JPH09131390A - Gas sterilization processing method, and gas sterilization processing system - Google Patents
Gas sterilization processing method, and gas sterilization processing systemInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ガス滅菌剤として
過酸化水素ガスを使用したガス滅菌方法及びこれを実施
するためのガス滅菌処理システムに関するものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a gas sterilization method using hydrogen peroxide gas as a gas sterilizer and a gas sterilization treatment system for carrying out the method.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来のガス滅菌処理方法としては、一般
に、ガス滅菌剤として酸化エチレンガスやホルムアルデ
ヒドガスを使用したものがよく知られている。例えば、
酸化エチレンガスを使用する方法では、濃度１〜３％の
酸化エチレンガスを、キャリアガスとしてのフロンガス
又は炭酸ガスと混合させた状態で、密閉された処理容器
内に供給して、容器内の被処理物を滅菌させるのであ
り、通常、滅菌に要する時間は３時間以上である。2. Description of the Related Art As a conventional gas sterilization method, a method using ethylene oxide gas or formaldehyde gas as a gas sterilizer is generally well known. For example,
In the method using ethylene oxide gas, an ethylene oxide gas having a concentration of 1 to 3% is mixed with CFC gas or carbon dioxide gas as a carrier gas, and the mixture is supplied into a closed processing container so that the inside of the container is covered. The processed product is sterilized, and the time required for sterilization is usually 3 hours or more.
【０００３】しかし、酸化エチレンガスは毒性，皮膚粘
膜刺激性の強いものであり、被処理物に付着したガスが
長時間に亘って残留するため、人体等に直接触れると皮
膚や粘膜を傷める虞れがある。また、病院や劇場等のよ
うに人が出入りする大きな空間を滅菌する場合、つまり
病室等を密閉して処理容器とし、その容器の内装物（ベ
ッド等）を被処理物とする場合には、滅菌処理後に、エ
アレーションにより、容器内の残留ガス濃度を人体に悪
影響を及ぼさない程度にまで低濃度にしておく必要があ
るが、このようなエアレーションには極めて長時間を要
することになる。勿論、病室等の密閉が不充分である
と、ガス漏れによる危険があり、作業者の安全面でも問
題がある。しかも、キャリアガスとしてフロンガスを使
用する場合には環境汚染の面についても配慮しなければ
ならない。このような問題は、ホルムアルデヒドガスを
使用する場合においても、これが毒性，刺激性が強いも
のであることから、同様に生じる。しかも、ホルムアル
デヒドガスは、強い酸化性を有するものであるから、被
処理物を変質させる虞れがある。However, ethylene oxide gas is highly toxic and has a strong stimulant effect on the skin and mucous membranes, and the gas adhering to the object to be treated remains for a long period of time. Therefore, direct contact with the human body may damage the skin and mucous membranes. There is Also, in the case of sterilizing a large space where people come and go such as a hospital or a theater, that is, when a patient room is hermetically sealed as a processing container and the interior (bed etc.) of the container is the object to be processed, After the sterilization process, it is necessary to reduce the residual gas concentration in the container by aeration to a level that does not adversely affect the human body, but such aeration requires an extremely long time. Of course, if the patient room is not sufficiently sealed, there is a risk of gas leakage, and there is a problem in terms of worker safety. In addition, when using CFC gas as a carrier gas, it is necessary to consider environmental pollution. Such a problem also occurs when formaldehyde gas is used because it is highly toxic and irritating. Moreover, since formaldehyde gas has a strong oxidizing property, there is a risk of degrading the object to be treated.
【０００４】そこで、近時、このような問題を解決すべ
く、ガス滅菌剤として過酸化水素ガスを使用し、密閉さ
れた処理容器内に過酸化水素ガスを供給、封入して、容
器内の被処理物を、過酸化水素ガスと一定時間接触させ
ることにより、滅菌させるようにしたバッチ式のガス滅
菌処理方法（以下「従来方法」という）が提案されてい
る。かかる方法によれば、ガス滅菌剤として使用する過
酸化水素ガスが、固体との接触により無害な酸素と水と
に自然分解して、滅菌機能を有する発生期の酸素を発生
するものであり、低濃度（１００〜２０００ｐｐｍ）で
比較的短時間で効果的な滅菌処理を行うことができるも
のであるから、酸化エチレンガスやホルムアルデヒドガ
スを使用する場合と異なって、ガス滅菌剤が人体に悪影
響を及ぼしたり被処理物を変質させたりする虞れがな
く、上記したような問題を生じることがなく、安全且つ
効果的な滅菌処理を行うことができる。Therefore, recently, in order to solve such a problem, hydrogen peroxide gas is used as a gas sterilizing agent, and the hydrogen peroxide gas is supplied and sealed in a sealed processing container, so that the inside of the container is closed. A batch-type gas sterilization method (hereinafter referred to as “conventional method”) in which an object to be processed is brought into contact with hydrogen peroxide gas for a certain period of time to sterilize it has been proposed. According to such a method, hydrogen peroxide gas used as a gas sterilizer is one that spontaneously decomposes into harmless oxygen and water by contact with a solid to generate nascent oxygen having a sterilizing function, Since it is possible to perform effective sterilization treatment at a low concentration (100 to 2000 ppm) in a relatively short time, unlike the case where ethylene oxide gas or formaldehyde gas is used, the gas sterilant has a bad effect on the human body. There is no risk of affecting or degrading the object to be treated, the above-mentioned problems do not occur, and safe and effective sterilization can be performed.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところで、過酸化水素
ガスは上記した如く固体との接触により自然分解するも
のであり、容器内壁面等に容易に吸着，分解するもので
あるから、処理容器内における過酸化水素ガス濃度は短
時間で急激に減少する。本発明者が実験により確認した
ところでは、図３に示す如く、過酸化水素ガス濃度の高
低に拘わらず、その半減期は６〜８分であった。なお、
この実験は、密閉容器内に過酸化水素水をマイクロシリ
ンジにより注入し、これをヒータ等で瞬間的に加熱して
完全に気化させ、後述する半導体ガスセンサにより過酸
化水素ガス濃度の経時的変化を測定したものである。ま
た、過酸化水素ガスとの接触により被処理物が充分に滅
菌されるに要する時間（以下「滅菌時間」という）は過
酸化水素ガス濃度と密接な関係があり、図４に示す如
く、過酸化水素ガス濃度が低くなるに従い滅菌時間は長
くなる。By the way, since the hydrogen peroxide gas is naturally decomposed by contact with a solid as described above, and is easily adsorbed and decomposed on the inner wall surface of the container, etc. The concentration of hydrogen peroxide gas in is rapidly decreased in a short time. As shown in FIG. 3, the present inventor confirmed by experiments that the half-life was 6 to 8 minutes regardless of the concentration of hydrogen peroxide gas. In addition,
In this experiment, hydrogen peroxide water was injected into a closed container with a microsyringe, and this was instantaneously heated by a heater etc. to completely vaporize it, and a semiconductor gas sensor described later was used to change the concentration of hydrogen peroxide gas with time. It was measured. Further, the time required for the object to be sterilized sufficiently by contact with hydrogen peroxide gas (hereinafter referred to as “sterilization time”) is closely related to the hydrogen peroxide gas concentration, and as shown in FIG. The sterilization time increases as the hydrogen oxide gas concentration decreases.
