JP2019182899A - 硬化性組成物、及び硬化膜の形成方法 - Google Patents

Abstract

【課題】塗布性及びパターニング性に優れ、良好な遮光性を有する硬化膜を得ることができる硬化性組成物、及びこの硬化性組成物を用いた硬化膜の形成方法を提供する。【解決手段】本発明は、白色顔料、黒色顔料又はこれらの組み合わせである顔料、硬化性化合物、及び溶媒を含有し、上記溶媒を除く全成分に対する上記顔料の含有量が、５０質量％以上９０質量％以下であり、上記溶媒の比誘電率が、６．０以下である硬化性組成物である。【選択図】図３

Description

本発明は、硬化性組成物、及び硬化膜の形成方法に関する。

表示素子や固体撮像素子には、ブラックマトリクス、カラーフィルタ、遮光膜等のパターニングされた硬化膜が備えられている。従来、このような硬化膜の形成は、感放射線性組成物を用いたフォトリソグラフィー法により広く行われている（特許文献１、２参照）。また、上記ブラックマトリクス等には、遮光性等を発揮させるために、黒色顔料等の顔料が添加されている。

一方、近年、マイクロＬＥＤディスプレー等と称される、複数のマイクロＬＥＤが配置された表示装置の開発が進んでいる（特許文献３参照）。

特開２００４−２０５８６２号公報 特開２００３−３０２５１５号公報 特開２０１２−１４２４８９号公報

上記のマイクロＬＥＤディスプレーにおいて、複数のマイクロＬＥＤとして、赤色光を発するＬＥＤ（Ｒ−ＬＥＤ）、緑色光を発するＬＥＤ（Ｇ−ＬＥＤ）及び青色光を発するＬＥＤ（Ｂ−ＬＥＤ）をそれぞれ配置する構造とすることは、実用化にあたっての技術的な障壁が高い。これに対し、図１に示すような、ＴＦＴ基板１０５上にマイクロＬＥＤとしてはＢ−ＬＥＤ１０２のみを配置し、Ｂ−ＬＥＤ１０２と波長変換層１０３ａ、１０３ｂとを組み合わせた構造としたマイクロＬＥＤディスプレー１０１は、比較的技術的な障壁が低いと考えられる。具体的に図１のマイクロＬＥＤディスプレー１０１においては、赤色光を発する領域には、Ｂ−ＬＥＤ１０２と、青色光を赤色光に変換する波長変換層１０３ａとを組み合わせる。同様に、緑色光を発する領域には、Ｂ−ＬＥＤ１０２と、青色光を緑色に変換する波長変換層１０３ｂとを組み合わせる。青色光を発する領域には、波長変換層を設けず、Ｂ−ＬＥＤ１０２のみを配置することとなる。なお、各領域には、カラーフィルタなどをさらに設けてもよい。

このように、光を発する各領域に、ＬＥＤのみではなく波長変換層１０３ａ、１０３ｂを設ける場合、さらに、十分な発光強度に変換された赤色光、緑色光を得るために波長変換層１０３ａ、１０３ｂの膜厚を高くする場合、各領域を隔てる隔壁１０４を高く設ける必要がある。通常、フォトリソグラフィー法による隔壁１０４の形成は、透明基板１０６の一方の面（図１における下面）上に感放射線紙組成物の塗膜を形成し、露光及び現像を経ることにより行われる。一方、領域間の遮光性を高めるためには、隔壁１０４中の顔料の濃度は高くする必要がある。しかし、顔料濃度の高い隔壁１０４を感放射線性組成物を用いたフォトリソグラフィー法により形成しようとした場合、塗膜の下部にまで照射光が届きにくいため、高さのある隔壁を形成することは困難である。

そこで発明者らは、隔壁の型となるテンプレート（プレパターン等とも称する）を用いた隔壁の形成方法を検討してきた。具体的には、まず、感放射線性組成物等を用いて凸部を有するテンプレートを形成する。次いで、このテンプレートの凸部間に硬化性組成物を塗布し、硬化性組成物の塗膜を形成する。この塗膜を硬化させた後にテンプレートの凸部を除去することで、十分な高さを有する隔壁が形成され得る。しかし、このような方法においても、硬化性組成物の塗布性及びパターニング性などにおいて、十分といえるものではない。

本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、塗布性及びパターニング性に優れ、良好な遮光性を有する硬化膜を得ることができる硬化性組成物、及びこの硬化性組成物を用いた硬化膜の形成方法を提供することである。

上記課題を解決するためになされた発明は、白色顔料、黒色顔料又はこれらの組み合わせである顔料、硬化性化合物、及び溶媒を含有し、上記溶媒を除く全成分に対する上記顔料の含有量が、５０質量％以上９０質量％以下であり、上記溶媒の比誘電率が、６．０以下である硬化性組成物である。

上記課題を解決するためになされた別の発明は、（１）基板上に、凸部を有するテンプレートを形成する工程、（２）上記テンプレートの凸部間に、当該硬化性組成物により塗膜を形成する工程、及び（３）上記塗膜を硬化させる工程を備える硬化膜の形成方法である。

本発明によれば、塗布性及びパターニング性に優れ、良好な遮光性を有する硬化膜を得ることができる硬化性組成物、及びこの硬化性組成物を用いた硬化膜の形成方法を提供することができる。

図１は、マイクロＬＥＤディスプレーの構造の一例を説明するための模式的説明図である。 図２は、本発明の一実施形態における硬化膜の形成方法の第１の説明図である。 図３は、本発明の一実施形態における硬化膜の形成方法の第２の説明図である。

以下、本発明の一実施形態に係る硬化性組成物及び硬化膜の形成方法について詳説する。

＜硬化性組成物＞
本発明の一実施形態に係る硬化性組成物は、
［Ａ］白色顔料、黒色顔料又はこれらの組み合わせである顔料、
［Ｂ］硬化性化合物、及び
［Ｃ］溶媒
を含有する。当該硬化性組成物において、［Ｃ］溶媒を除く全成分に対する［Ａ］顔料の含有量は、５０質量％以上９０質量％以下である。また、［Ｃ］溶媒の比誘電率は、６．０以下である。

当該硬化性組成物は、塗布性及びパターニング性に優れ、良好な遮光性を有する硬化膜を得ることができる。具体的には、上述のテンプレートの凸部間に硬化性組成物の塗布により塗膜を形成し、この塗膜を硬化させることで硬化膜を得る方法において、当該硬化性組成物を用いることで、上記効果が好適に発現される。なお、パターニング性に優れるとは、例えば、現像工程を経てパターニングされた硬化膜を得る場合、硬化膜の剥がれやクラックの発生が少なく、良好な形状の硬化膜が得られることなどをいう。当該硬化性組成物が上記効果を発揮することができる理由は定かではないが、以下の理由が推測される。硬化性組成物の溶媒として極性の高い溶媒を用いると、型となるテンプレートを溶解してしまい、塗布性やパターニング性が悪化する。これに対し、当該硬化性組成物においては、比誘電率が６．０以下の極性の低い［Ｃ］溶媒を用いているため、テンプレートの溶解が生じ難く、塗布性やパターニング性が改善される。また、比誘電率が６．０以下の極性の低い［Ｃ］溶媒を用いているため、当該硬化性組成物は、テンプレートの凸部間への濡れ広がりも良好である。さらに、当該硬化性組成物は、［Ａ］顔料の含有量が高いため、得られる硬化膜の遮光性が良好である。従って、当該硬化性組成物によれば、マイクロＬＥＤディスプレー等に好適に適用可能な、比較的高さのある隔壁などの形成材料として効果的に用いることができる。なお、当該硬化性組成物から得られる硬化膜は、通常、白色、黒色又は灰色である。

当該硬化性組成物は、上記［Ａ］〜［Ｃ］成分の他、さらにその他の成分を含むことができる。以下、各成分について詳説する。

（［Ａ］顔料）
［Ａ］顔料は、白色顔料、黒色顔料又はこれらの組み合わせである。遮光性は、光反射率や光学濃度（ＯＤ値）で評価することができる。［Ａ］顔料は、１種又は２種以上を用いることができる。

（白色顔料）
白色顔料としては、例えば炭酸カルシウム、炭酸鉛、炭酸バリウム、硫酸バリウム、硫酸鉛、リン酸鉛、リン酸亜鉛、酸化チタン、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、酸化亜鉛、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化スズ、硫化亜鉛、硫化ストロンチウム、チタン酸ストロンチウム、タングステン酸バリウム、メタけい酸鉛、タルク、カオリン、クレイ、塩化酸化ビスマス、水酸化カルシウム、中空シリカ等を挙げることができる。

白色顔料としては、例えばカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．；Ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｄｙｅｒｓ ａｎｄ Ｃｏｌｏｕｒｉｓｔｓ 社発行）においてピグメントに分類されている化合物、即ち下記のようなカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）番号が付されているものを挙げることができる。

Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト１、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト２、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト３、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト４、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト５、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト６、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト６：１、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト７、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト８、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト１０、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト１１、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト１２、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト１３、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト１４、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト１６、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト１８、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト１８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト１９、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト２１、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト２５、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト２６、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト２７、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト２８、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト３０、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト３２、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト３３。

これらの白色顔料は、その表面をアルミナ、シロキサン、ジルコニア、酸化亜鉛等の他の金属で処理して用いることもできる。

これらの白色顔料の中でも、得られる硬化膜の遮光性（光反射性）を効果的に高めることができるなどの点から、酸化チタン及びチタン酸ストロンチウムが好ましい。酸化チタンの結晶型はルチル型が好ましい。

（黒色顔料）
黒色顔料としては、カーボンブラック、チタンブラック、アセチレンブラック、ランプブラック、ボーンブラック、黒鉛、鉄黒、アニリンブラック、シアニンブラック、ペリレンブラック等を挙げることができる。また、黒色顔料として、複数種の有色顔料を組み合わせて用いてもよい。

