JP2018116069A - Infrared blocking film - Google Patents

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友香子 高
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an infrared blocking film which offers good weather resistance and superior heat insulating property.SOLUTION: An infrared blocking film comprises a heat ray reflective layer consisting of alternately laminated high refractive index layers containing a polymer and low refractive index layers containing a polymer, and a heat ray absorptive layer containing cesium-containing tungsten oxide, which are laminated in order from a light incident side, and has an average reflectance of 8% or greater for a wavelength in a range of 1300-1600 nm. The heat ray absorptive layer has a thickness no greater than 10 μm.SELECTED DRAWING: Figure 1A

Description

本発明は、赤外遮蔽フィルムに関する。   The present invention relates to an infrared shielding film.

近年、省エネルギー対策への関心が高まり、建物や車両の窓ガラスから、太陽光の熱線の透過を遮断する近赤外光反射フィルムの開発が行われるようになっている。これにより冷房設備にかかる負荷を減らすことができ、省エネルギー対策として有効である。   In recent years, interest in energy saving measures has increased, and near-infrared light reflecting films that block the transmission of solar heat rays from the window glass of buildings and vehicles have been developed. This can reduce the load on the cooling equipment and is effective as an energy saving measure.

近年、基材上に、高屈折率層および低屈折率層を含む光反射層が配置された積層膜が、特定波長の光を選択的に反射させることが理論的に裏付けられた。そこで、上記の積層膜は、所定の波長を有する光を遮蔽する光学反射フィルムとして種々の用途に使用されている。例えば、可視光を透過しつつ、熱線となる赤外線を遮蔽する積層膜は、赤外遮蔽フィルムとして建築物の窓や車両用部材に用いられている。   In recent years, it has been theoretically supported that a laminated film in which a light reflecting layer including a high refractive index layer and a low refractive index layer is disposed on a substrate selectively reflects light of a specific wavelength. Therefore, the above laminated film is used for various applications as an optical reflection film that shields light having a predetermined wavelength. For example, a laminated film that shields infrared rays that are heat rays while transmitting visible light is used as an infrared shielding film for building windows and vehicle members.

特許文献１には、ポリマーの交互層を有する赤外光反射多層フィルムと硬化したポリマーバインダー中に分散した多数の酸化錫を含む金属酸化物ナノ粒子を含む赤外光吸収ナノ粒子層を積層した多層フィルム製品が提案されている。かかる多層フィルム製品では、上記構成とすることにより、高い可視光透過率と赤外遮断性を達成できるというものである。   In Patent Document 1, an infrared light reflecting multilayer film having alternating layers of polymers and an infrared light absorbing nanoparticle layer including metal oxide nanoparticles containing a large number of tin oxides dispersed in a cured polymer binder were laminated. Multi-layer film products have been proposed. In such a multilayer film product, high visible light transmittance and infrared blocking properties can be achieved by adopting the above configuration.

特許第５４６４５６７号公報Japanese Patent No. 5464567

しかしながら、特許文献１に記載の多層フィルム製品では、多数の酸化錫を含む金属酸化物ナノ粒子を含む赤外光吸収ナノ粒子層が、変色するなど耐候性が不十分であるという問題があった。また赤外光吸収ナノ粒子層は熱を吸収する為、熱割れしたり、遮熱フィルム（多層フィルム製品）が熱膨張・熱収縮を繰り返すことによりフィルムがカールし、窓等に遮熱フィルムとして貼り付けた場合には端部が剥がれてしまうなど耐候性が不十分であるという問題もあった。   However, the multilayer film product described in Patent Document 1 has a problem that the infrared light absorbing nanoparticle layer containing metal oxide nanoparticles containing a large number of tin oxides has insufficient weather resistance such as discoloration. . In addition, the infrared light absorbing nanoparticle layer absorbs heat, so the film curls due to thermal cracking and thermal expansion and contraction of the thermal barrier film (multilayer film product), and as a thermal barrier film on windows, etc. When pasted, there was also a problem that the weather resistance was insufficient, such as peeling off the end.

したがって、本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、耐候性が良好で高遮熱性である赤外遮蔽フィルムを提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide an infrared shielding film having good weather resistance and high heat shielding properties.

本発明者らは、上記の問題を解決すべく、鋭意研究を行った結果、熱線吸収能を有する材料の中でも、特に光学特性、耐候性向上効果に優れるセシウム含有酸化タングステンを含む熱線吸収層を用いて、該酸化タングステンが過度の熱線吸収により壊れないように、反射層で反射する波長を該酸化タングステンの吸収波長に合わせ、更に熱線吸収層の膜厚を調整することにより、上記課題を解決できることを知得し、本発明を完成させた。   As a result of diligent research to solve the above problems, the inventors of the present invention have developed a heat ray absorbing layer containing cesium-containing tungsten oxide that is particularly excellent in optical properties and weather resistance improvement effect among materials having heat ray absorbing ability. The above problem is solved by adjusting the wavelength reflected by the reflective layer to the absorption wavelength of the tungsten oxide and further adjusting the thickness of the heat ray absorbing layer so that the tungsten oxide is not broken by excessive heat ray absorption. It was learned that it was possible to complete the present invention.

すなわち、上記目的は、光入射側より、ポリマーを含有する高屈折率層とポリマーを含有する低屈折率層の交互積層からなる熱線反射層と、セシウム含有酸化タングステンを含有する熱線吸収層とが積層されたフィルムであって、１３００〜１６００ｎｍの波長の平均反射率が８％以上であり、熱線吸収層の膜厚が１０μｍ以下であることを特徴とする赤外遮蔽フィルムによって達成できる。   That is, the above-mentioned purpose is that, from the light incident side, a heat ray reflective layer composed of alternating layers of a high refractive index layer containing a polymer and a low refractive index layer containing a polymer, and a heat ray absorbing layer containing a cesium-containing tungsten oxide. This is a laminated film, and can be achieved by an infrared shielding film characterized in that the average reflectance at a wavelength of 1300 to 1600 nm is 8% or more and the film thickness of the heat ray absorbing layer is 10 μm or less.

本発明によれば、耐候性が良好で高い遮熱性を有する赤外遮蔽フィルムを提供できる。   According to the present invention, an infrared shielding film having good weather resistance and high heat shielding properties can be provided.

本発明の実施形態に係る赤外遮蔽フィルムの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the infrared shielding film which concerns on embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る、図１Ａの赤外遮蔽フィルムを用いてなる赤外遮蔽体の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the infrared shielding body which uses the infrared shielding film of FIG. 1A based on other embodiment of this invention.

本発明の赤外遮蔽フィルムは、光入射側より、ポリマーを含有する高屈折率層とポリマーを含有する低屈折率層の交互積層からなる熱線反射層と、セシウム含有酸化タングステンを含有する熱線吸収層とが積層されたフィルムであって、１３００〜１６００ｎｍの波長の平均反射率が８％以上であり、熱線吸収層の膜厚が１０μｍ以下であることを特徴とするものである。本明細書では、「熱線反射層」は単に「反射層」とも称する。同様に「熱線吸収層」は単に「吸収層」とも称する。   The infrared shielding film of the present invention comprises, from the light incident side, a heat ray reflection layer comprising an alternating laminate of a high refractive index layer containing a polymer and a low refractive index layer containing a polymer, and a heat ray absorption containing a cesium-containing tungsten oxide. The layer is a film in which an average reflectance at a wavelength of 1300 to 1600 nm is 8% or more, and the thickness of the heat ray absorbing layer is 10 μm or less. In the present specification, the “heat ray reflective layer” is also simply referred to as “reflective layer”. Similarly, the “heat ray absorbing layer” is also simply referred to as “absorbing layer”.

本発明は、上記構成をとることによって、耐候性が良好で高い遮熱性を奏することができる。発明の効果を奏する詳細な作用機序（メカニズム）は不明であるが、以下のように推測される。なお、本発明は下記作用機序（メカニズム）に何ら拘束されるものではない。   By adopting the above-described configuration, the present invention can exhibit good weather resistance and high heat shielding properties. Although the detailed mechanism of action (mechanism) that exhibits the effects of the invention is unknown, it is presumed as follows. In addition, this invention is not restrained at all by the following action mechanism (mechanism).

セシウム含有酸化タングステンを含有する吸収層において、酸化タングステンが光（特に１３００〜１６００ｎｍの近赤外光の波長）により壊れて変色するという問題があることがわかった。また熱線吸収層は熱を吸収する為、熱割れしたり、赤外遮熱フィルムが熱膨張・熱収縮を繰り返すことによりフィルムがカールし窓等に遮熱フィルムとして貼り付けた場合には端部が剥がれてしまうという問題が生じることがわかった。そこで本発明では前記の耐候性を改良するために酸化タングステンが１３００〜１６００ｎｍの間に極大吸収帯域を持つのに着目し、その波長に反射層で反射する波長も合わせる（具体的には、１３００〜１６００ｎｍの波長の平均反射率を８％以上にする）ことにより、酸化タングステンの変色を防止することができることを知得したものである。即ち、酸化タングステンが最も吸収する熱線（上記１３００〜１６００ｎｍの波長）を反射層で反射させてしまうことで、当該反射層を透過してくる上記熱線量を制限することができる。これにより、過度の熱線吸収による酸化タングステンの崩壊を効果的に防止することができ、ひいては酸化タングステンの変色を防止することができることを知得したものである。さらに、反射層で反射させる波長（上記熱線）と吸収層の膜厚を調整することにより、酸化タングステンによる過度の熱線吸収を防止し、吸収層が熱くなりすぎるのを抑えることができるため、吸収層の熱割れを効果的に防止し、熱膨張・熱収縮によるフィルムがカールするのを防止することもでき、窓等に施工した場合でも長期間剥がれないようにすることもできる。以上の通り、本発明の構成とすることにより、耐候性が良好で高遮熱性にできることを知得したものである。特に、反射層で反射させる１３００〜１６００ｎｍの波長の平均反射率を高めるには、反射層を構成する高屈折率層と低屈折率層の交互積層構造のうち、特定の位置にある層の膜厚だけを厚膜にすることにより実現できることを知得したものである。具体的には、反射層の層数を高屈折率層と低屈折率層とを合わせてＮ層とし、反射層を積層する樹脂フィルム（又は吸収層）に最も近い層を１層目とし、最も遠い層をＮ層目とした場合に、（Ｎ／４）〜（Ｎ／２）層目の間の少なくとも１層、好ましくはいずれか１層の膜厚を隣接層の膜厚より厚くする（好ましくは隣接層の膜厚の１．２倍以上とする）ことにより実現できることを知得したものである。また、厚くする層は、高屈折率層が最適であることも知得したものである。   In the absorption layer containing cesium-containing tungsten oxide, it has been found that there is a problem that tungsten oxide is broken and discolored by light (in particular, the wavelength of near infrared light of 1300 to 1600 nm). In addition, the heat ray absorbing layer absorbs heat, so if the film is curled due to thermal cracking or repeated thermal expansion / shrinkage of the infrared thermal insulation film, it is attached to the window as a thermal insulation film. It has been found that the problem of peeling off occurs. Therefore, in the present invention, attention is paid to the fact that tungsten oxide has a maximum absorption band between 1300 nm and 1600 nm in order to improve the weather resistance, and the wavelength reflected by the reflective layer is also matched with that wavelength (specifically, 1300 It has been found that discoloration of tungsten oxide can be prevented by setting the average reflectance at a wavelength of ˜1600 nm to 8% or more. That is, by reflecting the heat ray (the wavelength of 1300 to 1600 nm) most absorbed by tungsten oxide by the reflective layer, the heat dose transmitted through the reflective layer can be limited. As a result, it has been found that tungsten oxide can be effectively prevented from collapsing due to excessive heat ray absorption, and further, discoloration of tungsten oxide can be prevented. Furthermore, by adjusting the wavelength reflected by the reflective layer (the above heat ray) and the film thickness of the absorption layer, excessive heat ray absorption by tungsten oxide can be prevented, and the absorption layer can be prevented from becoming too hot. It is possible to effectively prevent thermal cracking of the layer, to prevent the film from curling due to thermal expansion and contraction, and to prevent the film from peeling for a long time even when applied to a window or the like. As described above, it has been found that the structure of the present invention has good weather resistance and high heat shielding properties. In particular, in order to increase the average reflectance of the wavelength of 1300 to 1600 nm reflected by the reflective layer, the film of a layer at a specific position in the alternately laminated structure of the high refractive index layer and the low refractive index layer constituting the reflective layer It has been found that this can be realized by making only the thickness thick. Specifically, the number of layers of the reflective layer is the N layer by combining the high refractive index layer and the low refractive index layer, the first layer is the layer closest to the resin film (or absorption layer) on which the reflective layer is laminated, When the farthest layer is the Nth layer, at least one layer between the (N / 4) to (N / 2) layers, preferably any one layer is made thicker than the adjacent layer. It has been found that it can be realized by (preferably 1.2 times or more the film thickness of the adjacent layer). It has also been found that the thickening layer is optimally a high refractive index layer.

したがって、本発明の赤外遮蔽フィルムは、膜割れや色調の変化が少なく、耐候性に優れ、高遮熱性である。ゆえに、本発明の赤外遮蔽フィルムは、建築物の窓や車両用部材などに設置される赤外遮蔽フィルムとして好適に使用できる。   Therefore, the infrared shielding film of the present invention has little film cracking and color change, is excellent in weather resistance, and has high heat shielding properties. Therefore, the infrared shielding film of this invention can be used conveniently as an infrared shielding film installed in the window of a building, the member for vehicles, etc.

以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態のみには限定されない。また、図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。本明細書において、範囲を示す「Ｘ〜Ｙ」は「Ｘ以上Ｙ以下」を意味する。また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温（２０〜２５℃）／相対湿度４０〜６０％の条件で測定する。   Embodiments of the present invention will be described below. In addition, this invention is not limited only to the following embodiment. In addition, the dimensional ratios in the drawings are exaggerated for convenience of explanation, and may be different from the actual ratios. In this specification, “X to Y” indicating a range means “X or more and Y or less”. Unless otherwise specified, measurements such as operation and physical properties are performed under conditions of room temperature (20 to 25 ° C.) / Relative humidity 40 to 60%.

図１は、本発明の一実施形態に係る赤外遮蔽フィルム（図１Ａ）および当該赤外遮蔽フィルムを用いてなる赤外遮蔽体（図１Ｂ）の概略断面図である。図１Ａの赤外遮蔽フィルム１は、光入射側より粘着層２、ポリマーを含有する高屈折率層３ａとポリマーを含有する低屈折率層３ｂの交互積層からなる熱線反射層３、樹脂フィルム４、セシウム含有酸化タングステンを含有する熱線吸収層５がこの順で積層されてなる。さらに、図１では、熱線反射層３の層数１３とし、樹脂フィルム側から１層目を低屈折率層３ｂとし、６層目の高屈折率層を隣接層の５、７層目の低屈折率層３ｂ、更にこれに隣接する４、８層目の高屈折率層３ａの膜厚より厚くした高屈折率層３ａ’としている。また各低屈折率層３ｂの膜厚は全て同じ膜厚とし、同様に６層目以外の各高屈折率層３ａの膜厚も全て同じ膜厚としている。また、図１Ｂの赤外遮蔽体１０は、図１Ａの赤外遮蔽フィルム１の粘着層２が、光透過性基体６と接合（貼合）されてなる構成である。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an infrared shielding film (FIG. 1A) and an infrared shielding body (FIG. 1B) using the infrared shielding film according to an embodiment of the present invention. Infrared shielding film 1 in FIG. 1A includes an adhesive layer 2, a polymer-containing high refractive index layer 3a and a polymer-containing low refractive index layer 3b, and a heat ray reflective layer 3 and a resin film 4 from the light incident side. The heat ray absorbing layer 5 containing cesium-containing tungsten oxide is laminated in this order. Further, in FIG. 1, the number of heat ray reflective layers 3 is 13, the first layer from the resin film side is the low refractive index layer 3b, and the sixth high refractive index layer is the lower of the fifth and seventh adjacent layers. The high refractive index layer 3a ′ is made thicker than the thickness of the refractive index layer 3b and the fourth and eighth high refractive index layers 3a adjacent thereto. The thicknesses of the low refractive index layers 3b are all the same, and the thicknesses of the high refractive index layers 3a other than the sixth layer are all the same. Moreover, the infrared shielding body 10 in FIG. 1B has a configuration in which the adhesive layer 2 of the infrared shielding film 1 in FIG. 1A is bonded (bonded) to the light-transmitting substrate 6.

本実施形態（以下、単に本形態ともいう）において、樹脂フィルム４は、必ずしも必須の構成要件ではないが、図１に示されるように、熱線吸収層５の少なくとも一方の面に樹脂フィルムが配置されることが好ましい。すなわち、樹脂フィルム４は、熱線反射層３と熱線吸収層５との間に配置されることが好ましい。このような構成をとることによって、光や水分等の外部からの影響をより受けにくくなるため、耐候性高め、色調の変化をより有効に抑制または防止できる。また、熱線吸収層２の光入射側とは反対側の面には、必要に応じて、ハードコート層（保護層）や樹脂フィルム（保護フィルム）など（共に図示せず）が配置されていてもよい。このような構成をとることによって、擦り傷や水分等の外部からの影響をより受けにくくなるため、耐候性をより有効に高めることができる。   In this embodiment (hereinafter, also simply referred to as this embodiment), the resin film 4 is not necessarily an essential component, but as shown in FIG. 1, the resin film is disposed on at least one surface of the heat ray absorbing layer 5. It is preferred that That is, the resin film 4 is preferably disposed between the heat ray reflective layer 3 and the heat ray absorbing layer 5. By adopting such a configuration, it becomes less susceptible to external influences such as light and moisture, so that weather resistance can be improved and change in color tone can be more effectively suppressed or prevented. Moreover, a hard coat layer (protective layer), a resin film (protective film), etc. (both not shown) are arranged on the surface opposite to the light incident side of the heat ray absorbing layer 2 as necessary. Also good. By adopting such a configuration, weather resistance can be improved more effectively because it is less susceptible to external influences such as scratches and moisture.

また、赤外遮蔽フィルムの設置方法は特に制限されない。例えば、赤外遮蔽フィルム１を熱線遮蔽フィルムとして窓ガラス（光透過性基体６）に使用する場合には、図１に示すように、太陽光が赤外遮蔽フィルム１の熱線反射層３側から入射するように、設置すればよい。すなわち、熱線吸収層５（ハードコート層や樹脂フィルムを用いる場合には、これらハードコート層等）が最外層に配置され、かつ他方の最外層（基体側）に粘着層２が配置されることが好ましい。このような形態では、例えば、赤外遮蔽フィルム１を自動車等の車室内や建造物等の室内側の窓ガラス（フロントやリアガラスを含む；光透過性基体６）面に粘着層２を介して貼り合わせる場合には、粘着層２が太陽光入射側に配置され、他方の最外層に熱線吸収層５（ハードコート層や樹脂フィルムを用いる場合には、これらハードコート層等）が配置される形態となる。当該形態の場合には太陽光が入射する側に、反射する波長を酸化タングステンの吸収波長に合わせて設計された熱線反射層３が配置されるため、熱線吸収層５に侵入する波長１３００〜１６００ｎｍの熱線（赤外線）量をより有効に低減することができる。このため、熱線吸収層５に含まれるタングステン酸化物等の熱線（赤外線）の吸収量がより低減され、結果として熱線吸収層５の割れ（熱割れ）をより有効に抑制または防止できる。   Moreover, the installation method of the infrared shielding film is not particularly limited. For example, when the infrared shielding film 1 is used as a heat ray shielding film for a window glass (light transmissive substrate 6), sunlight is emitted from the heat ray reflective layer 3 side of the infrared shielding film 1 as shown in FIG. What is necessary is just to install so that it may inject. That is, the heat-absorbing layer 5 (when using a hard coat layer or a resin film, these hard coat layers, etc.) are disposed on the outermost layer, and the adhesive layer 2 is disposed on the other outermost layer (substrate side). Is preferred. In such a form, for example, the infrared shielding film 1 is placed on the surface of a window glass (including front and rear glasses; light-transmitting base 6) inside a vehicle interior such as an automobile or a building via the adhesive layer 2. In the case of bonding, the adhesive layer 2 is disposed on the sunlight incident side, and the heat ray absorbing layer 5 (the hard coat layer or the like when a hard coat layer or a resin film is used) is disposed on the other outermost layer. It becomes a form. In the case of the said form, since the heat ray reflective layer 3 designed according to the absorption wavelength of tungsten oxide is arrange | positioned in the sunlight incident side, the wavelength which penetrates into the heat ray absorption layer 5 is 1300-1600 nm. The amount of heat rays (infrared rays) can be reduced more effectively. For this reason, the amount of absorption of heat rays (infrared rays) such as tungsten oxide contained in the heat ray absorbing layer 5 is further reduced, and as a result, cracking (heat cracking) of the heat ray absorbing layer 5 can be more effectively suppressed or prevented.