【０００６】したがって、従来方法の如く、過酸化水素
ガスを処理容器内に封入させておくバッチ方式によって
は、所定の滅菌時間において過酸化水素ガス濃度を滅菌
効果を発揮できる程度に維持しておくことができないた
め、効果的な滅菌処理を行うことができない。勿論、過
酸化水素ガス濃度を高くすると、滅菌時間も短くなる
が、過酸化水素ガス濃度を必要以上に高くすることは、
経済的な問題に加えて、残留ガスの処理上からも問題が
ある。特に、病院や劇場等のような大きな空間に対して
は、実際上適用できない。Therefore, depending on the batch method in which hydrogen peroxide gas is sealed in the processing container as in the conventional method, the hydrogen peroxide gas concentration is maintained at a level where the sterilization effect can be exerted during a predetermined sterilization time. Therefore, effective sterilization cannot be performed. Of course, increasing the hydrogen peroxide gas concentration will shorten the sterilization time, but increasing the hydrogen peroxide gas concentration more than necessary
In addition to economic problems, there are problems in terms of residual gas treatment. In particular, it is not practically applicable to large spaces such as hospitals and theaters.
【０００７】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、処理容器や被処理物の形状や性状等の処理条件
に拘わらず、滅菌処理を効率よく効果的に行うことがで
きるガス滅菌処理方法を提供すると共に、この方法を好
適に実施することができるガス滅菌処理システムを提供
するものである。The present invention has been made in view of the above points, and is a gas that can efficiently and effectively perform sterilization regardless of the processing conditions such as the shape and properties of the processing container and the object to be processed. The present invention provides a sterilization treatment method and a gas sterilization treatment system capable of suitably implementing this method.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明のガス滅菌処理方
法にあっては、処理容器内の被処理物を該容器内に供給
した過酸化水素ガスとの接触により滅菌させるようにす
る場合において、上記の目的を達成すべく、特に、処理
容器内に、該容器の排気口から余剰ガスを排出させつ
つ、過酸化水素ガスを連続的に供給させるようにすると
共に、処理容器内における過酸化水素ガス濃度を予め設
定された一定範囲に保持すべく、過酸化水素ガスの供給
量を制御するようにすることを提案する。かかる方法に
おいて、過酸化水素ガス濃度の保持は、処理容器内にお
ける過酸化水素ガス濃度を半導体ガスセンサにより常時
検出し、この半導体ガスセンサの出力に応じて過酸化水
素ガスの供給量を制御することによって、行なうように
することが好ましい。また、処理容器から排出される余
剰ガスは、活性炭と接触させることにより過酸化水素ガ
ス濃度を一定値以下に低減した上で、大気中に放出させ
るようにすることが好ましい。また、過酸化水素ガス
を、不活性な乾燥ガスをキャリアガスとして処理容器内
に供給させるようにすると共に、過酸化水素ガスの供給
前において、上記乾燥ガスのみを処理容器に供給させる
ことにより、処理容器内における相対湿度を低減させる
ようにすることが好ましい。さらに、処理容器内におい
て過酸化水素ガスを強制的に拡散させるようにすること
が好ましい。According to the gas sterilization method of the present invention, when the object to be processed in the processing container is sterilized by contact with hydrogen peroxide gas supplied into the container. In order to achieve the above object, in particular, a hydrogen peroxide gas is continuously supplied into a processing container while exhausting an excess gas from the exhaust port of the container, and at the same time, a peroxidation in the processing container is performed. It is proposed to control the supply amount of hydrogen peroxide gas in order to keep the hydrogen gas concentration within a preset constant range. In such a method, the hydrogen peroxide gas concentration is maintained by constantly detecting the hydrogen peroxide gas concentration in the processing container with a semiconductor gas sensor and controlling the supply amount of the hydrogen peroxide gas according to the output of the semiconductor gas sensor. It is preferable to do so. Further, it is preferable that the surplus gas discharged from the processing container is released into the atmosphere after contacting with activated carbon to reduce the hydrogen peroxide gas concentration to a certain value or less. Further, the hydrogen peroxide gas, so as to supply an inert dry gas as a carrier gas into the processing container, and before supplying the hydrogen peroxide gas, by supplying only the dry gas to the processing container, It is preferable to reduce the relative humidity in the processing container. Further, it is preferable to forcibly diffuse the hydrogen peroxide gas in the processing container.
【０００９】また、かかる方法を実施するための本発明
のガス滅菌処理システムは、ガス供給口及び排気口を有
する密閉状の処理容器と、処理容器のガス供給口から過
酸化水素ガスを連続的に供給させるガス供給装置と、処
理容器の排気口から余剰ガスを排出させる排気装置と、
処理容器内における過酸化水素ガス濃度を常時検出する
濃度検出器と、濃度検出器からの出力信号により、処理
容器内における過酸化水素ガス濃度を予め設定された一
定範囲に保持すべく、ガス供給装置による過酸化水素ガ
スの供給量を制御する制御装置と、を具備するものであ
る。かかるシステムにあっては、ガス供給装置が、過酸
化水素水を加熱体上に滴下させることにより瞬間的に完
全気化させて過酸化水素ガスを発生させる気化器と、気
化器に過酸化水素水を定量注入する定量注入器と、気化
器内で発生された過酸化水素ガスを不活性な乾燥ガスに
より処理容器に供給させるキャリアガス導入機構とを具
備するものであり、濃度検出器が半導体ガスセンサであ
り、制御装置が、半導体ガスセンサからの出力信号によ
り定量注入器による過酸化水素水注入量を制御するもの
であることが好ましい。Further, the gas sterilization processing system of the present invention for carrying out such a method is a closed processing container having a gas supply port and an exhaust port, and hydrogen peroxide gas is continuously supplied from the gas supply port of the processing container. And a gas supply device for discharging excess gas from the exhaust port of the processing container,
A concentration detector that constantly detects the concentration of hydrogen peroxide gas in the processing container, and an output signal from the concentration detector that supplies gas to keep the concentration of hydrogen peroxide gas in the processing container within a preset range. A control device for controlling the supply amount of hydrogen peroxide gas by the device. In such a system, the gas supply device includes a vaporizer for generating a hydrogen peroxide gas by instantaneously completely vaporizing the hydrogen peroxide solution onto the heating body, and the hydrogen peroxide solution in the vaporizer. And a carrier gas introduction mechanism for supplying the hydrogen peroxide gas generated in the vaporizer to the processing container by an inert dry gas, and the concentration detector is a semiconductor gas sensor. It is preferable that the control device controls the injection amount of hydrogen peroxide solution by the quantitative injection device according to the output signal from the semiconductor gas sensor.
【００１０】[0010]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図１
に基づいて具体的に説明する。FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention.
This will be specifically described based on the following.
【００１１】本発明に係るガス滅菌処理システムは、図
１に示す如く、密閉された処理容器１と、処理容器１の
ガス供給口１１に接続されたガス供給装置２と、処理容
器１の排気口１２に接続された排気装置３と、処理容器
１に配設された濃度検出器４と、濃度検出器４からの信
号に基づいてガス供給装置２を制御する制御装置５とか
らなる。As shown in FIG. 1, the gas sterilization processing system according to the present invention includes a closed processing container 1, a gas supply device 2 connected to a gas supply port 11 of the processing container 1, and an exhaust of the processing container 1. It comprises an exhaust device 3 connected to the port 12, a concentration detector 4 arranged in the processing container 1, and a control device 5 for controlling the gas supply device 2 based on a signal from the concentration detector 4.