これらの黒色顔料の中でも、得られる硬化膜の遮光性を効果的に高めることができるなどの点から、カーボンブラックが好ましい。

カーボンブラックとしては、以下のような市販品を挙げることができる。
三菱化学社のＭＡ７、ＭＡ８、ＭＡ１１、ＭＡ７７、ＭＡ１００、ＭＡ１００Ｒ、ＭＡ１００Ｓ、ＭＡ２２０、ＭＡ２３０、ＭＡ６００、ＭＣＦ８８、＃５、＃１０、＃２０
、＃２５、＃３０、＃３２、＃３３、＃４０、＃４４、＃４５、＃４７、＃５０、＃５２、＃５５、＃６５０、＃７５０、＃８５０、＃９００、＃９５０、＃９６０、＃９７０、＃９８０、＃９９０、＃１０００、＃２２００、＃２３００、＃２３５０、＃２４００、＃２６００、＃２６５０、＃３０３０、＃３０５０、＃３１５０、＃３２５０、＃３４００、＃３６００、＃３７５０、＃３９５０、＃４０００、＃４０１０、ＯＩＬ７Ｂ、ＯＩＬ９Ｂ、ＯＩＬ１１Ｂ、ＯＩＬ３０Ｂ、ＯＩＬ３１Ｂ
デグサ社のＰｒｉｎｔｅｘ（登録商標、以下同じ。）３、Ｐｒｉｎｔｅｘ３ＯＰ、Ｐｒｉｎｔｅｘ３０、Ｐｒｉｎｔｅｘ３０ＯＰ、Ｐｒｉｎｔｅｘ４０、Ｐｒｉｎｔｅｘ４５、Ｐｒｉｎｔｅｘ５５、Ｐｒｉｎｔｅｘ６０、Ｐｒｉｎｔｅｘ７５、Ｐｒｉｎｔｅｘ８０、Ｐｒｉｎｔｅｘ８５、Ｐｒｉｎｔｅｘ９０、Ｐｒｉｎｔｅｘ Ａ、Ｐｒｉｎｔｅｘ Ｌ、Ｐｒｉｎｔｅｘ Ｇ、Ｐｒｉｎｔｅｘ Ｐ、Ｐｒｉｎｔｅｘ Ｕ、Ｐｒｉｎｔｅｘ Ｖ、ＰｒｉｎｔｅｘＧ、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ５５０、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ３５０、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ２５０、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ１００、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ６、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ５、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ４、Ｃｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ ＦＷ１、Ｃｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ ＦＷ２、Ｃｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ ＦＷ２Ｖ、Ｃｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ ＦＷ１８、Ｃｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ ＦＷ１８、Ｃｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ ＦＷ２００、Ｃｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ Ｓ１６０、Ｃｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ Ｓ１７０
キャボット社のＭｏｎａｒｃｈ（登録商標、以下同じ。）１２０、Ｍｏｎａｒｃｈ２８０、Ｍｏｎａｒｃｈ４６０、Ｍｏｎａｒｃｈ８００、Ｍｏｎａｒｃｈ８８０、Ｍｏｎａｒｃｈ９００、Ｍｏｎａｒｃｈ１０００、Ｍｏｎａｒｃｈ１１００、Ｍｏｎａｒｃｈ１３００、Ｍｏｎａｒｃｈ１４００、Ｍｏｎａｒｃｈ４６３０、ＲＥＧＡＬ（登録商標、以下同じ。）９９、ＲＥＧＡＬ９９Ｒ、ＲＥＧＡＬ４１５、ＲＥＧＡＬ４１５Ｒ、ＲＥＧＡＬ２５０、ＲＥＧＡＬ２５０Ｒ、ＲＥＧＡＬ３３０、ＲＥＧＡＬ４００Ｒ、ＲＥＧＡＬ５５Ｒ０、ＲＥＧＡＬ６６０Ｒ、ＢＬＡＣＫ ＰＥＡＲＬＳ４８０、ＰＥＡＲＬＳ１３０、ＶＵＬＣＡＮ（登録商標）ＸＣ７２Ｒ、ＥＬＦＴＥＸ（登録商標）−８、ＴＰＫ１０９９Ｒ、ＴＰＫ１１０４Ｒ、ＴＰＫ１２２７Ｒ
コロンビヤン カーボン社のＲＡＶＥＮ（登録商標、以下同じ。）１１、ＲＡＶＥＮ１４、ＲＡＶＥＮ１５、ＲＡＶＥＮ１６、ＲＡＶＥＮ２２ＲＡＶＥＮ３０、ＲＡＶＥＮ３５、ＲＡＶＥＮ４０、ＲＡＶＥＮ４１０、ＲＡＶＥＮ４２０、ＲＡＶＥＮ４５０、ＲＡＶＥＮ５００、ＲＡＶＥＮ７８０、ＲＡＶＥＮ８５０、ＲＡＶＥＮ８９０Ｈ、ＲＡＶＥＮ１０００、ＲＡＶＥＮ１０２０、ＲＡＶＥＮ１０４０、ＲＡＶＥＮ１０６０Ｕ、ＲＡＶＥＮ１０８０Ｕ、ＲＡＶＥＮ１１７０、ＲＡＶＥＮ１１９０Ｕ、ＲＡＶＥＮ１２５０、ＲＡＶＥＮ１５００、ＲＡＶＥＮ２０００、ＲＡＶＥＮ２５００Ｕ、ＲＡＶＥＮ３５００、ＲＡＶＥＮ５０００、ＲＡＶＥＮ５２５０、ＲＡＶＥＮ５７５０、ＲＡＶＥＮ７０００

その他の黒色顔料としては、国際公開第２０１７／１１０８９３号に記載の各黒色顔料を好適に用いることができる。また、黒色顔料として、複数種の有色顔料を組み合わせて用いる場合の有色顔料として、国際公開第２０１７／１１０８９３号に記載の有機着色顔料などを用いることができる。

［Ａ］顔料の平均粒子径の下限は、３０ｎｍが好ましく、５０ｎｍが好ましく、１００ｎｍがより好ましく、２００ｎｍがさらに好ましいこともある。一方、この上限は、７００ｎｍが好ましく、５００ｎｍがより好ましく、４００ｎｍがさらに好ましく、２００ｎｍがよりさらに好ましいこともある。なお、［Ａ］顔料が白色顔料である場合、平均粒子径は比較的大きい方が好ましい傾向にある。一方、［Ａ］顔料が黒色顔料である場合、平均粒子径は比較的小さい方が好ましい傾向にある。

［Ａ］顔料は、再結晶法、再沈殿法、溶剤洗浄法、昇華法、真空加熱法又はこれらの組み合わせにより精製して使用することができる。また、顔料は、所望により、その粒子表面を樹脂等で改質して使用してもよい。顔料の粒子表面を改質する樹脂としては、例えば、特開２００１−１０８８１７号公報に記載のビヒクル樹脂、又は市販の各種の顔料分散用の樹脂が挙げられる。また、顔料は、いわゆるソルトミリングにより、一次粒子を微細化して使用してもよい。ソルトミリングの方法としては、例えば、特開平０８−１７９１１１号公報に開示されている方法を採用することができる。

当該硬化性組成物における［Ｃ］溶媒を除く全成分に対する［Ａ］顔料の含有量、すなわち固形分中の含有量の下限は、５０質量％であり、６０質量％が好ましく、７０質量％がより好ましい。［Ａ］顔料の含有量を上記下限以上とすることで、得られる硬化膜の遮光性を高めることができる。一方、［Ａ］顔料の含有量の上限は、９０質量％であり、８５質量％が好ましい。［Ａ］顔料の含有量を上記上限以下とすることで、良好なパターニング性や硬化性が発現される。

（［Ｂ］硬化性化合物）
［Ｂ］硬化性化合物とは、硬化することができる化合物である。当該硬化性組成物は、［Ｂ］硬化性化合物を含有するため、良好な硬化性及びパターニング性を発揮することができる。［Ｂ］硬化性化合物としては、１又は２以上の重合性基を有する化合物が好ましく、２以上の重合性基を有する化合物がより好ましい。重合性基としては、例えばオキシラニル基、オキセタニル基等の環状エーテル基、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、Ｎ−アルコキシメチルアミノ基等を挙げることができる。これらの中でも、環員数３〜５の環状エーテル基が好ましく、オキシラニル基及びオキセタニル基がより好ましい。すなわち、［Ｂ］硬化性化合物は、オキシラニル基、オキセタニル基又はこれらの組み合わせを有することが好ましい。［Ｂ］硬化性化合物は、１種又は２種以上を用いることができる。［Ｂ］硬化性化合物は、［Ｂ１］樹脂（重合体）であってもよく、樹脂以外の［Ｂ２］化合物（単量体）であってもよい。［Ｂ１］樹脂と［Ｂ２］化合物とを併用してもよい。

（［Ｂ１］樹脂）
［Ｂ１］樹脂は、硬化することができる重合体である。［Ｂ１］樹脂は、１種又は複数種のエチレン性不飽和単量体（不飽和二重結合を有する単量体）の重合体であることが好ましい。［Ｂ１］樹脂は、１種又は２種以上を用いることができる。［Ｂ１］樹脂としては、重合性基を有する構造単位（Ｉ）を含む重合体を挙げることができる。

（構造単位（Ｉ））
構造単位（Ｉ）は、重合性基を有する構造単位である。この重合性基の具体例は、上述した通りである。

構造単位（Ｉ）を与える単量体としては、例えばグリシジルアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、３，４−エポキシトリシクロ［５．２．１．０^２，６］デシルアクリレート、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルアクリレート、２−（ビニロキシエトキシ）エチルアクリレート等のアクリル酸エステル；グリシジルメタクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメタクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、３，４−エポキシトリシクロ［５．２．１．０^２，６］デシルメタクリレート、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルメタクリレート、２−（ビニロキシエトキシ）エチルメタクリレート等のメタクリル酸エステル；ビニルグリシジルエーテル等のビニルエーテル化合物等が挙げられる。これらの単量体は、１種又は２種以上を用いることができる。

構造単位（Ｉ）は、重合体中の構造単位が有する特定の基に、上記特定の基と反応する基、及び重合性基である（メタ）アクリロイル基又はビニル基を有する化合物を反応させることによって得ることもできる。例えば、（１）カルボキシ基を有する重合体にオキシラニル基又はオキセタニル基含有不飽和化合物等を反応させる方法、（２）オキシラニル基又はオキセタニル基を有する重合体に（メタ）アクリル酸等を反応させる方法、（３）ヒドロキシ基を有する重合体にイソシアネート基を有する（メタ）アクリル酸エステルやビニル化合物を反応させる方法、（４）酸無水物部位を有する重合体に（メタ）アクリル酸等を反応させる方法等が挙げられる。このような方法により、重合性基としての（メタ）アクリロイル基やビニル基を有する構造単位（Ｉ）を導入することができる。

構造単位（Ｉ）としては、環員数３〜５の環状エーテル基を含む構造単位が好ましく、オキシラニル基又はオキセタニル基を含む構造単位がより好ましく、オキシラニル基を含む構造単位がさらに好ましい。また、構造単位（Ｉ）としては、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位が好ましく、グリシジル（メタ）アクリレートに由来する構造単位がより好ましい。

［Ｂ１］樹脂の全構造単位に対する構造単位（Ｉ）の含有量の下限は、２モル％が好ましく、５モル％がより好ましい。一方、この構造単位（Ｉ）の含有量の上限は、６０モル％が好ましく、５０モル％がより好ましく、３５モル％又は２５モル％がさらに好ましいこともある。

（構造単位（ＩＩ））
［Ｂ１］樹脂は、炭素数８以上３０以下の炭化水素基を有する構造単位（ＩＩ）を含むことが好ましい。［Ｂ１］樹脂が構造単位（ＩＩ）を含むことで、［Ｂ１］樹脂の［Ｃ］溶媒への溶解性が向上する。このため、当該硬化性組成物は構造単位（ＩＩ）を含む［Ｂ１］樹脂を含有することにより、塗布性等が高まる。

炭素数８以上３０以下の炭化水素基としては、脂肪族鎖状炭化水素基及び脂肪族環状炭化水素基等の炭素数８以上３０以下の脂肪族炭化水素基、並びに炭素数８以上３０以下の芳香族炭化水素基が挙げられる。

炭素数８以上３０以下の脂肪族鎖状炭化水素基としては、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基（ステアリル基）、テトラコサニル基等のアルキル基；
オクテニル基、デセニル基、オクタデセニル基等のアルケニル基；
オクチニル基、デシニル基、オクタデシニル基等のアルキニル基などを挙げることができる。

炭素数８以上３０以下の脂肪族環状炭化水素基としては、シクロヘキサデカニル基等のシクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基等を挙げることができる。

炭素数８以上３０以下の芳香族炭化水素基としては、ナフチル基、アントラセニル基、キシリル基等を挙げることができる。

これらの中でも、脂肪族炭化水素基が好ましく、脂肪族鎖状炭化水素基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。また、この炭化水素基の炭素数の下限としては、１２が好ましく、１５がより好ましい。一方、この炭素数の上限としては、２５が好ましく、２０がより好ましい。

構造単位（ＩＩ）を与える単量体としては、例えばオクチルアクリレート、デシルアクリレート、オクタデシルアクリレート（ステアリルアクリレート）、テトラコサニルアクリレート、ナフチルアクリレート等のアクリル酸エステル；オクチルメタクリレート、デシルメタクリレート、オクタデシルメタクリレート（ステアリルメタクリレート）、テトラコサニルメタクリレート、ナフチルメタクリレート等のメタクリル酸エステル；オクタデシルビニルエーテル等のビニルエーテル化合物等を挙げることができる。これらの単量体は、１種又は２種以上を用いることができる。

［Ｂ１］樹脂の全構造単位に対する構造単位（ＩＩ）の含有量の下限は、２０モル％が好ましく、４０モル％がより好ましく、５０モル％がさらに好ましい。一方、この構造単位（ＩＩ）の含有量の上限は、８５モル％が好ましく、７５モル％がより好ましく、７０モル％がさらに好ましい。