本形態の赤外遮蔽フィルムが粘着層を有する場合、粘着層上に、さらに剥離層（図示せず）を設け、基体に貼りつける際に、この剥離層を剥がすようにしてもよい。また、他の層（例えば、導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易粘着層、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、赤外線カット層（金属層、液晶層）、着色層（可視光線吸収層）、合わせガラスに利用される中間膜層などの機能層の１つ以上）を単独もしくは適当に組み合わせて用いてもよい。また、赤外遮蔽フィルムの熱線吸収層上にも、他の層（例えば、ハードコート層、導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易粘着層、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、赤外線カット層（金属層、液晶層）、着色層（可視光線吸収層）、合わせガラスに利用される中間膜層などの機能層の１つ以上）や樹脂フィルムを単独もしくは適当に組み合わせて用いてもよい。   When the infrared shielding film of this embodiment has an adhesive layer, a release layer (not shown) may be further provided on the adhesive layer, and the release layer may be peeled off when being attached to the substrate. In addition, other layers (for example, conductive layer, antistatic layer, gas barrier layer, easy-adhesion layer, antifouling layer, deodorant layer, drip layer, easy-slip layer, wear-resistant layer, antireflection layer, electromagnetic wave shield) Used for layers, ultraviolet absorbing layers, infrared absorbing layers, printed layers, fluorescent light emitting layers, hologram layers, release layers, adhesive layers, infrared cut layers (metal layers, liquid crystal layers), colored layers (visible light absorbing layers), and laminated glass One or more functional layers such as an intermediate film layer) may be used alone or in appropriate combination. In addition, other layers (for example, a hard coat layer, a conductive layer, an antistatic layer, a gas barrier layer, an easy-adhesion layer, an antifouling layer, a deodorizing layer, a droplet layer) on the heat ray absorbing layer of the infrared shielding film. , Slippery layer, abrasion-resistant layer, antireflection layer, electromagnetic wave shielding layer, ultraviolet absorption layer, infrared absorption layer, printing layer, fluorescent light emitting layer, hologram layer, release layer, adhesive layer, infrared cut layer (metal layer, liquid crystal Layer), a colored layer (visible light absorbing layer), one or more functional layers such as an interlayer film used for laminated glass, and a resin film may be used alone or in appropriate combination.

（赤外遮蔽フィルムの１３００〜１６００ｎｍの波長の平均反射率）
上記した構成を有する本発明の赤外遮蔽フィルムでは、１３００〜１６００ｎｍの波長の平均反射率が８％以上である。これは、熱線反射層で反射する波長を、熱線吸収層に用いた酸化タングステンの吸収波長である１３００〜１６００ｎｍの波長に合わせることで、当該波長域の平均反射率を上記に規定する範囲とすることができたものである。平均反射率を上記範囲とし、更に熱線吸収層の膜厚を１０μｍ以下にすることにより、上記した作用機序（メカニズム）等の働きにより発明の効果（耐候性及び遮熱性向上効果）を有効に発現することができる。上記平均反射率の上限は特に制限されるものではないが、他波長反射率とのバランスの観点から、２０％以下とするのがよい。以上の点から、１３００〜１６００ｎｍの波長の平均反射率は８〜２０％が好ましく、９％〜２０％がより好ましく、１０〜２０％がさらに好ましく、１２％〜２０％が特に好ましい。 (Average reflectance of infrared shielding film at a wavelength of 1300 to 1600 nm)
In the infrared shielding film of the present invention having the above-described configuration, the average reflectance at a wavelength of 1300 to 1600 nm is 8% or more. This is achieved by adjusting the wavelength reflected by the heat ray reflective layer to the wavelength of 1300 to 1600 nm, which is the absorption wavelength of tungsten oxide used in the heat ray absorbing layer, so that the average reflectance in the wavelength region is within the range specified above. Was able to. By making the average reflectance within the above range and further making the film thickness of the heat-absorbing layer 10 μm or less, the effects of the invention (weather resistance and heat shielding improvement effect) are effectively achieved by the functions such as the above-described action mechanism (mechanism). Can be expressed. The upper limit of the average reflectance is not particularly limited, but is preferably 20% or less from the viewpoint of balance with other wavelength reflectance. From the above points, the average reflectance at a wavelength of 1300 to 1600 nm is preferably 8 to 20%, more preferably 9% to 20%, further preferably 10 to 20%, and particularly preferably 12% to 20%.

（１３００〜１６００ｎｍの波長の平均反射率８％以上を達成する手段）
高屈折率層及び低屈折率層の交互積層からなる多層積層体である熱線反射層の膜厚を調整することにより、熱線反射層で反射する波長を調整することができる。熱線反射層の膜厚調整方法としては、熱線反射層の層数を高屈折率層と低屈折率層とを合わせてＮ層とし、熱線反射層を積層する樹脂フィルムに最も近い層を１層目とし、最も遠い層をＮ層目とした場合に、（Ｎ／４）〜（Ｎ／２）層目の間の少なくとも１層、好ましくはいずれか１層、特に好ましくは高屈折率層のいずれか１層の膜厚を隣接層の膜厚より厚くすることが好ましく、隣接層の膜厚の１．２倍以上とすることがより好ましい。厚くする層は高屈折率層が最適である。例えば、低屈折率層（ＳｉＯ２）及び高屈折率層（ＴｉＯ２）からなる２１層（層数Ｎ＝２１）の熱線反射層では、１層目を低屈折率層とした場合、（Ｎ／４）〜（Ｎ／２）層目＝５〜１１層目（層数のため小数点以下を四捨五入した）のうち、厚くする層を１０層目の高屈折率層（膜厚２３０ｎｍ）とし、隣接層の９層目及び１１層目の膜厚を１５０ｎｍ等にすることで達成できる。この際、各低屈折率層の膜厚は全て同じ膜厚（１５０ｎｍ）とし、同様に厚くする層以外の各高屈折率層の膜厚は全て同じ膜厚（１２０ｎｍ）とした。 (Means for achieving an average reflectance of 8% or more at a wavelength of 1300 to 1600 nm)
The wavelength reflected by the heat ray reflective layer can be adjusted by adjusting the film thickness of the heat ray reflective layer which is a multilayer laminate composed of alternately laminated layers of high refractive index layers and low refractive index layers. As a method for adjusting the thickness of the heat ray reflective layer, the number of heat ray reflective layers is set to N layers by combining the high refractive index layer and the low refractive index layer, and one layer closest to the resin film on which the heat ray reflective layer is laminated is one layer. And when the farthest layer is the Nth layer, at least one layer, preferably any one layer, particularly preferably a high refractive index layer between the (N / 4) to (N / 2) layers The film thickness of any one layer is preferably larger than the film thickness of the adjacent layer, and more preferably 1.2 times or more the film thickness of the adjacent layer. The thickening layer is optimally a high refractive index layer. For example, in a heat ray reflective layer of 21 layers (number of layers N = 21) composed of a low refractive index layer (SiO 2 ) and a high refractive index layer (TiO 2 ), when the first layer is a low refractive index layer, (N / 4) to (N / 2) layer = 5 to 11th layer (the number of layers is rounded off to the nearest decimal point), and the layer to be thickened is the tenth high refractive index layer (film thickness 230 nm), This can be achieved by setting the thickness of the ninth and eleventh layers of the adjacent layers to 150 nm or the like. At this time, the thicknesses of the respective low refractive index layers were all set to the same thickness (150 nm), and the thicknesses of the respective high refractive index layers other than the layer to be similarly increased were set to the same thickness (120 nm).

（赤外遮蔽フィルムの８００〜１３００ｎｍの波長の平均反射率）
上記した構成を有する本形態の赤外遮蔽フィルムでは、８００〜１３００ｎｍの波長の平均反射率は、高いほど熱線（赤外光）を効果的に反射することで高遮熱性にできることから好ましく、２０％以上が好ましく、３０％以上がより好ましい。 (Average reflectance of infrared shielding film at a wavelength of 800 to 1300 nm)
In the infrared shielding film of the present embodiment having the above-described configuration, the higher the average reflectance at a wavelength of 800 to 1300 nm, the higher the heat shielding property by effectively reflecting the heat rays (infrared light). % Or more is preferable, and 30% or more is more preferable.

（赤外遮蔽フィルムの平均反射率の測定）
赤外遮蔽フィルムの８００〜１３００ｎｍ、１３００〜１６００ｎｍの波長の平均反射率は、実施例の＜赤外透過率、可視光透過率の測定＞に記載の方法により、測定することができる。 (Measurement of average reflectance of infrared shielding film)
The average reflectance of wavelengths of 800 to 1300 nm and 1300 to 1600 nm of the infrared shielding film can be measured by the method described in <Measurement of infrared transmittance and visible light transmittance> in Examples.

（赤外遮蔽フィルムの厚み）
赤外遮蔽フィルムの全体の厚み（粘着層は含むが、粘着層上の剥離層（離型フィルム）等のように、使用前に剥離されるものは含まない）は、施工性の観点から、好ましくは１２〜３１５μｍ、より好ましくは１５〜２００μｍ、さらに好ましくは２０〜１００μｍである。 (Infrared shielding film thickness)
From the viewpoint of workability, the entire thickness of the infrared shielding film (including the adhesive layer, but not including those peeled off before use, such as a release layer (release film) on the adhesive layer), Preferably it is 12-315 micrometers, More preferably, it is 15-200 micrometers, More preferably, it is 20-100 micrometers.

以下、下記構成部材の好ましい形態について詳細に説明する。   Hereinafter, the preferable form of the following structural member is demonstrated in detail.

（熱線反射層）
本形態において、赤外遮蔽フィルム１は、ポリマーを含有する高屈折率層とポリマーを含有する低屈折率層の交互積層からなる熱線反射層を有する。すなわち、熱線反射層は、熱線（赤外線）の侵入を防ぐことができるように、屈折率の異なる層の多層反射体（積層反射体）である、高屈折率層および低屈折率層が交互に積層された構成（積層反射体）となっている。本明細書において、「高屈折率層」および「低屈折率層」なる用語は、隣接した２層の屈折率差を比較した場合に、屈折率が高い方の屈折率層を高屈折率層とし、低い方の屈折率層を低屈折率層とすることを意味する。したがって、「高屈折率層」および「低屈折率層」なる用語は、フィルムを構成する各屈折率層において、隣接する２つの屈折率層に着目した場合に、各屈折率層が同じ屈折率を有する形態以外のあらゆる形態を含むものである。 (Heat ray reflective layer)
In this embodiment, the infrared shielding film 1 has a heat ray reflective layer composed of alternating layers of a high refractive index layer containing a polymer and a low refractive index layer containing a polymer. That is, the heat-reflective layer is a multilayer reflector (laminated reflector) of layers having different refractive indexes, so that intrusion of heat rays (infrared rays) can be prevented, and the high-refractive index layer and the low-refractive index layer are alternately arranged. It is the laminated structure (laminated reflector). In this specification, the terms “high refractive index layer” and “low refractive index layer” refer to a refractive index layer having a higher refractive index when comparing the refractive index difference between two adjacent layers. It means that the lower refractive index layer is a low refractive index layer. Therefore, the terms “high refractive index layer” and “low refractive index layer” mean that each refractive index layer has the same refractive index when attention is paid to two adjacent refractive index layers. All forms other than the forms having the above are included.

熱線反射層（を構成する高屈折率層と低屈折率層）は、ポリマーを含む。このようにポリマーを用いることにより、金属酸化物材料のみで形成される無機膜の熱線反射層に比して層の柔軟性が向上するため、膜割れを有効に防ぐことができる。また、各層間の密着性を向上させることができる。さらに、塗布等により熱線反射層を製膜できるため、均一でかつ大面積な製膜が容易である。さらに塗布等により熱線反射層（積層反射体）を製膜できれば、１３００〜１６００ｎｍの波長を反射できるように積層反射体の特定の層（好ましくは高屈折率層のうち、積層反射体の中間より下の少なくとも１層、具体的には層数Ｎの積層反射体のＮ／４〜Ｎ／２層目のいずれか１層）の膜厚を厚膜に製膜することも容易である点で優れている。また、製膜速度を上げることができるため、製造コストや量産の点からも好ましい。加えて、高温で製膜する必要がないため、基材（樹脂フィルム）の選択範囲が広く、温度変化による熱線反射層と他の層（例えば、熱線吸収層、樹脂フィルム）との間のまたは熱線反射層（高屈折率層と低屈折率層の交互積層）間の収縮率差に起因する層の剥離を有効に防止できる。さらに、ポリマーを含む熱線反射層は、上述したように、柔軟性に優れるため、柔軟な基板（樹脂フィルム）に対しても適用でき、曲げ部分などに割れやキズなどの発生を抑制できる。なお、熱線反射層は、ポリマーに加えて、例えば、金属酸化物（粒子）、その他の添加剤等の他の物質を含んでもよい。   The heat ray reflective layer (the high refractive index layer and the low refractive index layer constituting it) contains a polymer. By using the polymer in this manner, the flexibility of the layer is improved as compared with the heat ray reflective layer of the inorganic film formed only of the metal oxide material, so that film cracking can be effectively prevented. Moreover, the adhesiveness between each layer can be improved. Furthermore, since the heat ray reflective layer can be formed by coating or the like, uniform and large-area film formation is easy. Furthermore, if a heat ray reflective layer (laminated reflector) can be formed by coating or the like, a specific layer of the laminated reflector (preferably from the middle of the laminated reflector among the high refractive index layers so that a wavelength of 1300 to 1600 nm can be reflected. The film thickness of at least one lower layer (specifically, any one of N / 4 to N / 2 layers of the multilayer reflector having N layers) can be easily formed into a thick film. Are better. Moreover, since the film forming speed can be increased, it is preferable from the viewpoint of manufacturing cost and mass production. In addition, since it is not necessary to form a film at a high temperature, the selection range of the base material (resin film) is wide, and between the heat ray reflective layer and other layers (for example, heat ray absorbing layer, resin film) due to temperature change or It is possible to effectively prevent peeling of the layer due to a difference in shrinkage rate between the heat ray reflective layers (alternate lamination of high refractive index layers and low refractive index layers). Furthermore, since the heat ray reflective layer containing a polymer is excellent in flexibility as described above, it can also be applied to a flexible substrate (resin film) and can suppress the occurrence of cracks and scratches in a bent portion. In addition to the polymer, the heat ray reflective layer may contain other substances such as metal oxide (particles) and other additives.

より好ましくは、熱線反射層は、ポリマーを含む高屈折率層およびポリマーを含む低屈折率層が積層された積層体（ユニット）を少なくとも１つ有する。以下では、上記より好ましい形態について説明する。   More preferably, the heat ray reflective layer has at least one laminate (unit) in which a high refractive index layer containing a polymer and a low refractive index layer containing a polymer are laminated. Below, a more preferable form is demonstrated.

前記高屈折率層と前記低屈折率層とは、以下のように考える。例えば、高屈折率層を構成する成分（以下、高屈折率層成分）と低屈折率層を構成する成分（以下、低屈折率層成分）とが、ふたつの層の界面で混合され、高屈折率層成分と低屈折率層成分とを含む層（混合層）が形成される場合がある。この場合、混合層において、高屈折率層成分が５０質量％以上である部位の集合を高屈折率層とし、低屈折率層成分が５０質量％を超える部位の集合を低屈折率層とする。具体的には、低屈折率層が、例えば、低屈折率成分として第１の金属酸化物を、また、高屈折率層は高屈折率成分として第２の金属酸化物を含有している場合、これらの積層膜における膜厚方向での金属酸化物濃度プロファイルを測定し、その組成によって、高屈折率層または低屈折率層とみなすことができる。積層膜の金属酸化物濃度プロファイルは、スパッタ法を用いて表面から深さ方向へエッチングを行い、ＸＰＳ表面分析装置を用いて、最表面を０ｎｍとして、０．５ｎｍ／ｍｉｎの速度でスパッタし、原子組成比を測定することで観測することが出来る。また、低屈折率成分または高屈折率成分に金属酸化物粒子が含有されておらず、高屈折率層または低屈折率層の一方が水溶性樹脂（有機バインダー）のみから形成されている積層体においても、同様にして、水溶性樹脂（有機バインダー）濃度プロファイルにて、例えば、膜厚方向での炭素濃度を測定することにより混合領域が存在していることを確認し、さらにその組成をＥＤＸにより測定することで、スパッタでエッチングされた各層が、高屈折率層または低屈折率層とみなすことができる。   The high refractive index layer and the low refractive index layer are considered as follows. For example, a component that constitutes a high refractive index layer (hereinafter referred to as a high refractive index layer component) and a component that constitutes a low refractive index layer (hereinafter referred to as a low refractive index layer component) are mixed at the interface between the two layers. A layer (mixed layer) including a refractive index layer component and a low refractive index layer component may be formed. In this case, in the mixed layer, a set of portions where the high refractive index layer component is 50% by mass or more is defined as a high refractive index layer, and a set of portions where the low refractive index layer component exceeds 50% by mass is defined as a low refractive index layer. . Specifically, when the low refractive index layer contains, for example, a first metal oxide as a low refractive index component, and the high refractive index layer contains a second metal oxide as a high refractive index component The metal oxide concentration profile in the film thickness direction in these laminated films is measured, and can be regarded as a high refractive index layer or a low refractive index layer depending on the composition. The metal oxide concentration profile of the laminated film is sputtered from the surface in the depth direction using a sputtering method, and is sputtered at a rate of 0.5 nm / min using the XPS surface analyzer with the outermost surface being 0 nm. It can be observed by measuring the atomic composition ratio. In addition, a laminate in which metal oxide particles are not contained in the low refractive index component or the high refractive index component, and one of the high refractive index layer or the low refractive index layer is formed only from a water-soluble resin (organic binder). Similarly, in the water-soluble resin (organic binder) concentration profile, for example, the carbon concentration in the film thickness direction is measured to confirm that the mixed region exists, and the composition is further changed to EDX. Thus, each layer etched by sputtering can be regarded as a high refractive index layer or a low refractive index layer.

前記熱線反射層は、ポリマーを含む高屈折率層とポリマーを含む低屈折率層が交互に積層された構成（多層積層体）であればよいが、高屈折率層および低屈折率層の層数（屈折率層の総数）は、本発明の効果を損なわない範囲であれば特に制限はなく、１０〜５０層の範囲が好ましい。層数が１０層以上であれば、所望の赤外反射率が得られ、高い遮熱性効果が得られる。層数が５０層以下であれば、反射層が割れ難く、端部剥がれも抑制できるなど十分な耐候性が得られる点で優れている。以上の点から、高屈折率層および低屈折率層の層数（屈折率層の総数）は、好ましくは１３〜３９層である。層数が１３層以上であれば、赤外反射率がより高くでき、より高い遮熱性の効果が得られる点で優れている。層数が３９層以下であれば、反射層の割れを防止し、端部剥がれも防止できるなど、高い耐候性が得られる点で優れている。   The heat ray reflective layer may have a structure (multilayer laminate) in which a high refractive index layer containing a polymer and a low refractive index layer containing a polymer are alternately laminated (a layer of a high refractive index layer and a low refractive index layer). The number (total number of refractive index layers) is not particularly limited as long as the effects of the present invention are not impaired, and a range of 10 to 50 layers is preferable. If the number of layers is 10 or more, a desired infrared reflectance can be obtained and a high heat shielding effect can be obtained. If the number of layers is 50 or less, it is excellent in that sufficient weather resistance can be obtained such that the reflective layer is difficult to break and end peeling can be suppressed. From the above points, the number of high refractive index layers and low refractive index layers (total number of refractive index layers) is preferably 13 to 39 layers. If the number of layers is 13 or more, it is excellent in that the infrared reflectance can be increased and a higher heat shielding effect can be obtained. If the number of layers is 39 or less, it is excellent in that high weather resistance can be obtained, such as prevention of cracking of the reflective layer and prevention of peeling off of the end portion.

