the above-described units and generates the hydrogen peroxide gas generated by the hydrogen peroxide gas generation unit 3 as described above. Can be controlled.

ここで、制御部４１の第１のガス濃度計算手段３２、吸着量計算手段３３および第２のガス濃度計算手段３４は、前述した解析部３１の第１のガス濃度計算手段３２、吸着量計算手段３３および第２のガス濃度計算手段３４と共通する構成要素である。したがって、制御部４１は、局所清浄化装置２０をこれらの手段として機能させることで前述した解析部３１と同様に、過酸化水素ガスの濃度を高い精度で推算できるが、これについての説明は省略し、相違する構成要素である発生量制御手段３５について説明する。   Here, the first gas concentration calculation means 32, the adsorption amount calculation means 33, and the second gas concentration calculation means 34 of the control unit 41 are the same as the first gas concentration calculation means 32 of the analysis unit 31 described above. This is a component common to the means 33 and the second gas concentration calculating means 34. Accordingly, the control unit 41 can estimate the concentration of the hydrogen peroxide gas with high accuracy by making the local cleaning device 20 function as these units, similarly to the analysis unit 31 described above, but the description thereof is omitted. Then, the generation amount control means 35 which is a different component will be described.

（発生量制御手段）
発生量制御手段３５は、計測された過酸化水素ガスの濃度Ｃ３が第２の濃度Ｃ２に近付くように過酸化水素ガス発生部３で発生させる過酸化水素ガスの発生量Ｇを制御する。より具体的には、発生量制御手段３５は、センサＳで計測した過酸化水素ガスの濃度Ｃ３が、容器３ｈから気化器３ｅへの過酸化水素水の供給量が一定であると仮定した条件で計算した前記第２の濃度Ｃ２に近付くように、過酸化水素ガスの発生量Ｇを制御する。これは例えば、過酸化水素ガス発生部３で、容器３ｈから測定部３ｆを介して気化器３ｅへの過酸化水素水の供給量を制御することによって過酸化水素ガスの発生量Ｇを制御する。この手段の対象となる第２の濃度Ｃ２は、第１実施形態で説明した第２の濃度Ｃ２と同様であるので、気化器３ｅへの過酸化水素水の供給量が一定であると仮定した場合の作業ブース部２内における過酸化水素ガスの第２の濃度Ｃ２が高い精度で推算されている。 (Generation amount control means)
The generation amount control means 35 controls the generation amount G of the hydrogen peroxide gas generated by the hydrogen peroxide gas generation unit 3 so that the measured concentration C3 of the hydrogen peroxide gas approaches the second concentration C2. More specifically, the generation amount control means 35 sets the condition that the concentration C3 of the hydrogen peroxide gas measured by the sensor S assumes that the supply amount of the hydrogen peroxide water from the container 3h to the vaporizer 3e is constant. The generation amount G of the hydrogen peroxide gas is controlled so as to approach the second concentration C2 calculated in the above. For example, the hydrogen peroxide gas generation unit 3 controls the hydrogen peroxide gas generation amount G by controlling the supply amount of hydrogen peroxide water from the container 3h to the vaporizer 3e via the measurement unit 3f. . Since the second concentration C2 to be subjected to this means is the same as the second concentration C2 described in the first embodiment, it is assumed that the supply amount of the hydrogen peroxide solution to the vaporizer 3e is constant. In this case, the second concentration C2 of the hydrogen peroxide gas in the work booth unit 2 is estimated with high accuracy.

発生量制御手段３５は、計測された過酸化水素ガスの濃度Ｃ３が第２の濃度Ｃ２に近付くように過酸化水素ガスの発生量Ｇを制御するため、次のような計算を行う。すなわち、発生量制御手段３５は、例えば、第２の濃度Ｃ２と、センサＳで計測した濃度Ｃ３と、の差分ΔＣを求める。差分ΔＣは、（式６）で求めることができる。
ΔＣ＝Ｃ３−Ｃ２ …（式６） The generation amount control means 35 performs the following calculation in order to control the generation amount G of the hydrogen peroxide gas so that the measured concentration C3 of the hydrogen peroxide gas approaches the second concentration C2. That is, the generation amount control unit 35 obtains, for example, a difference ΔC between the second density C2 and the density C3 measured by the sensor S. The difference ΔC can be obtained by (Equation 6).
ΔC = C3-C2 (Equation 6)

そして、発生量制御手段３５は、当該差分ΔＣが小さくなる発生量で過酸化水素ガスを発生させる。差分ΔＣが小さくなるとは、例えば、（式６）によって算出される値がプラスであれば、第２の濃度Ｃ２に対して、センサＳで計測した過酸化水素ガスの濃度Ｃ３が高いことになるので、この差分ΔＣを小さくするため、過酸化水素ガスの発生量Ｇを減少させる制御を行う。一方、（式６）によって算出される値がマイナスであれば、第２の濃度Ｃ２に対して、センサＳで計測した過酸化水素ガスの濃度Ｃ３が低いことになるので、この差分ΔＣを小さくするため、過酸化水素ガスの発生量Ｇを増加させる制御を行う。   Then, the generation amount control means 35 generates the hydrogen peroxide gas with the generation amount at which the difference ΔC becomes small. If the difference ΔC is small, for example, if the value calculated by (Equation 6) is positive, the concentration C3 of the hydrogen peroxide gas measured by the sensor S is higher than the second concentration C2. Therefore, in order to reduce the difference ΔC, control is performed to reduce the generation amount G of the hydrogen peroxide gas. On the other hand, if the value calculated by (Equation 6) is minus, it means that the concentration C3 of the hydrogen peroxide gas measured by the sensor S is lower than the second concentration C2. Therefore, control for increasing the generation amount G of the hydrogen peroxide gas is performed.

発生量制御手段３５の制御で過酸化水素ガスの発生量Ｇを減少させる場合、過酸化水素ガス発生部３は、気化器３ｅへの過酸化水素水の供給量を減らせばよい。一方、発生量制御手段３５の制御で過酸化水素ガスの発生量Ｇを増加させる場合、過酸化水素ガス発生部３は、気化器３ｅへの過酸化水素水の供給量を増やせばよい。   In the case where the generation amount G of the hydrogen peroxide gas is reduced under the control of the generation amount control means 35, the hydrogen peroxide gas generation unit 3 may reduce the supply amount of the hydrogen peroxide water to the vaporizer 3e. On the other hand, when increasing the generation amount G of the hydrogen peroxide gas under the control of the generation amount control means 35, the hydrogen peroxide gas generation unit 3 may increase the supply amount of the hydrogen peroxide water to the vaporizer 3e.

（効果）
以上に説明したように、第２実施形態に係る局所清浄化装置２０は、第１実施形態と同様、過酸化水素ガスがエアフィルタ１１に吸着した量をも考慮に入れて作業ブース部２内における過酸化水素ガスの濃度を計算する。そのため、第２実施形態に係る局所清浄化装置２０は、過酸化水素ガスの濃度を高い精度で推算できる。また、第２実施形態に係る局所清浄化装置２０は、過酸化水素ガスの濃度を高い精度で推算できるので、これに基づいて、過酸化水素ガス発生部３で発生させる過酸化水素ガスの発生量Ｇを高い精度で制御し、作業ブース部２内の除染前準備（除染コンディションの調整）ができる。 (effect)
As described above, the local cleaning device 20 according to the second embodiment includes the work booth unit 2 in consideration of the amount of the hydrogen peroxide gas adsorbed on the air filter 11 as in the first embodiment. The concentration of hydrogen peroxide gas at is calculated. Therefore, the local cleaning device 20 according to the second embodiment can estimate the concentration of the hydrogen peroxide gas with high accuracy. Further, the local cleaning apparatus 20 according to the second embodiment can estimate the concentration of the hydrogen peroxide gas with high accuracy, and based on this, generates the hydrogen peroxide gas generated by the hydrogen peroxide gas generation unit 3. The amount G can be controlled with high accuracy, and preparation before decontamination (adjustment of decontamination conditions) in the work booth unit 2 can be performed.