（構造単位（ＩＩＩ））
［Ｂ１］樹脂は、カルボキシ基又は水酸基を有する構造単位（ＩＩＩ）をさらに含むことが好ましい。［Ｂ１］樹脂が構造単位（ＩＩＩ）を含むことで、パターニング性をより改善することなどができる場合がある。構造単位（ＩＩＩ）としては、カルボキシ基を有する構造単位がより好ましい。

構造単位（ＩＩＩ）を与える単量体としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、４−ビニル安息香酸等の不飽和モノカルボン酸；
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等の不飽和ジカルボン酸；
上記不飽和ジカルボン酸の無水物；
４−ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリル酸エステル；
ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、４−（ビニルフェニル）メタノール等の水酸基を有するビニル化合物等を挙げることができる。これらの単量体は、１種又は２種以上を用いることができる。

［Ｂ１］樹脂の全構造単位に対する構造単位（ＩＩＩ）の含有量の下限は、１モル％が好ましく、５モル％がより好ましい。一方、この構造単位（ＩＩＩ）の含有量の上限は、３０モル％が好ましく、２０モル％がより好ましい。

（構造単位（ＩＶ））
［Ｂ１］樹脂は、上記構造単位（Ｉ）〜（ＩＩＩ）以外の炭素数１以上７以下の炭化水素基を有する構造単位（ＩＶ）をさらに含むことが好ましい。［Ｂ１］樹脂が構造単位（ＩＶ）を含むことで、塗布性やパターニング性をより改善することなどができる。

炭素数１以上７以下の炭化水素基は、脂肪族炭化水素基及び芳香族炭化水素基のいずれであってもよい。炭素数１以上７以下の炭化水素基としては、炭素数１以上７以下の脂肪族鎖状炭化水素基、炭素数３以上７以下の脂肪族環状炭化水素基、及び炭素数６以上７以下の芳香族炭化水素基が挙げられる。

炭素数１以上７以下の脂肪族鎖状炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基等のアルキル基、ビニル基等のアルケニル基、エチニル基等のアルキニル基等を挙げることができる。

炭素数３以上７以下の脂肪族環状炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。

炭素数６以上７以下の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ベンジル基等を挙げることができる。

これらの中でも、脂肪族炭化水素基が好ましく、脂肪族鎖状炭化水素基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。また、三級の炭化水素基であることも好ましい。この炭化水素基の炭素数の下限としては、２が好ましく、３がより好ましく、４がさらに好ましい。一方、この炭素数の上限としては、６が好ましく、５がより好ましく、４がさらに好ましい。

構造単位（ＩＶ）を与える単量体としては、例えばメチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、スチレン等を挙げることができる。これらの単量体は、１種又は２種以上を用いることができる。

［Ｂ１］樹脂の全構造単位に対する構造単位（ＩＶ）の含有量の下限は、１モル％が好ましく、５モル％がより好ましい。一方、この構造単位（ＩＶ）の含有量の上限は、３０モル％が好ましく、２０モル％がより好ましい。

（構造単位（Ｖ））
［Ｂ１］樹脂は、上記構造単位（Ｉ）〜（ＩＶ）以外の構造単位（Ｖ）をさらに含んでいてもよい。

構造単位（Ｖ）を与える単量体としては、例えばＮ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド化合物、ポリエチレングリコールメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。これらの単量体は、１種又は２種以上を用いることができる。

［Ｂ１］樹脂の全構造単位に対する構造単位（Ｖ）の含有量の上限は、３０モル％が好ましく、１０モル％がより好ましく、３モル％がさらに好ましいこともある。

［Ｂ１］樹脂は、例えば上記各単量体をラジカル重合等の公知の方法により重合することにより得ることができる。

（［Ｂ２］化合物）
［Ｂ２］化合物は、重合体以外の、硬化することができる化合物である。［Ｂ２］化合物は、１又は２以上の重合性基を有することが好ましい。重合性基の具体例は、上述した通りである。［Ｂ２］化合物が有する重合性基としては、オキセタニル基であることが特に好ましい。［Ｂ２］化合物は、１種又は２種以上を用いることができる。

［Ｂ２］化合物としては、環員数３〜５の環状エーテル基又は（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましく、オキシラニル基又はオキセタニル基を有する化合物がより好ましく、オキセタニル基を有する構造単位がさらに好ましい。

オキシラニル基を有する化合物としては、例えば
ブチルグリシジルエーテル、ペンチルグリシジルエーテル、ヘキシルグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル類；
グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジルエステル類；
ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル等のビスフェノール型ジグリシジルエーテル類；
１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル類等を挙げることができる。

オキセタニル基を有する化合物としては、例えば
３，３−ジメチルオキセタン、３，３−ジエチルオキセタン、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−メトキシメチルオキセタン、３−エチル−３−［（２−エチルヘキシロキシ）メチル］オキセタン、キシリレンビスオキセタン、３−エチル−３｛［（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ］メチル｝オキセタン、イソフタル酸ビス［（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル］、１，４−ビス［（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシメチル］ベンゼン、１，３−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］プロパン、エチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル等を挙げることができる。

また、オキシラニル基又はオキセタニル基を有する化合物としては、
３−（パーフルオロプロピル）プロペン−１，２−オキシド、３−（パーフルオロヘキシル）プロペン−１，２−オキシド等のフッ素化炭化水素基を有する化合物；
２−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のシラン化合物等も用いることができる。

オキセタニル基を有する化合物の中でも、３−エチル−３−［（２−エチルヘキシロキシ）メチル］オキセタン、３−エチル−３｛［（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ］メチル｝オキセタン等、エーテル結合（−Ｏ−）を有する化合物がより好ましく、オキセタニル基と、炭化水素基と、エーテル結合とで構成されている化合物がより好ましい。

（メタ）アクリロイル基を有する化合物としては、例えば
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレンジ（メタ）アクリレート、トリプロピレンジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカンジメタノールジ（メタ）アクリレート等のジ（メタ）アクリレート化合物；
トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート化合物；
ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等のテトラ（メタ）アクリレート化合物；
ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等のペンタ（メタ）アクリレート化合物等を挙げることができる。

また、上述した［Ｂ１］樹脂の各構造単位を与える単量体の中の、（メタ）アクリル酸エステル類として例示した化合物も、（メタ）アクリロイル基を有する化合物として用いることができる。

［Ｂ２］化合物が１分子中に有する重合性基の数としては、１〜３が好ましく、１及び２がより好ましく、２がさらに好ましい。

当該硬化性組成物における［Ｃ］溶媒を除く全成分に対する［Ｂ］硬化性化合物の含有量、すなわち固形分中の含有量の下限としては、３質量％が好ましく、５質量％がより好ましく、１０質量％、１５質量％又は２０質量％がさらに好ましいこともある。一方、この［Ｂ］硬化性化合物の含有量の上限としては、４０質量％が好ましく、３０質量％がより好ましく、２０質量％又は１０質量％がさらに好ましいこともある。［Ｂ］硬化性化合物の含有量を上記範囲とすることで、良好な硬化性が発現でき、また、得られる硬化膜のパターン形状も十分なものとなる。なお、［Ａ］顔料として白色顔料を用いた場合は、［Ｂ］硬化性化合物の含有量は比較的多くした方が好ましい傾向にある。一方、［Ａ］顔料として黒色顔料を用いた場合は、［Ｂ］硬化性化合物の含有量は比較的少なくした方が好ましい傾向にある。

（［Ｃ］溶媒）
［Ｃ］溶媒は、比誘電率が６．０以下である溶媒である。［Ｃ］溶媒の比誘電率の上限としては、５が好ましく、３がより好ましい。一方、この比誘電率の下限は、例えば１．０であり、１．５であってもよい。［Ｃ］溶媒は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。［Ｃ］溶媒として２種以上の溶媒を混合して用いる場合、比誘電率は全溶媒の加重平均値とする。

［Ｃ］溶媒としては、例えば炭化水素が挙げられる。炭化水素としては、脂肪族炭化水素及び芳香族炭化水素のいずれであってもよい。

脂肪族炭化水素としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカン、イコサン等のアルカン、ヘプテン、オクテン、ドデセン、テトラデセン、イコセン等のアルケン等の脂肪族鎖状炭化水素；
シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロへプタン、シクロオクタン、シクロデカン、シクロテトラデカン、シクロイコサン、メチルシクロへキサン等のシクロアルカン、シクロヘプテン、シクロテトラデセン等のシクロアルケン等の脂肪族環状炭化水素を挙げることができる。

芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等を挙げることができる。

これらの中でも、脂肪族炭化水素が好ましく、アルカン及びシクロアルカンがより好ましく、アルカンがさらに好ましい。

また、［Ｃ］溶媒の炭素数の下限としては、５が好ましく、８がより好ましく、１２がさらに好ましい。一方、この炭素数の上限としては、２０が好ましく、１６がより好ましい。炭素数が上記範囲の溶媒を用いることで、揮発性、塗布性等がより良好になる。

当該硬化性組成物における［Ｃ］溶媒の含有量は、特に限定されるものではない。当該硬化性組成物における固形分濃度（［Ｃ］溶媒を除いた各成分の合計濃度）の下限としては、２０質量％が好ましく、４０質量％がより好ましく、５０質量％がさらに好ましく、６０質量％がよりさらに好ましい。一方、この固形分濃度の上限としては、８０質量％が好ましく、７０質量％がより好ましい。固形分濃度を上記範囲とすることにより、塗布性、特にインクジェット法による塗布を行う際の塗布性等がより良好なものとなる。

（［Ｄ］重合開始剤）
当該硬化性組成物は、［Ｄ］重合開始剤をさらに含むことが好ましい。この［Ｄ］重合開始剤は、熱酸発生剤、熱ラジカル発生剤又はこれらの組み合わせであることが好ましい。当該硬化性組成物が［Ｄ］重合開始剤をさらに含むことにより、塗膜中の［Ｂ］硬化性化合物の硬化反応（重合反応）が効果的に進むことなどにより、よりパターニング性等に優れた、良好な硬化膜を形成することができる。

熱酸発生剤としては、スルホニウム塩、ベンゾチアゾリウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩などのオニウム塩等のイオン性の熱酸発生剤や、ハロゲン含有化合物、ジアゾメタン化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、カルボン酸エステル化合物、リン酸エステル化合物、スルホンイミド化合物、スルホンベンゾトリアゾール化合物等の非イオン性の熱酸発生剤を挙げることができる。熱酸発生剤としては、イオン性の熱酸発生剤が好ましい。

イオン性の熱酸発生剤の具体例としては、トリフェニルスルホニウム、１−ジメチルチオナフタレン、１−ジメチルチオ−４−ヒドロキシナフタレン、１−ジメチルチオ−４，７−ジヒドロキシナフタレン、４−ヒドロキシフェニル−ジメチルスルホニウム、４−ヒドロキシフェニル−メチル−ベンジルスルホニウム、２−メチルベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、２−メチルベンジル−４−アセチルフェニルメチルスルホニウム、２−メチルベンジル−４−ベンゾイルオキシフェニルメチルスルホニウム、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウム、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウム等のメタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、カンファースルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩、ヘキサフルオロホスホン酸塩、テトラフルオロホウ酸塩、テトラフェニルホウ酸塩、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸塩、ヘキサフルオロリン酸、トリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロリン酸塩等が挙げられる。

熱ラジカル発生剤としては、アルキル過酸化物、アシル過酸化物、ケトン過酸化物、アルキルヒドロ過酸化物、ペルオキシ２炭酸塩、スルホニル過酸化物等の有機過酸化物類、無機過酸化物類、アゾニトリル等のアゾ化合物類、スルフィン酸類、ビスアジド類、ジアゾ化合物等を挙げることができる。