【００１２】処理容器１は、図１に示す如く、ガス供給
口１１と排気口１２とを有する密閉容器であり、被処理
物１３を収納する。処理容器１は、被処理物１３を搬出
入自在な独立の小型容器であっても、病院，劇場，列車
等の施設や部屋であってもよい。後者の場合には、施設
や部屋をガス供給口１１及び排気口１２を除いて目張り
等により密閉させることによって処理容器１となす。ま
た、かかる場合における被処理物１３は、病室等に設置
されたベッド，椅子等の設置物や劇場，列車等における
内装物である。なお、処理容器１内には、容器１が小容
量のものである場合を除いて、供給された過酸化水素ガ
スを強制的に拡散させるためのガス拡散機１４を設置し
ておくことが好ましい。ガス拡散機１４としては、軸流
ファン等が使用される。また、処理容器１には、容器１
内の相対湿度を検出するための温湿度計１５（例えば、
チノー社製のＨＮ−Ｕ）が設置される。As shown in FIG. 1, the processing container 1 is a closed container having a gas supply port 11 and an exhaust port 12, and accommodates an object 13 to be processed. The processing container 1 may be an independent small container capable of carrying in and out the object to be processed 13 or may be a facility, room such as a hospital, theater, or train. In the latter case, the processing container 1 is formed by sealing the facility or room with a seal or the like except the gas supply port 11 and the exhaust port 12. In addition, the processed object 13 in such a case is an installed object such as a bed or a chair installed in a hospital room or the like, or an interior object in a theater, a train, or the like. A gas diffuser 14 for forcibly diffusing the supplied hydrogen peroxide gas is preferably installed in the processing container 1 except when the container 1 has a small capacity. . An axial fan or the like is used as the gas diffuser 14. Further, the processing container 1 includes the container 1
A thermo-hygrometer 15 for detecting the relative humidity inside (for example,
HIN-U manufactured by Chino Co. is installed.
【００１３】ガス供給装置２は、図１に示す如く、過酸
化水素水供給源２１と、過酸化水素水を加熱気化させる
気化器２２と、過酸化水素水を供給源２１から気化器２
２へと定量注入させる定量注入器２３と、気化器２２内
で発生された過酸化水素ガスを不活性な乾燥ガスにより
処理容器１に供給させるキャリアガス導入機構２４とか
らなる。As shown in FIG. 1, the gas supply device 2 includes a hydrogen peroxide solution supply source 21, a vaporizer 22 for heating and vaporizing the hydrogen peroxide solution, and a hydrogen peroxide solution from the supply source 21 to the vaporizer 2.
It is composed of a fixed quantity injector 23 for making a fixed quantity injection into 2 and a carrier gas introduction mechanism 24 for supplying the hydrogen peroxide gas generated in the vaporizer 22 to the processing container 1 by an inert dry gas.
【００１４】過酸化水素水供給源２１には、適当濃度
（５〜６０重量％であることが好ましい）の過酸化水素
水が貯蔵されている。定量注入器２３は、過酸化水素水
を供給源２１から気化器２２に定量注入させるものであ
り、その注入量を任意に変更できるように構成されてい
る。気化器２２は、底部にヒータ等により１００〜３０
０℃に加熱される金属板等の加熱体２２ａを設置したも
ので、過酸化水素水が定量注入器２３により加熱体２２
ａ上に注入滴下されるようになっている。すなわち、加
熱体２２ａ上に過酸化水素水が滴下されると、この過酸
化水素水が加熱体２２ａにより瞬時に完全気化されて、
気化器２２内において過酸化水素ガスが発生するように
なっている。キャリアガス導入機構２４は、キャリアガ
ス供給源２５から気化器２２を経て処理容器１のガス供
給口１１に至るキャリアガス導入路２６と、キャリアガ
ス導入路２６における気化器２２の上流側部分に介設さ
れた送気ポンプ２７、流量計２８及びフィルタ２９とか
らなり、送気ポンプ２７を作動させることにより、一定
流量のキャリアガスをキャリアガス導入路２６から気化
器２２を経て処理容器１へと導入させて、気化器２２内
で発生された過酸化水素ガスを処理容器１内に供給させ
るようになっている。キャリアガスとしては、乾燥空
気，窒素ガス，炭酸ガス等の不活性な乾燥ガスが使用さ
れるが、一般には、乾燥空気を使用することが好まし
い。フィルタ２９は、気化器２２に導入されるキャリア
ガスを無菌，清浄化するものであればよく、一般には、
ヘパフィルタ（ＨＥＰＡフィルタ）を使用することが好
ましい。The hydrogen peroxide water supply source 21 stores hydrogen peroxide water having an appropriate concentration (preferably 5 to 60% by weight). The fixed quantity injector 23 is for making fixed quantity injection of hydrogen peroxide solution from the supply source 21 into the vaporizer 22, and is configured so that the injection amount can be arbitrarily changed. The carburetor 22 has a bottom portion of 100 to 30 by a heater or the like.
A heating element 22a such as a metal plate that is heated to 0 ° C. is installed.
It is designed to be poured and dropped onto a. That is, when hydrogen peroxide solution is dropped onto the heating element 22a, the hydrogen peroxide solution is instantly completely vaporized by the heating element 22a,
Hydrogen peroxide gas is generated in the vaporizer 22. The carrier gas introduction mechanism 24 includes a carrier gas introduction path 26 from the carrier gas supply source 25 to the gas supply port 11 of the processing container 1 via the vaporizer 22 and an upstream portion of the carrier gas introduction path 26 of the vaporizer 22. It is composed of an air supply pump 27, a flow meter 28 and a filter 29 which are provided. By operating the air supply pump 27, a carrier gas of a constant flow rate is transferred from the carrier gas introduction passage 26 to the processing container 1 via the vaporizer 22. The hydrogen peroxide gas, which is introduced and generated in the vaporizer 22, is supplied into the processing container 1. As the carrier gas, an inert dry gas such as dry air, nitrogen gas or carbon dioxide gas is used, but it is generally preferable to use dry air. The filter 29 may be one that sterilizes and purifies the carrier gas introduced into the vaporizer 22, and in general,
It is preferable to use a Hepa filter (HEPA filter).
【００１５】したがって、ガス供給装置２によれば、気
化器２２で発生した過酸化水素ガスをキャリアガスによ
り処理容器１内に連続供給させることができる。そし
て、処理容器１内における過酸化水素ガス濃度は、処理
容器１への過酸化水素ガス供給量を変更することによっ
て、つまり定量注入器２３による過酸化水素水の気化器
２２への注入量を変更することによって、任意に制御す
ることができる。Therefore, according to the gas supply device 2, the hydrogen peroxide gas generated in the vaporizer 22 can be continuously supplied into the processing container 1 by the carrier gas. The concentration of hydrogen peroxide gas in the processing container 1 can be determined by changing the amount of hydrogen peroxide gas supplied to the processing container 1, that is, the amount of hydrogen peroxide water injected into the vaporizer 22 by the fixed quantity injector 23. By changing it, it can be controlled arbitrarily.