（好適な用途）
以上に説明した実施形態に係る局所清浄化装置１０、２０は、無菌製剤工場や食品工場、半導体製造工場などで好適に用いられ、より好適にはこれらの施設におけるクリーンルーム内に設置されて用いられる。 (Preferred application)
The local cleaning devices 10 and 20 according to the above-described embodiments are suitably used in a sterile formulation factory, a food factory, a semiconductor manufacturing factory, and the like, and are more preferably installed and used in clean rooms in these facilities. .

［局所清浄化装置の解析方法］
次に、本発明に係る局所清浄化装置１０の解析方法（以下、単に「本解析方法」と呼称することがある）の一実施形態について説明する。図４は、本解析方法の一実施形態を説明するフローチャートである。ここで、本解析方法で用いられる局所清浄化装置１０は、第１実施形態で前記したものであり、前述したように、プレナム部１と、作業ブース部２と、過酸化水素ガス発生部３と、を備えている。本解析方法は、このような局所清浄化装置１０における作業ブース部２を含む局所清浄化装置１０内の過酸化水素ガスの濃度を解析する。当該解析は、第１実施形態で述べた解析部３１で行うことができる。解析部３１は前記解析のため、以下のステップを行う。 [Analysis method of local cleaning device]
Next, an embodiment of an analysis method of the local cleaning apparatus 10 according to the present invention (hereinafter, may be simply referred to as “this analysis method”) will be described. FIG. 4 is a flowchart illustrating an embodiment of the analysis method. Here, the local cleaning apparatus 10 used in this analysis method is the same as that described in the first embodiment, and as described above, the plenum section 1, the work booth section 2, and the hydrogen peroxide gas generation section 3 And This analysis method analyzes the concentration of hydrogen peroxide gas in the local cleaning device 10 including the work booth unit 2 in such a local cleaning device 10. The analysis can be performed by the analysis unit 31 described in the first embodiment. The analysis unit 31 performs the following steps for the analysis.

図４に示すように、本解析方法は、第１のガス濃度計算ステップＳ１１と、吸着量計算ステップＳ１２と、第２のガス濃度計算ステップＳ１３と、を順に行う。解析を行う際は、本解析方法はこれらの一連のステップを連続的に行うこともできるし、間欠的に行うこともできる。   As shown in FIG. 4, in the analysis method, a first gas concentration calculation step S11, an adsorption amount calculation step S12, and a second gas concentration calculation step S13 are sequentially performed. When performing the analysis, the analysis method can perform these series of steps continuously or intermittently.

第１のガス濃度計算ステップＳ１１では、プレナム部１および作業ブース部２を一体とみなし、かつエアフィルタ１１を備えていないとした場合における過酸化水素ガスの第１の濃度Ｃ１を計算する。第１のガス濃度計算ステップＳ１１は、第１実施形態で述べた第１のガス濃度計算手段３２に対応し、当該手段により行うことができるので、その説明は省略する。なお、このステップにおける計算は、前述した（式２）で行うことができる。
ここで、第１のガス濃度計算ステップＳ１１の計算の開始のタイミングは、運転時間Ｔにおける容器３ｈから気化器３ｅへの過酸化水素水の供給速度（測定部３ｆを用いて測定される）に応じて任意に設定できる。すなわち、前記したように連続的に行う場合は、次回の計算の開始のタイミングを前回の一連のステップが全て終了したら直ぐに行う。他方、前記したように間欠的に行う場合は、前回の一連のステップが全て終了した後、所定時間のインターバルを置いてから次回の計算を開始する。いずれによっても、過酸化水素ガスの発生量Ｇの計算を経て、過酸化水素ガスの第１の濃度Ｃ１を計算することができる。なお、第１のガス濃度計算ステップＳ１１の計算の開始のタイミングを連続的に行うようにすると、より正確で計測値に近い値が得られる。一方、第１のガス濃度計算ステップＳ１１の計算の開始のタイミングを間欠的に行うようにすると、データ容量の圧縮等を図ることができる。 In the first gas concentration calculation step S11, the first concentration C1 of the hydrogen peroxide gas when the plenum unit 1 and the work booth unit 2 are regarded as one and the air filter 11 is not provided is calculated. The first gas concentration calculation step S11 corresponds to the first gas concentration calculation means 32 described in the first embodiment, and can be performed by the means, and the description thereof will be omitted. Note that the calculation in this step can be performed using (Equation 2) described above.
Here, the timing of the start of the calculation in the first gas concentration calculation step S11 is based on the supply speed of the hydrogen peroxide solution from the container 3h to the vaporizer 3e during the operation time T (measured using the measurement unit 3f). It can be set as desired. In other words, when the calculation is performed continuously as described above, the next calculation is started immediately after all of the previous series of steps are completed. On the other hand, when the calculation is performed intermittently as described above, the next calculation is started after an interval of a predetermined time has elapsed after all the previous series of steps are completed. In any case, the first concentration C1 of the hydrogen peroxide gas can be calculated through the calculation of the generation amount G of the hydrogen peroxide gas. If the timing of the start of the calculation in the first gas concentration calculation step S11 is continuously performed, a more accurate value close to the measured value can be obtained. On the other hand, if the timing of the start of the calculation in the first gas concentration calculation step S11 is intermittently performed, the data capacity can be reduced.

次に、吸着量計算ステップＳ１２では、前記した第１の濃度Ｃ１である場合における、エアフィルタ１１に吸着する過酸化水素ガスの吸着量ＣＡを計算する。吸着量計算ステップＳ１２は、第１実施形態で述べた吸着量計算手段３３に対応し、当該手段により行うことができるので、その説明は省略する。なお、このステップにおける計算は、前述した（式４）で行うことができる。   Next, in the adsorption amount calculation step S12, the adsorption amount CA of the hydrogen peroxide gas adsorbed on the air filter 11 when the concentration is the first concentration C1 is calculated. The adsorption amount calculation step S12 corresponds to the adsorption amount calculation means 33 described in the first embodiment, and can be performed by the means, and the description thereof will be omitted. Note that the calculation in this step can be performed by the above-described (Equation 4).

次に、第２のガス濃度計算ステップＳ１３では、第１の濃度Ｃ１から吸着量ＣＡを差し引いて作業ブース部２内の過酸化水素ガスの第２の濃度Ｃ２を計算する。第２のガス濃度計算ステップＳ１３は、第１実施形態で述べた第２のガス濃度計算手段３４に対応し、当該手段により行うことができるので、その説明は省略する。なお、このステップにおける計算は、前述した（式５）で行うことができる。   Next, in the second gas concentration calculation step S13, the second concentration C2 of the hydrogen peroxide gas in the work booth section 2 is calculated by subtracting the adsorption amount CA from the first concentration C1. The second gas concentration calculation step S13 corresponds to the second gas concentration calculation means 34 described in the first embodiment, and can be performed by the means, and the description thereof will be omitted. Note that the calculation in this step can be performed using (Equation 5) described above.