熱ラジカル発生剤の具体例としては、クメンヒドロペルオキシド、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ジ−ｔ−ブチルペルオキシド、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、ペルオキソ２硫酸塩、過酸化水素、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過硼酸塩、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、１，１’−アゾビス（１−シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、ジメチル−２，２’−アゾイソビスブチレート、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）２炭酸塩、アゾビスシアノ吉草酸ナトリウム、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス〔２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン〕、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−〔１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル〕プロピオンアミド］、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−〔１，１−ビス（ヒドロキシメチル）エチル〕プロピオンアミド］、２，２’−アゾビス〔２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド〕、２，２’−アゾビス（２−シアノプロパノール）、２，２’−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）、ｐ−トルエンスルフィン酸ナトリウム、２，２’−アゾビス（イソ酪酸メチル）等を好適に使用することができる。

当該硬化性組成物における［Ｃ］溶媒を除く全成分に対する［Ｄ］重合開始剤の含有量、すなわち固形分中の含有量の下限としては、０．０１質量％が好ましく、０．０５質量％がより好ましい。一方、この［Ｄ］重合開始剤の含有量の上限としては、５質量％が好ましく、３質量％がより好ましい。また、［Ｂ］硬化性化合物に対する［Ｄ］重合開始剤の含有量としては、例えば１質量％以上２０質量％以下が好ましい。［Ｄ］重合開始剤の含有量を上記範囲とすることで、良好なパターニング性及び硬化性が発現でき、得られる硬化膜のパターン形状も十分なものとなる。

（［Ｅ］フッ素樹脂）
当該硬化性組成物は、［Ｅ］フッ素樹脂をさらに含むことが好ましい。当該硬化性組成物が［Ｅ］フッ素樹脂を含むことにより、得られる硬化膜の撥液性を高めることができる。なお、硬化膜の撥液性が高い場合、隔壁としての硬化膜間に塗布により波長変換層等の層を形成する際の塗布性を高めること、塗布後の硬化膜の形状を良好にすることなどができる。［Ｅ］フッ素樹脂は、フッ素を含む基を有する構造単位（ＶＩ）を含む。［Ｅ］フッ素樹脂は、１種又は複数種のエチレン性不飽和単量体（不飽和二重結合を有する単量体）の重合体であることが好ましい。［Ｅ］フッ素樹脂は、１種又は２種以上を用いることができる。

（構造単位（ＶＩ））
構造単位（ＶＩ）は、フッ素を含む基を有する構造単位である。フッ素を含む基としては、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された炭化水素基を挙げることができ、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１以上２０以下のアルキル基、及び少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数４以上２０以下の１価のシクロアルキル基が好ましく、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１以上２０以下のアルキル基がより好ましい。

フッ素を含む基の炭素数の下限としては、４が好ましく、６がより好ましい。この上限としては、１６が好ましく、１２がより好ましい。フッ素を含む基のフッ素数の下限は１であるが、３が好ましく、５がより好ましい。この上限としては、例えば３０であり、２０であってよい。

少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１以上２０以下のアルキル基としては、上述したアルキル基のうちの炭素数が１以上２０以下のものにおける水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換された部分フッ素化アルキル基、パーフルオロアルキル基等が挙げられる。

少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数４以上２０以下の１価のシクロアルキル基としては、上述したシクロアルキル基のうちの炭素数が４以上２０以下のものにおける水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換された部分フッ素化シクロアルキル基、パーフルオロシクロアルキル基等が挙げられる。

構造単位（ＶＩ）を与える単量体としては、トリフルオロメチル（メタ）アクリレート、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロｎ−プロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロイソプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロｎ−ブチル（メタ）アクリレート、パーフルオロイソブチル（メタ）アクリレート、パーフルオロｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−（１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロピル）（メタ）アクリレート、１−（２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチル）（メタ）アクリレート、パーフルオロシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、１−（２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル）（メタ）アクリレート、１−（３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカンフルオロオクチル）（メタ）アクリレート、１−（３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシル）（メタ）アクリレート、１−（５−トリフルオロメチル−３，３，４，４，５，６，６，６−オクタフルオロヘキシル）（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸フッ素化炭化水素エステルなどを挙げることができる。これらの単量体は、１種又は２種以上を用いることができる。

［Ｅ］フッ素樹脂の全構造単位に対する構造単位（ＶＩ）の含有量の下限は、５モル％が好ましく、１０モル％がより好ましく、２０モル％がさらに好ましい。一方、この構造単位（ＩＩ）の含有量の上限は、６０モル％が好ましく、５０モル％がより好ましく、４０モル％がさらに好ましい。

（構造単位（Ｉ））
［Ｅ］フッ素樹脂は、重合性基を有する構造単位（Ｉ）を含むことが好ましい。なお、当該硬化性組成物において、［Ｂ１］樹脂と［Ｅ］フッ素樹脂とを併用する場合、重合性基を有する構造単位（Ｉ）とフッ素を含む基を有する構造単位（ＩＶ）とを有する樹脂は、［Ｅ］フッ素樹脂に該当するものとする。一方、重合性基を有する構造単位（Ｉ）を有する樹脂が、フッ素を含む樹脂のみである場合、この樹脂は［Ｂ１］樹脂である。［Ｅ］フッ素樹脂が構造単位（Ｉ）を含むことで、当該硬化性組成物の硬化性やパターニング性がより向上する。この構造単位（Ｉ）の具体的態様及び好適な態様は、［Ｂ１］樹脂の構造単位（Ｉ）として説明したものと同様である。

［Ｅ］フッ素樹脂の全構造単位に対する構造単位（Ｉ）の含有量の下限は、５モル％が好ましく、１０モル％がより好ましい。一方、この構造単位（Ｉ）の含有量の上限は、５０モル％が好ましく、４０モル％がより好ましく、２５モル％がさらに好ましい。

（構造単位（ＩＩ））
［Ｅ］フッ素樹脂は、炭素数８以上３０以下の炭化水素基を有する構造単位（ＩＩ）を含むことが好ましい。［Ｅ］フッ素樹脂が構造単位（ＩＩ）を含むことで、［Ｅ］フッ素樹脂の溶解性が低下するため、当該硬化性組成物のパターニング性等が高まる。この構造単位（ＩＩ）の具体的態様及び好適な態様は、［Ｂ１］樹脂の構造単位（ＩＩ）として説明したものと同様である。

［Ｅ］フッ素樹脂の全構造単位に対する構造単位（ＩＩ）の含有量の下限は、１０モル％が好ましく、２０モル％がより好ましく、３０モル％がさらに好ましい。一方、この構造単位（ＩＩ）の含有量の上限は、７０モル％が好ましく、６０モル％がより好ましく、５０モル％がさらに好ましい。

（構造単位（ＩＩＩ））
［Ｅ］フッ素樹脂は、カルボキシ基又は水酸基を有する構造単位（ＩＩＩ）をさらに含むことが好ましい。［Ｅ］フッ素樹脂が構造単位（ＩＩＩ）を含むことで、塗布性やパターニング性をより改善することなどができる。この構造単位（ＩＩＩ）の具体的態様及び好適な態様は、［Ｂ１］樹脂の構造単位（ＩＩＩ）として説明したものと同様である。

［Ｅ］フッ素樹脂の全構造単位に対する構造単位（ＩＩＩ）の含有量の下限は、２モル％が好ましく、５モル％がより好ましい。一方、この構造単位（ＩＩＩ）の含有量の上限は、３０モル％が好ましく、２０モル％がさらに好ましい。

（その他の構造単位）
［Ｅ］フッ素樹脂は、さらにその他の構造単位を含むことができる。このような構造単位としては、［Ｂ１］樹脂における構造単位（ＩＶ）や構造単位（Ｖ）を挙げることができる。

［Ｅ］フッ素樹脂の全構造単位に対するその他の構造単位の含有量の下限は、０モル％であってよいが、１モル％であってもよい。この上限は、３０モル％が好ましく、１０モル％がより好ましく、３モル％がさらに好ましいこともある。

［Ｅ］フッ素樹脂は、例えば上記各単量体をラジカル重合等の公知の方法により重合することにより得ることができる。

当該硬化性組成物における［Ｃ］溶媒を除く全成分に対する［Ｅ］フッ素樹脂の含有量、すなわち固形分中の含有量の下限としては、０．１質量％が好ましく、０．５質量％がより好ましく、１質量％がさらに好ましい。一方、この［Ｅ］フッ素樹脂の含有量の上限としては、１０質量％が好ましく、５質量％がより好ましく、３質量％がさらに好ましい。

（［Ｆ］分散剤）
当該硬化性組成物は、［Ｆ］分散剤をさらに含んでいてもよい。当該硬化性組成物が［Ｆ］分散剤をさらに含むことにより、［Ａ］顔料の分散性が向上し、得られる硬化膜の遮光性等をより高めることができる。

［Ｆ］分散剤としては、公知のポリエステル系分散剤、ポリウレタン系分散剤、ノニオン系界面活性剤分散剤、ポリエーテル系分散剤、リン酸エステル系分散剤などが挙げられる。［Ｆ］分散剤は、１種又は２種以上を用いることができる。

分散剤の市販品としては、例えばＤｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０８、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０９、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−２０５５、ＡＮＴＩ−ＴＥＲＲＡＲ−２０４、ＢＹＫ−Ｗ９６６（以上、ビックケミー（ＢＹＫ）社製）や、アジスパーＰＮ４１１、ＰＡ１１１（以上、味の素ファインテクノ社製）などを使用することができる。

当該硬化性組成物における［Ａ］顔料１００質量部に対する［Ｆ］分散剤の含有量の含有量の下限としては、０．５質量部が好ましく、２質量部がより好ましい。一方、この含有量の上限としては、５０質量部が好ましく、３０質量部がより好ましい。

（その他の添加剤）
当該硬化性組成物は、必要に応じて、［Ａ］〜［Ｆ］成分以外のその他の添加剤を含有することもできる。添加剤としては、例えば［Ａ］顔料以外の着色剤、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤、残渣改善剤、現像性改善剤等を挙げることができる。但し、当該硬化性組成物における［Ｃ］溶媒を除く全成分に対する上記その他の添加剤の含有量の上限としては、１０質量％が好ましいこともあり、１質量％がより好ましいこともある。

［Ａ］顔料以外の着色剤としては、蛍光染料、青色染料、紫色染料、赤色染料等の染料を挙げることができる。上記染料は、その構造からは、ペリレン染料、アントラキノン染料、トリアリールメタン染料、フタロシアニン染料、キサンテン染料、ジピロメテン染料等に分類することができる。

ペリレン染料としては、例えばＣ．Ｉ．ソルベントオレンジ５５の他、Ｌｕｍｏｇｅｎ Ｙｅｌｌｏｗ ０８３、Ｌｕｍｏｇｅｎ Ｏｒａｎｇｅ ２４０、Ｌｕｍｏｇｅｎ Ｒｅｄ ３０５（以上、ＢＡＳＦ社製）を挙げることができる。アントラキノン染料としては、例えば特開２０１３−０５３２９２号公報の段落［００４９］〜［００６４］に記載の化合物を挙げることができ、中でもＣ．Ｉ．ソルベントブルー３５、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー４５、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー８０、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー１０４、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー１２２が好ましい。トリアリールメタン染料としては、例えば特開２０１３−１４４７２４号公報の段落［００４８］〜［００６４］に記載の化合物を挙げることができる。フタロシアニン染料としては、例えば特開２００７−０９４１８１号公報の段落［０１００］〜［０１８８］に記載の化合物を挙げることができ、中でもＣ．Ｉ．ソルベントブルー３８、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー７０が好ましい。キサンテン染料としては、例えば特開２０１３−０５３２９２号公報の段落［００１０］〜［００４８］に記載の化合物を挙げることができるが、中でも、酸性キサンテン染料が好ましい。ジピロメテン染料としては、例えば特開２０１０−０８５４５４号公報の段落［００１７］〜［０１０５］に記載の化合物、特開２０１１−１６４５９４号公報の段落［００１４］〜［００９５］に記載の化合物、特開２０１２−１４０５８６号公報の段落［００２５］〜［００５８］に記載の化合物を挙げることができる。なお、「酸性染料」とは、アニオン部が発色団となるイオン性染料を意味し、分子内塩を形成しているイオン性染料も酸性染料に包含されるものとする。例えば「酸性キサンテン染料」とは、キサンテン発色団がアニオン性であって対カチオンを有している化合物であるか、キサンテン発色団が分子内塩を形成している化合物を意味する。