【００１６】排気装置３は、図１に示す如く、処理容器
１の排気口１２に接続されて大気中に開放される排気路
３１と、排気路３１に介装された除害器３２とからな
る。排気路３１は、処理容器１内にキャリアガスと共に
過酸化水素ガスが連続供給されたときにおいて、余剰ガ
スを処理容器１の排気口１２から排出させるものであ
る。この排気路３１からの排出ガス量は、処理容器１の
容量及び過酸化水素ガス供給量等との関係において、供
給された過酸化水素ガスが処理容器１内において所定時
間滞留するように設定される。除害器３２は、排ガス中
に含まれる過酸化水素ガスを大気中に無害状態で放出で
きる程度の濃度（１ｐｐｍ以下であることが好ましい）
に低減，無害化させるためのもので、一般には、過酸化
水素ガスの分解剤を充填したものとされる。分解剤とし
ては、一般に、活性炭を使用することが好ましい。した
がって、排気装置３によれば、処理容器１内の余剰ガス
を、無害化した上で大気中に放出させることができるの
である。As shown in FIG. 1, the exhaust device 3 includes an exhaust passage 31 connected to the exhaust port 12 of the processing container 1 and opened to the atmosphere, and a detoxifier 32 interposed in the exhaust passage 31. Become. The exhaust path 31 is for exhausting excess gas from the exhaust port 12 of the processing container 1 when the hydrogen peroxide gas is continuously supplied into the processing container 1 together with the carrier gas. The amount of exhaust gas from the exhaust passage 31 is set such that the supplied hydrogen peroxide gas stays in the processing container 1 for a predetermined time in relation to the capacity of the processing container 1, the supply amount of hydrogen peroxide gas, and the like. It The abatement device 32 has such a concentration that the hydrogen peroxide gas contained in the exhaust gas can be released into the atmosphere in a harmless state (preferably 1 ppm or less).
It is intended to reduce and render harmless, and is generally filled with a decomposing agent for hydrogen peroxide gas. As the decomposing agent, it is generally preferable to use activated carbon. Therefore, according to the exhaust device 3, the surplus gas in the processing container 1 can be made harmless and then released into the atmosphere.
【００１７】濃度検出器４は、処理容器１内における過
酸化水素ガス濃度をリアルタイムで直接的且つ正確に検
出するものであり、具体的には、過酸化水素ガスと接触
して電導度が変化する金属酸化物焼結体からなるセンサ
ー素子と、これに埋設された電極とセンサー素子を加熱
する手段（傍熱型又は直熱型）と具備してなる半導体ガ
スセンサが好適である。この半導体ガスセンサ４は、セ
ンサー素子を構成するｎ型半導体酸化物（例えば、Ｓｎ
Ｏ2 ，ＺｎＯ，Ｖ2 Ｏ5 ，γ−Ｆｅ2 Ｏ3 ，ＴｉＯ2 ，
ＣｄＯ）やｐ型半導体酸化物（例えば、ＮｉＯ，Ｃｒ2
Ｏ3 ，Ｃｕ2 Ｏ，ＭｎＯ2 ，ＭｎＯ）等の酸化物粒子表
面にガス成分が吸着されることにより、表面近傍の自由
電子が移動して電導度を変化させることを利用したもの
であり、過酸化水素ガスの接触による電導度の増大つま
り抵抗値の減少を電気回路的に電圧の増大に変換して出
力するものである。したがって、過酸化水素ガス濃度が
変化すると、これに伴って素子の電導度も変化するが、
かかる反応速度は極めて高く（数十秒）、センサー出力
は濃度変化に迅速に応答することになり、過酸化水素ガ
ス濃度をリアルタイムで正確に検出することできるので
ある。なお、半導体ガスセンサ４の出力は、本発明者が
実験により確認したところ、過酸化水素飽和ガス濃度の
対数に比例することが判明しており、センサ出力により
過酸化水素ガス濃度を正確に検出することは勿論、セン
サ出力を過酸化水素ガス濃度に換算して適宜の表示器に
より表示させることも可能である。その換算式は最小二
乗法等により容易に導き出すことができる。例えば、温
度２５℃の常圧条件下では、Ｙ＝０．２２ｌｏｇ
e （５．１４Ｘ）（Ｘ：センサ出力、Ｙ：過酸化水素ガ
ス濃度（ｐｐｍ））となる。ところで、センサー素子
は、検知対象ガスや酸素の半導体表面への吸脱着速度を
高くし、ガス検出応答速度を高めるために加熱させる
が、その加熱温度は、一般に２００〜４００℃に設定し
ておくのが好ましい。半導体ガスセンサ４としては、具
体的には、一酸化炭素を被検知ガスとする市販のガス漏
れ検知センサ、例えばフィガロ技研株式会社製＃８１２
を使用することができる。なお、このフィガロ技研株式
会社製＃８１２は、センサー素子がＳｎＯ2 焼結体で構
成されており、内部に埋設されたニクロム線ヒータによ
り２５０℃に加熱するように構成されたものである。The concentration detector 4 directly and accurately detects the hydrogen peroxide gas concentration in the processing container 1 in real time. Specifically, the concentration detector 4 is brought into contact with the hydrogen peroxide gas to change the conductivity. A semiconductor gas sensor comprising a sensor element made of a metal oxide sintered body, an electrode buried in the sensor element, and a means (indirect heating type or direct heating type) for heating the sensor element is preferable. This semiconductor gas sensor 4 includes an n-type semiconductor oxide (for example, Sn
O 2 , ZnO, V 2 O 5 , γ-Fe 2 O 3 , TiO 2 ,
CdO) and p-type semiconductor oxides (eg NiO, Cr 2
O 3, Cu 2 O, by the gas component is adsorbed to MnO 2, MnO) oxides particle surface, such as, which free electrons near the surface using a varying conductivity move, The increase in the electric conductivity due to the contact with the hydrogen peroxide gas, that is, the decrease in the resistance value is converted into an increase in the voltage by an electric circuit and is output. Therefore, when the hydrogen peroxide gas concentration changes, the electrical conductivity of the element changes accordingly,
Such a reaction rate is extremely high (several tens of seconds), and the sensor output responds quickly to the change in concentration, and the hydrogen peroxide gas concentration can be accurately detected in real time. The output of the semiconductor gas sensor 4 was confirmed by experiments by the inventor to be found to be proportional to the logarithm of the hydrogen peroxide saturated gas concentration, and the hydrogen peroxide gas concentration can be accurately detected by the sensor output. Of course, it is also possible to convert the sensor output into a hydrogen peroxide gas concentration and display it by an appropriate display device. The conversion formula can be easily derived by the least square method or the like. For example, under a normal pressure condition of a temperature of 25 ° C., Y = 0.22 log
e (5.14X) (X: sensor output, Y: hydrogen peroxide gas concentration (ppm)). By the way, the sensor element is heated to increase the adsorption / desorption rate of the gas to be detected and oxygen to the semiconductor surface and to increase the gas detection response rate, but the heating temperature is generally set to 200 to 400 ° C. Is preferred. As the semiconductor gas sensor 4, specifically, a commercially available gas leak detection sensor using carbon monoxide as a gas to be detected, for example, # 812 manufactured by Figaro Giken Co., Ltd.