（効果）
以上に説明した本解析方法は、前記した各ステップを行い、過酸化水素ガスがエアフィルタ１１に吸着した量をも考慮に入れて作業ブース部２内における過酸化水素ガスの濃度を計算する。そのため、本解析方法は、過酸化水素ガスの濃度を高い精度で推算できる。そして、本解析方法は、過酸化水素ガスの濃度を高い精度で推算できるので、これに基づいて、過酸化水素ガス発生部３で用いる機器の設計や運転条件の事前検討（机上検討）を行うことができる。 (effect)
In the analysis method described above, the above-described steps are performed, and the concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth unit 2 is calculated in consideration of the amount of the hydrogen peroxide gas adsorbed on the air filter 11. Therefore, this analysis method can estimate the concentration of the hydrogen peroxide gas with high accuracy. Since the analysis method can estimate the concentration of the hydrogen peroxide gas with high accuracy, the design of the equipment used in the hydrogen peroxide gas generation unit 3 and the preliminary examination (operational study) of the operating conditions are performed based on this. be able to.

［局所清浄化装置の除染方法］
次に、本発明に係る局所清浄化装置２０の除染方法（以下、単に「本除染方法」と呼称することがある）の一実施形態について説明する。図５は、本除染方法の一実施形態を説明するフローチャートである。ここで、本除染方法で用いられる局所清浄化装置２０は、第２実施形態で前記したものであり、前述したように、プレナム部１と、作業ブース部２と、過酸化水素ガス発生部３と、を備えている。本除染方法は、このような局所清浄化装置２０における作業ブース部２内の除染を行う。当該除染は、第２実施形態で述べた制御部４１による制御で行うことができる。制御部４１は前記制御のため、以下のステップを行う。 [Decontamination method of local cleaning device]
Next, an embodiment of a decontamination method of the local cleaning apparatus 20 according to the present invention (hereinafter, may be simply referred to as “the present decontamination method”) will be described. FIG. 5 is a flowchart illustrating one embodiment of the present decontamination method. Here, the local cleaning apparatus 20 used in the present decontamination method is as described above in the second embodiment, and as described above, the plenum section 1, the work booth section 2, and the hydrogen peroxide gas generation section 3 is provided. In this decontamination method, decontamination in the work booth unit 2 in such a local cleaning device 20 is performed. The decontamination can be performed under the control of the control unit 41 described in the second embodiment. The control unit 41 performs the following steps for the control.

図５に示すように、本除染方法は、第１のガス濃度計算ステップＳ２１と、吸着量計算ステップＳ２２と、第２のガス濃度計算ステップＳ２３と、発生量制御ステップＳ２４と、を順に行う。除染処理を行う際は、本除染方法はこれらの一連のステップを連続的に行うこともできるし、間欠的に行うこともできる。連続的に行う場合の作用・効果および間欠的に行う場合の作用・効果は、前述した解析方法と同様である。   As shown in FIG. 5, in the present decontamination method, a first gas concentration calculation step S21, an adsorption amount calculation step S22, a second gas concentration calculation step S23, and a generation amount control step S24 are sequentially performed. . When performing the decontamination treatment, the present decontamination method can perform these series of steps continuously or intermittently. The operation and effect when the operation is performed continuously and the operation and effect when the operation is performed intermittently are the same as those in the above-described analysis method.

なお、本実施形態においては、第１のガス濃度計算ステップＳ２１、吸着量計算ステップＳ２２および第２のガス濃度計算ステップＳ２３は、前述した解析方法における第１のガス濃度計算ステップＳ１１、吸着量計算ステップＳ１２および第２のガス濃度計算ステップＳ１３と同様である。つまり、本除染方法は、除染の制御の一部に前述した解析方法を含むものである。以下、本除染方法の説明にあたり、前述した解析方法と相違する発生量制御ステップＳ２４について説明する。   In the present embodiment, the first gas concentration calculation step S21, the adsorption amount calculation step S22, and the second gas concentration calculation step S23 are the first gas concentration calculation step S11 and the adsorption amount calculation step in the above-described analysis method. This is the same as step S12 and the second gas concentration calculation step S13. That is, the present decontamination method includes the above-described analysis method as a part of decontamination control. Hereinafter, in describing the present decontamination method, the generation amount control step S24 that is different from the above-described analysis method will be described.

発生量制御ステップＳ２４では、計測された過酸化水素ガスの濃度Ｃ３が第２の濃度Ｃ２に近付くように過酸化水素ガス発生部３で発生させる過酸化水素ガスの発生量Ｇを制御する。発生量制御ステップＳ２４は、第２実施形態で述べた発生量制御手段３５に対応し、当該手段により行うことができるので、その説明は省略する。なお、このステップにおける計算は、前述した（式６）で行うことができる。   In the generation amount control step S24, the generation amount G of the hydrogen peroxide gas generated by the hydrogen peroxide gas generation unit 3 is controlled such that the measured concentration C3 of the hydrogen peroxide gas approaches the second concentration C2. The generation amount control step S24 corresponds to the generation amount control unit 35 described in the second embodiment, and can be performed by the generation amount control unit 35, and thus the description thereof is omitted. Note that the calculation in this step can be performed using (Equation 6) described above.

（効果）
以上に説明したように、本除染方法は、前述した解析方法と同様、過酸化水素ガスがエアフィルタ１１に吸着した量をも考慮に入れて作業ブース部２内における過酸化水素ガスの濃度を計算する。そのため、本除染方法は、過酸化水素ガスの濃度を高い精度で推算できる。そして、本除染方法は、過酸化水素ガスの濃度を高い精度で推算できるので、これに基づいて、過酸化水素ガス発生部３で発生させる過酸化水素ガスの発生量Ｇを高い精度で制御し、作業ブース部２内の除染前準備（除染コンディションの調整）ができる。 (effect)
As described above, in the present decontamination method, the concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth unit 2 is also taken into account in consideration of the amount of the hydrogen peroxide gas adsorbed on the air filter 11 as in the analysis method described above. Is calculated. Therefore, the present decontamination method can estimate the concentration of the hydrogen peroxide gas with high accuracy. In addition, since the present decontamination method can estimate the concentration of the hydrogen peroxide gas with high accuracy, the amount G of hydrogen peroxide gas generated in the hydrogen peroxide gas generation unit 3 is controlled with high accuracy based on this. Then, preparation before decontamination in the work booth unit 2 (adjustment of decontamination conditions) can be performed.