当該硬化性組成物は、実質的に感放射線性（放射線の照射により硬化する性質）を有していなくてよい。すなわち、当該硬化性組成物は、例えば光酸発生剤、光ラジカル発生剤等の光重合開始剤を含まなくてよい。但し、当該硬化性組成物は、放射線が照射された部分の硬化が促進されてもよい。

（調製方法）
当該硬化性組成物の調製方法としては、特に限定されず、各成分を混合することによって調製することができる。例えば以下の方法により調製することができる。まず、［Ａ］顔料を［Ｃ］溶媒中、［Ｆ］分散剤の存在下で、粉砕しつつ混合及び分散させて顔料分散液を得る。この操作は、例えばビーズミル、ロールミル等を用いて行うことができる。得られた顔料分散液にその他の成分、並びに必要に応じてさらに［Ｃ］溶媒を添加し、混合することにより当該硬化性組成物を得ることができる。当該硬化性組成物は、必要に応じろ過処理を施し、凝集物を除去することができる。

（用途）
当該硬化性組成物は、塗布性及びパターニング性に優れ、良好な遮光性を有する硬化膜を得ることができる。従って、当該硬化性組成物は、硬化膜の形成材料として好適に用いることができ、表示素子又は固体撮像素子の硬化膜の形成材料としてより好適に用いることができる。この表示素子又は固体撮像素子の硬化膜の中でも、隔壁の形成材料として特に好適に用いることができる。

上記表示素子又は固体撮像素子の硬化膜である隔壁は、バンク、ブラックマトリクス等とも称される。上記隔壁としては、マイクロＬＥＤディスプレーにおける各マイクロＬＥＤ、波長変換層等の間に設けられる隔壁（図１参照）、液晶表示素子における各カラーフィルタ等の間に設けられる隔壁、固体撮像素子における各フォトダイオード、カラーフィルタ等の間等に設けられる隔壁などを挙げることができる。これらの中でも、マイクロＬＥＤディスプレーにおける隔壁として好適に用いることができる。さらに、マイクロＬＥＤディスプレーにおいて、各領域がマイクロＬＥＤと波長変換層とを含む構造で構成された領域を有する領域間に設けられる隔壁としてより好適に用いることができる（図１参照）。このマイクロＬＥＤディスプレーにおいて、上記マイクロＬＥＤと波長変換層とを含む隔壁間の領域には、さらにカラーフィルタ層等の他の層が設けられていてもよい。

（硬化膜の形成方法）
当該硬化性組成物を用いた硬化膜の形成方法の一例は、
（１）基板上に、凸部を有するテンプレートを形成する工程、
（２）上記テンプレートの凸部間に、当該硬化性組成物により塗膜を形成する工程、及び
（３）上記塗膜を硬化させる工程
を備える。当該硬化膜の形成方法は、
（４）上記テンプレートの凸部を除去する工程
をさらに備えることが好ましい。

当該硬化性組成物を用いた硬化膜の形成方法によれば、塗布性及びパターニング性に優れ、良好な遮光性を有する硬化膜を得ることができる。

（１）テンプレート形成工程
基板上に、凸部を有するテンプレートを形成する工程は、好ましくは
（１−１）感放射線性組成物によりテンプレート用塗膜を形成する工程、
（１−２）放射線を照射する工程、及び
（１−３）現像によりテンプレートを得る工程
から構成される。

（１−１）テンプレート用塗膜形成工程
テンプレート用塗膜形成工程は、感放射線性組成物により、撥液性の表面を有するテンプレート用塗膜を形成する工程である。感放射線性組成物は、通常、酸解離性基を有する重合体（以下「［ａ］重合体」ともいう。）及び感放射線性酸発生剤（以下「［ｂ］酸発生剤」ともいう。）を含む。酸解離性基とは、例えばフェノール性水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基等の酸性官能基中の水素原子を置換した基をいい、酸の存在下で解離する基をいう。この感放射線性組成物については後に詳述する。工程（１−１）は、具体的には、図２（ａ）に示すように、基板１０表面への感放射線性組成物の塗布により、テンプレート用塗膜１１を形成する。

基板１０の材質としては、例えばガラス、石英、シリコン、樹脂等を挙げることができる。樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミド、環状オレフィンの開環重合体（ＲＯＭＰポリマー）、ポリアクリレート、ＡＢＳ樹脂、ＡＥＳ樹脂等を挙げることができる。

基板１０としては、従来の樹脂製基板、ガラス基板及び半導体基板が好ましい。このような基板を用いることで、得られる積層パターンをそのまま、液晶表示素子や固体撮像素子等の光学用途等に用いることができる。

なお、基板１０に感放射線性組成物を塗布する前に、必要に応じて基板１０表面に前処理を施してもよい。前処理としては、洗浄、粗面化処理等を挙げることができる。

感放射線性組成物の塗布方法としては特に限定されず、はけやブラシを用いた塗布法、ディッピング法、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法（スピンコート法）、スリットダイ塗布法、バー塗布法、フレキソ印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷、ディスペンス法等の公知の方法を挙げることができる。

感放射線性組成物の塗布後、好ましくはテンプレート用塗膜１１を加熱（プレベーク）する。加熱条件は、感放射線性組成物の組成等によって異なるが、例えば６０℃以上１２０℃以下、１分以上１０分以下程度である。

得られるテンプレート用塗膜１１の平均厚みは、用途等に応じて適宜調整することができるが、この下限としては０．０５μｍが好ましく、０．１μｍがより好ましい。一方、この上限としては３０μｍが好ましく、１５μｍがより好ましい。

（１−２）放射線照射工程
放射線照射工程は、図２（ｂ）に示すように、テンプレート用塗膜１１の一部の表面領域へ放射線（ｈν）を照射（露光）する工程である。これにより、親液性表面を含む層１２が形成される。なお、感放射線性組成物から得られるテンプレート用塗膜１１の表面は、撥液性を有しており、放射線が照射された領域が親液性表面を含む層１２となる。また、このテンプレート用塗膜１１における親液性表面を含む層１２は、アルカリ可溶性の層である。一方、放射線が照射されていない領域は撥液性表面を含む層１３である。

なお、親液性表面を含む層とは、例えばテトラデカンに対する接触角が、撥液性表面のテトラデカンに対する接触角よりも３０°以上小さくなる領域をいう。このような接触角差が存在すれば、親液性表面を含む層は、テンプレート用塗膜由来の領域である必要はない。つまり、現像によりテンプレート用塗膜が除去され、基板表面が露出した場合、基板表面が親液性表面を含む層となる。基板表面の露出は、全部であっても良いが、一部であっても親液性表面となることから好ましい。

放射線の照射により、親液性表面を含む層１２が形成される理由は以下の通りである。放射線の照射により、感放射線性組成物中の感放射線性酸発生剤から酸が発生し、これにより、重合体が有する酸解離性基が解離する。酸解離性基の解離により、照射された領域の表面エネルギーが変化し、濡れ性が高まる。特に、酸解離性基がフッ素原子を有する場合、この撥液性から親液性への変化が顕著になる。

放射線の照射（露光）は、形成したい硬化膜のパターン形状と同様の形状の親液性表面を含む層１２が形成されるように、所定のパターンを有するフォトマスクを介して行うことができる。フォトマスクを介して露光を行うことで、複雑なパターンを形成する場合も効率的に照射を行うことができる。その他、直描式露光機等を用いて、所定のパターンを描画露光することができる。

本工程（１−２）において照射する放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外線、荷電粒子線、Ｘ線等を使用することができる。これらの中でも、波長が１９０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の範囲内にある放射線が好ましく、３６５ｎｍの波長の紫外線を含む放射線がより好ましい。

本工程（１−２）における放射線の露光量としては、十分な酸解離性基の解離が生じる範囲で適宜設定すればよい。この露光量の下限としては、放射線の波長３６５ｎｍにおける強度として、１０ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。一方、この上限としては、１０００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、５００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。

形成される親液性表面を含む層１２のサイズ及び形状は、所望するパターンのサイズ及び形状に対応するものであるが、幅が１００μｍ以下の線状とすることができ、好ましくは０．１〜５０μｍの線状とすることができる。

テンプレート用塗膜１１への露光後、テンプレート用塗膜１１を加熱してもよい。加熱条件は、感放射線性組成物の組成等によって異なるが、例えば５０℃以上１２０℃以下、１分以上２０分以下程度である。

（１−３）現像工程
現像工程は、放射線が照射されたテンプレート用塗膜１１を現像する工程である。この現像により、放射線が照射された領域（親液性表面を含む層１２）において酸解離性基を解離させることができる。これにより、放射線が照射された部分が親液性表面を含む層となり、現像液によって除去される。これにより基板表面が露出することで、基板１０が親液性表面を含む層となる。この現像工程を経ることで、図２（ｃ）に示すように、凸部１４を有するテンプレート１５が形成される。このテンプレート１５は、複数の凸部１４から構成されており、テンプレート用塗膜１１の撥液性表面を含む層１３が残ったものである。すなわち、テンプレート１５の各凸部１４の表面は撥液性である。

現像に使用される現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等のアルカリ性化合物の少なくとも１種を溶解した水溶液を使用することができる。これらのアルカリ性化合物の水溶液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒を適当量添加して使用することもできる。

現像方法としては、例えば液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法、スプレー法等が挙げられる。現像時間は、硬化膜形成用組成物の組成によって異なるが、その現像時間の下限としては、５秒が好ましく、１０秒がより好ましい。また、現像時間の上限としては、３００秒が好ましく、１８０秒がより好ましい。現像処理に続いて、例えば流水洗浄を３０秒以上９０秒以下の時間で行った後、圧縮空気や圧縮窒素で乾燥させることにより、所望のテンプレートのパターンが得られる。

このようにして形成される凸部１４（撥液性表面を含む層１３）の表面と、親液性表面を含む層（図２（ｃ）においては基板１０）の表面とのテトラデカンに対する接触角差（撥液性表面における接触角−親液性表面における接触角）は、３０°以上が好ましく、４０°以上がより好ましく、５０°以上がさらに好ましい。この接触角差の上限としては、例えば７０°である。

また、凸部１４（撥液性表面を含む層１３）の表面のテトラデカンに対する接触角は、４０°以上が好ましく、５０°以上がより好ましい。この接触角の上限は、例えば８０℃である。また、凸部１４（撥液性表面を含む層１３）の表面の水に対する接触角は、８０°以上が好ましく、９０°以上がより好ましい。この接触角の上限は、例えば１４０℃である。このような撥液性の高い凸部１４を形成することで、テンプレート１５の凸部１４に接触した硬化性組成物が、凸部１４間（基板１０、すなわち親液性表面を含む層の表面）へ移動しやすくなり、テンプレート１５の凸部１４間の形状に沿った硬化膜の形成を好適に行うことができる。

このような現像工程を経て、撥液性表面を含む層からなる凸部１４からなるテンプレート１５が得られる。なお、このテンプレートには、テンプレート用塗膜の親液性表面を含む層１２が凸部１４間に残っていてもよい（図２（ｄ）参照）。但し、得られる硬化膜の密着性等の観点から、図２（ｃ）のように実質的に凸部１４のみでテンプレート１５が構成されることが好ましい。

（２）硬化性組成物塗膜形成工程
硬化性組成物塗膜形成工程は、テンプレート１５の凸部１４間に、当該硬化性組成物により塗膜１６を形成する工程である（図３（ａ）参照）。この塗膜１６の形成は、基板１０上に形成したテンプレート１５に対して硬化性組成物を塗布することにより行うことができる。

硬化性組成物の塗布は、公知の方法で行うことができる。具体的には、はけやブラシを用いた塗布法、ディッピング法、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法（スピンコート法）、スリットダイ塗布法、バー塗布法、フレキソ印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷、ディスペンス法等挙げることができる。

これらの中でも、インクジェット法が好ましい。塗膜の形成を、インクジェット法による硬化性組成物の塗布により行うことにより、硬化性組成物の省液化が可能となり、かつ所望の位置に硬化性組成物を容易に塗布することができる。