また、前記反射層は、ポリマーを含む高屈折率層とポリマーを含む低屈折率層が交互に積層された構成（多層積層体）であればよい。例えば、熱線反射層を構成する多層積層体の最下層および最表層は、高屈折率層および低屈折率層のいずれであってもよい。しかしながら、低屈折率層が最下層および最表層に位置する層構成とすることにより、最下層の隣接層（例えば、樹脂フィルム、熱線吸収層）への密着性、最上層の吹かれ耐性に優れるという観点から、最下層および最表層が低屈折率層である層構成が好ましい。   The reflective layer may have a configuration (multilayer laminate) in which a high refractive index layer containing a polymer and a low refractive index layer containing a polymer are alternately laminated. For example, the lowermost layer and the outermost layer of the multilayer laminate constituting the heat ray reflective layer may be either a high refractive index layer or a low refractive index layer. However, by adopting a layer structure in which the low refractive index layer is located in the lowermost layer and the outermost layer, the adhesion to the lowermost adjacent layer (for example, resin film, heat ray absorbing layer) and the blowout resistance of the uppermost layer are excellent. In view of the above, a layer configuration in which the lowermost layer and the outermost layer are low refractive index layers is preferable.

熱線反射層において、高屈折率層は、より高い屈折率が好ましい。高屈折率層の屈折率は、好ましくは１．７０〜２．５０であり、より好ましくは１．８０〜２．２０である。また、低屈折率層は、より低い屈折率が好ましい。低屈折率層の屈折率が、好ましくは１．１０〜１．６０であり、より好ましくは１．３０〜１．５５であり、さらに好ましくは１．３０〜１．５０である。   In the heat ray reflective layer, the high refractive index layer preferably has a higher refractive index. The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.70 to 2.50, more preferably 1.80 to 2.20. The low refractive index layer preferably has a lower refractive index. The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.10 to 1.60, more preferably 1.30 to 1.55, and still more preferably 1.30 to 1.50.

熱線反射層においては、高屈折率層と低屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で熱線反射率を高くすることができる観点から好ましい。高屈折率層および低屈折率層から構成されるユニットの少なくとも１つにおいて、隣接する該高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が０．１以上であることが好ましく、より好ましくは０．２以上であり、さらに好ましくは０．２５以上である。熱線反射層が低屈折率層および高屈折率層のユニットを複数有する場合には、全てのユニットにおける低屈折率層と高屈折率層との屈折率差が上記好適な範囲内にあることが好ましい。ただし、熱線反射層の最表層や最下層、更には上記した厚くした層に関しては、上記好適な範囲外の構成であってもよい。   In the heat ray reflective layer, it is preferable to design a large difference in refractive index between the high refractive index layer and the low refractive index layer from the viewpoint of increasing the heat ray reflectivity with a small number of layers. In at least one of the units composed of the high refractive index layer and the low refractive index layer, the difference in refractive index between the adjacent high refractive index layer and low refractive index layer is preferably 0.1 or more, more preferably Is 0.2 or more, more preferably 0.25 or more. When the heat ray reflective layer has a plurality of units of a low refractive index layer and a high refractive index layer, the refractive index difference between the low refractive index layer and the high refractive index layer in all the units may be within the preferred range. preferable. However, regarding the outermost layer and the lowermost layer of the heat ray reflective layer, and the above-described thickened layer, a configuration outside the above preferred range may be used.

特定波長領域の反射率は、隣接する２層（高屈折率層と低屈折率層）の屈折率差と積層数で決まり、屈折率差が大きいほど、少ない層数で同じ反射率を得られる。この屈折率差と必要な層数については、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。例えば、赤外反射率（赤外遮蔽率）９０％以上を得るためには、屈折率差が０．１より小さいと、１００層を超える積層が必要になり、生産性が低下するだけでなく、積層界面での散乱が大きくなり、透明性が低下する。反射率の向上と層数を少なくする観点からは、屈折率差に上限はないが、実質的には１．４０程度である。   The reflectance in a specific wavelength region is determined by the difference in refractive index between two adjacent layers (high refractive index layer and low refractive index layer) and the number of layers, and the larger the refractive index difference, the same reflectance can be obtained with a smaller number of layers. . The refractive index difference and the required number of layers can be calculated using commercially available optical design software. For example, in order to obtain an infrared reflectivity (infrared shielding rate) of 90% or more, if the difference in refractive index is smaller than 0.1, a laminate exceeding 100 layers is required, which not only reduces productivity. , Scattering at the laminated interface increases and transparency decreases. From the viewpoint of improving the reflectance and reducing the number of layers, there is no upper limit to the difference in refractive index, but it is substantially about 1.40.

上記屈折率は、高屈折率層、低屈折率層の屈折率を下記の方法に従って求め、両者の差分として求める。すなわち、（必要によりガラスや樹脂フィルム等の基材を用いて）各屈折率層を単層で作製し、このサンプルを１０ｃｍ×１０ｃｍに断裁した後、下記の方法に従って屈折率を求める。分光光度計として、Ｕ−４０００型（日立製作所社製）を用いて、各サンプルの測定面とは反対側の面（裏面）を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５度正反射の条件にて可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）の反射率を２５点測定して平均値を求め、その測定結果より平均屈折率を求める。   The refractive index is obtained as the difference between the refractive indexes of the high refractive index layer and the low refractive index layer according to the following method. That is, each refractive index layer is formed as a single layer (using a substrate such as glass or a resin film if necessary), and this sample is cut into 10 cm × 10 cm, and then the refractive index is obtained according to the following method. Using a U-4000 type (manufactured by Hitachi, Ltd.) as a spectrophotometer, the surface opposite to the measurement surface (back surface) of each sample is roughened, and then light absorption is performed with a black spray. Then, the reflection of light on the back surface is prevented, and the reflectance in the visible light region (400 nm to 700 nm) is measured at 25 points under the condition of regular reflection at 5 degrees to obtain an average value, and the average refractive index is determined from the measurement result. Ask.

また、単層膜でみたとき層表面における反射光と、層底部における反射光の光路差を、ｎ・ｄ＝波長／４、で表される関係にすると位相差により反射光を強めあうよう制御出来、反射率を上げることができる。ここで、ｎは屈折率、またｄは層の物理膜厚、ｎ・ｄは光学膜厚である。この光路差を利用することで、反射を制御出来る。この関係を利用して、各層の屈折率と膜厚を制御して、可視光や、近赤外光の反射を制御する。即ち、各層の屈折率、各層の膜厚、各層の積層のさせ方で、特定波長領域の反射率をアップさせることができる。   In addition, when the optical path difference between the reflected light on the surface of the layer and the reflected light on the bottom of the layer is a relationship expressed by n · d = wavelength / 4 when viewed as a single layer film, the reflected light is controlled to be strengthened by the phase difference. And reflectivity can be increased. Here, n is the refractive index, d is the physical film thickness of the layer, and n · d is the optical film thickness. By using this optical path difference, reflection can be controlled. Using this relationship, the refractive index and film thickness of each layer are controlled to control the reflection of visible light and near infrared light. That is, the reflectance in a specific wavelength region can be increased by the refractive index of each layer, the film thickness of each layer, and the way of stacking each layer.

太陽光の入射スペクトルのうち赤外域が特に室内温度上昇に関係するため、近赤外光を遮蔽することが室内温度の上昇を抑えるのに特に有効である。日本工業規格ＪＩＳ Ｒ３１０６：１９９８に記載された重価係数をもとに赤外の最短波長（７６０ｎｍ）から最長波長３２００ｎｍまでの累積エネルギー比率をみてみると、波長７６０ｎｍから最長波長３２００ｎｍまでの赤外全域の総エネルギーを１００としたときの、７６０ｎｍから各波長までの累積エネルギーをみると、７６０から１３００ｎｍのエネルギー合計が赤外域全体の約７５％を占めている。従って、１３００ｎｍまでの波長領域を遮蔽することが熱線遮蔽による省エネルギー効果の効率がよい。   Since the infrared region of the incident spectrum of sunlight is particularly related to the increase in indoor temperature, shielding near infrared light is particularly effective for suppressing the increase in indoor temperature. Looking at the cumulative energy ratio from the shortest infrared wavelength (760 nm) to the longest wavelength 3200 nm based on the weight coefficient described in Japanese Industrial Standard JIS R3106: 1998, the infrared from the wavelength 760 nm to the longest wavelength 3200 nm Looking at the cumulative energy from 760 nm to each wavelength when the total energy of the entire region is 100, the total energy from 760 to 1300 nm occupies about 75% of the entire infrared region. Therefore, shielding the wavelength region up to 1300 nm is efficient in energy saving effect by heat ray shielding.

（熱線反射層を構成する低屈折率層及び高屈折率層の１層あたりの厚み）
熱線反射層を構成する低屈折率層及び高屈折率層の１層あたりの厚み（乾燥後の厚み）は、２０〜１０００ｎｍであることが好ましく、５０〜５００ｎｍであることがより好ましく、１００〜３００ｎｍであることがさらにより好ましく、１００〜２００ｎｍであることが特に好ましい。なお、上記した厚くする層は、隣接層の膜厚が上記した厚みの範囲内であればよく、厚くする層の膜厚は隣接層の膜厚の１．２倍上、好ましくは、１．２〜５倍の範囲であればよく、厚くする層の膜厚に関しては、上記に規定する低屈折率層及び高屈折率層の１層あたりの厚み（乾燥後の厚み）の範囲外の構成であってもよい。低屈折率層および高屈折率層の厚みは、同じであってもまたは異なるものであってもよい。各屈折率層の１層あたりの厚みは、ダイスの押出口におけるフィルム厚さ方向の幅を変更すること、および／または延伸条件により、調節することができる。なお、積層反射体（熱線反射層ないし熱線反射層を積層した樹脂フィルム）を延伸する場合は、上記膜厚は延伸後の厚さを示す。また、各屈折率層の１層あたりの厚みは、実施例１の＜樹脂フィルムへの熱線反射層の形成＞の（膜厚の測定）の段落に記載の方法により測定することができる。 (Thickness per layer of the low refractive index layer and high refractive index layer constituting the heat ray reflective layer)
The thickness (thickness after drying) of the low refractive index layer and high refractive index layer constituting the heat ray reflective layer is preferably 20 to 1000 nm, more preferably 50 to 500 nm, and more preferably 100 to 100 nm. More preferably, it is 300 nm, and it is especially preferable that it is 100-200 nm. The thickness of the layer to be thickened is not limited as long as the thickness of the adjacent layer is within the above-mentioned thickness range, and the thickness of the layer to be thickened is 1.2 times the thickness of the adjacent layer, preferably 1. It may be in the range of 2 to 5 times, and regarding the thickness of the layer to be thickened, the configuration outside the range of the thickness per layer (thickness after drying) of the low refractive index layer and the high refractive index layer specified above. It may be. The thickness of the low refractive index layer and the high refractive index layer may be the same or different. The thickness per layer of each refractive index layer can be adjusted by changing the width in the film thickness direction at the die extrusion port and / or by stretching conditions. In addition, when extending | stretching a laminated reflector (resin film which laminated | stacked the heat ray reflective layer thru | or the heat ray reflective layer), the said film thickness shows the thickness after extending | stretching. Moreover, the thickness per layer of each refractive index layer can be measured by the method described in the paragraph (Measurement of film thickness) of <Formation of heat ray reflective layer on resin film> in Example 1.

（熱線反射層の膜厚）
上記した低屈折率層と高屈折率層の交互積層からなる熱線反射層の膜厚は、発明の効果を損なわない範囲であればよく、１０μｍ以下が好ましく、より好ましくは５．５μｍ以下の範囲であり、特に好ましくは１．０〜４．０μｍの範囲である。熱線反射層の膜厚が１０μｍ以下、特に５．５μｍ以下であれば、窓等に施工する際の施工性を良くすることができる。また熱線吸収層の膜厚を１０μｍ以下にし、更に熱線反射層の膜厚を１０μｍ以下、特に５．５μｍ以下にすることにより、耐候性、特に赤外遮蔽フィルムが熱線吸収により熱膨張・熱収縮を繰り返した場合でも、フィルムがカールするのを効果的に防止することができ、窓等に施工した場合でも長期間端部剥がれを防止することができる。 (Film thickness of heat ray reflective layer)
The film thickness of the heat ray reflective layer composed of the alternating lamination of the low refractive index layer and the high refractive index layer may be in a range that does not impair the effects of the invention, preferably 10 μm or less, more preferably 5.5 μm or less. Especially preferably, it is the range of 1.0-4.0 micrometers. When the film thickness of the heat ray reflective layer is 10 μm or less, particularly 5.5 μm or less, the workability at the time of construction on a window or the like can be improved. Further, by making the film thickness of the heat ray absorbing layer 10 μm or less and further making the film thickness of the heat ray reflective layer 10 μm or less, especially 5.5 μm or less, the weather resistance, especially the infrared shielding film is thermally expanded / contracted by heat ray absorption Even when the process is repeated, it is possible to effectively prevent the film from curling, and even when it is applied to a window or the like, it is possible to prevent peeling of the end portion for a long period of time.

本形態において、前記高屈折率層および前記低屈折率層に含まれるポリマーは、バインダーとして機能する水溶性高分子であることが好ましい。高屈折率層および低屈折率層に、水溶性高分子を含ませることで、有機溶剤の使用を抑えた層形成方法を採用できるため、有機溶剤による環境上の問題を解決することができ、また塗膜の柔軟性も達成することができるから好ましい。具体的には、各屈折率層に含まれるポリマーが、バインダーとして機能する水溶性高分子である場合、各屈折率層は、塗布やスピンコートなどの成膜方法を用いて形成できる。これらの方法は簡便であり、樹脂フィルムの耐熱性を問わないので選択肢が広く、特に樹脂フィルムを用いる構成に対して有効な成膜方法といえる。たとえば塗布型ならばロール・ツー・ロール法などの大量生産方式が採用でき、コスト面でもプロセス時間面でも有利になる。また、ポリマー材料を含む膜（熱線反射層等）はフレキシブル性が高いため、生産時や運搬時に巻き取りを行っても、これらの欠陥が発生しづらく、取扱性に優れているという長所がある。   In this embodiment, the polymer contained in the high refractive index layer and the low refractive index layer is preferably a water-soluble polymer that functions as a binder. By including a water-soluble polymer in the high-refractive index layer and the low-refractive index layer, a layer formation method that suppresses the use of an organic solvent can be adopted, so that environmental problems due to the organic solvent can be solved. Moreover, since the softness | flexibility of a coating film can also be achieved, it is preferable. Specifically, when the polymer contained in each refractive index layer is a water-soluble polymer that functions as a binder, each refractive index layer can be formed using a film forming method such as coating or spin coating. Since these methods are simple and do not ask the heat resistance of a resin film, they have a wide range of choices, and can be said to be an effective film forming method particularly for a configuration using a resin film. For example, a mass production method such as a roll-to-roll method can be adopted for the coating type, which is advantageous in terms of cost and process time. In addition, since a film containing a polymer material (such as a heat ray reflective layer) is highly flexible, these defects do not easily occur even when rolled up during production or transportation, and have an advantage of excellent handling. .

なお、高屈折率層および低屈折率層に含有されるポリマーは、同じ構成成分であってもよく、異なる構成成分であってもよいが、異なることが好ましい。水溶性高分子としては、例えば、ポリビニルアルコールまたはその誘導体（ポリビニルアルコール系樹脂）、ゼラチン、または増粘多糖類などが挙げられるが、塗布ムラや膜厚均一性（ヘイズ）などの向上効果の観点から、屈折率層はポリマーとしてポリビニルアルコールまたはその誘導体を含むことが好ましい。ポリマーは、単独で用いてもよいし、２種以上組み合わせて用いてもよい。また、ポリマーは、合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。   The polymers contained in the high refractive index layer and the low refractive index layer may be the same component or different components, but are preferably different. Examples of the water-soluble polymer include polyvinyl alcohol or a derivative thereof (polyvinyl alcohol-based resin), gelatin, or thickening polysaccharide. From the viewpoint of improving effects such as coating unevenness and film thickness uniformity (haze). Therefore, the refractive index layer preferably contains polyvinyl alcohol or a derivative thereof as a polymer. A polymer may be used independently and may be used in combination of 2 or more type. The polymer may be a synthetic product or a commercially available product.

ポリマーは特に制限されず、ＷＯ ２０１２／１２８１０９、特開２０１３−１２１５６７号公報、特開２０１３−１４８８４９号公報等の、高屈折率層および前記低屈折率層に使用される公知のポリマーが同様にして使用できる。具体的には、ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他、各種の変性ポリビニルアルコールも含まれる。   The polymer is not particularly limited, and known polymers used for the high refractive index layer and the low refractive index layer, such as WO 2012/128109, JP2013-121567A, JP2013-148849A, and the like are the same. Can be used. Specifically, the polyvinyl alcohol-based resin includes various modified polyvinyl alcohols in addition to ordinary polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing polyvinyl acetate.

酢酸ビニルを加水分解して得られるポリビニルアルコールは、平均重合度が１，０００以上であることが好ましく、平均重合度が１，５００〜５，０００であることが特に好ましい。また、ケン化度は、７０〜１００モル％であることが好ましく、８０〜９９．９モル％であることが特に好ましい。こうしたポリビニルアルコールとしては、例えば、ポリビニルアルコール（商品名ＪＰ−４５；重合度：４５００、ケン化度：８８モル％；日本酢ビ・ポバール株式会社製）等を利用することもできる。   Polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing vinyl acetate preferably has an average degree of polymerization of 1,000 or more, and particularly preferably an average degree of polymerization of 1,500 to 5,000. Moreover, it is preferable that it is 70-100 mol%, and, as for saponification degree, it is especially preferable that it is 80-99.9 mol%. As such polyvinyl alcohol, for example, polyvinyl alcohol (trade name JP-45; degree of polymerization: 4500, degree of saponification: 88 mol%; manufactured by Nihon Acetate / Poval) can be used.

変性ポリビニルアルコールとしては、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、エチレン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマーが挙げられる。また、酢酸ビニル系樹脂（例えば、株式会社クラレ製「エクセバール」）、ポリビニルアルコールにアルデヒドを反応させて得られるポリビニルアセタール樹脂（例えば、積水化学工業株式会社製「エスレック」）、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール（例えば、株式会社クラレ製「Ｒ−１１３０」）、分子内にアセトアセチル基を有する変性ポリビニルアルコール系樹脂（例えば、日本合成化学工業株式会社製「ゴーセファイマー（登録商標）Ｚ／ＷＲシリーズ」）等もポリビニルアルコール系樹脂に含まれる。   Examples of the modified polyvinyl alcohol include cation-modified polyvinyl alcohol, anion-modified polyvinyl alcohol, nonion-modified polyvinyl alcohol, ethylene-modified polyvinyl alcohol, and vinyl alcohol polymers. Also, vinyl acetate resins (for example, “Exeval” manufactured by Kuraray Co., Ltd.), polyvinyl acetal resins obtained by reacting polyvinyl alcohol with aldehydes (for example, “ESREC” manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), silanols having silanol groups Modified polyvinyl alcohol (for example, “R-1130” manufactured by Kuraray Co., Ltd.), modified polyvinyl alcohol resin having an acetoacetyl group in the molecule (for example, “Gosefimer (registered trademark) Z / manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) WR series ") and the like are also included in the polyvinyl alcohol resin.

アニオン変性ポリビニルアルコールは、例えば、特開平１−２０６０８８号公報に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭６１−２３７６８１号公報および同６３−３０７９７９号公報に記載されているようなビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体、および特開平７−２８５２６５号公報に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。   Anion-modified polyvinyl alcohol is described in, for example, polyvinyl alcohol having an anionic group as described in JP-A-1-206088, JP-A-61-237681 and JP-A-63-307979. Examples thereof include a copolymer of such a vinyl alcohol and a vinyl compound having a water-soluble group, and a modified polyvinyl alcohol having a water-soluble group as described in JP-A-7-285265.