次に、本発明の効果を確認した実施例について説明する。
本発明の効果を確認するため、図３に示す態様の局所清浄化装置２０を用意した。なお、前述したように、局所清浄化装置２０は、備える手段の一部により局所清浄化装置１０を具現する。つまり、この局所清浄化装置２０は、過酸化水素ガス発生部３で発生させる過酸化水素ガスの発生量Ｇを制御する制御部４１を備えているが、当該制御部４１の一部の手段を用いることによって、作業ブース部２内の過酸化水素ガスの濃度を解析する解析部３１（図１参照）が具現される。換言すれば、制御部４１による制御の一環で前記した解析を行うことができ、図１に示す態様の局所清浄化装置１０が具現される。なお、過酸化水素ガス発生部３には、第２連通部３ｂから第１連通部３ａに至る流路を介して局所清浄化装置２０との間でガスを循環させることができるファン（図示せず）が備えられている。そして、図示しない風量計によるフィードバック制御により前記ファンの回転数を制御することで、循環風量Ｑを制御することができる。気化器３ｅで発生させた過酸化水素ガスは、この循環している気体と混合し、局所清浄化装置２０に送られる。 Next, examples in which the effects of the present invention have been confirmed will be described.
In order to confirm the effects of the present invention, a local cleaning device 20 of the embodiment shown in FIG. 3 was prepared. As described above, the local cleaning device 20 embodies the local cleaning device 10 by a part of the provided means. That is, the local cleaning device 20 includes the control unit 41 that controls the generation amount G of the hydrogen peroxide gas generated by the hydrogen peroxide gas generation unit 3. By using this, the analysis unit 31 (see FIG. 1) that analyzes the concentration of hydrogen peroxide gas in the work booth unit 2 is realized. In other words, the above-described analysis can be performed as part of the control by the control unit 41, and the local cleaning device 10 of the embodiment shown in FIG. 1 is realized. The hydrogen peroxide gas generation unit 3 has a fan (not shown) that can circulate gas to and from the local cleaning device 20 via a flow path from the second communication unit 3b to the first communication unit 3a. ) Are provided. The circulating air volume Q can be controlled by controlling the number of revolutions of the fan by feedback control using a not-shown air volume meter. The hydrogen peroxide gas generated by the vaporizer 3e is mixed with the circulating gas and sent to the local cleaning device 20.

この局所清浄化装置２０のプレナム部１の容積は１．９ｍ３であり、作業ブース部２の容積は２．９ｍ３であり、これらを合計した容積（全体容積）は４．８ｍ３であった。なお、エアフィルタ１１としてＨＥＰＡフィルタを用いた。 The volume of the plenum portion 1 of the local cleaning device 20 is 1.9 m 3 , the volume of the work booth portion 2 is 2.9 m 3 , and the total volume (total volume) is 4.8 m 3. Was. Note that a HEPA filter was used as the air filter 11.

このような局所清浄化装置２０を用いて、作業ブース部２内における過酸化水素ガスの濃度の解析および制御を行った。作業ブース部２内における過酸化水素ガスの濃度の解析にあたり、作業ブース部２の中心と、四隅（角部）の一箇所にセンサＳを取り付けて過酸化水素ガスの濃度を計測した。解析の設定条件と結果を以下に記す。   Using such a local cleaning device 20, analysis and control of the concentration of hydrogen peroxide gas in the work booth unit 2 were performed. In analyzing the concentration of hydrogen peroxide gas in the work booth section 2, sensors S were attached to the center of the work booth section 2 and one of four corners (corners) to measure the concentration of hydrogen peroxide gas. The analysis setting conditions and results are described below.

図６は、過酸化水素ガスの濃度を比較例１および実施例１でそれぞれ解析した結果を示すグラフである。図中、横軸は、経過時間［ｍｉｎ］であり、縦軸は、過酸化水素ガスの濃度［ｐｐｍ］である。なお、比較例１および実施例１に係る解析（シミュレーション）時の設定条件は以下のようにした。実施例１に係る解析は、前述した（式２）、（式４）〜（式６）を用いて計算した。第２連通部３ｂから排出される過酸化水素ガスの排出量（単位時間当たりの排出量ＥＴ）は、風量計による実測値（設定した風量とほぼ同等）を用いた。そのため、前記した（式３）および（式３．１）は用いなかった。また、実施例１に係る解析に関して、解析を行う前に事前実験を行い、ＨＥＰＡフィルタへの過酸化水素ガスの吸着量ＣＡを確認し、これを特性として計算式に組み込んで前記計算を行った。 FIG. 6 is a graph showing the results of analyzing the concentration of hydrogen peroxide gas in Comparative Example 1 and Example 1. In the figure, the horizontal axis is the elapsed time [min], and the vertical axis is the concentration of the hydrogen peroxide gas [ppm]. The setting conditions at the time of analysis (simulation) according to Comparative Example 1 and Example 1 were as follows. The analysis according to Example 1 was calculated using (Equation 2) and (Equation 4) to (Equation 6) described above. As a discharge amount (discharge amount E T per unit time) of the hydrogen peroxide gas discharged from the second communication portion 3b, an actual measurement value (substantially equal to a set air flow amount) by an air flow meter was used. Therefore, the above (Equation 3) and (Equation 3.1) were not used. In addition, with respect to the analysis according to Example 1, a preliminary experiment was performed before the analysis was performed, the amount CA of hydrogen peroxide gas adsorbed on the HEPA filter was confirmed, and the calculation was performed by incorporating this into a calculation formula as a characteristic. .

＜実施例１に係る解析時の設定条件＞
・過酸化水素ガスの導入対象：プレナム部１
・作業ブース部２内におけるターゲット濃度：４００ｐｐｍ
・ＨＥＰＡフィルタから作業ブース部２へのダウンフロー風速：０．２ｍ／ｓ
・容器の容積：４．８ｍ３
・運転時間：１０分
・第２連通部３ｂから排出される過酸化水素ガスの排出量（単位時間当たりの排出量ＥＴ）：Ｃ１×Ｑで算出
・循環風量Ｑ：１５ｍ３／ｈ（設定風量値≒風量計実測値、プレナム部１への吹き出し風量）
・過酸化水素水供給量：３．３７ｇ／ｍｉｎ
・気化器３ｅのヒータの温度：１００℃
・ＨＥＰＡフィルタの有効濾材面積：１６ｍ２ <Setting conditions at the time of analysis according to the first embodiment>
・ Introduction target of hydrogen peroxide gas: plenum 1
-Target concentration in the work booth 2: 400 ppm
-Downflow wind speed from HEPA filter to work booth section 2: 0.2 m / s
- container volume: 4.8m 3
・ Operating time: 10 minutes ・ Emission amount of hydrogen peroxide gas (emission amount per unit time E T ) discharged from the second communication portion 3b: calculated by C1 × Q ・ Circulation air volume Q: 15 m 3 / h (setting Airflow value / actually measured airflow meter, airflow blown out to plenum 1)
・ Hydrogen peroxide water supply: 3.37 g / min
・ The temperature of the heater of the vaporizer 3e: 100 ° C
・ Effective filter material area of HEPA filter: 16m 2

＜比較例１に係る解析時の設定条件＞
・過酸化水素ガスの導入対象：プレナム部
・容器の容積：４．８ｍ３
・過酸化水素水供給量：３．３７ｇ／ｍｉｎ
・循環風量Ｑ：１５ｍ３／ｈ（設定風量値≒風量計実測値、プレナム部への吹き出し風量）
・ＨＥＰＡフィルタの有効濾材面積：１６ｍ２ <Setting conditions at the time of analysis according to Comparative Example 1>
・ Introduction target of hydrogen peroxide gas: plenum ・ Capacity of container: 4.8m 3
・ Hydrogen peroxide water supply: 3.37 g / min
・ Circulating air volume Q: 15 m 3 / h (set air volume value ≒ air flow meter actual measurement value, air volume blown out to plenum)
・ Effective filter material area of HEPA filter: 16m 2