基板１０上に形成したテンプレート１５に対して硬化性組成物を塗布した場合、硬化性組成物は、凸部１４（撥液性表面を含む層１３）でははじかれ、凸部１４間（凹部）である基板１０表面（親液性表面）に流れ込む。これにより、凸部１４間に沿って硬化性組成物の塗膜１６が形成される。特に当該硬化性組成物は、塗布性に優れるため、凸部１４間に沿って硬化性組成物が良好に流れ、充填されていく。また、当該硬化性組成物によれば、テンプレート１５の浸食が抑制される。

（３）硬化工程
硬化工程は、加熱により、凸部１４間に形成された硬化性組成物の塗膜１６を硬化させる工程である。

この加熱方法としては、特に限定されず、ホットプレート、オーブン、ドライヤー等を用いて加熱する方法を挙げることができる。その他、真空ベークによって加熱してもよい。加熱条件も特に限定されないが、例えば５０℃以上２００℃以下、１分以上１２０分以下とすることができる。

（４）除去工程
除去工程は、テンプレート１５の凸部１４を除去する工程である。この工程を経ることにより、図３（ｃ）に示すように、所定のパターンが形成された硬化膜１７を得ることができる。この除去工程は、現像やエッチングにより行うことができるが、現像により行うことが好ましい。

除去工程は、好ましくは
（４−１）放射線を照射する工程、及び
（４−２）現像によりテンプレートの凸部を除去する工程
から構成される。

（４−１）放射線照射工程
（４−１）放射線照射工程は、基板１０の硬化性組成物が塗布された側に放射線（ｈν）を照射する工程である（図３（ｂ）参照）。この場合、フォトマスクを介して露光することもできるが、フォトマスクを使用しないで露光してよい。この場合、放射線の照射により、露出しているテンプレート１５の凸部１４は、酸解離性基が解離するため、アルカリ可溶性（親水性）となる。

本工程において照射する放射線の具体例、及び好ましい例としては、上記した（１−２）工程と同様である。また、本工程における放射線の露光量も、（１−２）工程と同様とすることができる。なお、放射線の照射後、硬化性組成物の塗膜１６に対して加熱をしてもよい。

（４−２）現像工程
現像工程は、上記（４−１）放射線照射工程を経た硬化性組成物の塗膜１６を現像する工程である。上記（４−１）放射線照射工程を経ることで、テンプレート１５の凸部１４はアルカリ可溶性となっている。このため、アルカリ性水溶液で現像することで、テンプレート１５の凸部１４を除去することができる（図３（ｂ）、（ｃ）参照）。本工程における現像液や現像方法の具体例、及び好ましい例としては、上記した（１−３）工程と同様である。

このような形成方法によって、図３（ｃ）に示されるように、所定形状にパターニングされた硬化膜１７を得ることができる。当該形成方法においては、当該硬化性組成物を用いているため、塗布性及びパターニング性に優れ、良好な遮光性を有する硬化膜を得ることができる。当該形成方法によれば、逆テーパ形状（上が大きく下が小さい下向き台形やＴ字型の形状をいう）の硬化膜を得ることができる。

当該形成方法は、表示素子又は固体撮像素子の硬化膜の形成方法として好適に用いることができる。特に、当該形成方法は、表示素子又は固体撮像素子の硬化膜の中でも、表示素子又は固体撮像素子の隔壁の形成方法として好適に用いることができる。

例えば、当該形成方法により得られた硬化膜が、表示素子の一例であるマイクロＬＥＤディスプレーの隔壁である場合、隔壁間の所定の領域に波長変換層を積層させることができる。波長変換層としては、量子ドット、蛍光剤等を含有する層として形成することができる。波長変換層は、量子ドット、蛍光剤等とバインダー樹脂等を含む波長変換層形成用組成物を塗布し、硬化させることなどにより形成することができる。なお、当該形成方法により得られた硬化膜の撥液性が高い場合、上記波長変換膜形成用組成物の塗布性が向上する。また、隔壁間には、さらにカラーフィルタ層等が配置されていてもよく、透明層が配置されていてもよい。カラーフィルタ層や透明層も、波長変換層と同様にこれらを形成するための組成物の塗工により形成することができる。

＜感放射線性組成物＞
以下、硬化膜の形成方法におけるテンプレートを形成する感放射線性組成物の好適な形態について説明する。上記感放射線性組成物は、上述したように、通常、［ａ］重合体及び［ｂ］酸発生剤を含有する。上記感放射線性組成物は、溶媒（以下「［ｃ］溶媒」ともいう。）をさらに含有することが好ましい。

（［ａ］重合体）
［ａ］重合体は、酸により解離する性質を有する基を含有する重合体である。酸解離性基としては、フッ素原子を含む基であることが好ましい。［ａ］重合体がこのような基を有することで、撥液性の塗膜を形成することができ、かつ露光及び現像を経ることで、良好なパターン形状を有するテンプレートを得ることができる。

酸解離性基としては、精細なテンプレートを製造することができる等の点から、アセタール結合、ヘミアセタールエステル結合又はこれらの組み合わせからなる結合を含む基を有する基であることがより好ましい。このような基としては、下記式（１−１）で表される基、又は下記式（１−２）で表される基が好ましい。

式（１−１）及び（１−２）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基である。Ｒｆは、それぞれ独立して、フッ素原子を有する有機基である。＊は結合部位を示す。

上記Ｒｆとしては、炭素数１〜２０のフッ素化炭化水素基が好ましく、下記式（１−１）〜（１−３３）で表される基、２，２，２−トリフルオロエチル基及び１，２，２−トリフルオロビニル基がより好ましい。

［ａ］重合体は、前駆体である水酸基を有する化合物の水酸基に、下記式（１）で示されるビニルエーテル化合物（以下「化合物（１）」ともいう。）に由来する酸解離性基が導入されてなる構造を有する化合物であることが好ましい。また、［ａ］重合体は、前駆体であるカルボキシ基を有する化合物のカルボキシ基に、化合物（１）に由来する酸解離性基が導入されてなる構造を有する化合物であってもよい。

式（１）中、Ｒ^０は、水素原子又はメチル基を示す。式（１）中、Ｒ^Ａは、それぞれ独立して、メチレン基、炭素数２〜１２のアルキレン基、炭素数２〜１２のアルケニレン基、炭素数６〜１３の置換又は非置換の芳香族炭化水素基、炭素数４〜１２の置換又は非置換の脂環式炭化水素基、若しくは、これらの基の１つ以上の水素原子がフッ素原子で置換された基を示す。

式（１）中、Ｒ^Ｂは、炭化水素基の１つ以上の水素原子がフッ素原子で置換された基を示す。式（１）中、Ｒ^Ｂは、炭素数１〜２０のフッ素化炭化水素基が好ましく、具体的には、上記Ｒｆにおける式（１−１）〜（１−３３）で示す基、２，２，２−トリフルオロエチル基、１，２，２−トリフルオロビニル基等が挙げられる。

式（１）中、ｘは０〜１２の整数を示し、０〜９の整数が好ましく、０がより好ましい。

次に、［ａ］重合体を得るための方法について説明する。［ａ］重合体を得るための方法としては、前駆体となる化合物として重合体を用いる方法と、前駆体となる化合物としてモノマーを用いる方法の２つの方法が可能である。

前駆体となる化合物として重合体を用いる方法では、前駆体となる重合体が水酸基又はカルボキシ基を分子内に含有し、前駆体となる重合体の水酸基又はカルボキシ基に上記化合物（１）を反応させることで［ａ］重合体を得ることができる。また、前駆体となる化合物としてモノマーを用いる方法では、前駆体となるモノマーが分子内に水酸基又はカルボキシ基を含有し、前駆体となるモノマーの水酸基又はカルボキシ基に上記化合物（１）を反応させた後、得られたモノマーを重合させることで［ａ］重合体を得ることができる。以下、［ａ］重合体を得るための２つの方法について、より具体的に説明する。

（１）前駆体となる化合物として重合体を用いる方法
この方法では、水酸基又はカルボキシ基を有するモノマーを重合して水酸基又はカルボキシ基を有する重合体（前駆体）を得て、その後、前駆体となる重合体の水酸基又はカルボキシ基に上記化合物（１）を反応させて、［ａ］重合体を得ることができる。

上述の水酸基を有するモノマーとしては、（メタ）アクリル酸エステルが好ましく、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシベンジルアクリルアミド、３、５−ジメチル−４−ヒドロキシベンジルアクリルアミドなどを挙げることができる。

なお、水酸基を有するモノマーとしては、上述の（メタ）アクリル酸エステルが好ましいが、この化合物以外にも、イソプロペニルフェノールなどの水酸基及び不飽和結合を有する化合物を用いることもできる。水酸基を有するモノマーは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を使用してもよい。

上述のカルボキシ基を有するモノマーとしては、例えば（メタ）アクリル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルフタル酸、４−カルボキシルフェニル（メタ）アクリレートなどを挙げることができる。カルボキシ基を有するモノマーは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を使用してもよい。

［ａ］重合体の前駆体となる、水酸基又はカルボキシ基を有する重合体は、上述の水酸基又はカルボキシ基を有するモノマーのみを用いて得ることができる他、上述の水酸基又はカルボキシ基を有するモノマーと、水酸基又はカルボキシ基を有するモノマー以外のモノマーとを共重合して得ることができる。

水酸基又はカルボキシ基を有するモノマー以外のモノマーとしては、（メタ）アクリル酸鎖状アルキルエステル、（メタ）アクリル酸環状アルキルエステル、（メタ）アクリル酸アリールエステル、不飽和芳香族化合物、共役ジエン、テトラヒドロフラン骨格を含有する不飽和化合物、マレイミド及びこれら以外のモノマーを挙げることができる。水酸基又はカルボキシ基を有するモノマー以外のモノマーは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を使用してもよい。具体的には、ＷＯ２０１４／１７８２７９号に記載の不飽和化合物を用いることができる。

次に、水酸基又はカルボキシ基を有する重合体の水酸基又はカルボキシ基に上記化合物（１）を反応させ、［ａ］重合体を得る方法は、ＷＯ２０１４／１７８２７９号に記載の方法により行うことができる。

（２）前駆体となる化合物としてモノマーを用いる方法
この方法では、水酸基又はカルボキシ基を有するモノマーの水酸基又はカルボキシ基に上記化合物（１）を反応させて付加物を得て、それらを重合させることで、［ａ］重合体を得る。このような［ａ］重合体を得る方法は、公知の方法を参考にすることができる。

例えば、特開２００５−１８７６０９号公報に記載されているように、水酸基を有するモノマーの水酸基と化合物（１）のビニルエーテル基によってアセタール結合を生成して、又は、カルボキシ基を有するモノマーのカルボキシ基と上記化合物（１）のビニルエーテル基によってヘミアセタールエステル結合を生成して、付加物を形成する。

次いで、得られたモノマーを用いて、上述した水酸基又はカルボキシ基を有する重合体の製造方法と同様にして、［ａ］重合体を得ることができる。

［ａ］重合体は、酸解離性基を含む構造単位以外の構造単位をさらに有していてもよい。但し、［ａ］重合体における酸解離性基を含む構造単位の含有割合の下限としては、５モル％が好ましく、１０モル％がより好ましく、２０モル％がさらに好ましい。一方、この含有割合の上限は、１００モル％であってもよく、８０モル％であってもよく、７０モル％であってもよい。

［ａ］重合体は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を使用してもよい。

（［ｂ］酸発生剤）
［ｂ］酸発生剤は、少なくとも放射線の照射によって酸を発生する化合物である。すなわち、［ｂ］酸発生剤は、感放射線性酸発生剤である。感放射線性組成物が、［ｂ］酸発生剤を含有することで、［ａ］重合体から酸解離性基を解離させることができる。

［ｂ］酸発生剤としては、例えばオキシムスルホネート化合物、オニウム塩、スルホンイミド化合物、ハロゲン含有化合物、ジアゾメタン化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、カルボン酸エステル化合物等が挙げられる。［ｂ］酸発生剤は、１種又は２種類以上を用いてもよい。［ｂ］酸発生剤としては、国際公開第２０１４／１７８２７９号に記載の酸発生剤を用いることができる。

