JP2019039062A - 母型保持具及びマスク製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】母型10を磁力発生部の磁力で吸引して、略平面状の基準面51aに母型を密着させ、母型10を基準面形状に合わせた状態で保持することから、マスク製造に際しての、母型10上の一次電着層に枠体を一体化するめっき工程に適用して、基準面51aに沿った適切な形状及び配置とした母型10上の一次電着層と枠体に対し、めっきで金属層を形成すれば、枠体と一次電着層とを適切な位置関係のまま金属層で固定一体化して、母型分離後も枠体がそのまま適切な位置関係を維持するように機能させられることとなり、母型10のコンディションの影響を受けずに同じ品質のマスクが確実に得られ、母型10を原因とするマスクの精度のばらつきを抑えられる。
【選択図】 図2
Description
こうした蒸着マスクは、薄く形成すると共に、蒸着物質を通す多数の蒸着通孔を高精度に形成する必要があることから、電鋳を利用して形成することが近年提案されている。
こうした電鋳を利用して製造する従来の蒸着マスクの一例として、特開2005−15908号公報に開示されるものがある。
前記各図において本実施形態に係る母型保持具50は、一表面を略平面状の基準面51aとされ、この基準面51aに強磁性物質を吸着可能とされる、前記磁力発生部としての略板状の磁石部51と、この磁石部51の基準面51aとは反対側の面に一体に固定される金属板製の補強板52とを備える構成である。
この支持装置60は、平坦な略板状の基板部61と、この基板部61上に枠状に配設される枠状支持部62と、枠状支持部62の所定箇所と基板部61との間に介在して母型と電気的に接触可能とされる接点部63とを備える構成である。
まず、母型10上にあらかじめ設定される、マスク本体2の蒸着通孔8、すなわち一次電着層15の非配置部分、に対応させて、母型10にレジスト層11を配設する(図8参照)。具体的には、母型10の表面側に、例えば、ネガタイプの感光性ドライフィルムレジストを、形成する一次電着層15の高さに対応する所定厚さ(例えば約20μm)に合わせて一ないし数枚積層し、熱圧着によりレジスト層11を形成する(図8(A)参照)。
なお、このような一次パターンレジスト14は、フォトレジスト等を使用したリソグラフィー法その他の任意の方法で形成することができ、その形成方法は上記に限定されるものではない。
この後、表面に露出している未露光のレジスト層16bを溶解除去する処理を行って、パターン形成領域2aを覆う二次パターンレジスト18を形成する(図13(A)参照)。
仮固定した枠体3に対しては、必要に応じて、枠体3の上から荷重を加えて圧着する工程を実行し、枠体3が一次電着層15からさらに離れにくい状態とすることもできる。
詳細には、枠状支持部62を取り外した後の支持装置60の基板部61に母型保持具50を載置し、さらにこの母型保持具50上に母型10を載置する。母型10は強磁性を有することで、母型保持具50の磁力で吸引され、基準面51aに沿った状態で保持される。
母型10の分離後、枠体3の下側に存在する一次電着層15aを接着層19と共に除去し、次いで二次パターンレジスト18を除去することで、蒸着マスク1の製造が完了となる(図15(C)参照)。なお、枠体3の下側に接着層19が残存している場合は、二次パターンレジスト18の除去時に除去する。
2 マスク本体
2a パターン形成領域
2b 外周縁
3 枠体
7 金属層
8 蒸着通孔
9 蒸着パターン
10 母型
11 レジスト層
12 マスクフィルム
12a 透光孔
14 一次パターンレジスト
15、15a 一次電着層
16 レジスト層
17 マスクフィルム
17a 透光孔
18 二次パターンレジスト
19 接着層
50 母型保持具
51 磁石部
51a 基準面
52 補強板
60 支持装置
61 基板部
62 枠状支持部
62a 突出部
63 接点部
Claims (5)
- 略平面状の基準面と、
当該基準面に強磁性物質を磁力で吸着可能とする、一又は複数の磁力発生部とを備えてなり、
強磁性物質を含んで板状とされる電鋳用の母型を、前記磁力発生部の磁力で吸引して、前記基準面に密着させた状態に保持可能であることを
特徴とする母型保持具。 - 前記請求項1に記載の母型保持具において、
前記磁力発生部が、所定の表面を前記基準面とされてなる板状の磁石部を有してなることを
特徴とする母型保持具。 - 前記請求項2に記載の母型保持具において、
容易に変形しない強度を有する板状体で形成され、前記磁石部における基準面とは反対側の面に一体に固定される、補強板を備えることを
特徴とする母型保持具。 - 多数の通孔を設けられる金属製のマスク本体と、マスク本体の外側を取り囲んで配置される金属製の枠体とを備えるマスクの製造方法において、
母型上の複数の所定位置に金属の電鋳で前記マスク本体に対応する一次電着層を形成する第1の電鋳工程と、
前記枠体を、前記一次電着層に対しあらかじめ設定された位置関係となるようにして母型上に配置する枠体配設工程と、
