JP2018158394A - 微細素子およびその製造方法 - Google Patents
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Claims (4)
- 基板と、
前記基板の上に形成された第1支持部と、
前記第1支持部の上に固定される固定部と前記基板から離間して延在する延在部とを備える梁部と、
前記基板の上に形成された第2支持部と、
前記第2支持部の上に固定されて前記第1支持部の上部の前記梁部の上面を押さえる押さえ部と
を備えることを特徴とする微細素子。 - 請求項1記載の微細素子において、
前記梁部の前記延在部は、前記固定部より前記基板の平面に平行な第1方向に延在し、
前記押さえ部は、前記基板の平面に平行で前記第1方向に垂直な第2方向において前記固定部を挟んだ2箇所に配置された前記第2支持部に固定されている
ことを特徴とする微細素子。 - 基板の上に第1支持部を形成する第1工程と、
前記基板の上に第2支持部を形成する第2工程と、
前記第1支持部の上に固定される固定部と前記基板から離間して延在する延在部とを備える梁部を形成する第3工程と、
前記第2支持部の上に固定されて前記第1支持部の上部の前記梁部の上面を押さえる押さえ部を形成する第4工程と
を備えることを特徴とする微細素子の製造方法。 - 請求項3記載の微細素子の製造方法において、
前記第1工程では、前記基板の上に第1領域および第2領域を備える第1パターン層を形成し、前記第1パターン層の前記第1領域を前記第1支持部とし、
前記第2工程では、前記第1パターン層の上に、第3領域および前記梁部となる第4領域を備える第2パターン層を形成し、前記第1パターン層の前記第2領域に、前記第2パターン層の前記第3領域が重なる状態として前記第2支持部とし、
前記第3工程では、前記第1パターン層の前記第1領域の上に、前記第2パターン層の前記第4領域の一部が重なる状態として、前記第1支持部の上に前記固定部が固定された前記梁部を形成する
ことを特徴とする微細素子の製造方法。
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