［ｂ］酸発生剤の含有量の下限としては、［ａ］重合体１００質量部に対して、０．１質量部が好ましく、１質量部がより好ましい。一方、この含有量の上限としては、１０質量部が好ましく、５質量部がより好ましい。

（［ｃ］溶媒）
［ｃ］溶媒としては特に限定されないが、［ａ］重合体、［ｂ］酸発生剤及び任意成分の重合性化合物等の各成分を均一に溶解又は分散することができる溶剤が好ましい。

好適な［ｃ］溶媒としては、アルコール系溶剤、エーテル類、ジエチレングリコールアルキルエーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート類、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、ケトン類及びエステル類等を挙げることができる。［ｃ］溶媒は、１種又は２種以上を使用することができる。

［ｃ］溶媒の含有量の下限としては、感放射線性組成物の溶媒を除く成分１００質量部に対して、１００質量部が好ましく、２００質量部がより好ましい。一方、この含有量の上限としては、１０００質量部が好ましく、５００質量部がさらに好ましい。

（その他の任意成分）
上記感放射線性組成物は、増感剤、酸拡散抑制剤（クエンチャー）、重合性化合物、感放射線性重合開始剤、界面活性剤、保存安定剤、接着助剤、耐熱性向上剤等の任意成分をさらに含有していてもよい。これらの任意成分の具体例、配合例は国際公開第２０１４／１７８２７９号に記載の具体例、配合例を参考にすることができる。

＜その他の実施形態＞
本発明は上述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲でその構成を変更することもできる。例えば、本発明の硬化性組成物は、テンプレートを使用しない方法による硬化膜の形成に用いてもよい。

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例等における測定は、以下の方法により行った。

（顔料の平均粒子径）
調製例にて得られた顔料分散液を用いた溶媒で１０倍に希釈し、粒度分布計（ＨＯＲＩＢＡ社の「Ｌ−５００」）を用いて、顔料の平均粒子径を求めた。

（重量平均分子量（Ｍｗ）及び分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ））
重合体のポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）及び分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、以下の条件で測定した。
・測定方法：ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法
・標準物質：ポリスチレン換算
・装置 ：東ソー社の「ＨＬＣ−８２２０」
・カラム ：東ソー社のガードカラム「ＨＸＬ−Ｈ」、「ＴＳＫ ｇｅｌ Ｇ７０００ＨＸＬ」、「ＴＳＫ ｇｅｌ ＧＭＨＸＬ」２本、及び「ＴＳＫ ｇｅｌ Ｇ２０００ＨＸＬ」を順次連結したもの
・溶媒 ：テトラヒドロフラン
・サンプル濃度：０．７質量％
・注入量 ：７０μＬ
・流速 ：１ｍＬ／ｍｉｎ

（^１Ｈ−ＮＭＲの測定）
^１Ｈ−ＮＭＲは、溶媒としてＣＤＣｌ_３を用い、核磁気共鳴装置（Ｂｒｕｋｅｒ社の「ＡＶＡＮＣＥＩＩＩ ＡＶ４００Ｎ」）を用い、温度２５℃の条件下で測定した。

［合成例１］樹脂１の合成
冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）８質量部、ステアリルメタクリレート７８質量部、グリシジルメタクリレート２２質量部及びテトラデカン３００質量部を仕込んだ。窒素雰囲気下、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度を６時間保持して重合することにより、共重合体である樹脂１を含有する溶液を得た。次いで、得られた反応溶液を大過剰のメタノール／イソプロピルアルコール（質量比１：１）に滴下することにより再沈殿精製を行った。その後乾燥し、白色固形状の下記式で表される樹脂１が７８％の収率で得られた。なお、以下の各構造単位の比は、モル比を表す（以下同様）。

［合成例２］樹脂２の合成
冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）８質量部、ステアリルメタクリレート７８．４質量部、グリシジルメタクリレート１６．４質量部、（４−ビニルフェニル）メタノール５．２質量部及びテトラデカン３００質量部を仕込んだ。窒素雰囲気下、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度を６時間保持して重合することにより、共重合体である樹脂２を含有する溶液を得た。次いで、得られた反応溶液を大過剰のメタノール／イソプロピルアルコール（質量比１：１）に滴下することにより再沈殿精製を行った。その後乾燥し、白色固形状の下記式で表される樹脂２が７５％の収率で得られた。

［合成例３］樹脂３の合成
冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）８質量部、ステアリルメタクリレート７９．９質量部、グリシジルメタクリレート１１．１質量部、メタクリル酸３．４質量部、ターシャリーブチルメタクリレート５．６質量部及びテトラデカン３００質量部を仕込んだ。窒素雰囲気下、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度を６時間保持して重合することにより、共重合体である樹脂３を含有する溶液を得た。次いで、得られた反応溶液を大過剰のメタノール／イソプロピルアルコール（質量比１：１）に滴下することにより再沈殿精製を行った。その後乾燥し、白色固形状の下記式で表される樹脂３が８０％の収率で得られた。

［合成例４］フッ素樹脂１の合成
冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）８質量部、ステアリルメタクリレート４４質量部、グリシジルメタクリレート１４質量部、２−（パーフルオロヘキシル）エチルメタクリレート（ＣＨＥＭＩＮＯＸ ＦＡＭＡＣ６ ユニマニック社製）４２質量部及びテトラデカン３００質量部を仕込んだ。窒素雰囲気下、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度を６時間保持して重合することにより、共重合体であるフッ素樹脂１を含有する溶液を得た。次いで、得られた反応溶液を大過剰のメタノール／イソプロピルアルコール（質量比１：１）に滴下することにより再沈殿精製を行った。その後乾燥し、白色固形状の下記式で表されるフッ素樹脂１が７５％の収率で得られた。

［合成例５］フッ素樹脂２の合成
冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）８質量部、ステアリルメタクリレート４４質量部、グリシジルメタクリレート９．２質量部、２−（パーフルオロヘキシル）エチルメタクリレート（ＣＨＥＭＩＮＯＸ ＦＡＭＡＣ６ ユニマニック社製）４２質量部、ターシャリーブチルメタクリレート４．８質量部及びテトラデカン３００質量部を仕込んだ。窒素雰囲気下、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度を６時間保持して重合することにより、共重合体であるフッ素樹脂２を含有する溶液を得た。次いで、得られた反応溶液を大過剰のメタノール／イソプロピルアルコール（質量比１：１）に滴下することにより再沈殿精製を行った。その後乾燥し、白色固形状の下記式で表されるフッ素樹脂２が７５％の収率で得られた。

［合成例６］フッ素樹脂３
冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）８質量部、ステアリルメタクリレート４４質量部、グリシジルメタクリレート９質量部、２−（パーフルオロヘキシル）エチルメタクリレート（ＣＨＥＭＩＮＯＸ ＦＡＭＡＣ６ ユニマニック社製）４２質量部、（４−ビニルフェニル）メタノール５質量部及びテトラデカン３００質量部を仕込んだ。窒素雰囲気下、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度を６時間保持して重合することにより、共重合体であるフッ素樹脂３を含有する溶液を得た。次いで、得られた反応溶液を大過剰のメタノール／イソプロピルアルコール（質量比１：１）に滴下することにより再沈殿精製を行った。その後乾燥し、白色固形状の下記式で表されるフッ素樹脂３が８２％の収率で得られた。

［合成例７］フッ素樹脂４
冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）８質量部、ステアリルメタクリレート４５質量部、グリシジルメタクリレート９．５質量部、２−（パーフルオロヘキシル）エチルメタクリレート（ＣＨＥＭＩＮＯＸ ＦＡＭＡＣ６ ユニマニック社製）４５質量部、メタクリル酸３質量部及びテトラデカン３００質量部を仕込んだ。窒素雰囲気下、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度を６時間保持して重合することにより、共重合体であるフッ素樹脂４を含有する溶液を得た。次いで、得られた反応溶液を大過剰のメタノール／イソプロピルアルコール（質量比１：１）に滴下することにより再沈殿精製を行った。その後乾燥し、白色固形状の下記式で表されるフッ素樹脂４が８４％の収率で得られた。

以下に実施例及び比較例で用いた各成分を示す。
（顔料）
・白色顔料１：アルミナで表面を修飾した酸化チタン（Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト６：１）
・黒色顔料１：カーボンブラック（キャボット社製の「ＴＰＫ１０９９Ｒ」）

（硬化性化合物及び非硬化性化合物）
・樹脂１：合成例１で合成した樹脂１
・樹脂２：合成例２で合成した樹脂２
・樹脂３：合成例３で合成した樹脂３
・樹脂４：両末端水酸基水素化ポリブタジエン（日本曹達社の「Ｎｉｓｓｏ−ＰＢ ＧＩ−３０００」（なお、樹脂４は、非硬化性化合物である）
・化合物１：下記式（１）で表される３−エチル−３−［（２−エチルヘキシロキシ）メチル］オキセタン（東亜合成社の「ＯＸＴ−２１２」
・化合物２：下記式（２）で表される３−エチル−３｛［（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ］メチル｝オキセタン（東亜合成社の「ＯＸＴ−２２１」）
・化合物３：下記式（３）で表される３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越シリコーン社の「ＫＢＭ−４０３」）
・化合物４：下記式（４）で表される３−（パーフルオロヘキシル）プロペン−１，２−オキシド（ユニマテック社の「ＣＨＥＭＩＮＯＸ ＦＡＥＰ−６」）
・化合物５：下記式（５）で表されるトリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカンジメタノールジアクリレート（新中村化学社の「ＮＫエステル Ａ−ＤＣＰ」）

（溶媒）
・溶媒１：ｎ−デカン（比誘電率１．９９）
・溶媒２：テトラデカン（比誘電率２．０４）
・溶媒３：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（比誘電率８）

（重合開始剤）
・開始剤１：下記式（１）で表されるＮ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラート
・開始剤２：下記式（２）で表される４−ヒドロキシフェニル−メチル−ベンジルスルホニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート
・開始剤３：下記式（３）で表される２，２’−アゾビス（イソ酪酸メチル）

（フッ素樹脂）
・フッ素樹脂１：合成例４で合成したフッ素樹脂１
・フッ素樹脂２：合成例５で合成したフッ素樹脂２
・フッ素樹脂３：合成例６で合成したフッ素樹脂３
・フッ素樹脂４：合成例７で合成したフッ素樹脂４

［調製例１］
顔料１を６０質量部、分散剤として味の素ファインテクノ社製の「アジスパーＰＮ４１１」を２．４質量部、溶媒１を固形分濃度が６２．４質量％となるよう用いて、ビーズミルにより１２時間混合・分散して、顔料分散液（Ａ−１）を調製した。顔料分散液（Ａ−１）中の顔料１の平均粒子径は２８０ｎｍであった。

［調製例２］
分散剤としてビックケミー（ＢＹＫ）社の「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０８」を用い、溶媒として溶媒２を用いたこと以外は調製例１と同様にして、顔料分散液（Ａ−２）を調製した。顔料分散液（Ａ−２）中の顔料１の平均粒子径は３２０ｎｍであった。

［調製例３］
顔料２を５５質量部、分散剤として味の素ファインテクノ社製の「アジスパーＰＮ４１１」を１０．０質量部、溶媒１を固形分濃度が６５．０質量％となるよう用いて、ビーズミルにより１２時間混合・分散して、顔料分散液（Ａ−３）を調製した。顔料分散液（Ａ−３）中の顔料２の平均粒子径は１３０ｎｍであった。

［調製例４］
溶媒として溶媒２を用いたこと以外は調製例３と同様にして、顔料分散液（Ａ−４）を調製した。顔料分散液（Ａ−４）中の顔料２の平均粒子径は１２０ｎｍであった。