また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平７−９７５８号公報に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平８−２５７９５号公報に記載されているような疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基やカルボニル基、カルボキシル基などの反応性基を有する反応性基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。   Nonionic modified polyvinyl alcohol includes, for example, a polyvinyl alcohol derivative in which a polyalkylene oxide group as described in JP-A-7-9758 is added to a part of vinyl alcohol, and JP-A-8-25795. Block copolymer of vinyl compound having hydrophobic group and vinyl alcohol as described, silanol modified polyvinyl alcohol having silanol group, reactivity having reactive group such as acetoacetyl group, carbonyl group, carboxyl group Examples thereof include group-modified polyvinyl alcohol.

カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭６１−１０４８３号公報に記載されているような、第１級〜第３級アミノ基や第４級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。   Examples of the cation-modified polyvinyl alcohol include primary to tertiary amino groups and quaternary ammonium groups as described in JP-A No. 61-10383. Polyvinyl alcohol contained therein and obtained by saponifying a copolymer of an ethylenically unsaturated monomer having a cationic group and vinyl acetate.

カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル−（２−アクリルアミド−２，２−ジメチルエチル）アンモニウムクロライド、トリメチル−（３−アクリルアミド−３，３−ジメチルプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）メタクリルアミド、ヒドロキシルエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−（２−メタクリルアミドプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−（１，１−ジメチル−３−ジメチルアミノプロピル）アクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して０．１〜１０モル％であることが好ましく、０．２〜５モル％であることがより好ましい。   Examples of the ethylenically unsaturated monomer having a cationic group include trimethyl- (2-acrylamido-2,2-dimethylethyl) ammonium chloride and trimethyl- (3-acrylamido-3,3-dimethylpropyl) ammonium chloride. N-vinylimidazole, N-vinyl-2-methylimidazole, N- (3-dimethylaminopropyl) methacrylamide, hydroxylethyltrimethylammonium chloride, trimethyl- (2-methacrylamidopropyl) ammonium chloride, N- (1, 1-dimethyl-3-dimethylaminopropyl) acrylamide and the like. The ratio of the cation-modified group-containing monomer of the cation-modified polyvinyl alcohol is preferably 0.1 to 10 mol%, more preferably 0.2 to 5 mol% with respect to vinyl acetate.

エチレン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開２００９−１０７３２４号公報、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報、特願２０１３−２０６８１３などに記載されるものが使用できる。または、エクセバール（商品名：株式会社クラレ製）等の市販品を使用してもよい。   As ethylene modified polyvinyl alcohol, what is described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-107324, Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-248123, Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-342322, Japanese Patent Application No. 2013-206913, etc. can be used, for example. Alternatively, commercially available products such as EXEVAL (trade name: manufactured by Kuraray Co., Ltd.) may be used.

ビニルアルコール系ポリマーとしては、エクセバール（商品名：株式会社クラレ製）やニチゴーＧポリマー（商品名：日本合成化学工業株式会社製）などが挙げられる。   Examples of the vinyl alcohol-based polymer include EXEVAL (trade name: manufactured by Kuraray Co., Ltd.) and Nichigo G polymer (trade name: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.).

なお、上述のポリビニルアルコールは、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、ポリビニルアルコールは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。   In addition, the above-mentioned polyvinyl alcohol may be used independently or may be used in combination of 2 or more type. Polyvinyl alcohol may be a synthetic product or a commercial product.

ポリビニルアルコールの重量平均分子量は、１，０００〜２００，０００であることが好ましく、３，０００〜６０，０００であることがより好ましい。なお、本明細書において、「重量平均分子量」の値は、静的光散乱法、ゲルパーミエーションクロマトグラフ法（ＧＰＣ）、ＴＯＦＭＡＳＳなどによって測定した値を採用するものとする。水溶性高分子の重量平均分子量が上記範囲にあると、湿式製膜法における塗布が可能となり、生産性を向上させることができることから好ましい。   The weight average molecular weight of polyvinyl alcohol is preferably 1,000 to 200,000, and more preferably 3,000 to 60,000. In this specification, the value measured by a static light scattering method, gel permeation chromatography (GPC), TOFMASS, or the like is adopted as the value of “weight average molecular weight”. When the weight average molecular weight of the water-soluble polymer is in the above range, it is preferable because application in a wet film forming method is possible and productivity can be improved.

屈折率層における水溶性高分子の含有量は、低屈折率層の全固形分に対して、５〜７５質量％であることが好ましく、１０〜７０質量％であることがより好ましい。水溶性高分子の含有量が５質量％以上であると、湿式製膜法で低屈折率層を形成する場合に、塗布して得られた塗膜の乾燥時に、膜面が乱れによる透明性の劣化を防止できることから好ましい。一方、水溶性高分子の含有量が７５質量％以下であると、低屈折率層中に金属酸化物粒子を含有する場合に好適な含有量となり、低屈折率層と高屈折率層との屈折率差を大きくできることから好ましい。なお、本明細書において、水溶性高分子の含有量は、蒸発乾固法の残固形分より求められる。具体的には、赤外遮蔽フィルムを９５℃の熱水に２時間浸し、残ったフィルムを除去した後、熱水を蒸発させ、得られた固形物の量を水溶性高分子量とする。この際、ＩＲ（赤外分光）スペクトルにおいて１７００〜１８００ｃｍ−１、９００〜１０００ｃｍ−１、および８００〜９００ｃｍ−１の領域にそれぞれ１つずつピークが見られる場合、その水溶性高分子はポリビニルアルコールであると断定することができる。 The content of the water-soluble polymer in the refractive index layer is preferably 5 to 75% by mass, and more preferably 10 to 70% by mass with respect to the total solid content of the low refractive index layer. When the content of the water-soluble polymer is 5% by mass or more, when the low refractive index layer is formed by a wet film forming method, the transparency of the film surface is disturbed when the coating film obtained by coating is dried. This is preferable because it is possible to prevent the deterioration. On the other hand, when the content of the water-soluble polymer is 75% by mass or less, the content is suitable when metal oxide particles are contained in the low refractive index layer. This is preferable because the refractive index difference can be increased. In addition, in this specification, content of water-soluble polymer is calculated | required from the residual solid content of the evaporation-drying method. Specifically, the infrared shielding film is immersed in hot water at 95 ° C. for 2 hours, and the remaining film is removed, and then the hot water is evaporated, and the amount of the obtained solid matter is made the water-soluble high molecular weight. In this case, IR (infrared spectroscopy) if 1700～1800Cm -1 in the spectrum, 900～1000Cm -1, where and peak one each in the region of 800～900Cm -1 is observed, the water-soluble polymer is polyvinyl alcohol It can be determined that

本形態の赤外遮蔽フィルムにおける低屈折率層または高屈折率層の少なくとも一方は、金属酸化物（粒子）を含有してもよい。金属酸化物粒子を含有することで各屈折率層間の屈折率差を大きくすることができ、反射特性が向上する。低屈折率層および高屈折率層の双方が金属酸化物粒子を含有することにより、屈折率差をより大きくすることができる。金属酸化物粒子を含むことにより、積層数を低減することができ、薄膜とすることができる。層数を減らすことで、生産性が向上し、積層界面での散乱による透明性の減少を抑制することができる。   At least one of the low refractive index layer or the high refractive index layer in the infrared shielding film of this embodiment may contain a metal oxide (particle). By containing metal oxide particles, the refractive index difference between the refractive index layers can be increased, and the reflection characteristics are improved. When both the low refractive index layer and the high refractive index layer contain metal oxide particles, the refractive index difference can be further increased. By including metal oxide particles, the number of stacked layers can be reduced and a thin film can be obtained. By reducing the number of layers, productivity can be improved and a decrease in transparency due to scattering at the lamination interface can be suppressed.

金属酸化物粒子としては、可視光を透過し、熱線（赤外線）を反射するものであれば特に制限されない。具体的には、金属酸化物を構成する金属が、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｓ、Ｂａ、Ｌａ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｗ、Ｉｒ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ及び希土類金属からなる群より選ばれる１種または２種以上の金属である金属酸化物を用いることができる。   The metal oxide particles are not particularly limited as long as they transmit visible light and reflect heat rays (infrared rays). Specifically, the metal constituting the metal oxide is Li, Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Rb, One selected from the group consisting of Sr, Y, Nb, Zr, Mo, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Cs, Ba, La, Ta, Hf, W, Ir, Tl, Pb, Bi and rare earth metals Alternatively, a metal oxide that is two or more kinds of metals can be used.

高屈折率層に用いる金属酸化物粒子としては、例えば、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化亜鉛、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化バリウム、酸化インジウム、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズ、酸化鉛、ならびにこれら酸化物より構成される複酸化物であるニオブ酸リチウム、ニオブ酸カリウム、タンタル酸リチウム、アルミニウム・マグネシウム酸化物（ＭｇＡｌ２Ｏ４）などが挙げられる。 Examples of the metal oxide particles used for the high refractive index layer include titanium dioxide (TiO 2 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), zinc oxide, alumina, colloidal alumina, lead titanate, red lead, yellow lead, zinc yellow, Chrome oxide, ferric oxide, iron black, copper oxide, magnesium oxide, magnesium hydroxide, strontium titanate, yttrium oxide, hafnium oxide, niobium oxide, tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), barium oxide, indium oxide, oxidation Europium, lanthanum oxide, zircon, tin oxide, lead oxide, and double oxides composed of these oxides such as lithium niobate, potassium niobate, lithium tantalate, aluminum / magnesium oxide (MgAl 2 O 4 ), etc. Is mentioned.

また、金属酸化物粒子として、希土類酸化物を用いることもでき、具体的には、酸化スカンジウム、酸化イットリウム、酸化ランタン、酸化セリウム、酸化プラセオジム、酸化ネオジム、酸化サマリウム、酸化ユウロピウム、酸化ガドリニウム、酸化テルビウム、酸化ジスプロシウム、酸化ホルミウム、酸化エルビウム、酸化ツリウム、酸化イッテルビウム、酸化ルテチウム等も挙げられる。   In addition, rare earth oxides can also be used as the metal oxide particles. Specifically, scandium oxide, yttrium oxide, lanthanum oxide, cerium oxide, praseodymium oxide, neodymium oxide, samarium oxide, europium oxide, gadolinium oxide, and oxidation. Examples also include terbium, dysprosium oxide, holmium oxide, erbium oxide, thulium oxide, ytterbium oxide, and lutetium oxide.

高屈折率層に用いられる金属酸化物粒子としては、屈折率が１．９０以上の金属酸化物粒子が好ましく、例えば、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化チタン、酸化亜鉛等を挙げることができる。中でも、透明でより屈折率の高い高屈折率層を形成することのできることから、二酸化チタンが好ましく、特にルチル型（正方晶形）酸化チタン粒子を用いることが好ましい。高屈折率層に用いられる金属酸化物粒子は、１種単独であってもよいし、２種以上併用してもよい。   The metal oxide particles used in the high refractive index layer are preferably metal oxide particles having a refractive index of 1.90 or more, and examples thereof include zirconium oxide, cerium oxide, titanium oxide, and zinc oxide. Among them, titanium dioxide is preferable because it can form a transparent and higher refractive index layer having a higher refractive index, and it is particularly preferable to use rutile (tetragonal) titanium oxide particles. The metal oxide particles used for the high refractive index layer may be used singly or in combination of two or more.

また、本形態において、高屈折率層の金属酸化物として酸化チタンが好ましいが、酸化チタンは含ケイ素の水和酸化物で被覆されたコアシェル粒子の形態であってもよい。当該コアシェル粒子は、酸化チタン粒子の表面を、コアとなる酸化チタンに含ケイ素の水和酸化物からなるシェルが被覆してなる構造を有する。かようなコアシェル粒子を高屈折率層に含有させることで、シェル層の含ケイ素の水和酸化物と水溶性樹脂との相互作用により、低屈折率層と高屈折率層との層間混合が抑制されうる。ここで、「被覆」とは、酸化チタン粒子の表面の少なくとも一部に、含ケイ素の水和酸化物が付着されている状態を意味する。すなわち、金属酸化物粒子として用いられる酸化チタン粒子の表面が、完全に含ケイ素の水和酸化物で被覆されていてもよく、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で被覆されていてもよい。被覆された酸化チタン粒子の屈折率が含ケイ素の水和酸化物の被覆量により制御される観点から、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で被覆されることが好ましい。以下ではこのような被覆された酸化チタン粒子を「シリカ付着二酸化チタンゾル」とも称する。酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆する方法としては、従来公知の方法により製造することができ、例えば、特開平１０−１５８０１５号公報、特開２０００−２０４３０１号公報、特開２００７−２４６３５１号公報等に記載された事項を参照することができる。   In this embodiment, titanium oxide is preferable as the metal oxide of the high refractive index layer, but the titanium oxide may be in the form of core-shell particles coated with a silicon-containing hydrated oxide. The core-shell particles have a structure in which the surface of the titanium oxide particles is coated with a shell made of a silicon-containing hydrated oxide on a titanium oxide serving as a core. By including such core-shell particles in the high refractive index layer, the intermixing of the low refractive index layer and the high refractive index layer is achieved by the interaction between the silicon-containing hydrated oxide of the shell layer and the water-soluble resin. Can be suppressed. Here, the “coating” means a state in which a silicon-containing hydrated oxide is attached to at least a part of the surface of the titanium oxide particles. That is, the surface of the titanium oxide particles used as the metal oxide particles may be completely covered with a silicon-containing hydrated oxide, and a part of the surface of the titanium oxide particles is a silicon-containing hydrated oxide. It may be coated. From the viewpoint that the refractive index of the coated titanium oxide particles is controlled by the coating amount of the silicon-containing hydrated oxide, it is preferable that a part of the surface of the titanium oxide particles is coated with the silicon-containing hydrated oxide. . Hereinafter, such coated titanium oxide particles are also referred to as “silica-attached titanium dioxide sol”. As a method of coating the titanium oxide particles with a silicon-containing hydrated oxide, it can be produced by a conventionally known method. For example, JP-A-10-158015, JP-A-2000-204301, JP-A-2007 Reference can be made to the matters described in JP-A-246351.

高屈折率層で用いられる金属酸化物粒子の体積平均粒径は、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、ヘイズ値が低く可視光透過率に優れる観点から１〜３０ｎｍであることがさらに好ましく、１〜２０ｎｍであることがより好ましい。なお、ここで体積平均粒径とは、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法、あるいは電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、１，０００個の任意の粒子の粒径を測定し、それぞれｄ１、ｄ２・・・ｄｉ・・・ｄｋの粒径を持つ粒子がそれぞれｎ１、ｎ２・・・ｎｉ・・・ｎｋ個存在する粒子状の金属酸化物の集団において、粒子１個当りの体積をｖｉとした場合に、体積平均粒径ｍｖ＝｛Σ（ｖｉ・ｄｉ）｝／｛Σ（ｖｉ）｝で表される体積で重み付けされた平均粒径である。   The volume average particle diameter of the metal oxide particles used in the high refractive index layer is preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less, and 1 to 30 nm from the viewpoint of a low haze value and excellent visible light transmittance. It is more preferable that it is 1-20 nm. Here, the volume average particle diameter means a method of observing the particle itself using a laser diffraction scattering method, a dynamic light scattering method, or an electron microscope, or a particle image appearing on the cross section or surface of the refractive index layer. The particle diameter of 1,000 arbitrary particles is measured by a method of observing with a microscope, and particles having particle diameters of d1, d2,. .. nk number of particulate metal oxides, where volume per particle is vi, volume average particle size mv = {Σ (vi · di)} / {Σ (vi)} The average particle diameter weighted by the volume represented by

高屈折率層における金属酸化物粒子の含有量としては、高屈折率層の固形分１００質量％に対して、熱線遮蔽の観点および曲面形状のガラスにフィルムを適用した場合の色ムラ低減の観点から、２０〜８０質量％であることが好ましく、３０〜７５質量％であることがより好ましく、４０〜７０質量％であることがさらに好ましい。   The content of the metal oxide particles in the high refractive index layer is 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer, from the viewpoint of heat ray shielding and from the viewpoint of reducing color unevenness when a film is applied to curved glass. Therefore, it is preferably 20 to 80% by mass, more preferably 30 to 75% by mass, and further preferably 40 to 70% by mass.

また、低屈折率層に用いられる金属酸化物粒子としては、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）などを用いることが好ましく、コロイダルシリカを用いることが特に好ましい。低屈折率層に含まれる金属酸化物粒子（好ましくは二酸化ケイ素）は、その平均粒径が３〜１００ｎｍであることが好ましい。一次粒子の状態で分散された二酸化ケイ素の一次粒子の平均粒径（塗布前の分散液状態での粒径）は、３〜５０ｎｍであるのがより好ましく、３〜４０ｎｍであるのがさらに好ましく、３〜２０ｎｍであるのが特に好ましく、４〜１０ｎｍであるのが最も好ましい。また、二次粒子の平均粒径としては、３０ｎｍ以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。低屈折率層中の金属酸化物の平均粒径は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、１，０００個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値（個数平均）として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。 Further, as the metal oxide particles used in the low refractive index layer, silicon dioxide (SiO 2 ), magnesium fluoride (MgF 2 ) or the like is preferably used, and colloidal silica is particularly preferably used. The metal oxide particles (preferably silicon dioxide) contained in the low refractive index layer preferably have an average particle size of 3 to 100 nm. The average particle size of primary particles of silicon dioxide dispersed in a primary particle state (particle size in a dispersion state before coating) is more preferably 3 to 50 nm, and further preferably 3 to 40 nm. 3 to 20 nm is particularly preferable, and 4 to 10 nm is most preferable. Moreover, as an average particle diameter of secondary particle | grains, it is preferable from a viewpoint with few hazes and excellent visible light transmittance | permeability that it is 30 nm or less. The average particle size of the metal oxide in the low refractive index layer is determined by observing the particles themselves or the cross section or surface of the refractive index layer with an electron microscope and measuring the particle size of 1,000 arbitrary particles. The simple average value (number average) is obtained. Here, the particle diameter of each particle is represented by a diameter assuming a circle equal to the projected area.

低屈折率層における金属酸化物粒子の含有量としては、低屈折率層の固形分に対して、屈折率の観点から、５〜７０質量％であることが好ましく、１０〜５０質量％であることがさらに好ましい。   As content of the metal oxide particle in a low-refractive-index layer, it is preferable that it is 5-70 mass% from a viewpoint of refractive index with respect to solid content of a low-refractive-index layer, and is 10-50 mass%. More preferably.

コロイダルシリカは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、たとえば、特開昭５７−１４０９１号公報、特開昭６０−２１９０８３号公報、特開昭６０−２１９０８４号公報、特開昭６１−２０７９２号公報、特開昭６１−１８８１８３号公報、特開昭６３−１７８０７号公報、特開平４−９３２８４号公報、特開平５−２７８３２４号公報、特開平６−９２０１１号公報、特開平６−１８３１３４号公報、特開平６−２９７８３０号公報、特開平７−８１２１４号公報、特開平７−１０１１４２号公報、特開平７−１７９０２９号公報、特開平７−１３７４３１号公報、および国際公開第９４／２６５３０号パンフレットなどに記載されているものである。この様なコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Ａｌ、Ｃａ、ＭｇまたはＢａ等で処理された物であってもよい。   Colloidal silica is obtained by heating and aging a silica sol obtained by metathesis of sodium silicate with an acid or the like or passing through an ion exchange resin layer. For example, JP-A-57-14091 and JP-A-60- No. 219083, JP-A-60-218904, JP-A-61-20792, JP-A-61-188183, JP-A-63-17807, JP-A-4-93284, JP-A-5-278324, JP-A-6-92011, JP-A-6-183134, JP-A-6-297830, JP-A-7-81214, JP-A-7-101142, JP-A-7- 179029, JP-A-7-137431, and WO94 / 26530 pamphlet. That. Such colloidal silica may be a synthetic product or a commercially available product. The surface of the colloidal silica may be cation-modified, or may be treated with Al, Ca, Mg, Ba or the like.

このようなコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、日産化学工業株式会社から販売されているスノーテックスシリーズ（スノーテックスＯＳ、ＯＸＳ、Ｓ、ＯＳ、２０、３０、４０、Ｏ、Ｎ、Ｃ等）が挙げられる。   Such colloidal silica may be a synthetic product or a commercially available product. Examples of commercially available products include the Snowtex series (Snowtex OS, OXS, S, OS, 20, 30, 40, O, N, C, etc.) sold by Nissan Chemical Industries, Ltd.

各屈折率層は、上記以外にも、例えば、特開昭５７−７４１９３号公報、同５７−８７９８８号公報および同６２−２６１４７６号公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭５７−７４１９２号公報、同５７−８７９８９号公報、同６０−７２７８５号公報、同６１−１４６５９１号公報、特開平１−９５０９１号公報および同３−１３３７６号公報等に記載されている退色防止剤、特開昭５９−４２９９３号公報、同５９−５２６８９号公報、同６２−２８００６９号公報、同６１−２４２８７１号公報および特開平４−２１９２６６号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、帯電防止剤、マット剤等の公知の各種添加剤を含有していてもよい。これらの添加物の含有量は、屈折率層の固形分に対して、０．１〜１０質量％であることが好ましい。   In addition to the above, each refractive index layer is composed of, for example, ultraviolet absorbers described in JP-A-57-74193, JP-A-57-87988, and JP-A-62-261476, and JP-A-57-74192. No. 57-87989, No. 60-72785, No. 61-146591, No. 1-95091, No. 3-13376, etc. No. 42993, 59-52689, 62-280069, 61-242871, and JP-A 4-219266, etc., whitening agent, sulfuric acid, phosphoric acid, acetic acid PH adjusters such as citric acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, antifoaming agents, lubricants such as diethylene glycol, preservatives, antistatic agents, Various known additives such as DOO agent may contain. The content of these additives is preferably 0.1 to 10% by mass with respect to the solid content of the refractive index layer.

または、各屈折率層が水溶性高分子を含む場合には、水溶性高分子を硬化させるために、硬化剤を使用することもできる。硬化剤としては、ホウ酸及びその塩、エチレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ジグリシジルシクロヘキサン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−４−グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル等）、アルデヒド系硬化剤（ホルムアルデヒド、グリオキザール等）、活性ハロゲン系硬化剤（２，４−ジクロロ−４−ヒドロキシ−１，３，５，−ｓ−トリアジン等）、活性ビニル系化合物（１，３，５−トリスアクリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等）、アルミニウム明礬、ホウ砂等が挙げられる。屈折率層における硬化剤の含有量は、屈折率層の固形分に対して、１〜１０質量％であることが好ましい。   Alternatively, when each refractive index layer contains a water-soluble polymer, a curing agent can be used to cure the water-soluble polymer. Curing agents include boric acid and its salts, ethylene glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-diglycidylcyclohexane, N, N-diglycidyl-4-glycidyloxyaniline, sorbitol polyglycidyl Ether, glycerol polyglycidyl ether, etc.), aldehyde-based curing agents (formaldehyde, glyoxal, etc.), active halogen-based curing agents (2,4-dichloro-4-hydroxy-1,3,5, -s-triazine, etc.), active Examples thereof include vinyl compounds (1,3,5-trisacryloyl-hexahydro-s-triazine, bisvinylsulfonylmethyl ether, etc.), aluminum alum, borax and the like. It is preferable that content of the hardening | curing agent in a refractive index layer is 1-10 mass% with respect to solid content of a refractive index layer.

または、各屈折率層は、塗布時の表面張力調整のために、界面活性剤を含んでもよい。ここで、界面活性剤としてアニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤などを用いることができるが、アニオン系界面活性剤がより好ましい。好ましい化合物としては、１分子中に炭素数８〜３０の疎水性基とスルホン酸基又はその塩を含有するものが挙げられる。各屈折率層における界面活性剤の含有量は、屈折率層の固形分に対して、０．０１〜５質量％であることが好ましい。こうした界面活性剤としては、例えば、ニューコールシリーズ（日本乳化剤株式会社製））等を用いることができる。   Alternatively, each refractive index layer may contain a surfactant for adjusting the surface tension at the time of application. Here, an anionic surfactant, a nonionic surfactant, an amphoteric surfactant, and the like can be used as the surfactant, and an anionic surfactant is more preferable. Preferred compounds include those containing a hydrophobic group having 8 to 30 carbon atoms and a sulfonic acid group or a salt thereof in one molecule. The content of the surfactant in each refractive index layer is preferably 0.01 to 5% by mass with respect to the solid content of the refractive index layer. As such a surfactant, for example, New Coal series (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) and the like can be used.

（熱線吸収層）
本形態において、赤外遮蔽フィルムは、樹脂フィルム（又は熱線反射層）上に、セシウム含有酸化タングステンを含む熱線吸収層５を有する。好ましくは、樹脂フィルム（又は熱線反射層）と、ハードコート層等の表面保護膜との間に設けた構成が好ましい。こうした構成をとることによって、赤外遮蔽フィルム（特に、熱線吸収層、熱線反射層）の膜割れを抑制または防止できるなど耐候性が良好で高い遮熱性を奏することができる。 (Heat ray absorbing layer)
In this embodiment, the infrared shielding film has a heat ray absorbing layer 5 containing cesium-containing tungsten oxide on a resin film (or heat ray reflective layer). A configuration provided between a resin film (or heat ray reflective layer) and a surface protective film such as a hard coat layer is preferable. By adopting such a configuration, weather resistance is good and high heat shielding properties can be achieved, such as suppression or prevention of film cracking of an infrared shielding film (particularly, a heat ray absorbing layer and a heat ray reflecting layer).

熱線吸収層は、１層のみでもまたは２層以上の積層体であってもよい。赤外遮蔽フィルムが２層以上の熱線吸収層を有する場合、各熱線吸収層の構成は同じでもよいし異なっていてもよい。   The heat ray absorbing layer may be a single layer or a laminate of two or more layers. When the infrared shielding film has two or more heat ray absorbing layers, the structure of each heat ray absorbing layer may be the same or different.

［セシウム含有酸化タングステン］
熱線吸収層は、近赤外線吸収材料として熱線吸収能に優れるタングステン酸化物や複合タングステン酸化物等の中でも、赤外線吸収材料としての光学特性及び耐候性向上効果の観点から、セシウム含有酸化タングステンを含むものである。 [Cesium-containing tungsten oxide]
The heat ray absorbing layer contains cesium-containing tungsten oxide from the viewpoint of optical characteristics and weather resistance improvement effect as an infrared ray absorbing material among tungsten oxides and composite tungsten oxides having excellent heat ray absorbing ability as a near infrared ray absorbing material. .

複合タングステン酸化物の１種であるセシウム含有酸化タングステンの組成は、特に制限されないが、安定性の観点から、一般式：ＣｓｘＷｙＯｚで表される酸化物であることが好ましく、特開２０１３−６４０４２号や特開２０１０−２１５４５１号公報に記載されるのと同様のものが使用できる。上記一般式中、Ｃｓは、セシウムを表す。Ｗは、タングステンを表わす。Ｏは、酸素を表わす。ｘ、ｙ及びｚは、タングステンとセシウムとの組成（タングステンに対するセシウムの組成、ｘ／ｙ）が０．００１≦ｘ／ｙ≦１の関係を満たし、タングステンと酸素との組成（タングステンに対する酸素の組成、ｚ／ｙ）が２．２≦ｚ／ｙ≦３の関係を満たすことが好ましい。 The composition of the cesium-containing tungsten oxide, which is one of the composite tungsten oxides, is not particularly limited, but is preferably an oxide represented by the general formula: Cs x W y O z from the viewpoint of stability. The same ones as described in Kai 2013-64042 and JP 2010-215451 can be used. In the above general formula, Cs represents cesium. W represents tungsten. O represents oxygen. x, y, and z are the composition of tungsten and cesium (the composition of cesium with respect to tungsten, x / y) satisfies the relationship of 0.001 ≦ x / y ≦ 1, and the composition of tungsten and oxygen (the ratio of oxygen to tungsten). The composition, z / y) preferably satisfies the relationship of 2.2 ≦ z / y ≦ 3.

セシウム含有酸化タングステン（以下、単に酸化タングステンとも称する）の形状は、特に制限されず、粒子状、球状、棒状、針状、板状、柱状、不定形状、燐片状、紡錘状など任意の構造をとりうるが、好ましくは粒子状である。また、セシウム含有酸化タングステンの大きさも特に制限されないが、セシウム含有酸化タングステンが粒子状である場合には、セシウム含有酸化タングステン粒子の平均粒径（平均一次粒子径、直径）は、可視光の反射を抑制しつつ、熱線吸収効果を確保できること、また散乱によるヘイズの劣化が生じず、透明性を確保できることから、５〜２００ｎｍであることが好ましく、１０〜１００ｎｍであることがより好ましい。上記平均粒径は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、１，０００個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値（個数平均）として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。   The shape of the cesium-containing tungsten oxide (hereinafter also simply referred to as tungsten oxide) is not particularly limited, and may be any structure such as a particulate shape, a spherical shape, a rod shape, a needle shape, a plate shape, a columnar shape, an irregular shape, a flake shape, and a spindle shape. However, it is preferably in the form of particles. Further, the size of the cesium-containing tungsten oxide is not particularly limited, but when the cesium-containing tungsten oxide is in the form of particles, the average particle diameter (average primary particle diameter, diameter) of the cesium-containing tungsten oxide particles is the reflection of visible light. It is preferably 5 to 200 nm, more preferably 10 to 100 nm, since the heat ray absorption effect can be secured while suppressing haze, and haze deterioration due to scattering does not occur and transparency can be secured. The average particle size is determined by observing particles themselves or particles appearing on the cross section or surface of the refractive index layer with an electron microscope, measuring the particle size of 1,000 arbitrary particles, and calculating the simple average value (number average). As required. Here, the particle diameter of each particle is represented by a diameter assuming a circle equal to the projected area.

また、熱線吸収層中、セシウム含有酸化タングステンの含有量は、熱線吸収層の全固形分に対して、好ましくは１０〜８０質量％であり、より好ましくは２０〜７０質量％である。このような量であれば、タングステン酸化物等は十分熱線を吸収できるため、赤外遮蔽フィルムの遮熱性能をより良くすることができる。   Moreover, content of a cesium containing tungsten oxide in a heat ray absorption layer becomes like this. Preferably it is 10-80 mass% with respect to the total solid of a heat ray absorption layer, More preferably, it is 20-70 mass%. If it is such quantity, since tungsten oxide etc. can absorb a heat ray enough, the heat insulation performance of an infrared shielding film can be improved.

上記したようなセシウム含有酸化タングステンは、例えば、セシウムドープト酸化タングステン分散液（ＹＭＦ−０２Ａ、全固形分濃度２８質量％（セシウムドープト酸化タングステン濃度１８．５質量％）、組成：Ｃｓ０．３３ＷＯ３、平均粒子径５０ｎｍ、住友金属鉱山株式会社製）等を用いることができる。 The cesium-containing tungsten oxide as described above is, for example, a cesium-doped tungsten oxide dispersion (YMF-02A, total solid concentration 28 mass% (cesium-doped tungsten oxide concentration 18.5 mass%), composition: Cs 0. 33 WO 3 , average particle diameter 50 nm, manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) or the like can be used.

［アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）あるいは錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）］
熱線吸収層は、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）あるいは錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）を含むのが好ましい。これらは１種単独で用いてもよいし、併用してもよい（即ち、ＡＴＯあるいはＩＴＯは、ＡＴＯおよび／またはＩＴＯを意味することから、単にＡＴＯ／ＩＴＯとも記す）。熱線吸収層が、セシウム含有酸化タングステンと共に、さらにＡＴＯあるいはＩＴＯを含有することにより、遮熱性を高めながら遠赤外線の一部を反射することにより高遮熱性のフィルムを提供することができる点で優れている。 [Antimony-doped tin oxide (ATO) or tin-doped indium oxide (ITO)]
The heat ray absorbing layer preferably contains antimony-doped tin oxide (ATO) or tin-doped indium oxide (ITO). These may be used singly or in combination (that is, ATO or ITO means ATO and / or ITO, and is also simply referred to as ATO / ITO). By including ATO or ITO together with cesium-containing tungsten oxide, the heat-absorbing layer is excellent in that it can provide a highly heat-shielding film by reflecting a part of far-infrared rays while enhancing the heat-shielding property. ing.

アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）や錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）の組成は、特に制限されるものではなく、市販のものであれば、いずれも十分に利用することができる。なお、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）は、少量の酸化アンチモンを含有する酸化錫であり、錫とアンチモンの複合酸化物である。また錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）は、少量の酸化錫を含有する酸化インジウムであり、インジウムと錫の複合酸化物である。   The composition of antimony-doped tin oxide (ATO) or tin-doped indium oxide (ITO) is not particularly limited, and any commercially available one can be used sufficiently. Note that antimony-doped tin oxide (ATO) is a tin oxide containing a small amount of antimony oxide, and is a composite oxide of tin and antimony. Tin-doped indium oxide (ITO) is indium oxide containing a small amount of tin oxide, and is a composite oxide of indium and tin.

ＡＴＯやＩＴＯの形状は、特に制限されず、粒子状、球状、棒状、針状、板状、柱状、不定形状、燐片状、紡錘状など任意の構造をとりうるが、好ましくは粒子状である。また、ＡＴＯやＩＴＯの大きさも特に制限されないが、ＡＴＯやＩＴＯが粒子状である場合には、ＡＴＯ／ＩＴＯの平均粒径（平均一次粒子径、直径）は、０．２μｍ以下であることが好ましい。これはＡＴＯやＩＴＯ粒子による散乱および吸収により可視光の反射が目立たなくなるためである。さらに、可視光の反射を抑制しつつ、熱線吸収効果を確保できること、また散乱によるヘイズの劣化が生じず、透明性を確保できることからも、平均粒径０．２μｍ以下が好ましく、より好ましくは０．１５μｍ以下である。なお、平均粒径の下限は特に限定されるものではないが、０．１０μｍ以下であることが好ましい。上記平均粒径は、粒子そのものあるいは熱線吸収層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、１，０００個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値（個数平均）として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。   The shape of ATO or ITO is not particularly limited, and can take any structure such as particulate, spherical, rod-like, needle-like, plate-like, columnar, indeterminate, flake-like, or spindle-like, but preferably in the form of particles. is there. The size of ATO or ITO is not particularly limited, but when ATO or ITO is in the form of particles, the average particle diameter (average primary particle diameter, diameter) of ATO / ITO may be 0.2 μm or less. preferable. This is because reflection of visible light becomes inconspicuous due to scattering and absorption by ATO and ITO particles. Further, the average particle size is preferably 0.2 μm or less, more preferably 0, because the heat ray absorption effect can be secured while suppressing the reflection of visible light, and haze deterioration due to scattering does not occur and transparency can be secured. .15 μm or less. The lower limit of the average particle diameter is not particularly limited, but is preferably 0.10 μm or less. The average particle size is determined by observing the particles themselves or the particles appearing on the cross section or surface of the heat-absorbing layer with an electron microscope, measuring the particle size of 1,000 arbitrary particles, and calculating the simple average value (number average). As required. Here, the particle diameter of each particle is represented by a diameter assuming a circle equal to the projected area.

さらに、熱線吸収層中、ＡＴＯ／ＩＴＯの含有量は、セシウム含有酸化タングステンの含有量に対して１／５〜１／５０の範囲が好ましい。ＡＴＯ／ＩＴＯの含有量が上記範囲内であれば、遮熱性を高めながら遠赤外線の一部を反射することにより高遮熱性のフィルムとすることができるためである。   Furthermore, in the heat ray absorbing layer, the content of ATO / ITO is preferably in the range of 1/5 to 1/50 with respect to the content of cesium-containing tungsten oxide. This is because, if the content of ATO / ITO is within the above range, it is possible to obtain a highly heat-shielding film by reflecting a part of far-infrared rays while enhancing the heat-shielding property.

上記したようなＡＴＯやＩＴＯは合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。市販品の例としては、例えば、ＡＴＯ粒子（商品名：ＳＲ３５Ｍ、ＡＮＰ社製）、ＡＴＯ分散液（三菱マテリアル株式会社製）、ＩＴＯ分散液（三菱マテリアル株式会社製）等が挙げられる。   ATO or ITO as described above may be a synthetic product or a commercially available product. Examples of commercially available products include ATO particles (trade name: SR35M, manufactured by ANP), ATO dispersion (manufactured by Mitsubishi Materials Corporation), ITO dispersion (manufactured by Mitsubishi Materials Corporation), and the like.

熱線吸収層は、セシウム含有酸化タングステン（更には、ＡＴＯあるいはＩＴＯ）に加えて、成形容易性などの観点から、アクリレート樹脂のような活性エネルギー線硬化性樹脂をさらに含むことが好ましい。活性エネルギー線硬化性樹脂とは、紫外線や電子線のような活性エネルギー線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいう。活性エネルギー線硬化性樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性エネルギー線を照射することによって硬化するものが好ましい。活性エネルギー線硬化性樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する紫外線硬化性樹脂が好ましい。上記活性エネルギー線硬化性樹脂は、単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。   In addition to cesium-containing tungsten oxide (further, ATO or ITO), the heat ray absorbing layer preferably further contains an active energy ray-curable resin such as an acrylate resin from the viewpoint of ease of molding. The active energy ray-curable resin refers to a resin that is cured through a crosslinking reaction or the like by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams. As the active energy ray-curable resin, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used, and a resin that is cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays or electron beams is preferable. Typical examples of the active energy ray curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, and an ultraviolet curable resin that is cured by irradiation with ultraviolet rays is preferable. The active energy ray-curable resins can be used alone or in combination of two or more.

また、熱線吸収層中、上記活性エネルギー線硬化性樹脂の含有量は、熱線吸収層の全固形分に対して、好ましくは２０〜７０質量％であり、より好ましくは３０〜６０質量％である。このような量であれば、製膜性が良く遮熱性も確保できる。   Moreover, content of the said active energy ray curable resin in a heat ray absorption layer becomes like this. Preferably it is 20-70 mass% with respect to the total solid of a heat ray absorption layer, More preferably, it is 30-60 mass%. . With such an amount, the film-forming property is good and the heat shielding property can be secured.

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化性ウレタンアクリレート樹脂、紫外線硬化性ポリエステルアクリレート樹脂、紫外線硬化性エポキシアクリレート樹脂、紫外線硬化性ポリオールアクリレート樹脂、紫外線硬化性アクリルアクリレート樹脂、または紫外線硬化性エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。このうち、熱線吸収層が、紫外線硬化性ウレタンアクリレート樹脂、紫外線硬化性ポリエステルアクリレート樹脂、紫外線硬化性エポキシアクリレート樹脂、紫外線硬化性ポリオールアクリレート樹脂、または紫外線硬化性アクリルアクリレート樹脂から選択されるアクリレート樹脂を含有することがさらに好ましい。   Examples of the ultraviolet curable resin include an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, an ultraviolet curable acrylic acrylate resin, and an ultraviolet curable epoxy resin. Etc. are preferably used. Among these, the heat ray absorbing layer is an acrylate resin selected from an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, or an ultraviolet curable acrylic acrylate resin. It is more preferable to contain.

紫外線硬化性ウレタンアクリレート樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物にさらに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下、アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９−１５１１１０号公報に記載のユニディック（登録商標）１７−８０６（ＤＩＣ株式会社製）１００質量部とコロネート（登録商標）Ｌ（日本ポリウレタン工業株式会社製）１質量部との混合物等が好ましく用いられる。   The UV curable urethane acrylate resin generally includes 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylate) in addition to a product obtained by reacting a polyester polyol with an isocyanate monomer or a prepolymer. It can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate. For example, 100 parts by mass of Unidic (registered trademark) 17-806 (manufactured by DIC Corporation) described in JP-A-59-151110 and 1 part by mass of Coronate (registered trademark) L (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) A mixture of these is preferably used.

紫外線硬化性ポリエステルアクリレート樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシル基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば、特開昭５９−１５１１１２号公報）。   An ultraviolet curable polyester acrylate resin can be easily obtained by reacting a monomer such as 2-hydroxyethyl acrylate, glycidyl acrylate, or acrylic acid with a hydroxyl group or carboxyl group at the end of the polyester (see, for example, JP-A-59). -151112).