Can be used. The sensor element of this Fig. # 812 manufactured by Gigaro Giken Co., Ltd. is made of a SnO 2 sintered body, and is heated to 250 ° C. by a nichrome wire heater embedded inside.
【００１８】制御装置５は、濃度検出器たる半導体ガス
センサ４の出力信号により、処理容器１内における過酸
化水素ガス濃度を予め設定された一定範囲（以下「設定
ガス濃度」という）に保持すべく、ガス供給装置２によ
る過酸化水素ガスの供給量を制御するものである。すな
わち、半導体ガスセンサ４の出力が、設定ガス濃度に対
応する値（以下「設定濃度出力値」という）を下回った
ときには、定量注入器２３による気化器２２への過酸化
水素水注入量を増加して、気化器２２における過酸化水
素ガス発生量を増量させ、逆に、半導体ガスセンサ４の
出力が設定濃度出力値を上回ったときには、定量注入器
２３による気化器２２への過酸化水素水注入量を減少し
て、気化器２２における過酸化水素ガス発生量を減量さ
せるようにして、処理容器１内における過酸化水素ガス
濃度を設定ガス濃度に保持すべく自動制御するのであ
る。制御方式としては、一般に、ＰＩＤ制御が採用され
る。例えば、設定ガス濃度を４００ｐｐｍとして、３１
重量％の過酸化水素水を気化させて得られた過酸化水素
ガスの連続供給を、４０ｌ／分の流量で開始して、過酸
化水素ガス供給量を半導体ガス４の出力信号によりＰＩ
Ｄ制御させた場合、図２に示す如く、１０分程度で処理
容器１内の過酸化水素ガス濃度は設定ガス濃度に達して
安定し、爾後、４００±１０ｐｐｍを維持した。勿論、
前述した如く、半導体ガスセンサ４の出力を、過酸化水
素ガス濃度に換算して直接的に表示器により表示させる
ことができるから、制御装置５を人為的なものとするこ
ともできる。すなわち、作業者が表示器を視認しなが
ら、定量注入器２３による過酸化水素水注入量を人為的
に制御するのである。The control device 5 should keep the hydrogen peroxide gas concentration in the processing container 1 within a predetermined range (hereinafter referred to as "set gas concentration") by the output signal of the semiconductor gas sensor 4 which is a concentration detector. The amount of hydrogen peroxide gas supplied by the gas supply device 2 is controlled. That is, when the output of the semiconductor gas sensor 4 falls below a value corresponding to the set gas concentration (hereinafter referred to as “set concentration output value”), the amount of hydrogen peroxide solution injected into the vaporizer 22 by the fixed quantity injector 23 is increased. When the output of the semiconductor gas sensor 4 exceeds the set concentration output value, the amount of hydrogen peroxide gas generated in the vaporizer 22 is increased. Is reduced to reduce the amount of hydrogen peroxide gas generated in the vaporizer 22, and the hydrogen peroxide gas concentration in the processing container 1 is automatically controlled to maintain the set gas concentration. As a control method, PID control is generally adopted. For example, if the set gas concentration is 400 ppm, 31
The continuous supply of hydrogen peroxide gas obtained by vaporizing the hydrogen peroxide solution of weight% is started at a flow rate of 40 l / min, and the hydrogen peroxide gas supply amount is set to PI by the output signal of the semiconductor gas 4.
When the D control was performed, as shown in FIG. 2, the hydrogen peroxide gas concentration in the processing container 1 reached the set gas concentration and became stable in about 10 minutes, and after that, kept at 400 ± 10 ppm. Of course,
As described above, since the output of the semiconductor gas sensor 4 can be converted into the hydrogen peroxide gas concentration and directly displayed on the display device, the control device 5 can be artificial. That is, the operator artificially controls the hydrogen peroxide injection amount by the fixed quantity injector 23 while visually recognizing the display device.
【００１９】ところで、設定ガス濃度は、処理容器１及
び被処理物１４の形状，性状等の滅菌処理条件に応じ
て、滅菌効果が得られる範囲（１００〜２０００ｐｐ
ｍ）で適宜に設定される。また、滅菌時間を含む過酸化
水素ガスの供給時間、つまり過酸化水素ガスの供給が開
始された後、処理容器１内の過酸化水素ガス濃度が設定
ガス濃度に達するまでの滅菌準備時間と、設定ガス濃度
に達した時点から被処理物１４の滅菌処理が完了するま
での滅菌時間との合計時間は、設定ガス濃度との関係に
おいて設定される。また、後述する如く、過酸化水素ガ
スの供給開始前において、キャリアガスたる乾燥ガスの
みを処理容器１に供給する前換気処理を行う必要がある
場合には、前換気処理に必要な時間も滅菌処理条件に応
じて適宜に設定される。これらの時間は、制御装置５に
より自動的に又は人為的に制御される。By the way, the set gas concentration is within a range (100 to 2000 pp) in which a sterilizing effect can be obtained depending on the sterilization conditions such as the shape and properties of the processing container 1 and the object to be processed 14.
It is set appropriately in m). Further, the hydrogen peroxide gas supply time including the sterilization time, that is, the sterilization preparation time until the hydrogen peroxide gas concentration in the processing container 1 reaches the set gas concentration after the hydrogen peroxide gas supply is started, The total time of sterilization time from when the set gas concentration is reached to when the sterilization treatment of the object to be processed 14 is completed is set in relation to the set gas concentration. In addition, as described later, when it is necessary to perform a pre-ventilation process of supplying only the dry gas, which is a carrier gas, to the processing container 1 before starting the supply of hydrogen peroxide gas, the time required for the pre-ventilation process is sterilized It is appropriately set according to the processing conditions. These times are automatically or artificially controlled by the controller 5.
【００２０】而して、本発明に係るガス滅菌処理方法
は、上記したガス滅菌処理システムにより、次のように
実施される。The gas sterilization method according to the present invention is carried out as follows by the gas sterilization system described above.
【００２１】処理容器１が病室等である場合には、滅菌
処理を行うに先立って、乾燥ガスで処理容器１内を所定
時間ブローする前換気処理を行う。すなわち、定量注入
器２３を作動させることなく送気ポンプ２７を作動させ
ることによって、乾燥ガスのみをキャリアガス導入路２
６から処理容器１に連続供給させて、処理容器１内を清
浄化すると共に容器１内の相対湿度を低減させる。相対
湿度を低減させるのは、相対湿度が低くなればなる程、
過酸化水素ガスによる滅菌効果が高くなるからである。
一般には、容器１内の相対湿度が１５％ＲＨ以下となる
ようにしておくことが好ましい。勿論、かかる前換気処
理は、滅菌処理条件によっては必要としない場合もあ
る。When the processing container 1 is a hospital room or the like, a pre-ventilation process is performed in which the inside of the processing container 1 is blown with a dry gas for a predetermined time before performing the sterilization process. That is, by operating the air supply pump 27 without operating the fixed quantity injector 23, only the dry gas is supplied to the carrier gas introduction path 2.
6 is continuously supplied to the processing container 1 to clean the inside of the processing container 1 and reduce the relative humidity in the container 1. To reduce the relative humidity, the lower the relative humidity,
This is because the sterilization effect of hydrogen peroxide gas is enhanced.