［調整例５］
顔料１を６０質量部、分散剤として味の素ファインテクノ社製の「アジスパーＰＮ４１１」を２．４質量部、溶媒３を固形分濃度が６２．４質量％となるよう用いて、ビーズミルにより１２時間混合・分散して、顔料分散液（Ａ−５）を調製した。顔料分散液（Ａ−５）中の顔料１の平均粒子径は２６０ｎｍであった。

［実施例１］
顔料分散液（Ａ−１）を９１．５質量部（顔料１を５５．０質量部、及び分散剤を２．１質量部含む）、樹脂１を４２．９質量部、及び溶媒１を固形分濃度が６５質量％となるよう用いて、硬化性組成物（Ｓ−１）を調製した。

［実施例２〜２１及び比較例１〜３］
各成分の種類及び量を表１のように変更した以外は実施例１と同様にして、実施例２〜２１の硬化性組成物（Ｓ−２）〜（Ｓ−２１）及び比較例１〜３の硬化性組成物（ｓ−１）〜（ｓ−３）を調製した。但し、いずれの硬化性組成物も溶媒を固形分濃度が６５質量％となるよう用いた。なお、実施例１〜５、７、９〜１５、１７及び比較例２、３は、顔料分散液（Ａ−１）を、実施例６、８、１６は、顔料分散液（Ａ−２）を、実施例１８〜２０は、顔料分散液（Ａ−３）を、実施例２１は、顔料分散液（Ａ−４）を、比較例１は、顔料分散液（Ａ−５）をそれぞれ用いた。また、表１における各成分の量について、溶媒以外については、溶媒を除く成分全量を１００質量％としたときの含有量（質量％）を示し、溶媒については、全溶媒に占める含有量（質量％）を示す。

［合成例８］重合体ａ（酸解離性基を有する重合体）の合成
冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、ジメチル２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）８質量部、２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン２質量部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３００質量部を仕込んだ。引き続き４−ヒドロキシフェニルメタクリレート６０質量部、及びメタクリル酸メチル４０質量部を仕込み、窒素雰囲気下、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度を４時間保持して重合することにより、共重合体を含有する溶液を得た（固形分濃度＝２６．１質量％、Ｍｗ＝２３０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．６）。

次いで、得られた共重合体にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１９０質量部、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホナート０．４質量部、及び３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロ−１−ビニルオキシオクタン１５５質量部を加え、窒素雰囲気下、８０℃で２時間反応させた。得られた反応溶液を大過剰のメタノールに滴下することにより再沈殿精製を行った。その後乾燥し、白色固形状の共重合体として重合体ａが２３０質量部得られた。得られた重合体ａについて^１Ｈ−ＮＭＲを用いて分析を行い、アセタール化が進行していることを確認した（化学シフト：５．５０ｐｐｍ、アセタール基Ｃ−Ｈ）。

［調製例５］感放射線性組成物の調製
上記合成例８で得られた重合体ａを１００質量部、酸発生剤としてＰＡ−５２８（ヘレウス社）を２質量部、クエンチャーとして２−フェニルベンゾイミダゾールを０．１質量部、界面活性剤としてポリフローＮｏ９５（共栄社化学社）を０．１質量部加え、固形分濃度が３０質量％となるように、溶媒として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えた。その後、孔径０．５μｍのミリポアフィルタでろ過することにより、感放射線性組成物（Ｐ−１）を調製した。

［評価］
以下の各評価を実施した。評価結果を表２に示す。

（テンプレートの作成）
９．５ｃｍ角の無アルカリガラス基板（コーニング社の「ＥＡＧＬＥ−ＸＧ」、０．７ｍｍ厚）上に、上記で調製した感放射線性組成物（Ｐ−１）をスピンナーにより１０μｍの膜厚になるように塗布した後、９０℃のホットプレート上で３分間プレベークすることにより塗膜を形成した。得られた塗膜にフォトマスク（ライン＆スペース＝５０μｍ／４５０μｍ）を介して高圧水銀ランプを用いて露光量を３００ｍＪ／ｃｍ^２として放射線照射を行った。続いて９０℃のホットプレート上で１５分間ベークを行った。その後、基板を２．３８％テトラアンモニウムヒドロキシド水溶液に２分間浸漬することにより露光部を除去した。その後、９０℃のホットプレート上で１５分間乾燥ベークした。これにより、基板上に形成された凸部からなる撥液性のテンプレート（Ｔ−１）を得た。残留した膜上での水の接触角は１０９°、テトラデカンの接触角は６０°であり、十分に撥液性であることを確認した。

（パターニングされた硬化膜の作成）
感放射線性組成物（Ｐ−１）を用いて得られた、テンプレート（Ｔ−１）上に、実施例及び比較例で得られた各硬化性組成物をシリンジ塗布したところ硬化性組成物はテンプレート（Ｔ−１）の凸部上には残らず、凸部間上に選択的に塗布された。７０℃で２分加熱し、一部溶媒を除去した後に、１３０℃で３０分加熱し硬化性組成物の塗膜を硬化させた。その後、高圧水銀ランプを用いて露光量を５００ｍＪ／ｃｍ^２として放射線照射を行った。続いて、７０℃のホットプレート上で１５分間ベークを行った。その後、基板を２．３８％テトラアンモニウムヒドロキシド水溶液に４分間浸漬することにより、テンプレート（Ｔ−１）が除去され、パターニングされた硬化膜（パターン）が得られた。得られたパターン幅は５０μｍであり、テンプレート幅に合わせたパターンが形成された。但し、比較例１は、テンプレートの浸食等が発生したため、凸部間への選択的な塗布ができず、パターンが形成されなかった。また、比較例２は、密着性が著しく悪く、パターンが形成されなかった。

（塗布性の評価）
上記テンプレート（Ｔ−１）上に硬化性組成物をシリンジ塗布した際の塗布性に関し、テンプレートの浸食と凸部間への濡れ広がりの観点から、以下の基準で評価した。
◎：テンプレートが硬化性組成物で浸食されておらず、塗布から５秒後の凸部間への硬化性組成物の濡れ広がりが５ｍｍ以上
○：テンプレートの浸食は無いものの、塗布から５秒後の凸部間への硬化性組成物の濡れ広がりが５ｍｍ未満
×：テンプレートが硬化性組成物で浸食されている

（パターニング性の評価）
得られた硬化膜について、ＳＥＭにより、クラック（膜内部の亀裂又は破断線）の有無、及び密着性（膜底部が基板面から離れている、あるいは浮きあがっていることなく接地しているか否か）を確認し、以下の基準にて評価した。
◎：クラックは無く、密着性も良好である
○：クラックは確認できるものの、密着性は良好である
△：クラックは確認でき、一部密着性が不良な箇所がある
×：パターニングされた硬化膜が得られなかったため、ＳＥＭ観察が実施できない

（硬化膜の作成）
実施例及び比較例で得られた各硬化性組成物を、９．５ｃｍ角の無アルカリガラス基板（コーニング社の「ＥＡＧＬＥ−ＸＧ」、０．７ｍｍ厚）上に、スピンコーターを用いて塗布した。その後、ホットプレートにて７０℃で２分で一部溶媒を除去した。次いで、１３０℃で３０分で硬化性組成物を硬化させ、膜厚１０μｍの硬化膜を形成した。

（遮光性の評価）
白色顔料を用いた実施例１〜１７及び比較例１〜３においては、評価１（反射率）を行い、黒色顔料を用いた実施例１８〜２１においては、評価２（ＯＤ値）を行った。

（遮光性の評価１：反射率）
紫外可視赤外絶対反射率測定装置一式（分光光度計Ｖ−６７０、反射率測定ユニットＡＲＮ−７３１、いずれも日本分光社製）を用いて、上記で形成した硬化膜の反射光を測定した。標準反射板（オーシャンフォトニクス社の「スペクトラロン」（登録商標））による相対反射率にて数値化した。波長７００ｎｍの光における標準反射板の反射光を１００％とし、以下の基準にて評価した。
◎：７５％以上
○：７０％以上７５％未満
×：７０％未満

（遮光性の評価２：ＯＤ値）
Ｘ−Ｒｉｔｅ社の３６１Ｔ（Ｖ）透過濃度計（照明光源の色温度：約２８５０Ｋ（ＣＩＥ標準光源Ａ相当）、受光部の分光感度特性：ＩＳＯ ５−３規格でのＩＳＯ ｖｉｓｕａｌ ｄｅｎｓｉｔｙ）を用いて、硬化膜を透過する光の可視光域での光学濃度（ＯＤ値）を測定し、膜厚換算してＯＤ値（／μｍ）を求め、以下の基準にて評価した。
◎：１μｍあたりのＯＤ値が４以上
○：１μｍあたりのＯＤ値が３．５以上４未満
×：１μｍあたりのＯＤ値が３．５未満

（撥液性の評価）
自動接触角計（協和界面社の「ＤＭ−５０１Ｈｉ」）を用い、２３℃５５％ＲＨの雰囲気下、上記で形成した硬化膜の上に２．５μＬのＰＧＭＥＡを滴下し、θ／２法にて接触角を算出した。以下の基準にて、撥液性を評価した。
◎：５０°以上
○：４０°以上５０°未満
△：４０°未満

表２に示されるように、実施例１〜２１の各硬化性組成物は、塗布性及びパターニング性に優れ、得られる硬化膜の遮光性も良好である。さらに、フッ素樹脂を含む実施例１３〜１７の各硬化性組成物から得られる硬化膜は、撥液性にも優れることがわかる。

本発明の硬化性組成物は、表示素子や固体撮像素子の硬化膜形成材料として好適に用いることができる。

１０ 基板
１１ テンプレート用塗膜
１２ 親液性表面を含む層
１３ 撥液性表面を含む層
１４ 凸部
１５ テンプレート
１６ 塗膜
１７ 硬化膜
ｈν 放射線
１０１ マイクロＬＥＤディスプレー
１０２ Ｂ−ＬＥＤ
１０３ａ、１０３ｂ 波長変換層
１０４ 隔壁
１０５ ＴＦＴ基板
１０６ 透明基板

Claims (14)

1. 白色顔料、黒色顔料又はこれらの組み合わせである顔料、
   硬化性化合物、及び
   溶媒
   を含有し、
   上記溶媒を除く全成分に対する上記顔料の含有量が、５０質量％以上９０質量％以下であり、
   上記溶媒の比誘電率が、６．０以下である硬化性組成物。
2. 上記硬化性化合物が、炭素数８以上３０以下の炭化水素基を有する構造単位を含む樹脂である請求項１に記載の硬化性組成物。
3. 上記硬化性化合物が、オキシラニル基、オキセタニル基又はこれらの組み合わせを有する請求項１又は請求項２に記載の硬化性組成物。
4. 熱酸発生剤、熱ラジカル発生剤又はこれらの組み合わせである重合開始剤
   をさらに含有する請求項１、請求項２又は請求項３に記載の硬化性組成物。
5. フッ素を含む基を有する構造単位を含むフッ素樹脂
   をさらに含有する請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
6. 上記フッ素樹脂が、炭素数８以上３０以下の炭化水素基を有する構造単位を含む請求項５に記載の硬化性組成物。
7. 上記溶媒が、炭素数５以上２０以下の脂肪族炭化水素である請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
8. 表示素子又は固体撮像素子の硬化膜形成用である請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
9. 上記硬化膜が隔壁である請求項８に記載の硬化性組成物。
10. （１）基板上に、凸部を有するテンプレートを形成する工程、
    （２）上記テンプレートの凸部間に、請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の硬化性組成物により塗膜を形成する工程、及び
    （３）上記塗膜を硬化させる工程
    を備える硬化膜の形成方法。
11. （４）上記テンプレートの凸部を除去する工程
    をさらに備える請求項１０に記載の硬化膜の形成方法。
12. 上記塗膜の形成を、インクジェット法による上記硬化性組成物の塗布により行う請求項１０又は請求項１１に記載の硬化膜の形成方法。
13. 上記硬化膜が表示素子又は固体撮像素子の硬化膜である請求項１０、請求項１１又は請求項１２に記載の硬化膜の形成方法。
14. 上記表示素子又は固体撮像素子の硬化膜が隔壁である請求項１３に記載の硬化膜の形成方法。

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