紫外線硬化性エポキシアクリレート樹脂は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。   The ultraviolet curable epoxy acrylate resin is obtained by reacting a terminal hydroxyl group of an epoxy resin with a monomer such as acrylic acid, acrylic acid chloride, or glycidyl acrylate.

紫外線硬化性ポリオールアクリレート樹脂としては、例えば、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のモノマーの１種または２種以上を硬化させて得られる樹脂を挙げることができる。例えば、紫外線硬化性ポリオールアクリレート樹脂の重合性成分である（メタ）アクリレート系化合物として、アロニックス（登録商標）Ｍ−４０５（ジペンタエリスリトールペンタアクリレート：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート＝１０〜２０：９０〜８０（質量比）の混合物（東亞合成株式会社製）等が好ましく用いられる。   Examples of the ultraviolet curable polyol acrylate resin include ethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and diester. Pentaerythritol pentaacrylate: A resin obtained by curing one or more monomers such as dipentaerythritol hexaacrylate. For example, as a (meth) acrylate compound which is a polymerizable component of an ultraviolet curable polyol acrylate resin, Aronix (registered trademark) M-405 (dipentaerythritol pentaacrylate: dipentaerythritol hexaacrylate = 10-20: 90-80 A (mass ratio) mixture (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) or the like is preferably used.

さらにまた、これらの樹脂の光増感剤（ラジカル重合開始剤）として、ベンゾイン、べンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のべンゾインとそのアルキルエーテル類；アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名：イルガキュア（登録商標）１８４、ＢＡＳＦ社製、又は商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）８１９、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）等のアセトフェノン類；メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン等のアントラキノン類；チオキサントン、２，４―ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類；アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類；ベンゾフェノン、４，４−ビスメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類およびアゾ化合物等を用いることができる。これらは単独でもまたは２種以上組み合わせても使用することができる。加えて、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の第３級アミン；２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸誘導体等の光開始助剤等と組み合わせて使用することができる。これらラジカル重合開始剤の使用量は、樹脂の重合性成分１００質量部に対して好ましくは０．５〜２０質量部、より好ましくは１〜１５質量部である。   Furthermore, as photosensitizers (radical polymerization initiators) for these resins, benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether and their alkyl ethers; acetophenone, 2, 2 Acetophenones such as -dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (trade name: Irgacure (registered trademark) 184, manufactured by BASF, or product name: Irgacure (registered trademark) 819, manufactured by BASF Japan Ltd.) Anthraquinones such as methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone and 2-amylanthraquinone; thioxanthones such as thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone; Non dimethyl ketal, ketal such as benzil dimethyl ketal; benzophenone, 4,4-bis benzophenones such as methylamino benzophenone and can be used azo compounds. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, tertiary amines such as triethanolamine and methyldiethanolamine; photoinitiators such as benzoic acid derivatives such as 2-dimethylaminoethylbenzoic acid and ethyl 4-dimethylaminobenzoate may be used in combination. it can. The amount of these radical polymerization initiators used is preferably 0.5 to 20 parts by mass, more preferably 1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable component of the resin.

熱線吸収層形成に用いられる活性エネルギー線硬化性樹脂の市販品の例としては、上記の他に、例えば、ユニディック（登録商標）シリーズ（ＤＩＣ株式会社）（例えば、ユニディック（登録商標）Ｖ−４０１８、ユニディック（登録商標）Ｖ−４０２５、ユニディック（登録商標）１７−８０６、ユニディック（登録商標）１７−８２４−９）、ヒタロイド（登録商標）シリーズ（日立化成株式会社製）、紫光（登録商標）シリーズ（日本合成化学工業株式会社製）、ビームセットシリーズ（荒川化学工業株式会社）（例えば、ビームセット（登録商標）５７５、ビームセット（登録商標）５７７）、ＥＴＥＲＭＥＲ２３８２（ＥＴＥＲＮＡＬ ＣＨＥＭＩＣＡＬ社製）、「ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）３５０（シリコンジアクリレート、ダイセル・オルネクス株式会社製）」等を挙げることができる。   As an example of a commercial product of the active energy ray curable resin used for forming the heat ray absorbing layer, in addition to the above, for example, Unidic (registered trademark) series (DIC Corporation) (for example, Unidic (registered trademark) V) -4018, Unidic (registered trademark) V-4025, Unidic (registered trademark) 17-806, Unidic (registered trademark) 17-824-9), Hitaroid (registered trademark) series (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), Purple light (registered trademark) series (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), Beam set series (Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.) (for example, Beam set (registered trademark) 575, Beam set (registered trademark) 577), ETERMER 2382 (ETERNAL CHEMICAL) Manufactured by the company), “EBECRYL (registered trademark) 350 (silicon diacrylate, Iseru-Orunekusu Co., Ltd.) "and the like can be mentioned.

本形態において熱線吸収層の形成には、セシウム含有酸化タングステン、ならびに任意に含まれる活性エネルギー線硬化性樹脂、界面活性剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤および／または酸化防止剤等を含む熱線吸収層形成用塗布液を、ワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング等により塗布して成膜する方法が採用される。または、ダイコーター、グラビアコーター、コンマコーターなどの連続塗布装置を用いて塗布、製膜することも可能である。また、熱線吸収層が活性エネルギー線硬化性樹脂を含む場合の、成膜条件は、活性エネルギー線の照射波長、照度、光量によってその反応性が変わるため、使用する樹脂によって最適な条件を適切に選択することが好ましい。例えば、活性エネルギー線として紫外線ランプを用いる場合、その照度は５０〜１５００ｍＷ／ｃｍ２が好ましく、照射エネルギー量は５０〜１５００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。 In the present embodiment, the heat ray absorbing layer is formed by heat ray absorption including cesium-containing tungsten oxide, and optionally included active energy ray-curable resin, surfactant, infrared absorber, ultraviolet absorber and / or antioxidant. A method of forming a film by applying a layer forming coating solution by wire bar coating, spin coating, dip coating or the like is employed. Or it is also possible to apply | coat and film-form using continuous coating apparatuses, such as a die coater, a gravure coater, and a comma coater. In addition, when the heat ray absorbing layer contains an active energy ray-curable resin, the film formation conditions vary depending on the irradiation wavelength, illuminance, and light amount of the active energy ray, so the optimum conditions are appropriately set depending on the resin used. It is preferable to select. For example, when an ultraviolet lamp is used as the active energy ray, the illuminance is preferably 50 to 1500 mW / cm 2 , and the irradiation energy amount is preferably 50 to 1500 mJ / cm 2 .

熱線吸収層を塗布法により形成する際に用いる溶媒は、特に制限されず、例えば、炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン等）、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン等）、グリコールエーテル類（例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソルブ）、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシブタノール、３−メトキシ−３−メチルブタノール、３−メトキシ−３−メチルブチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、１−エトキシ−２−プロパノール、１−プロポキシ−２−プロパノール、３−メトキシブチルアセテート、３−エトキシプロピオン酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート等）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル等）、その他の有機溶媒の中から適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。   The solvent used when forming the heat ray absorbing layer by a coating method is not particularly limited, and examples thereof include hydrocarbons (for example, toluene, xylene, cyclohexane, etc.), alcohols (for example, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexane). Hexanol, etc.), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, etc.), ethers (eg, tetrahydrofuran, etc.), glycol ethers (For example, ethylene glycol monomethyl ether (methyl cellosolve), ethylene glycol monoethyl ether (ethyl cellosolve), ethylene glycol mono-n-butyl ether (butyl cellosolve), ethylene glycol Mono-tert-butyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxybutanol, 3-methoxy-3-methylbutanol, 3-methoxy-3-methylbutyl acetate, 1-methoxy-2-propyl Acetate, 1-ethoxy-2-propanol, 1-propoxy-2-propanol, 3-methoxybutyl acetate, ethyl 3-ethoxypropionate, propylene glycol monomethyl ether propionate, etc.), esters (eg, methyl acetate, acetic acid) Ethyl, methyl lactate, etc.) and other organic solvents, or a mixture thereof can be used.

熱線吸収層形成のための塗布液は、界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤を含む熱線吸収層形成用塗布液により塗膜が形成されると、レベリング性の高い塗膜となるため、残存溶媒量が部分的に多い箇所や少ない箇所が形成されることを防止し、樹脂フィルムやハードコート層等との密着性が向上することができる。また、ハードコート層等を用いる場合には、該ハードコート層等に、撥水性、滑り性等を付与することができる。界面活性剤の種類として、特に制限はなく、フッ素系界面活性剤、アクリル系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等を用いることができる。特に塗布液のレベリング性、撥水性、滑り性という観点で、フッ素系界面活性剤を用いることが好ましい。フッ素系界面活性剤の例としては、例えば、ＤＩＣ株式会社製のメガファック（登録商標）Ｆシリーズ（Ｆ−４３０、Ｆ−４７７、Ｆ−５５２〜Ｆ−５５９、Ｆ−５６１、Ｆ−５６２等）、ＤＩＣ株式会社製のメガファック（登録商標）ＲＳシリーズ（ＲＳ−７６−Ｅ等）、ＡＧＣセイミケミカル株式会社製のサーフロン（登録商標）シリーズ、ＯＭＮＯＶＡ ＳＯＬＵＴＩＯＮＳ社製のＰＯＬＹＦＯＸシリーズ、株式会社Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡのＺＸシリーズ、ダイキン工業株式会社製のオプツール（登録商標）シリーズ、株式会社ネオス製のフタージェント（登録商標）シリーズ（６０２Ａ、６５０Ａ等）等の市販品を使用することができる。アクリル系界面活性剤としては、ポリフローシリーズ（共栄社化学株式会社製）、ニューコールシリーズ（日本乳化剤株式会社製）、ＢＹＫ（登録商標）−３５４（ビックケミー・ジャパン社製）が挙げられる。シリコーン系界面活性剤としては、ＢＹＫ（登録商標）−３４５、ＢＹＫ（登録商標）−３４７、ＢＹＫ（登録商標）−３４８、ＢＹＫ（登録商標）−３４９（ビックケミー・ジャパン社製）が挙げられる。界面活性剤は、単独でもまたは２種以上混合して用いてもよい。   The coating solution for forming the heat ray absorbing layer may contain a surfactant. When a coating film is formed with a coating solution for forming a heat-absorbing layer containing a surfactant, it becomes a highly leveled coating film, thus preventing the formation of parts with a high or low residual solvent amount. And the adhesiveness with a resin film, a hard-coat layer, etc. can improve. Further, when a hard coat layer or the like is used, water repellency, slipperiness, etc. can be imparted to the hard coat layer or the like. There is no restriction | limiting in particular as a kind of surfactant, A fluorine-type surfactant, an acrylic surfactant, a silicone-type surfactant, etc. can be used. In particular, a fluorosurfactant is preferably used from the viewpoint of leveling properties, water repellency, and slipperiness of the coating solution. Examples of the fluorosurfactant include, for example, Megafac (registered trademark) F series (F-430, F-477, F-552 to F-559, F-561, F-562, etc., manufactured by DIC Corporation. ), Megafuck (registered trademark) RS series (RS-76-E, etc.) manufactured by DIC Corporation, Surflon (registered trademark) series manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd., POLYFOX series manufactured by OMNOVA SOLUTIONS, T & K TOKA Corporation Commercially available products such as ZX series, Optool (registered trademark) series manufactured by Daikin Industries, Ltd., and Footgent (registered trademark) series (602A, 650A, etc.) manufactured by Neos Corporation can be used. Examples of the acrylic surfactant include Polyflow Series (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), New Coal Series (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.), and BYK (registered trademark) -354 (manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.). Examples of the silicone-based surfactant include BYK (registered trademark) -345, BYK (registered trademark) -347, BYK (registered trademark) -348, and BYK (registered trademark) -349 (manufactured by Big Chemie Japan). Surfactants may be used alone or in admixture of two or more.

熱線吸収層形成のための塗布液は、金属塩を含んでもよい。ここで、金属塩は、遮熱特性の経時的な劣化を抑制する機能を有するが、この機能は金属塩が熱線吸収層中の水分やラジカルを捕捉することに起因すると考えられている。   The coating solution for forming the heat ray absorbing layer may contain a metal salt. Here, the metal salt has a function of suppressing deterioration over time of the heat-shielding property, and this function is considered to be caused by the metal salt capturing moisture and radicals in the heat ray absorbing layer.

金属塩を構成する金属としては、特に制限はされないが、たとえばＣｓ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｎｉ、Ｓｃ、Ｙ、Ｖ、Ａｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、および上記に挙げられた以外のアルカリ金属、アルカリ土類金属等が挙げられる。   The metal constituting the metal salt is not particularly limited. For example, Cs, Sr, Ba, Ti, Zr, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Ru, Os, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, In, Sn, Mg, Ni, Sc, Y, V, Al, Pb, Bi, and alkali metals and alkaline earth metals other than those listed above Is mentioned.

これらの中でも、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｎｉ、Ｉｎ、Ｓｎが変色防止効果の観点から好ましく、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｎｉがより好ましい。   Among these, Zn, Mg, Ni, In, and Sn are preferable from the viewpoint of the effect of preventing discoloration, and Zn, Mg, and Ni are more preferable.

金属塩としては、有機酸塩、無機酸塩であってもよい。これらの中でも、変色防止効果の観点からカルボン酸塩、カルボニル錯塩、炭酸塩、リン酸塩、過塩素酸塩、次亜塩素酸塩、亜塩素酸塩、塩素酸塩、塩酸塩であることが好ましく、過塩素酸塩（例えば、過塩素酸ニッケル六水和物等）、カルボン酸塩がより好ましく、カルボン酸塩がさらに好ましい。   The metal salt may be an organic acid salt or an inorganic acid salt. Among these, from the viewpoint of the effect of preventing discoloration, it may be a carboxylate, carbonyl complex, carbonate, phosphate, perchlorate, hypochlorite, chlorite, chlorate, or hydrochloride. Preferably, perchlorate (for example, nickel perchlorate hexahydrate) and carboxylate are more preferable, and carboxylate is more preferable.

金属塩として、より好適なカルボン酸塩を構成するカルボン酸としては、特に制限はされないが、たとえば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、２−エチルヘキサン酸、ナフテン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、ドコサヘキサエン酸、エイコサペンタ酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、安息香酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、サリチル酸、没食子酸、メリト酸、ケイ皮酸、ピルビン酸、乳酸、リンゴ酸、クエン酸、マレイン酸、アコニット酸、グルタル酸、アジピン酸、アミノ酸等が挙げられる。また、上記カルボニル錯塩を構成するβ−ジケトンとしては、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ベンゾイルトリフルオロアセトン、ヘキサフルオロアセチルアセトン、２−テノイルトリフルオロアセトン等が挙げられる。   The carboxylic acid constituting the more preferable carboxylate as the metal salt is not particularly limited. For example, formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, 2-ethylhexanoic acid, naphthenic acid, Enanthate, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, pentadecanoic acid, palmitic acid, margaric acid, stearic acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, arachidonic acid, docosahexaenoic acid, eicosapentanoic acid, oxalic acid , Malonic acid, succinic acid, benzoic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, salicylic acid, gallic acid, mellitic acid, cinnamic acid, pyruvic acid, lactic acid, malic acid, citric acid, maleic acid, aconitic acid, glutaric acid , Adipic acid, amino acids and the like. Examples of the β-diketone constituting the carbonyl complex salt include acetylacetone, benzoylacetone, benzoyltrifluoroacetone, hexafluoroacetylacetone, 2-thenoyltrifluoroacetone and the like.

これらの中でも、変色防止効果の観点から酢酸、２−エチルヘキサン酸、ステアリン酸が好ましい。これらの中でも特に熱線吸収層との相溶性が良好であり、ヘイズ抑制効果に優れるとの観点から、２−エチルヘキサン酸がさらに好ましい。   Among these, acetic acid, 2-ethylhexanoic acid, and stearic acid are preferable from the viewpoint of the effect of preventing discoloration. Among these, 2-ethylhexanoic acid is more preferable from the viewpoint of particularly good compatibility with the heat ray absorbing layer and excellent haze suppression effect.

具体的な金属塩としては、特に制限されないが、たとえば過塩素酸Ｎｉ、ステアリン酸Ｍｇ、酢酸Ｚｎ、ビス（２−エチルヘキサン酸）Ｚｎ等が挙げられる。   Specific metal salts are not particularly limited, and examples thereof include Ni perchlorate, Mg stearate, Zn acetate, and bis (2-ethylhexanoic acid) Zn.

金属塩の含有量は、特に制限されないが、熱線吸収層用塗布液の溶媒を除いた成分の総質量に対して、０．００５〜１０質量％であることが好ましい。金属塩の含有量が０．００５質量％以上であると、熱線吸収層の変色防止効果がより高まる。この理由は、金属塩が熱線吸収層中の水分やラジカルを捕捉する効果が良好に得られるためと考えられる。また、金属塩の含有量が１０質量％以下であると、熱線吸収層の密着性改善効果がより高まる。この理由は、前記添加量の金属塩を含有させても、上記活性エネルギー線硬化性樹脂（例えば、実施例で使用した（メタ）アクリレート系化合物）の硬化反応が阻害されにくく、架橋密度を高くする効果がより発揮できるためと考えられる。同様の観点より、金属塩の含有量は、より好ましくは０．０１〜１．０質量％であり、さらに好ましくは０．０５〜１．０質量％である。   Although content in particular of metal salt is not restrict | limited, It is preferable that it is 0.005-10 mass% with respect to the total mass of the component except the solvent of the coating liquid for heat ray absorption layers. When the content of the metal salt is 0.005% by mass or more, the discoloration preventing effect of the heat ray absorbing layer is further increased. The reason for this is considered to be that the metal salt has a good effect of capturing moisture and radicals in the heat ray absorbing layer. Moreover, the adhesive improvement effect of a heat ray absorption layer increases more as content of a metal salt is 10 mass% or less. The reason for this is that even when the added amount of the metal salt is contained, the curing reaction of the active energy ray-curable resin (for example, the (meth) acrylate compound used in the Examples) is hardly inhibited, and the crosslinking density is increased. This is thought to be because the effect of the effect can be demonstrated. From the same viewpoint, the content of the metal salt is more preferably 0.01 to 1.0% by mass, and still more preferably 0.05 to 1.0% by mass.

（熱線吸収層の膜厚）
本形態では、熱線吸収層の膜厚が１０μｍ以下であることを特徴とするものである。熱線吸収層の膜厚が１０μｍを超えると隣接する樹脂フィルムあるいは熱線反射層との収縮率差が大きくなり、熱線吸収層が割れやすくなり隣接する樹脂フィルムあるいは熱線反射層との密着性が悪くなる。かかる観点から、熱線吸収層の膜厚は、好ましくは１〜７μｍの範囲であることが、耐久性と耐候性のバランスが良く好ましい。本発明の熱線吸収層にはハードコート性を持たせることが好ましく、膜厚が１μｍ以上であれば、十分に熱線を吸収でき、更に十分な硬度が出せるため、所望のハードコート性を持たせることができ、熱線吸収層上にハードコート層を設けなくても発明の効果を有効に発現することができる点で優れている。即ち、本形態では熱線吸収層をハードコート層として使用しているともいえる。なお、本発明では、熱線吸収層の膜厚が上記範囲内の場合に、ハードコート層を設けることを排除するものではなく、ハードコート層を設けることで、光や水分の侵入防止効果に優れるため、より高い耐候性を獲得できる。 (Heat ray absorption layer thickness)
In this embodiment, the thickness of the heat ray absorbing layer is 10 μm or less. When the film thickness of the heat ray absorbing layer exceeds 10 μm, the difference in shrinkage between the adjacent resin film or the heat ray reflective layer increases, the heat ray absorbing layer is easily broken, and the adhesion with the adjacent resin film or the heat ray reflective layer is deteriorated. . From this point of view, the thickness of the heat ray absorbing layer is preferably in the range of 1 to 7 μm, and a good balance between durability and weather resistance is preferable. The heat ray absorbing layer of the present invention preferably has a hard coat property. If the film thickness is 1 μm or more, the heat ray can be sufficiently absorbed, and a sufficient hardness can be obtained. It is excellent in that the effect of the invention can be effectively expressed without providing a hard coat layer on the heat ray absorbing layer. That is, it can be said that the heat ray absorbing layer is used as a hard coat layer in this embodiment. In addition, in this invention, when the film thickness of a heat ray absorption layer is in the said range, it does not exclude providing a hard-coat layer, but it is excellent in the penetration | invasion prevention effect of light and a water | moisture content by providing a hard-coat layer. Therefore, higher weather resistance can be obtained.