In general, it is preferable that the relative humidity inside the container 1 be set to 15% RH or less. Of course, such pre-ventilation treatment may not be necessary depending on the sterilization treatment conditions.
【００２２】しかる後、過酸化水素水を定量注入器２に
より気化器２２に定量注入して、過酸化水素ガスの処理
容器１への連続供給を開始する。そして、この過酸化水
素ガスの供給は、処理容器１内の過酸化水素ガス濃度が
設定ガス濃度に達した後、所定の滅菌時間が経過するま
で、継続して行う。Thereafter, a fixed amount of hydrogen peroxide water is injected into the vaporizer 22 by the fixed amount injector 2, and continuous supply of hydrogen peroxide gas to the processing container 1 is started. Then, the supply of the hydrogen peroxide gas is continuously performed until the predetermined sterilization time elapses after the hydrogen peroxide gas concentration in the processing container 1 reaches the set gas concentration.
【００２３】滅菌時間内においては、処理容器１内の過
酸化水素ガス濃度が半導体ガスセンサ４により常時検出
され、半導体ガスセンサ４からの出力信号により過酸化
水素ガス供給量が制御されて、過酸化水素ガス濃度を設
定ガス濃度に保持する。一方、処理容器１内の余剰ガス
は、排気口１２から排気路３１を経て大気中に放出され
る。かかる余剰ガスの排出により、過酸化水素ガスの連
続供給が可能となり、常に、処理容器１内に設定ガス濃
度の過酸化水素ガスが充満することになる。したがっ
て、処理容器１内の被処理物１３は、設定ガス濃度の過
酸化水素ガスと充分に接触して、効果的に滅菌処理され
る。また、余剰ガスに含まれる過酸化水素ガスは、除害
器３２により無害化された上で、大気中に放出されるこ
とになり、環境衛生上、何らの問題も生じない。During the sterilization time, the concentration of hydrogen peroxide gas in the processing container 1 is constantly detected by the semiconductor gas sensor 4, and the supply amount of hydrogen peroxide gas is controlled by the output signal from the semiconductor gas sensor 4 to generate hydrogen peroxide. The gas concentration is maintained at the set gas concentration. On the other hand, the surplus gas in the processing container 1 is discharged from the exhaust port 12 into the atmosphere via the exhaust passage 31. By discharging the surplus gas, the hydrogen peroxide gas can be continuously supplied, and the hydrogen peroxide gas having the set gas concentration is constantly filled in the processing container 1. Therefore, the object to be processed 13 in the processing container 1 is sufficiently brought into contact with the hydrogen peroxide gas having the set gas concentration, and is effectively sterilized. Further, the hydrogen peroxide gas contained in the surplus gas is detoxified by the harm remover 32 and then released into the atmosphere, which does not cause any problem in environmental hygiene.
【００２４】このように、過酸化水素ガス濃度を一定の
設定ガス濃度に保持させることから、処理容器１に供給
させる過酸化水素ガスの濃度や被処理物１３との接触時
間（滅菌時間）を必要以上に大きくする必要がなく、必
要最小限とすることができる。したがって、過酸化水素
ガスによる滅菌処理を、処理容器１の大きさ等の処理条
件に応じて、良好且つ効率よく行うことができる。しか
も、過酸化水素ガス濃度を必要以上に高くする必要がな
いこと及び過酸化水素ガスを連続供給させることから、
処理容器１の密閉度に完璧を期し難い場合（例えば、病
院，劇場等の施設を滅菌処理する場合）にも、安全且つ
良好な滅菌を行うことができる。また、滅菌処理を常温
（４〜８０℃）及び常圧（大気圧）で短時間で行うこと
ができることとも相俟って、あらゆる性状，種類の被処
理物１３の滅菌処理を行うことができる。すなわち、高
温，高圧条件下では処理できないような樹脂製やゴム製
のものを始めとして、金属，非金属の別なく、あらゆる
被処理物１３に対して滅菌処理を施すことができる。具
体的には、例えば、病室，診察室，待合室，手術室等の
医療施設、調理場等の食品加工施設、実験，研究施設、
映画館，劇場等の公共施設やバス，列車，船舶，航空機
等の交通機関等の各種施設における設置物，内装物（ベ
ッド，机，椅子等）を、施設そのものを処理容器として
滅菌処理する場合や、各種医療器具のように格別の処理
容器を使用して滅菌処理を行う場合等、あらゆる条件下
で効果的な滅菌処理を行うことができる。なお、劇場等
のように広範囲に亘って滅菌する必要のある場合、軸流
ファン等のガス拡散機１４により過酸化水素ガスを拡散
させるようにすることによって、隅々まで過酸化水素ガ
スが行き渡り、滅菌処理を良好に行なうことができる。As described above, since the hydrogen peroxide gas concentration is maintained at a constant set gas concentration, the concentration of hydrogen peroxide gas supplied to the processing container 1 and the contact time (sterilization time) with the object to be processed 13 can be set. There is no need to make it larger than necessary, and it can be made the minimum necessary. Therefore, the sterilization treatment with hydrogen peroxide gas can be favorably and efficiently performed according to the treatment conditions such as the size of the treatment container 1. Moreover, since it is not necessary to increase the hydrogen peroxide gas concentration more than necessary and the hydrogen peroxide gas is continuously supplied,
Even when it is difficult to achieve perfect sealing of the processing container 1 (for example, when sterilizing a facility such as a hospital or a theater), safe and excellent sterilization can be performed. In addition to the fact that the sterilization treatment can be performed at normal temperature (4 to 80 ° C.) and normal pressure (atmospheric pressure) in a short time, the sterilization treatment of the object to be treated 13 of all properties and types can be performed. . That is, it is possible to perform sterilization treatment on any object 13 to be treated, regardless of whether it is metal or non-metal, including those made of resin or rubber that cannot be treated under high temperature and high pressure conditions. Specifically, for example, medical facilities such as hospital rooms, consultation rooms, waiting rooms, operating rooms, food processing facilities such as kitchens, experiments, research facilities,
When sterilizing installations and interiors (beds, desks, chairs, etc.) in public facilities such as movie theaters and theaters, and in various facilities such as buses, trains, ships, transportation facilities such as aircraft using the facilities themselves as processing containers. Alternatively, effective sterilization can be performed under all conditions, such as sterilization using a special treatment container such as various medical instruments. When it is necessary to sterilize a wide area such as in a theater, the hydrogen peroxide gas is spread to every corner by diffusing the hydrogen peroxide gas with the gas diffuser 14 such as an axial fan. The sterilization process can be performed well.
【００２５】また、滅菌処理終了後は、乾燥ガスのみを
処理容器１に供給して、処理容器１内に残留する過酸化
水素ガスを排除する。かかる後換気処理は、処理容器１
内の過酸化水素ガス濃度が１ｐｐｍ以下となるまで行な
うことが好ましい。勿論、時間的に余裕がある場合に
は、後換気処理をすることなく、放置しておいてもよ
い。時間の経過と共に、過酸化水素ガスは酸素と水とに
自然分解するからである。After the sterilization is completed, only the dry gas is supplied to the processing container 1 to eliminate the hydrogen peroxide gas remaining in the processing container 1. Such post-ventilation processing is performed in the processing container 1
It is preferable to carry out until the hydrogen peroxide gas concentration therein becomes 1 ppm or less. Of course, if there is enough time, it may be left without being subjected to post-ventilation treatment. This is because hydrogen peroxide gas spontaneously decomposes into oxygen and water over time.