作業ブース部２除染用の従来のシミュレーション（比較例１）は、シミュレーションにおいてＨＥＰＡフィルタへの過酸化水素ガスの吸着量を考慮しないで行った。そのため、図６に示すように、従来のシミュレーション（比較例１）は、作業ブース部２内における過酸化水素ガスの濃度が速やかに上昇する計算結果となった。そして、比較例１に係る従来のシミュレーションによる計算結果は、作業ブース部２の中心に設けられたセンサＳ（図１参照）による過酸化水素ガスの濃度の計測値Ａおよび作業ブース部２の下方の角部に設けられたセンサＳ（図１参照）による過酸化水素ガスの濃度の計測値Ｂのいずれからも乖離していることが確認された。なお、比較例１は、過酸化水素水の単位時間当たりの供給量（供給速度）を一定（実験では、供給速度は１分間隔で測定し、解析では、計測した全データの平均を供給速度としている）として計算している。そのため、比較例１は、滑らかな曲線になっている。   The conventional simulation for decontaminating the work booth unit 2 (Comparative Example 1) was performed without considering the amount of hydrogen peroxide gas adsorbed on the HEPA filter in the simulation. Therefore, as shown in FIG. 6, the conventional simulation (Comparative Example 1) resulted in a calculation in which the concentration of hydrogen peroxide gas in the work booth section 2 rapidly increased. The calculation result by the conventional simulation according to the comparative example 1 is a measured value A of the concentration of the hydrogen peroxide gas by the sensor S (see FIG. 1) provided at the center of the work booth section 2 and the lower part of the work booth section 2. It was confirmed that the measured value deviated from any of the measured values B of the concentration of the hydrogen peroxide gas by the sensor S (see FIG. 1) provided at the corners of. In Comparative Example 1, the supply amount (supply rate) of the hydrogen peroxide solution per unit time was constant (in the experiment, the supply rate was measured at one-minute intervals, and in the analysis, the average of all measured data was used as the supply rate). ). Therefore, Comparative Example 1 has a smooth curve.

一方、本解析方法（実施例１）では、第１のガス濃度計算ステップＳ１１（Ｓ２１）と、吸着量計算ステップＳ１２（Ｓ２２）と、第２のガス濃度計算ステップＳ１３（Ｓ２３）と、を順に行って計算している。つまり、本解析方法（実施例１）では、ＨＥＰＡフィルタへの過酸化水素ガスの吸着量ＣＡを考慮している。そのため、本解析方法（実施例１）では、作業ブース部２内における過酸化水素ガスの濃度が緩やかに上昇する計算結果となった。なお、実施例１では、ＨＥＰＡフィルタの過酸化水素ガスの吸着量が、瞬時に第１の濃度Ｃ１における吸着量になる（系内の濃度とＨＥＰＡフィルタとの間の化学平衡に達するのが速い（吸着速度が速く、ある濃度Ｃのときの吸着量に達するのが速い））という仮定の下で計算していた。そのため、実際に起きている現象とは離れ、本解析方法による計算結果と、計測値と、が合致しないことも考えられた。しかし、図６に示すように、実施例１に係る本解析方法による計算結果は、作業ブース部２の中心に設けられたセンサＳ（図１参照）による過酸化水素ガスの濃度の計測値Ａおよび作業ブース部２の下方の角部に設けられたセンサＳ（図１参照）による過酸化水素ガスの濃度の計測値Ｂとほぼ一致していた。このことから、前記仮定は正しいことが裏付けられ、実施例１に係る本解析方法は、過酸化水素ガスの濃度を高い精度で推算できることが確認された。なお、実施例１も、過酸化水素水の単位時間当たりの供給量（供給速度）を一定（実験では、供給速度は１分間隔で測定し、解析では、計測した全データの平均を供給速度としている）として計算している。そのため、実施例１も滑らかな曲線になっている。   On the other hand, in this analysis method (Example 1), the first gas concentration calculation step S11 (S21), the adsorption amount calculation step S12 (S22), and the second gas concentration calculation step S13 (S23) are sequentially performed. Go and calculate. That is, in this analysis method (Example 1), the amount CA of adsorption of hydrogen peroxide gas to the HEPA filter is considered. Therefore, in the analysis method (Example 1), the calculation result shows that the concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth unit 2 gradually increases. In the first embodiment, the adsorption amount of the hydrogen peroxide gas of the HEPA filter instantaneously becomes the adsorption amount at the first concentration C1 (the chemical equilibrium between the concentration in the system and the HEPA filter is quickly reached. (The adsorption speed is high, and the amount of adsorption at a certain concentration C is quickly reached). Therefore, apart from the phenomenon that actually occurred, it was considered that the calculation result by the present analysis method did not match the measured value. However, as shown in FIG. 6, a calculation result by the present analysis method according to the first embodiment is based on a measurement value A of the concentration of the hydrogen peroxide gas by the sensor S (see FIG. 1) provided at the center of the work booth unit 2. And the measured value B of the concentration of the hydrogen peroxide gas by the sensor S (see FIG. 1) provided at the lower corner of the work booth section 2 almost coincided. From this, it was confirmed that the above assumption was correct, and it was confirmed that the present analysis method according to Example 1 can estimate the concentration of the hydrogen peroxide gas with high accuracy. In Example 1, the supply amount (supply rate) of the hydrogen peroxide solution per unit time was also constant (in the experiment, the supply rate was measured at one-minute intervals, and in the analysis, the average of all measured data was used as the supply rate). ). Therefore, the first embodiment also has a smooth curve.

そして、図７は、本発明に係る制御方法で過酸化水素ガスの濃度を制御した場合（実施例２）と、供給量を固定して過酸化水素ガスを供給した場合（比較例２）と、を比較したグラフである。図中、横軸は、経過時間［ｍｉｎ］であり、縦軸は、過酸化水素ガスの濃度［ｐｐｍ］である。
なお、実施例２および比較例２は、１０分後の目標濃度が５００ｐｐｍとなるように供給量を固定して供給した場合の計測値である。 FIG. 7 shows the case where the concentration of the hydrogen peroxide gas is controlled by the control method according to the present invention (Example 2) and the case where the supply amount is fixed and the hydrogen peroxide gas is supplied (Comparative Example 2). 5 is a graph in which is compared. In the figure, the horizontal axis is the elapsed time [min], and the vertical axis is the concentration of the hydrogen peroxide gas [ppm].
In addition, Example 2 and Comparative Example 2 are measured values when the supply amount is fixed so that the target concentration after 10 minutes becomes 500 ppm, and the supply is performed.

図７に示すように、比較例２では、１０分経過しても目標濃度である５００ｐｐｍに達しなかった。また、比較例２では、過酸化水素ガスの濃度の上昇が所々滑らかでない曲線となり、スムーズに行われなかった。
これに対し、実施例２は、過酸化水素ガスの濃度を高い精度で推算し、過酸化水素水の供給量を推算値に合わせられるよう制御できるので、狙い通り、１０分経過した時点での目標濃度が５００ｐｐｍとなった。 As shown in FIG. 7, in Comparative Example 2, the target concentration of 500 ppm was not reached even after 10 minutes. In Comparative Example 2, the curve of the concentration of the hydrogen peroxide gas was not smooth in some places, and was not smoothly performed.
On the other hand, in the second embodiment, the concentration of the hydrogen peroxide gas can be estimated with high accuracy, and the supply amount of the hydrogen peroxide solution can be controlled so as to be adjusted to the estimated value. The target concentration became 500 ppm.

以上、本発明の一実施形態に係る局所清浄化装置の解析方法、局所清浄化装置の除染方法および局所清浄化装置について詳細に説明したが本発明の主旨はこれに限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。   As described above, the analysis method of the local cleaning device, the decontamination method of the local cleaning device, and the local cleaning device according to the embodiment of the present invention have been described in detail, but the gist of the present invention is not limited thereto. Various modifications are included.