ハードコート層（熱線吸収層）は、上記赤外線吸収剤以外の無機微粒子を含有してもよい。好ましい無機微粒子としては、チタン、シリカ、ジルコニウム、アルミニウム、マグネシウム、アンチモン、亜鉛またはスズなどの金属を含む無機化合物の微粒子が挙げられる。この無機微粒子の平均粒径は、可視光線の透過性を確保することから、１０００ｎｍ以下が好ましく、１０〜５００ｎｍの範囲にあるものがより好ましい。また、無機微粒子は、ハードコート層を形成する硬化性樹脂との結合力が高い方がハードコート層からの脱落を抑制できることから、単官能または多官能のアクリレートなどの光重合反応性を有する感光性基を表面に導入しているものが好ましい。   The hard coat layer (heat ray absorbing layer) may contain inorganic fine particles other than the infrared absorber. Preferable inorganic fine particles include fine particles of an inorganic compound containing a metal such as titanium, silica, zirconium, aluminum, magnesium, antimony, zinc or tin. The average particle size of the inorganic fine particles is preferably 1000 nm or less, and more preferably in the range of 10 to 500 nm, in order to ensure visible light transmittance. In addition, since inorganic fine particles have a higher bonding strength with the curable resin forming the hard coat layer, they can be prevented from falling out of the hard coat layer, so that a photopolymerization reactivity such as monofunctional or polyfunctional acrylate is present. Those having a functional group introduced on the surface are preferred.

ハードコート層（熱線吸収層）に染料や顔料を添加して色相を調整することができる。例えば、カドミウムレッド、モリブデンレッド、クロムパーミリオン、酸化クロム、ビリジアン、チタンコバルトグリーン、コバルトグリーン、コバルトクロムグリーン、ビクトリアグリーン、群青、ウルトラマリンブルー、紺青、ベルリンブルー、ミロリブルー、コバルトブルー、セルリアンブルー、コバルトシリカブルー、コバルト亜鉛ブルー、マンガンバイオレット、ミネラルバイオレッド、コバルトバイオレット等の有色無機顔料や、フタロシアニン顔料等の有機顔料、アントラキノン系染料が好ましく使用される。   The hue can be adjusted by adding a dye or a pigment to the hard coat layer (heat ray absorbing layer). For example, cadmium red, molybdenum red, chromium permillion, chromium oxide, viridian, titanium cobalt green, cobalt green, cobalt chrome green, Victoria green, ultramarine blue, ultramarine blue, bitumen, Berlin blue, miloli blue, cobalt blue, cerulean blue, Colored inorganic pigments such as cobalt silica blue, cobalt zinc blue, manganese violet, mineral violet, and cobalt violet, organic pigments such as phthalocyanine pigments, and anthraquinone dyes are preferably used.

ハードコート層（熱線吸収層）の形成方法としては、ワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング等によりハードコート層用塗布液を、熱線吸収層上に塗布し製膜する方法が挙げられ、蒸着などの乾式製膜法でも形成することができる。また、ダイコーター、グラビアコーター、コンマコーターなどの連続塗布装置でも塗布、製膜することが可能である。例えば、ポリシロキサン系ハードコート材料の場合、塗布後、溶剤を乾燥させた後、該ハードコート材料の硬化、架橋を促進するため、５０〜１５０℃の温度範囲内で３０分〜数日間の熱処理を行うことが好ましい。塗布基材（樹脂フォルム等）の耐熱性や積層ロール状にした時の基材（樹脂フォルム等）の安定性を考慮して、４０〜８０℃の範囲内で２日間以上処理することが好ましい。活性エネルギー線硬化性樹脂を用いる場合、活性エネルギー線の照射波長、照度、光量によってその反応性が変わるため、使用する樹脂によって最適な条件を選択する必要があるため一概には言えない。しかしながら、例えば、活性エネルギー線として紫外線ランプを用いる場合、その照度は５０〜１５００ｍＷ／ｃｍ２が好ましく、照射エネルギー量は５０〜１５００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。 Examples of the method for forming the hard coat layer (heat ray absorbing layer) include a method in which a coating solution for hard coat layer is applied on the heat ray absorbing layer by wire bar coating, spin coating, dip coating, etc., and film formation is performed. It can also be formed by a dry film forming method such as Moreover, it is possible to apply and form a film using a continuous coating apparatus such as a die coater, a gravure coater, or a comma coater. For example, in the case of a polysiloxane-based hard coat material, after coating, after drying the solvent, heat treatment for 30 minutes to several days in a temperature range of 50 to 150 ° C. in order to promote curing and crosslinking of the hard coat material It is preferable to carry out. In consideration of the heat resistance of the coated base material (resin form, etc.) and the stability of the base material (resin form, etc.) when it is formed into a laminated roll, it is preferable that the treatment is carried out for 2 days or more within the range of 40 to 80 ° C. . When an active energy ray curable resin is used, the reactivity varies depending on the irradiation wavelength, the illuminance, and the light amount of the active energy ray, and therefore it is necessary to select optimum conditions depending on the resin to be used. However, for example, when an ultraviolet lamp is used as the active energy ray, the illuminance is preferably 50 to 1500 mW / cm 2 and the irradiation energy amount is preferably 50 to 1500 mJ / cm 2 .

ハードコート層（熱線吸収層）を塗布法により形成する際に用いる溶媒は、特に制限されず、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソルブ）、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル等が挙げられる。これらの溶媒は、単独でまたは混合し利用できる。   The solvent used when the hard coat layer (heat ray absorbing layer) is formed by a coating method is not particularly limited. For example, toluene, xylene, cyclohexane, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol, acetone, methyl ethyl ketone (MEK) , Methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether (methyl cellosolve), ethylene glycol monoethyl ether (ethyl cellosolve), methyl acetate, ethyl acetate, lactic acid And methyl. These solvents can be used alone or in combination.

ハードコート層（熱線吸収層）形成のための塗布液は、界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤を含むハードコート層形成用塗布液により塗膜が形成されると、レベリング性の高い塗膜となるため、残存溶媒量が部分的に多い箇所や少ない箇所が形成されることを防止し、ハードコート層の密着性が向上することが期待できる。また、ハードコート層に、撥水性、滑り性等を付与することができる。界面活性剤の種類として、特に制限はなく、フッ素系界面活性剤、アクリル系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等を用いることができる。特に塗布液のレベリング性、撥水性、滑り性という観点で、フッ素系界面活性剤を用いることが好ましい。これらの界面活性剤の例としては熱線吸収層で上述したものを利用可能である。   The coating liquid for forming the hard coat layer (heat ray absorbing layer) may contain a surfactant. When a coating film is formed with a coating liquid for forming a hard coat layer containing a surfactant, it becomes a highly leveled coating film, thus preventing the formation of parts with a high or low residual solvent amount. In addition, it can be expected that the adhesion of the hard coat layer is improved. Moreover, water repellency, slipperiness, etc. can be provided to the hard coat layer. There is no restriction | limiting in particular as a kind of surfactant, A fluorine-type surfactant, an acrylic surfactant, a silicone-type surfactant, etc. can be used. In particular, a fluorosurfactant is preferably used from the viewpoint of leveling properties, water repellency, and slipperiness of the coating solution. As examples of these surfactants, those described above for the heat-absorbing layer can be used.

ハードコート層（熱線吸収層）中の界面活性剤の量は、ハードコート塗布液中の界面活性剤の配合量を変更することで調節でき、ハードコート層の乾燥質量当たり界面活性剤の質量が０．０１〜５質量％であることが好ましい。   The amount of the surfactant in the hard coat layer (heat-absorbing layer) can be adjusted by changing the blending amount of the surfactant in the hard coat coating solution, and the mass of the surfactant per dry mass of the hard coat layer can be adjusted. It is preferable that it is 0.01-5 mass%.

（樹脂フィルム）
上述したように、熱線吸収層の少なくとも一方の面に樹脂フィルムが配置されてもよい。好ましくは図１に示すように、光入射側よりポリマーを含有する高屈折率層と低屈折率層の交互積層からなる熱線反射層３、樹脂フィルム４、セシウム含有酸化タングステンを含有する熱線吸収層５が、この順に積層されてなる構成である。ここで、適用可能な樹脂フィルムとしては、フィルム支持体であることが好ましく、フィルム支持体は、透明であっても不透明であってもよく、種々の樹脂フィルムを用いることができる。 (Resin film)
As described above, a resin film may be disposed on at least one surface of the heat ray absorbing layer. Preferably, as shown in FIG. 1, a heat ray reflective layer 3, a resin film 4, and a heat ray absorbing layer containing cesium-containing tungsten oxide, which are composed of alternating layers of a high refractive index layer and a low refractive index layer containing a polymer from the light incident side. Reference numeral 5 denotes a configuration in which the layers are stacked in this order. Here, the applicable resin film is preferably a film support, and the film support may be transparent or opaque, and various resin films can be used.

例えば、ポリオレフィンフィルム（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリ塩化ビニル、３酢酸セルロース等を用いることができ、好ましくはポリエステルフィルムである。ポリエステルフィルム（以降ポリエステルと称す）としては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。   For example, polyolefin films (polyethylene, polypropylene, etc.), polyester films (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polyvinyl chloride, cellulose acetate, etc. can be used, and polyester films are preferred. Although it does not specifically limit as a polyester film (henceforth polyester), It is preferable that it is polyester which has the film formation property which has a dicarboxylic acid component and a diol component as main structural components.

本形態に用いられる樹脂フィルムの厚みは、１０〜３００μｍ、特に２０〜１５０μｍであることが好ましい。また、樹脂フィルムは、２枚以上重ねたものであっても良く、この場合、各樹脂フィルムは同じでも異なってもよい。さらに、樹脂フィルムが熱線吸収層の両面に配置される場合には、各樹脂フィルムは同じでも異なってもよい。   The thickness of the resin film used in this embodiment is preferably 10 to 300 μm, particularly 20 to 150 μm. Two or more resin films may be stacked, and in this case, each resin film may be the same or different. Furthermore, when a resin film is arrange | positioned on both surfaces of a heat ray absorption layer, each resin film may be the same or different.

（粘着層）
本形態の赤外遮蔽フィルム１は、熱線吸収層を形成した層とは反対側の熱線反射層上に粘着層を有してもよい。 (Adhesive layer)
The infrared shielding film 1 of this form may have an adhesive layer on the heat ray reflective layer opposite to the layer on which the heat ray absorbing layer is formed.

本形態の赤外遮蔽フィルムは、窓ガラスに貼り合わせる場合、窓に水を吹き付け、濡れた状態のガラス面に赤外遮蔽フィルムの粘着層を合わせる貼り方、いわゆる水貼り法が張り直し、位置直し等の観点で好適に用いられる。そのため、水が存在する湿潤下では粘着力が弱い粘着剤が好ましい。   When the infrared shielding film of this embodiment is pasted on a window glass, water is sprayed on the window, and the pasting method for aligning the adhesive layer of the infrared shielding film on the wet glass surface, the so-called water pasting method is repositioned and positioned. It is preferably used from the viewpoint of correction. For this reason, a pressure-sensitive adhesive having a low adhesive strength in the presence of water is preferable.

粘着層を構成する粘着剤は、特に限定されず、公知の粘着剤が同様にして使用できる。具体的には、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤などを例示することができる。これらのうち、アクリル系粘着剤が、耐久性、透明性、粘着特性の調整の容易さなどの面から好ましい。アクリル系粘着剤は、アクリル酸アルキルエステルを主成分とし、これに極性単量体成分を共重合したアクリル系ポリマーを用いたものである。上記アクリル酸アルキルエステルとはアクリル酸またはメタクリル酸のアルキルエステルであって、特に限定されるものではないが、例えば、アクリル酸エチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ラウリル等が挙げられる。また、粘着剤は、市販品を使用してもよく、具体的には、東洋インキ社製ＢＰＳ５９７８、日本合成化学製コーポニール（例えば、Ｎ−２１４７、５６９７、５６９８、５７０５Ｌ）などが使用できる。   The adhesive which comprises an adhesion layer is not specifically limited, A well-known adhesive can be used similarly. Specific examples include acrylic adhesives, silicon adhesives, urethane adhesives, polyvinyl butyral adhesives, ethylene-vinyl acetate adhesives, and the like. Among these, acrylic pressure-sensitive adhesives are preferable from the viewpoints of durability, transparency, and ease of adjustment of adhesive properties. The acrylic pressure-sensitive adhesive uses an acrylic polymer that is mainly composed of alkyl acrylate and copolymerized with a polar monomer component. The alkyl acrylate ester is an alkyl ester of acrylic acid or methacrylic acid and is not particularly limited. For example, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, (meth ) Pentyl acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, and the like. Commercially available products may be used as the pressure-sensitive adhesive, specifically, Toyo Ink BPS5978, Nippon Synthetic Chemical Coponil (for example, N-2147, 5697, 5698, 5705L) and the like can be used.

また、粘着剤層をアクリル系粘着剤で形成する場合には、アクリル系粘着剤の硬化剤を使用することができる。アクリル系粘着剤の硬化剤は、特に制限されないが、例えば、イソシアネート系、エポキシ系、アリジリン系硬化剤が利用できる。イソシアネート系硬化剤では、長期保存後も安定した粘着力を得ることと、より硬い粘着層とする目的で、トノレイレンジイソシアネート（ＴＤＩ）等の芳香族系のタイプを好ましく用いることができる。具体的には、東洋インキ社製ＢＸＸ５１３４を使用することができる。   Moreover, when forming an adhesive layer with an acrylic adhesive, the hardening | curing agent of an acrylic adhesive can be used. The curing agent for the acrylic pressure-sensitive adhesive is not particularly limited, and for example, an isocyanate-based, epoxy-based, or alidiline-based curing agent can be used. As the isocyanate curing agent, an aromatic type such as tonoleylene diisocyanate (TDI) can be preferably used in order to obtain a stable adhesive force even after long-term storage and to form a harder adhesive layer. Specifically, Toyo Ink BXX5134 can be used.

硬化剤の添加量（固形分換算）は、粘着剤に対して、２〜９質量％であることが好ましく、より好ましくは３〜７質量％である。このような範囲であれば、粘着剤が残りにくく、十分な接着力も確保できる。   It is preferable that the addition amount (solid content conversion) of a hardening | curing agent is 2-9 mass% with respect to an adhesive, More preferably, it is 3-7 mass%. If it is such a range, an adhesive will not remain easily and sufficient adhesive force can also be ensured.

粘着層は、上記粘着剤に加えて、添加剤を含んでもよい。ここで、添加剤としては、特に制限されないが、例えば、安定剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、難燃剤、帯電防止剤、抗酸化剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等が得られる。これらのうち、粘着層は、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。紫外線吸収剤を含む粘着層を熱線吸収層に対して太陽光の入射側（光入射側）に設けることによって、熱線吸収層に侵入する太陽光（特に赤外光）量（熱線吸収層の太陽光吸収量）はより低減する。このため、熱線吸収層に含まれるセシウム含有酸化タングステン等の太陽光の吸収による発熱をより有効に抑制または防止し、熱線吸収層の熱膨張・収縮（伸縮）による、熱線吸収層の熱割れをより有効に抑制または防止できる。また、本形態の赤外遮蔽フィルムを窓貼用として使用する場合には、紫外線による赤外遮蔽フィルムの劣化を抑制できる。   The pressure-sensitive adhesive layer may contain an additive in addition to the pressure-sensitive adhesive. Here, the additive is not particularly limited. For example, a stabilizer, a surfactant, an ultraviolet absorber, a silane coupling agent, a flame retardant, an antistatic agent, an antioxidant, a thermal stabilizer, a lubricant, and a filler. , Coloring, adhesion adjusting agent and the like can be obtained. Among these, it is preferable that an adhesion layer contains a ultraviolet absorber. The amount of sunlight (particularly infrared light) entering the heat ray absorbing layer (the sun of the heat ray absorbing layer) by providing an adhesive layer containing an ultraviolet absorber on the sunlight incident side (light incident side) with respect to the heat ray absorbing layer (Light absorption) is further reduced. For this reason, heat generation due to absorption of sunlight such as cesium-containing tungsten oxide contained in the heat ray absorbing layer is more effectively suppressed or prevented, and heat cracking of the heat ray absorbing layer due to thermal expansion / contraction (expansion / contraction) of the heat ray absorbing layer is prevented. It can be suppressed or prevented more effectively. Moreover, when using the infrared shielding film of this form for window sticking, degradation of the infrared shielding film by an ultraviolet-ray can be suppressed.

ここで、紫外線吸収剤としては、特に制限されず、公知の紫外線吸収剤を使用できる。例えば、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤；２−（２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤；フェニルサリチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のサリチル酸フェニル系紫外線吸収剤；ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等のヒンダードアミン系紫外線吸収剤；２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等のトリアジン系紫外線吸収剤；等が挙げられる。   Here, it does not restrict | limit especially as an ultraviolet absorber, A well-known ultraviolet absorber can be used. For example, benzophenone ultraviolet absorbers such as 2,4-dihydroxy-benzophenone and 2-hydroxy-4-methoxy-benzophenone; 2- (2′-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy -3 ', 5'-di-t-butylphenyl) benzotriazole UV absorbers such as benzotriazole; phenyl salicylate, 2-4-di-t-butylphenyl-3,5-di-t-butyl Phenyl salicylate UV absorbers such as -4-hydroxybenzoate; hindered amine UV absorbers such as bis (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) sebacate; 2,4-diphenyl-6- ( 2-hydroxy-4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2 Triazine-based UV absorbers such as hydroxy-4-ethoxyphenyl) -1,3,5-triazine; and the like.

紫外線吸収剤としては、上記以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを、熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。   In addition to the above, the ultraviolet absorber includes a compound having a function of converting the energy held by ultraviolet rays into vibrational energy in the molecule and releasing the vibrational energy as thermal energy or the like.

なお、紫外線吸収剤は、単独でもまたは２種以上混合して用いてもよい。また、紫外線吸収剤は、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。市販品の例としては、例えば、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）３２０、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）３２８、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）２３４、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）４７７、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１５７７、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）６２２（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、アデカスタブ（登録商標）ＬＡ−３１（以上、株式会社アデカ製）、ＳＥＥＳＯＲＢ（登録商標）１０２、ＳＥＥＳＯＲＢ（登録商標）１０３、ＳＥＥＳＯＲＢ（登録商標）５０１（以上、シプロ化成株式会社製）などが挙げられる。   In addition, you may use a ultraviolet absorber individually or in mixture of 2 or more types. Moreover, as the ultraviolet absorber, a synthetic product or a commercially available product may be used. Examples of commercially available products include, for example, Tinuvin (registered trademark) 320, Tinuvin (registered trademark) 328, Tinuvin (registered trademark) 234, Tinuvin (registered trademark) 477, Tinuvin (registered trademark) 1577, and Tinuvin (registered trademark) 622. (Above, manufactured by BASF Japan Ltd.), ADK STAB (registered trademark) LA-31 (above, manufactured by ADEKA CORPORATION), SESORB (registered trademark) 102, SESORB (registered trademark) 103, SEESORB (registered trademark) 501 (or more Cipro Kasei Co., Ltd.).

紫外線吸収剤の添加量（固形分換算）は、粘着剤に対して、０．１〜１０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．５〜５質量％である。このような範囲であれば、熱線吸収層の太陽光吸収量をより有効に低減できる。   It is preferable that the addition amount (in solid content conversion) of a ultraviolet absorber is 0.1-10 mass% with respect to an adhesive, More preferably, it is 0.5-5 mass%. If it is such a range, the sunlight absorption amount of a heat ray absorption layer can be reduced more effectively.