【００２６】[0026]
【実施例】図１に示すガス滅菌処理システム（処理容器
１として容積１３６ｌの密閉容器を使用）を使用して、
上記したガス滅菌処理方法によって、常温（２５℃），
常圧（大気圧）の条件下で、設定ガス濃度及び過酸化水
素ガスとの接触時間（滅菌時間）を表１に示す如く異な
らしめて、各場合について滅菌処理を行なった。なお、
３１重量％の過酸化水素水を気化器２２で気化させた過
酸化水素ガスを、乾燥空気をキャリアガスとして、４０
ｌ／分の流量で処理容器１への供給を開始した。接触時
間中においては、半導体ガスセンサ４からの出力に基づ
いて、定量注入器２３を制御装置５によりＰＩＤ制御し
て、処理容器１内の過酸化水素ガス濃度を設定ガス濃度
に保持すると共に、８Ｗの軸流ファン１４によりガス拡
散を行なった。また、乾燥空気による前換気処理を行な
って、処理容器１内の相対湿度が１０±１％ＲＨとなる
ようにした。EXAMPLES Using the gas sterilization treatment system shown in FIG. 1 (a closed vessel having a volume of 136 l is used as the treatment vessel 1),
By the gas sterilization method described above, at room temperature (25 ° C),
Under normal pressure (atmospheric pressure) conditions, the set gas concentration and the contact time with hydrogen peroxide gas (sterilization time) were varied as shown in Table 1, and sterilization treatment was performed in each case. In addition,
The hydrogen peroxide gas obtained by vaporizing 31% by weight of hydrogen peroxide solution by the vaporizer 22 is 40% by using dry air as a carrier gas.
The supply to the processing container 1 was started at a flow rate of 1 / min. During the contact time, based on the output from the semiconductor gas sensor 4, the controller 5 performs PID control of the fixed quantity injector 23 to maintain the hydrogen peroxide gas concentration in the processing container 1 at the set gas concentration, and The gas was diffused by the axial fan 14 of. Further, pre-ventilation treatment with dry air was performed so that the relative humidity in the treatment container 1 was 10 ± 1% RH.
【００２７】そして、各場合において、１．７〜２．１
×１０6 ｃｆｕ／サンプルのＢＩ（バイオロジカルイン
ジケータ）（アムスコ社製）を使用して、滅菌効果を判
定した。すなわち、プループから抜き出した菌体ディス
ク（Ｂ．Ｓｔｅａｒｏｔｈｅｒｍｏｐｈｉｌｕｓ（ＡＴ
ＣＣ１２９８０）を１０6 ｃｆｕ含浸させた５ｍｍ径の
濾紙）を処理容器１の底部に設置して、表１に示す接触
時間の経過後、再度プループに入れて２４時間，５５℃
の条件で培養し、陽性判定を培養液の変色で評価した。
その結果は、表１に示す通りであった。なお、表１にお
ける判定結果「０／３」「２／３」「３／３」は「陽性
検体数／総検体数」を示す。And in each case 1.7-2.1
The sterilization effect was judged using BI (biological indicator) (manufactured by Amsco) of × 10 6 cfu / sample. That is, a bacterial cell disc (B. Stearothermophilus (AT
CC 12980) was placed on the bottom of the processing container 1 with a filter paper of 5 mm diameter impregnated with 10 6 cfu), and after the contact time shown in Table 1, it was put into the loop again and left at 55 ° C. for 24 hours.
Culturing was carried out under the conditions described above, and the positive judgment was evaluated by the discoloration of the culture solution.
The results were as shown in Table 1. The determination results “0/3”, “2/3”, and “3/3” in Table 1 indicate “the number of positive samples / the total number of samples”.
【００２８】[0028]
【表１】 [Table 1]
【００２９】表１から、設定ガス濃度が高くなるに従
い、滅菌処理に必要な時間（滅菌時間）が短縮されるこ
とが理解される。そして、最も設定ガス濃度が高い場合
でも、その濃度は僅か８００ｐｐｍであり、また設定ガ
ス濃度が最も低い（１４０ｐｐｍ）場合でも、滅菌処理
に必要な時間な時間は僅かに１４分である。したがっ
て、過酸化水素ガスをバッチ的でなく連続的に供給し、
且つ過酸化水素ガス濃度を一定範囲に保持させておくこ
とによって、滅菌処理を極めて効率良く且つ効果的に行
いうることが確認される。From Table 1, it is understood that the higher the set gas concentration, the shorter the time required for sterilization (sterilization time). Even when the set gas concentration is the highest, the concentration is only 800 ppm, and even when the set gas concentration is the lowest (140 ppm), the time required for the sterilization treatment is only 14 minutes. Therefore, hydrogen peroxide gas is supplied continuously, not in batches,
Moreover, it is confirmed that the sterilization treatment can be performed extremely efficiently and effectively by keeping the hydrogen peroxide gas concentration within a certain range.
【００３０】また、除害器３２として、直径１００ｍ
ｍ，長さ４００ｍｍの円筒容器に活性炭（武田薬品工業
（株）製の「白鷺」（４〜６メッシュの粒状活性炭））
を３ｌ充填したものを使用し、排気路３１の大気側出口
における過酸化水素ガス濃度を定電位電解法による過酸
化水素ガス検出器（ドレーグ社製の「ポリトロン」）で
測定したところ、何れの場合にも検出限界値（０．０１
ｐｐｍ）以下であった。The abatement device 32 has a diameter of 100 m.
Activated carbon in a cylindrical container of m and 400 mm in length ("Shirasagi" (4-6 mesh granular activated carbon) manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.)
Was used and the hydrogen peroxide gas concentration at the atmosphere side outlet of the exhaust passage 31 was measured with a hydrogen peroxide gas detector by the potentiostatic electrolysis method (“Dragon's“ Polytron ”). Even if the detection limit value (0.01
ppm) or less.
【００３１】[0031]
【発明の効果】以上の説明から容易に理解されるよう
に、本発明のガス滅菌処理方法によれば、処理容器や被
処理物の形状や性状等の処理条件に拘わらず、滅菌処理
を効率よく効果的に行うことができる。しかも、滅菌処
理を安全に行なうことができ、環境汚染や衛生上の問題
も生じない。また、本発明のガス滅菌処理システムによ
れば、かかる方法を好適に実施することができる。As can be easily understood from the above description, according to the gas sterilization method of the present invention, the sterilization process can be performed efficiently regardless of the processing conditions such as the shape and properties of the processing container and the object to be processed. Can be done effectively and effectively. Moreover, the sterilization process can be performed safely, and no environmental pollution or sanitary problems occur. Moreover, according to the gas sterilization processing system of the present invention, such a method can be suitably implemented.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図１】本発明に係るガス滅菌処理システムの一例を示
す系統図である。FIG. 1 is a system diagram showing an example of a gas sterilization processing system according to the present invention.
【図２】過酸化水素ガス供給量をＰＩＤ制御した場合に
おける、過酸化水素ガス濃度と経過時間との関係を示す
グラフである。FIG. 2 is a graph showing the relationship between hydrogen peroxide gas concentration and elapsed time when the hydrogen peroxide gas supply amount is PID controlled.