例えば、前述したように、局所清浄化装置１０、２０におけるプレナム部１および作業ブース部２の容積は問わない（特に限定されない）。局所清浄化装置１０、２０の容積を大きくすると、図８に示すような除染対象室８０になる。なお、図８は、本発明の他の実施形態を示す概略構成図である。このような除染対象室８０としては、例えば、クリーンルームが挙げられる。そのため、局所清浄化装置１０、２０の容積を大きくして除染対象室８０とした場合も当然に局所清浄化装置１０、２０と同一の構成を採用できる。   For example, as described above, the volumes of the plenum unit 1 and the work booth unit 2 in the local cleaning devices 10 and 20 are not limited (particularly not limited). When the volume of the local cleaning devices 10 and 20 is increased, the room 80 becomes a decontamination target room as shown in FIG. FIG. 8 is a schematic configuration diagram showing another embodiment of the present invention. An example of such a decontamination target room 80 is a clean room. Therefore, even when the volume of the local cleaning devices 10 and 20 is increased to be the decontamination target room 80, the same configuration as the local cleaning devices 10 and 20 can be naturally adopted.

すなわち、図８に示すように、除染対象室８０は、プレナム部１に相当するプレナム部８１と、作業ブース部２に相当する作業部屋８２と、過酸化水素ガス発生部３に相当する過酸化水素ガス発生部８３と、を備えたものとすることができる。この場合において、除染対象室８０は、過酸化水素ガス発生装置３Ａに相当する過酸化水素ガス発生装置３Ｂを備えており、その内部に、解析部３１に相当する解析部８３１、または、制御部４１に相当する制御部８４１を備えている。このような構成を有する除染対象室８０は、局所清浄化装置１０、２０と同様の作用・効果を奏することができる。   That is, as shown in FIG. 8, the chamber 80 to be decontaminated includes a plenum section 81 corresponding to the plenum section 1, a working room 82 corresponding to the work booth section 2, and an air chamber corresponding to the hydrogen peroxide gas generating section 3. And a hydrogen oxide gas generating section 83. In this case, the chamber 80 to be decontaminated is provided with a hydrogen peroxide gas generator 3B corresponding to the hydrogen peroxide gas generator 3A, and an analysis unit 831 corresponding to the analysis unit 31 or a control unit therein. A control unit 841 corresponding to the unit 41 is provided. The decontamination target room 80 having such a configuration can exhibit the same operation and effect as the local cleaning devices 10 and 20.

つまり、図８に示す除染対象室３０は、局所清浄化装置１０、２０と同様、当該除染対象室８０の備えるエアフィルタ１１に吸着した量をも考慮に入れて作業部屋８２内における過酸化水素ガスの濃度を計算できる。そのため、除染対象室８０は、局所清浄化装置１０、２０と同様、過酸化水素ガスの濃度を高い精度で推算できる。また、これにより、除染対象室８０は、局所清浄化装置２０と同様、当該除染対象室８０の内部、具体的には、作業部屋８２内を除染できる。すなわち、当該他の実施形態に係る発明は、過酸化水素ガスの濃度を高い精度で推算できる除染対象室８０の解析方法、除染対象室８０の除染方法および除染対象室８０を提供するという課題があるときに、これを解決することができる。   In other words, the decontamination target room 30 shown in FIG. 8 is similar to the local cleaning devices 10 and 20 in that the amount of air adsorbed on the air filter 11 provided in the decontamination target room 80 is taken into consideration, and the amount of The concentration of hydrogen oxide gas can be calculated. Therefore, in the decontamination target chamber 80, the concentration of the hydrogen peroxide gas can be estimated with high accuracy, similarly to the local cleaning devices 10 and 20. Thus, the decontamination target room 80 can decontaminate the interior of the decontamination target room 80, specifically, the work room 82, similarly to the local cleaning device 20. That is, the invention according to the other embodiment provides an analysis method of the decontamination target room 80, a decontamination method of the decontamination target room 80, and a decontamination target room 80 that can estimate the concentration of the hydrogen peroxide gas with high accuracy. This can be solved when there is a problem to do.

なお、除染対象室８０は、吹出口１２を有している。プレナム部８１は、この吹出口１２から温度、湿度、清浄度が調整された清浄空気を作業部屋８２内に向けて吹き出す。また、除染対象室８０は、排出口２ａと吸気口２ｃとを有している。作業部屋８２は、除染に使用された過酸化水素ガスをこの排出口２ａから排出し、これに続く吸気口２ｃと、これに続く第２連通部３ｂと、を順に通って当該過酸化水素ガスを過酸化水素ガス発生部８３に戻す。過酸化水素ガス発生部８３に戻った過酸化水素ガスは、触媒３ｃおよび除湿剤３ｄを順に経て処理された後、過酸化水素ガス発生装置３Ｂに供給される。   The chamber 80 to be decontaminated has the outlet 12. The plenum section 81 blows clean air whose temperature, humidity, and cleanliness are adjusted from the blow-out port 12 into the working room 82. The decontamination target chamber 80 has an outlet 2a and an inlet 2c. The work room 82 discharges the hydrogen peroxide gas used for decontamination from the outlet 2a, passes through the inlet 2c following this, and the second communicating part 3b following this in order, and turns the hydrogen peroxide gas into the working chamber 82. The gas is returned to the hydrogen peroxide gas generator 83. The hydrogen peroxide gas returned to the hydrogen peroxide gas generator 83 is processed through the catalyst 3c and the dehumidifier 3d in this order, and then supplied to the hydrogen peroxide gas generator 3B.

なお、除染対象室８０は、前記した構成要素以外にも、空調機８４および排気装置８５を備えている。空調機８４は、空調機用エアフィルタ８４ａと吸気モータ８４ｂとを内蔵しており、吸気モータ８４ｂを駆動させて取り込んだ外気を空調機用エアフィルタ８４ａにより清浄空気とし、除染対象室８０に給気する。空調機８４と作業部屋８２との間には、風量を一定に保つ定風量ダンパ８４ｃが設けられている。空調機８４は、生産作業などの作業中には運転が継続されて作業部屋８２内を陽圧に保つが、除染中は運転が停止される。排気装置８５は、生産作業などの作業中に作業部屋８２内の空気を外部に排気する装置である。排気装置８５としては、例えば、排気モータが挙げられる。作業部屋８２と排気装置８５との間には、図示しない差圧計で作業部屋８２内外の差圧を検知し、これに基づいて室間差圧（作業部屋８２と隣室間の差圧）を調整する差圧調整ダンパ８５ａが設けられている。なお、作業部屋８２の空調機８４などの給気系統と、排気装置８５などの排気系統とには、それぞれ気密ダンパ８４ｄ、８５ｂが設置されており、除染時にはこれらが閉止されて除染対象室８０は気密される。   The decontamination target room 80 includes an air conditioner 84 and an exhaust device 85 in addition to the above-described components. The air conditioner 84 has a built-in air filter 84a for air conditioner and an intake motor 84b. The air taken in by driving the intake motor 84b is converted into clean air by the air filter 84a for air conditioner. Supply air. Between the air conditioner 84 and the work room 82, a constant air volume damper 84c for keeping the air volume constant is provided. The operation of the air conditioner 84 is continued during the operation such as the production operation to maintain the inside of the work room 82 at a positive pressure, but the operation is stopped during the decontamination. The exhaust device 85 is a device that exhausts the air in the work room 82 to the outside during a work such as a production work. An example of the exhaust device 85 is an exhaust motor. The differential pressure between the inside and outside of the work room 82 is detected between the work room 82 and the exhaust device 85 by a differential pressure gauge (not shown), and the inter-room differential pressure (differential pressure between the work room 82 and the adjacent room) is adjusted based on this. A differential pressure adjusting damper 85a is provided. The air supply system such as the air conditioner 84 in the work room 82 and the exhaust system such as the exhaust device 85 are provided with hermetic dampers 84d and 85b, respectively. The chamber 80 is airtight.