前記枠体の一部又は全部の表面から前記一次電着層の一部表面にまたがる所定範囲に、金属層をめっき形成し、当該金属層を介して枠体と一次電着層とを離れないよう一体に連結する第2の電鋳工程と、
前記母型と、一体の一次電着層、枠体及び金属層とを分離する分離工程とを含み、
前記母型が、強磁性物質を材質として含む板状体とされ、
少なくとも前記第2の電鋳工程が、母型の一次電着層及び枠体のある側とは反対側における面を、母型に沿って配置された略平面状の基準面に磁力によって吸着した状態で行われることを
特徴とするマスク製造方法。 - 前記請求項4に記載のマスク製造方法において、
少なくとも前記第2の電鋳工程が、前記母型と、当該母型を磁力で吸引して前記基準面に密着させた状態に保持可能である母型保持具とを、所定の支持装置に取り付けた状態で行われ、
前記支持装置は、
矩形状の板状体である基板部と、
当該基板部の矩形の各辺にそれぞれ対応する枠状体とされて基板部に着脱可能に取り付けられる枠状支持部と、
金属製の薄板材で形成され、枠状支持部のうち少なくとも平行な二つの枠辺部分に重ねて設けられる母型への通電用の接点部とを備えるものであり、
少なくとも前記第2の電鋳工程の前に、母型が母型保持具で保持され、且つ、母型保持具が前記支持装置の基板部に載置されている状態としてから、前記枠状支持部を基板部に取り付けて、枠状支持部と基板部との間に母型と母型保持具を挟むと共に、枠状支持部の二つの枠辺部分に重ねて設けられた接点部を母型表面端部に接触させて、接点部と母型とを導通状態としつつ、接点部のある枠状支持部の二つの枠辺部分から母型に対称に固定支持力を付与して、母型を基板部上に固定状態とすることを
特徴とするマスク製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017164333A JP6932047B2 (ja) | 2017-08-29 | 2017-08-29 | 母型保持具及びマスク製造方法 |
JP2021070229A JP7203888B2 (ja) | 2017-08-29 | 2021-04-19 | 支持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021070229A Division JP7203888B2 (ja) | 2017-08-29 | 2021-04-19 | 支持装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019039062A true JP2019039062A (ja) | 2019-03-14 |
JP6932047B2 JP6932047B2 (ja) | 2021-09-08 |
Family
ID=65727007
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017164333A Active JP6932047B2 (ja) | 2017-08-29 | 2017-08-29 | 母型保持具及びマスク製造方法 |
JP2021070229A Active JP7203888B2 (ja) | 2017-08-29 | 2021-04-19 | 支持装置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2021070229A Active JP7203888B2 (ja) | 2017-08-29 | 2021-04-19 | 支持装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP6932047B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021105221A (ja) * | 2017-08-29 | 2021-07-26 | マクセルホールディングス株式会社 | 支持装置 |
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JP5649591B2 (ja) | 2012-01-11 | 2015-01-07 | 三菱電機株式会社 | 電気めっき用保持具およびこの保持具を用いた電気めっき装置 |
JP6481910B2 (ja) | 2015-05-25 | 2019-03-13 | 株式会社村田製作所 | 電気めっき用治具及び電気めっき方法 |
JP6932047B2 (ja) * | 2017-08-29 | 2021-09-08 | マクセルホールディングス株式会社 | 母型保持具及びマスク製造方法 |
-
2017
- 2017-08-29 JP JP2017164333A patent/JP6932047B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP7203888B2 (ja) | 2023-01-13 |
JP6932047B2 (ja) | 2021-09-08 |
JP2021105221A (ja) | 2021-07-26 |
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