【図３】過酸化水素ガスを密閉容器内で発生させた場合
における、過酸化水素ガス濃度の経時的変化を示すグラ
フである。FIG. 3 is a graph showing changes over time in the hydrogen peroxide gas concentration when hydrogen peroxide gas is generated in a closed container.
【図４】過酸化水素ガス濃度と滅菌時間との関係を示す
グラフである。FIG. 4 is a graph showing the relationship between hydrogen peroxide gas concentration and sterilization time.
１…処理容器、２…ガス供給装置、３…排気装置、４…
濃度検出器（半導体ガスセンサ）、５…制御装置、１１
…ガス供給口、１２…排気口、１３…被処理物、１４…
ガス拡散機（軸流ファン）、１５…温湿度計、２１…過
酸化水素水供給源、２２…気化器、２２ａ…加熱体、２
３…定量注入器、２４…キャリアガス導入機構、２５…
キャリアガス供給源、２６…キャリアガス導入路、２７
…送気ポンプ、２９…フィルタ、３１…排気路、３２…
除害器。1 ... Processing container, 2 ... Gas supply device, 3 ... Exhaust device, 4 ...
Concentration detector (semiconductor gas sensor), 5 ... Control device, 11
... Gas supply port, 12 ... Exhaust port, 13 ... Object to be treated, 14 ...
Gas diffuser (axial fan), 15 ... Thermohygrometer, 21 ... Hydrogen peroxide supply source, 22 ... Vaporizer, 22a ... Heating body, 2
3 ... Fixed quantity injector, 24 ... Carrier gas introduction mechanism, 25 ...
Carrier gas supply source, 26 ... Carrier gas introduction path, 27
... air pump, 29 ... filter, 31 ... exhaust passage, 32 ...
Harmator.
Claims (8)
した過酸化水素ガスとの接触により滅菌させるようにし
たガス滅菌処理方法において、処理容器内に、該容器の
排気口から余剰ガスを排出させつつ、過酸化水素ガスを
連続的に供給させるようにすると共に、処理容器内にお
ける過酸化水素ガス濃度を予め設定された一定範囲に保
持すべく、過酸化水素ガスの供給量を制御するようにし
たことを特徴とするガス滅菌処理方法。1. A gas sterilization method in which an object to be processed in a processing container is sterilized by contact with hydrogen peroxide gas supplied into the processing container. While supplying the hydrogen peroxide gas continuously while discharging the gas, the supply amount of the hydrogen peroxide gas is set to keep the hydrogen peroxide gas concentration in the processing container within a preset constant range. A gas sterilization method characterized by being controlled.
を半導体ガスセンサにより常時検出して、半導体ガスセ
ンサの出力に応じて、処理容器内における過酸化水素ガ
ス濃度を予め設定された一定範囲に保持すべく、過酸化
水素ガスの供給量を制御するようにしたことを特徴とす
る、請求項１に記載するガス滅菌処理方法。2. The concentration of hydrogen peroxide gas in the processing container is constantly detected by a semiconductor gas sensor, and the concentration of hydrogen peroxide gas in the processing container is kept within a preset constant range according to the output of the semiconductor gas sensor. Therefore, the gas sterilization method according to claim 1, wherein the supply amount of hydrogen peroxide gas is controlled.
性炭と接触させることにより過酸化水素ガス濃度を一定
値以下に低減した上で、大気中に放出させるようにした
ことを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載するガ
ス滅菌処理方法。3. The surplus gas discharged from the processing container is brought into contact with activated carbon to reduce the hydrogen peroxide gas concentration below a certain value, and then released into the atmosphere. The gas sterilization method according to claim 1 or 2.
キャリアガスとして処理容器内に供給させるようにする
と共に、過酸化水素ガスの供給前において、上記乾燥ガ
スのみを処理容器に供給させることにより、処理容器内
における相対湿度を低減させるようにしたことを特徴と
する、請求項１、請求項２又は請求項３に記載するガス
滅菌処理方法。4. The hydrogen peroxide gas is supplied into the processing container by using an inert dry gas as a carrier gas, and only the dry gas is supplied to the processing container before the supply of the hydrogen peroxide gas. Accordingly, the relative humidity in the processing container is reduced, and the gas sterilization method according to claim 1, 2 or 3.
制的に拡散させるようにしたことを特徴とする、請求項
１、請求項２、請求項３又は請求項４に記載するガス滅
菌処理方法。5. The gas sterilization method according to claim 1, wherein the hydrogen peroxide gas is forcibly diffused in the processing container. .
処理容器と、処理容器のガス供給口から過酸化水素ガス
を連続的に供給させるガス供給装置と、処理容器の排気
口から余剰ガスを排出させる排気装置と、処理容器内に
おける過酸化水素ガス濃度を常時検出する濃度検出器
と、濃度検出器からの出力信号により、処理容器内にお
ける過酸化水素ガス濃度を予め設定された一定範囲に保
持すべく、ガス供給装置による過酸化水素ガスの供給量
を制御する制御装置と、を具備することを特徴とするガ
ス滅菌処理システム。6. A hermetically sealed processing container having a gas supply port and an exhaust port, a gas supply device for continuously supplying hydrogen peroxide gas from the gas supply port of the processing container, and an excess gas from the exhaust port of the processing container. The exhaust device that discharges the hydrogen peroxide, the concentration detector that constantly detects the hydrogen peroxide gas concentration in the processing container, and the output signal from the concentration detector, the hydrogen peroxide gas concentration in the processing container is set to a predetermined range. A gas sterilization processing system, comprising: a control device for controlling the amount of hydrogen peroxide gas supplied by the gas supply device.
上に滴下させることにより瞬間的に完全気化させて過酸
化水素ガスを発生させる気化器と、気化器に過酸化水素
水を定量注入する定量注入器と、気化器内で発生された
過酸化水素ガスを不活性な乾燥ガスにより処理容器に供
給させるキャリアガス導入機構とを具備するものであ
り、濃度検出器が半導体ガスセンサであり、制御装置
が、半導体ガスセンサからの出力信号により定量注入器
による過酸化水素水注入量を制御するものであることを
特徴とする、請求項６に記載するガス滅菌処理システ
ム。7. A vaporizer for generating a hydrogen peroxide gas by instantaneously completely vaporizing hydrogen peroxide solution by dropping the hydrogen peroxide solution onto a heating body, and a gasifier for quantitatively determining the hydrogen peroxide solution in the vaporizer. It is equipped with a fixed quantity injector for injecting and a carrier gas introducing mechanism for supplying the hydrogen peroxide gas generated in the vaporizer to the processing container by an inert dry gas, and the concentration detector is a semiconductor gas sensor. The gas sterilization processing system according to claim 6, wherein the control device controls the injection amount of the hydrogen peroxide solution by the quantitative injection device according to the output signal from the semiconductor gas sensor.
ガス中の過酸化水素ガスを一定濃度以下に分解させる除
害器を有するものであることを特徴とする、請求項７に
記載するガス滅菌処理システム。8. The gas according to claim 7, wherein the exhaust device has a detoxifier for decomposing the hydrogen peroxide gas in the exhaust gas discharged from the processing container to a certain concentration or less. Sterilization system.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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1995
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