以上に述べた実施形態は本発明を分かり易く説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施形態の構成の一部を他の実施形態の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施形態の構成に他の実施形態の構成を加えることも可能である。また、各実施形態の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。
また、前記した各構成、機能、処理部、処理手段、制御手段等は、それらの一部または全部を、例えば集積回路で設計する等によりハードウェアで実現してもよい。また、上記の各構成、機能等は、プロセッサがそれぞれの機能を実現するプログラムを解釈し、実行することによりソフトウェアで実現してもよい。各機能を実現するプログラム、テーブル、ファイル等の情報は、メモリ、ハードディスク、ＳＳＤなどの記録装置、または、ＩＣカード、ＳＤカード、ＤＶＤなどの記録媒体に置くことができる。
また、制御線や情報線は説明上必要と考えられるものを示しており、製品上必ずしも全ての制御線や情報線を示しているとは限らない。実際にはほとんど全ての構成が相互に接続されていると考えてもよい。 The embodiments described above have been described in detail for easy understanding of the present invention, and are not necessarily limited to those having all the configurations described above. Further, a part of the configuration of one embodiment can be replaced with the configuration of another embodiment, and the configuration of one embodiment can be added to the configuration of another embodiment. Further, for a part of the configuration of each embodiment, it is possible to add, delete, or replace another configuration.
In addition, each of the above-described configurations, functions, processing units, processing means, control means, and the like may be partially or entirely realized by hardware, for example, by designing an integrated circuit. In addition, the above-described configurations, functions, and the like may be realized by software by a processor interpreting and executing a program that realizes each function. Information such as programs, tables, and files for realizing each function can be stored in a recording device such as a memory, a hard disk, or an SSD, or a recording medium such as an IC card, an SD card, or a DVD.
In addition, control lines and information lines are shown as necessary for the description, and do not necessarily indicate all control lines and information lines on a product. In fact, almost all components may be considered to be interconnected.

１０、２０ 局所清浄化装置
１ プレナム部
１１ エアフィルタ
２ 作業ブース部
３ 過酸化水素ガス発生部
３１ 解析部
３２ 第１のガス濃度計算手段
３３ 吸着量計算手段
３４ 第２のガス濃度計算手段
４１ 制御部
３５ 発生量制御手段
Ｓ センサ
１４ ファン
Ｓ１１、Ｓ２１ 第１のガス濃度計算ステップ
Ｓ１２、Ｓ２２ 吸着量計算ステップ
Ｓ１３、Ｓ２３ 第２のガス濃度計算ステップ
Ｓ２４ 発生量制御ステップ 10, 20 Local cleaning device 1 Plenum unit 11 Air filter 2 Work booth unit 3 Hydrogen peroxide gas generation unit 31 Analysis unit 32 First gas concentration calculation unit 33 Adsorption amount calculation unit 34 Second gas concentration calculation unit 41 Control Part 35 generation amount control means S sensor 14 fan S11, S21 first gas concentration calculation step S12, S22 adsorption amount calculation step S13, S23 second gas concentration calculation step S24 generation amount control step

Claims (11)

空気中のゴミや塵埃を取り除いて清浄空気にするエアフィルタを有するプレナム部と、前記エアフィルタから前記清浄空気が供給されて局所的に清浄化される作業ブース部と、前記エアフィルタ、前記プレナム部および前記作業ブース部に結露が生じない濃度の過酸化水素ガスを発生させて前記プレナム部に導入する過酸化水素ガス発生部と、を備える局所清浄化装置における前記作業ブース部内の前記過酸化水素ガスの濃度を解析する解析方法であり、
前記プレナム部および前記作業ブース部を一体とみなし、かつ前記エアフィルタを備えていないとした場合における前記過酸化水素ガスの第１の濃度を計算する第１のガス濃度計算ステップと、
前記第１の濃度である場合における、前記エアフィルタに吸着する前記過酸化水素ガスの吸着量を計算する吸着量計算ステップと、
前記第１の濃度から前記吸着量を差し引いて前記作業ブース部内の前記過酸化水素ガスの第２の濃度を計算する第２のガス濃度計算ステップと、
を有することを特徴とする局所清浄化装置の解析方法。 A plenum section having an air filter that removes dust and dirt from the air to produce clean air; a work booth section to which the clean air is supplied from the air filter to be locally cleaned; and the air filter and the plenum. And a hydrogen peroxide gas generating section that generates hydrogen peroxide gas having a concentration that does not cause condensation in the work booth section and introduces the hydrogen peroxide gas into the plenum section. An analysis method for analyzing the concentration of hydrogen gas.
A first gas concentration calculating step of calculating a first concentration of the hydrogen peroxide gas in a case where the plenum portion and the work booth portion are regarded as an integral unit and the air filter is not provided;
An adsorption amount calculating step of calculating an adsorption amount of the hydrogen peroxide gas adsorbed on the air filter when the concentration is the first concentration;
A second gas concentration calculating step of calculating a second concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth section by subtracting the adsorption amount from the first concentration;
A method for analyzing a local cleaning device, comprising: 空気中のゴミや塵埃を取り除いて清浄空気にするエアフィルタを有するプレナム部と、前記エアフィルタから前記清浄空気が供給されて局所的に清浄化される作業ブース部と、前記エアフィルタ、前記プレナム部および前記作業ブース部に結露が生じない濃度の過酸化水素ガスを発生させて前記プレナム部に導入する過酸化水素ガス発生部と、を備える局所清浄化装置における前記作業ブース部内を除染する除染方法であり、
前記プレナム部および前記作業ブース部を一体とみなし、かつ前記エアフィルタを備えていないとした場合における前記過酸化水素ガスの第１の濃度を計算する第１のガス濃度計算ステップと、
前記第１の濃度である場合における、前記エアフィルタに吸着する前記過酸化水素ガスの吸着量を計算する吸着量計算ステップと、
前記第１の濃度から前記吸着量を差し引いて前記作業ブース部内の前記過酸化水素ガスの第２の濃度を計算する第２のガス濃度計算ステップと、
計測された過酸化水素ガスの濃度が前記第２の濃度に近付くように前記過酸化水素ガス発生部で発生させる過酸化水素ガスの発生量を制御する発生量制御ステップと、
を有することを特徴とする局所清浄化装置の除染方法。 A plenum section having an air filter that removes dust and dirt from the air to produce clean air; a work booth section to which the clean air is supplied from the air filter to be locally cleaned; and the air filter and the plenum. Decontaminating the inside of the work booth in the local cleaning device, comprising: a hydrogen peroxide gas generator that generates a hydrogen peroxide gas having a concentration that does not cause condensation in the work booth and the hydrogen peroxide gas to be introduced into the plenum. Decontamination method,
A first gas concentration calculating step of calculating a first concentration of the hydrogen peroxide gas in a case where the plenum portion and the work booth portion are regarded as an integral unit and the air filter is not provided;
An adsorption amount calculating step of calculating an adsorption amount of the hydrogen peroxide gas adsorbed on the air filter when the concentration is the first concentration;
A second gas concentration calculating step of calculating a second concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth section by subtracting the adsorption amount from the first concentration;
A generation amount control step of controlling a generation amount of the hydrogen peroxide gas generated by the hydrogen peroxide gas generation unit such that the measured concentration of the hydrogen peroxide gas approaches the second concentration;
A decontamination method for a local cleaning device, comprising: 空気中のゴミや塵埃を取り除いて清浄空気にするエアフィルタを有するプレナム部と、
前記エアフィルタから前記清浄空気が供給されて局所的に清浄化される作業ブース部と、
前記エアフィルタ、前記プレナム部および前記作業ブース部に結露が生じない濃度の過酸化水素ガスを発生させて前記プレナム部に導入する過酸化水素ガス発生部と、
を備えるとともに、
前記作業ブース部内の前記過酸化水素ガスの濃度を解析する解析部を備え、
前記解析部は、
前記プレナム部および前記作業ブース部を一体とみなし、かつ前記エアフィルタを備えていないとした場合における前記過酸化水素ガスの第１の濃度を計算する第１のガス濃度計算手段と、
前記第１の濃度である場合における、前記エアフィルタに吸着する前記過酸化水素ガスの吸着量を計算する吸着量計算手段と、
前記第１の濃度から前記吸着量を差し引いて前記作業ブース部内の前記過酸化水素ガスの第２の濃度を計算する第２のガス濃度計算手段と、
を有することを特徴とする局所清浄化装置。 A plenum having an air filter that removes dust and dirt from the air to produce clean air;
A work booth section in which the clean air is supplied from the air filter and locally cleaned,
The air filter, a hydrogen peroxide gas generator that generates a hydrogen peroxide gas having a concentration that does not cause dew condensation in the plenum portion and the work booth portion and introduces the hydrogen peroxide gas into the plenum portion,
With
An analysis unit for analyzing the concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth unit,
The analysis unit,
First gas concentration calculating means for calculating a first concentration of the hydrogen peroxide gas in a case where the plenum portion and the work booth portion are regarded as an integral unit and the air filter is not provided,
An adsorption amount calculating means for calculating an adsorption amount of the hydrogen peroxide gas adsorbed on the air filter when the concentration is the first concentration;
Second gas concentration calculating means for calculating a second concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth section by subtracting the adsorption amount from the first concentration;
A local cleaning device comprising: 空気中のゴミや塵埃を取り除いて清浄空気にするエアフィルタを有するプレナム部と、
前記エアフィルタから前記清浄空気が供給されて局所的に清浄化される作業ブース部と、
前記エアフィルタ、前記プレナム部および前記作業ブース部に結露が生じない濃度の過酸化水素ガスを発生させて前記プレナム部に導入する過酸化水素ガス発生部と、
を備えるとともに、
前記過酸化水素ガス発生部で発生させる前記過酸化水素ガスの発生量を調節して前記作業ブース部内における前記過酸化水素ガスの濃度を制御する制御部を備え、
前記制御部は、
前記プレナム部および前記作業ブース部を一体とみなし、かつ前記エアフィルタを備えていないとした場合における前記過酸化水素ガスの第１の濃度を計算する第１のガス濃度計算手段と、
前記第１の濃度である場合における、前記エアフィルタに吸着する前記過酸化水素ガスの吸着量を計算する吸着量計算手段と、
前記第１の濃度から前記吸着量を差し引いて前記作業ブース部内の前記過酸化水素ガスの第２の濃度を計算する第２のガス濃度計算手段と、
計測された過酸化水素ガスの濃度が前記第２の濃度に近付くように前記過酸化水素ガス発生部で発生させる過酸化水素ガスの発生量を制御する発生量制御手段と、
を有することを特徴とする局所清浄化装置。 A plenum having an air filter that removes dust and dirt from the air to produce clean air;
A work booth section in which the clean air is supplied from the air filter and locally cleaned,
The air filter, a hydrogen peroxide gas generator that generates a hydrogen peroxide gas having a concentration that does not cause dew condensation in the plenum portion and the work booth portion and introduces the hydrogen peroxide gas into the plenum portion,
With
A control unit that controls a concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth unit by adjusting a generation amount of the hydrogen peroxide gas generated by the hydrogen peroxide gas generation unit;
The control unit includes:
First gas concentration calculating means for calculating a first concentration of the hydrogen peroxide gas in a case where the plenum portion and the work booth portion are regarded as an integral unit and the air filter is not provided,
An adsorption amount calculating means for calculating an adsorption amount of the hydrogen peroxide gas adsorbed on the air filter when the concentration is the first concentration;
Second gas concentration calculating means for calculating a second concentration of the hydrogen peroxide gas in the work booth section by subtracting the adsorption amount from the first concentration;
Generation amount control means for controlling the generation amount of hydrogen peroxide gas generated by the hydrogen peroxide gas generation unit such that the measured concentration of hydrogen peroxide gas approaches the second concentration;
A local cleaning device comprising: 請求項３または４において、
前記プレナム部から前記エアフィルタを介して前記作業ブース部内への前記過酸化水素ガスを含む清浄空気の吹き出し速度が０．２ｍ／ｓ以下であることを特徴とする局所清浄化装置。 In claim 3 or 4,
The local cleaning device, wherein a blowing speed of the clean air containing the hydrogen peroxide gas from the plenum portion into the work booth portion via the air filter is 0.2 m / s or less. 請求項３または４において、
前記プレナム部の内部および前記作業ブース部の内部における少なくとも２箇所の前記過酸化水素ガスの濃度を計測するセンサを備えていることを特徴とする局所清浄化装置。 In claim 3 or 4,
A local cleaning apparatus comprising a sensor for measuring a concentration of the hydrogen peroxide gas in at least two places inside the plenum section and inside the work booth section. 請求項６において、
前記センサが、過酸化水素ガス濃度計であることを特徴とする局所清浄化装置。 In claim 6,
The local cleaning device, wherein the sensor is a hydrogen peroxide gas concentration meter. 請求項３または４において、
前記プレナム部が内部の気体を攪拌するファンを備えていることを特徴とする局所清浄化装置。 In claim 3 or 4,
A local cleaning device, wherein the plenum portion includes a fan for stirring gas inside. 請求項６において、
前記センサが前記プレナム部の内部の少なくとも２箇所に備えられており、これらのセンサで計測される前記過酸化水素ガスの濃度が均一になったと判断されたら、前記プレナム部から前記エアフィルタを介して前記過酸化水素ガスを前記作業ブース部内に導入することを特徴とする局所清浄化装置。 In claim 6,
The sensors are provided in at least two places inside the plenum portion, and when it is determined that the concentration of the hydrogen peroxide gas measured by these sensors has become uniform, the plenum is passed through the air filter. Wherein the hydrogen peroxide gas is introduced into the work booth. 請求項９において、
前記均一になったとの判断は、前記少なくとも２箇所の前記過酸化水素ガスの濃度を計測するセンサが過酸化水素ガス濃度計である場合、それぞれの箇所で計測される前記過酸化水素ガスの濃度差が２０ｐｐｍ以下であるときに行うことを特徴とする局所清浄化装置。 In claim 9,
If the sensor that measures the concentration of the hydrogen peroxide gas in the at least two places is a hydrogen peroxide gas concentration meter, the determination that the uniformity has occurred is the concentration of the hydrogen peroxide gas measured in each place. A local cleaning device, which is performed when the difference is 20 ppm or less. 請求項３または４において、
前記エアフィルタがＨＥＰＡフィルタまたはＵＬＰＡフィルタであることを特徴とする局所清浄化装置。 In claim 3 or 4,
The local cleaning device, wherein the air filter is a HEPA filter or a ULPA filter.
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