粘着層の厚さは、１〜１００μｍが好ましく、３〜５０μｍがより好ましい。１μｍ以上であれば粘着性が向上する傾向にあり、十分な粘着力が得られる。逆に１００μｍ以下であれば赤外遮蔽フィルムの透明性が向上するだけでなく、赤外遮蔽フィルムを窓ガラスに貼り付けた後、剥がしたときに粘着層間で凝集破壊が起こらず、ガラス面への粘着剤残りが無くなる傾向にある。   1-100 micrometers is preferable and, as for the thickness of the adhesion layer, 3-50 micrometers is more preferable. If it is 1 micrometer or more, there exists a tendency for adhesiveness to improve and sufficient adhesive force is acquired. On the other hand, if the thickness is 100 μm or less, not only the transparency of the infrared shielding film is improved, but also after the infrared shielding film is attached to the window glass, when it is peeled off, cohesive failure does not occur between the adhesive layers. There is a tendency for the remaining adhesive to disappear.

熱線反射層上への粘着層の形成方法としては、特に制限されないが、熱線反射層とは別に、剥離フィルム（剥離層）として利用可能なセパレーター上に粘着層用塗布液を塗布し乾燥させて粘着層を形成した後、粘着層と熱線反射層とを貼り合わせる方法が好ましい。   Although it does not restrict | limit especially as a formation method of the adhesion layer on a heat ray reflective layer, The coating liquid for adhesion layers is apply | coated and dried on the separator which can be used as a peeling film (peeling layer) separately from a heat ray reflective layer. A method of bonding the adhesive layer and the heat ray reflective layer after forming the adhesive layer is preferable.

この際用いられるセパレーターとしては、例えば、シリコーンコート離型ＰＥＴフィルム（セパレーターＳＰ−ＰＥＴ（銘柄：ＰＥＴ−Ｏ２−ＢＵ；三井化学東セロ株式会社製）など）、シリコーンコートＰＥフィルム等が挙げられる。セパレーター上への粘着層用塗布液の塗布方法は、特に制限されず、ワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング等により塗布液を塗布し製膜する方法が挙げられ、また、ダイコーター、グラビアコーター、コンマコーターなどの連続塗布装置でも塗布、製膜することが可能である。   Examples of the separator used at this time include a silicone-coated release PET film (separator SP-PET (brand: PET-O2-BU; manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.)), a silicone-coated PE film, and the like. The method of applying the coating solution for the adhesive layer on the separator is not particularly limited, and examples thereof include a method of applying the coating solution by wire bar coating, spin coating, dip coating, etc., and forming a film. It is possible to apply and form a film using a continuous coating apparatus such as a coater or a comma coater.

なお、本明細書において、「粘着力」は、ＪＩＳ Ａ ５７５９：２００８ ６．８粘着力試験に準じて測定することによって求められる。   In the present specification, the “adhesive strength” is determined by measuring according to JIS A 5759: 2008 6.8 adhesive strength test.

（赤外遮蔽体）
本形態により提供される赤外遮蔽フィルムは、幅広い分野に応用することができる。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備に貼り合せ、赤外遮蔽効果を付与する窓貼用フィルム（赤外遮蔽フィルム）として用いることができる。 (Infrared shield)
The infrared shielding film provided by this form can be applied to a wide field. For example, it can be used as a window pasting film (infrared shielding film) that is bonded to facilities exposed to sunlight for a long period of time, such as an outdoor window of a building or an automobile window, and imparts an infrared shielding effect.

すなわち、本発明の他の実施形態によれば、上述の赤外遮蔽フィルムを用いてなる赤外遮蔽体が提供される。具体的には、上述の赤外遮蔽フィルムを光透過性基体（建物の屋外の窓や自動車窓等）に貼り付けた赤外遮蔽体も提供される。前記赤外遮蔽体は、赤外遮蔽フィルムが、その最外層に設けられた粘着層により光透過性基体に接合（貼合）されてなる構造を有する。   That is, according to other embodiment of this invention, the infrared shielding body which uses the above-mentioned infrared shielding film is provided. Specifically, an infrared shielding body in which the above-described infrared shielding film is attached to a light-transmitting substrate (such as an outdoor window of a building or an automobile window) is also provided. The infrared shielding body has a structure in which an infrared shielding film is bonded (bonded) to a light-transmitting substrate by an adhesive layer provided on the outermost layer.

前記光透過性基体の具体的な例としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフィド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂等が挙げられる。また、前記光透過性基体は、全光透過性を有していても、部分的な波長領域に対する光透過性を有していてもよい。   Specific examples of the light transmissive substrate include, for example, glass, polycarbonate resin, polysulfone resin, acrylic resin, polyolefin resin, polyether resin, polyester resin, polyamide resin, polysulfide resin, unsaturated polyester resin, epoxy resin, Examples include melamine resin, phenol resin, diallyl phthalate resin, polyimide resin, urethane resin, polyvinyl acetate resin, polyvinyl alcohol resin, styrene resin, and vinyl chloride resin. Further, the light-transmitting substrate may have total light transmittance or may have light transmittance for a partial wavelength region.

本形態の作用効果は、前記光透過性基体が曲面であるときに、より一層効果的に発現される。「曲面」とは、曲率半径が３ｍ以下の範囲である面を意味する。曲率半径が３ｍ以下とするのは、曲率半径が３ｍを超えると、平面状の光透過性基体との差異がなくなるからである。   The effect of this form is expressed more effectively when the light-transmitting substrate is a curved surface. “Curved surface” means a surface having a radius of curvature of 3 m or less. The reason why the radius of curvature is 3 m or less is that when the radius of curvature exceeds 3 m, there is no difference from a planar light-transmitting substrate.

本発明の効果を、以下の実施例および比較例を用いて説明する。ただし、本発明の技術的範囲が以下の実施例のみに制限されるわけではない。なお、下記実施例において、特記しない限り、操作は室温（２５℃）で行われた。また、特記しない限り、「％」および「部」は、それぞれ、「質量％」および「質量部」を意味する。   The effects of the present invention will be described using the following examples and comparative examples. However, the technical scope of the present invention is not limited only to the following examples. In the following examples, the operation was performed at room temperature (25 ° C.) unless otherwise specified. Unless otherwise specified, “%” and “part” mean “% by mass” and “part by mass”, respectively.

（実施例１）
＜低屈折率層用塗布液の作製＞
低屈折率層用塗布液を以下のようにして調製した。具体的には、３５０質量部のコロイダルシリカ水溶液（固形分１０質量％）（スノーテックスＯＸＳ；一次粒子の平均粒径＝４〜６ｎｍ；日産化学工業株式会社製）、４２８質量部のポリビニルアルコール水溶液（固形分８質量％）（ＪＰ−４５；重合度：４５００、ケン化度：８８モル％；日本酢ビ・ポバール株式会社製）、および５質量部の界面活性剤の水溶液（固形分５質量％）（ニューコール１３０５−ＳＮ；日本乳化剤株式会社製）、を４５℃でこの順に添加した。そして、純水で１０００質量部に仕上げ、低屈折率層用塗布液を調製した。 Example 1
<Preparation of coating solution for low refractive index layer>
A coating solution for a low refractive index layer was prepared as follows. Specifically, 350 parts by mass of colloidal silica aqueous solution (solid content: 10% by mass) (Snowtex OXS; average particle size of primary particles = 4 to 6 nm; manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), 428 parts by mass of polyvinyl alcohol aqueous solution (Solid content 8% by mass) (JP-45; polymerization degree: 4500, saponification degree: 88 mol%; manufactured by Nihon Vinegar Poval Co., Ltd.), and 5 parts by mass of an aqueous surfactant solution (solid content 5% by mass) %) (Newcol 1305-SN; manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) was added in this order at 45 ° C. And it finished to 1000 mass parts with pure water, and prepared the coating liquid for low refractive index layers.

＜高屈折率層用塗布液の作製＞
（シリカ付着二酸化チタンゾルの調製）
固形分１５．０質量％の酸化チタンゾル（ＳＲＤ−Ｗ、体積平均粒径：５ｎｍ、ルチル型二酸化チタン粒子、堺化学社製）０．５質量部に純水２質量部を加えた後、９０℃に加熱した。次いで、ケイ酸水溶液（ケイ酸ソーダ４号（日本化学社製）をＳｉＯ２濃度が０．５質量％となるように純水で希釈したもの）０．５質量部を徐々に添加し、ついでオートクレーブ中、１７５℃で１８時間加熱処理を行い、冷却後、限外濾過膜にて濃縮することにより、固形分濃度が６質量％のＳｉＯ２を表面に付着させた二酸化チタンゾル（以下、シリカ付着二酸化チタンゾル）（体積平均粒径：９ｎｍ）を得た。 <Preparation of coating solution for high refractive index layer>
(Preparation of silica-attached titanium dioxide sol)
After adding 2 parts by mass of pure water to 0.5 parts by mass of titanium oxide sol having a solid content of 15.0% by mass (SRD-W, volume average particle size: 5 nm, rutile titanium dioxide particles, manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.), 90 Heated to ° C. Subsequently, 0.5 parts by mass of an aqueous silicic acid solution (sodium silicate 4 (manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd.) diluted with pure water so that the SiO 2 concentration becomes 0.5% by mass) was gradually added. A heat treatment at 175 ° C. for 18 hours in an autoclave, followed by cooling and concentrating with an ultrafiltration membrane, thereby a titanium dioxide sol (hereinafter referred to as silica adhering) on which SiO 2 having a solid content concentration of 6% by mass was adhered. Titanium dioxide sol) (volume average particle size: 9 nm) was obtained.

このようにして得られたシリカ付着二酸化チタンゾル（固形分２０質量％）３７０質量部に対して、リン酸水溶液（固形分１．９２質量％）を１５０質量部加え、さらにエチレン変性ポリビニルアルコール水溶液（クラレ社製、エクセバールＲＳ−２１１７、鹸化度：９７．５〜９９モル％、エチレン変性度：３．０ｍｏｌ％、重合度：１７００、粘度（４％、２０℃）：２３．０〜３０．０（ｍＰａ・ｓ）、固形分８質量％）を３５０質量部加えて撹拌し、最後に界面活性剤の５質量％水溶液（ニューコール１３０５−ＳＮ；日本乳化剤株式会社製）３質量部を加えた。そして、純水で１０００質量部に仕上げ、高屈折率層用塗布液を調製した。   150 parts by mass of a phosphoric acid aqueous solution (solid content 1.92% by mass) is added to 370 parts by mass of the silica-attached titanium dioxide sol thus obtained (solid content 20% by mass), and further an ethylene-modified polyvinyl alcohol aqueous solution ( Made by Kuraray Co., Ltd., EXVAL RS-2117, Degree of saponification: 97.5 to 99 mol%, Degree of ethylene modification: 3.0 mol%, Degree of polymerization: 1700, Viscosity (4%, 20 ° C.): 23.0 to 30.0 350 parts by mass (mPa · s), solid content 8% by mass) was added and stirred, and finally 3 parts by mass of a 5% by mass aqueous solution of surfactant (Newcol 1305-SN; manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) was added. . And it finished to 1000 mass parts with pure water, and prepared the coating liquid for high refractive index layers.

＜樹脂フィルムへの熱線反射層の形成＞
スライドホッパー塗布装置を用い、上記で得られた低屈折率層用塗布液および高屈折率層用塗布液を４５℃に保温しながら、４５℃に加温した樹脂フィルム（厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム；東洋紡株式会社製、コスモシャインＡ４３００）上に、２１層同時重層塗布（熱線反射層の全膜厚；２．９μｍ）を行った。重層塗布後の乾燥方法としては、重層塗布直後、５℃の冷風を吹き付けてセットし、８０℃の温風を吹き付けて乾燥させて、２１層からなる熱線反射層を樹脂フィルム上に形成した。この際、最下層および最上層は低屈折率層とし、それ以外は低屈折率層および高屈折率層がそれぞれ交互に積層されるように設定した。塗布量については、乾燥時の膜厚が下記の通りになるように調節した。なお、樹脂フィルム直上の低屈折率層を１層目とした。 <Formation of heat ray reflective layer on resin film>
Resin film (polyethylene terephthalate with a thickness of 50 μm) heated to 45 ° C. while keeping the coating solution for the low refractive index layer and the coating solution for the high refractive index layer obtained above using a slide hopper coating device. On the film: Toyobo Co., Ltd., Cosmo Shine A4300), 21 layers were simultaneously applied (total thickness of heat ray reflective layer: 2.9 μm). As a drying method after the multilayer coating, immediately after the multilayer coating, 5 ° C. cold air was blown and set, and 80 ° C. warm air was blown and dried to form a heat ray reflective layer consisting of 21 layers on the resin film. At this time, the lowermost layer and the uppermost layer were low refractive index layers, and other than that, the low refractive index layers and the high refractive index layers were alternately laminated. About the application quantity, it adjusted so that the film thickness at the time of drying might become as follows. The low refractive index layer immediately above the resin film was the first layer.

低屈折率層：１，３，５，７，９，１１，１３，１５，１７，１９，２１層目；１５０ｎｍ
高屈折率層：２，４，６，８，１２，１４，１６，１８，２０層目；１１０ｎｍ、１０層目（厚くした層）；２３０ｎｍ（合計２８７０ｎｍ）。 Low refractive index layer: 1, 3, 5, 7, 9, 11, 13, 15, 17, 19, 21st layer; 150 nm
High refractive index layer: 2, 4, 6, 8, 12, 14, 16, 18, 20th layer; 110 nm, 10th layer (thickened layer); 230 nm (total 2870 nm).

（膜厚の測定）
また、前記膜厚は、製造した積層体（樹脂フィルムおよび熱線反射層）を切断し、その切断面を電子顕微鏡により観察することで確認した。この際、２つの層間の界面を明確に観測することができない場合には、ＸＰＳ表面分析装置により得た層中に含まれるＴｉＯ２の厚さ方向のＸＰＳプロファイルにより界面を決定した。 (Measurement of film thickness)
Moreover, the said film thickness was confirmed by cut | disconnecting the manufactured laminated body (resin film and a heat ray reflective layer), and observing the cut surface with an electron microscope. At this time, when the interface between the two layers could not be clearly observed, the interface was determined by the XPS profile in the thickness direction of TiO 2 contained in the layer obtained by the XPS surface analyzer.

＜熱線反射層上への粘着層の形成＞
下記の処方で粘着層塗布液を作製した。 <Formation of adhesive layer on heat ray reflective layer>
An adhesive layer coating solution was prepared according to the following formulation.

・粘着剤：日本合成化学工業製 Ｎ−２１４７（固形分３５質量％） １００質量部
・ＢＡＳＦ製ＵＶ吸収剤 Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７（固形分８０質量％） ２．１質量部
・イソシアネート系硬化剤 日本ポリウレタン工業製 コロネートＬ５５Ｅ（固形分５５質量％） ５質量部。 -Adhesive: Nippon Synthetic Chemical Industry N-2147 (solid content 35% by mass) 100 parts by mass-BASF UV absorber Tinuvin 477 (solid content 80% by mass) 2.1 parts by mass-Isocyanate curing agent Nippon Polyurethane Industry Coronate L55E (solid content 55 mass%) 5 mass parts.

上記粘着層塗布液を、剥離フィルム（剥離層）であるセパレーターＳＰ−ＰＥＴ（銘柄：ＰＥＴ−Ｏ２−ＢＵ）（三井化学東セロ株式会社製）のシリコン面に対して、コンマコーターにて乾燥膜厚が１０μｍになるように塗工し、８０℃、１分間乾燥し、第２給紙から熱線反射層を形成した樹脂フィルムを給紙し、熱線反射層とラミネートして、熱線反射層上に粘着層を形成した。   The above adhesive layer coating solution is dried with a comma coater on the silicon surface of separator SP-PET (brand: PET-O2-BU) (Mitsui Chemicals Tosero Co., Ltd.), which is a release film (release layer). Is applied at a temperature of 10 μm, dried at 80 ° C. for 1 minute, fed from the second sheet with a resin film on which the heat ray reflective layer is formed, laminated with the heat ray reflective layer, and adhered onto the heat ray reflective layer. A layer was formed.

＜熱線反射層を形成した樹脂フィルムへの熱線吸収層の形成＞
（熱線吸収層用塗布液の調製）
紫外線硬化性ポリオールアクリレート樹脂の重合性成分である（メタ）アクリレート系化合物としてアロニックス（登録商標）Ｍ−４０５（ジペンタエリスリトールペンタアクリレート：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート＝１０〜２０：９０〜８０（質量比）の混合物、東亞合成株式会社製）３９０質量部とＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）３５０（シリコンジアクリレート、ダイセル・オルネクス株式会社製）０．４質量部とを混合し、セシウム含有酸化タングステンとしてセシウムドープト酸化タングステン分散液（ＹＭＦ−０２Ａ、全固形分濃度２８質量％（セシウムドープト酸化タングステン粒子の濃度：１８．５質量％）、組成：Ｃｓ０．３３ＷＯ３、平均粒子径５０ｎｍ、住友金属鉱山株式会社製）６５０質量部、金属塩として過塩素酸ニッケル六水和物（関東化学株式会社製）３質量部、溶媒としてメチルエチルケトン３００質量部、を加えた。さらに、重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）８１９（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）２０質量部、フッ素系界面活性剤（フタージェント（登録商標）６５０Ａ、株式会社ネオス製）０．５質量部を添加して、熱線吸収層用塗布液を調製した。 <Formation of heat ray absorbing layer on resin film with heat ray reflecting layer>
(Preparation of coating solution for heat ray absorbing layer)
Aronix (registered trademark) M-405 (dipentaerythritol pentaacrylate: dipentaerythritol hexaacrylate = 10-20: 90-80 (mass ratio) as a (meth) acrylate compound which is a polymerizable component of the ultraviolet curable polyol acrylate resin ), 390 parts by mass of Toagosei Co., Ltd.) and EBECRYL (registered trademark) 350 (silicon diacrylate, manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd.) 0.4 parts by mass, and cesium-doped tungsten oxide as cesium-containing tungsten oxide Tungsten oxide dispersion (YMF-02A, total solid content concentration 28% by mass (concentration of cesium doped tungsten oxide particles: 18.5% by mass), composition: Cs 0.33 WO 3 , average particle size 50 nm, Sumitomo Metal Mining 650 parts by mass, metal 3 parts by mass of nickel perchlorate hexahydrate (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a salt and 300 parts by mass of methyl ethyl ketone as a solvent were added. Furthermore, 20 parts by mass of Irgacure (registered trademark) 819 (manufactured by BASF Japan Ltd.) and 0.5 part by mass of a fluorosurfactant (phthalent (registered trademark) 650A, manufactured by Neos Co., Ltd.) were added as polymerization initiators. Thus, a coating solution for the heat ray absorbing layer was prepared.

（熱線吸収層の形成；赤外遮蔽フィルム試料１の作製）
上記粘着剤／熱線反射層付樹脂フィルム上に、熱線反射層とは反対側の面に熱線吸収層用塗布液を、グラビアコーターにて乾燥膜厚が５．０μｍとなる条件で塗布し、９０℃で１分間乾燥させた。次に、紫外線ランプを用いて、照度１００ｍＷ／ｃｍ２、照射量０．５Ｊ／ｃｍ２の条件で紫外線を照射することにより塗膜を硬化させて熱線吸収層を形成し、赤外遮蔽フィルム試料１を作製した。この赤外遮蔽フィルム試料１は、光入射側より、粘着層、熱線反射層、樹脂フィルム、熱線吸収層がこの順で積層されてなる層構成である。 (Formation of heat ray absorbing layer; preparation of infrared shielding film sample 1)
On the pressure-sensitive adhesive / heat ray reflective layer-attached resin film, a heat ray absorbing layer coating solution is applied to the surface opposite to the heat ray reflective layer with a gravure coater under the condition that the dry film thickness is 5.0 μm. Dry at 1 ° C. for 1 minute. Next, using an ultraviolet lamp, the coating film is cured by irradiating ultraviolet rays under the conditions of an illuminance of 100 mW / cm 2 and an irradiation amount of 0.5 J / cm 2 to form a heat ray absorbing layer, and an infrared shielding film sample 1 was produced. This infrared shielding film sample 1 has a layer structure in which an adhesive layer, a heat ray reflective layer, a resin film, and a heat ray absorption layer are laminated in this order from the light incident side.

（実施例２）
実施例１の＜樹脂フィルムへの熱線反射層の形成＞において、１５層同時重層塗布（熱線反射層の全膜厚；２．３μｍ）とし、更に塗布量を変えて乾燥時の膜厚が下記になるように変更した以外は、実施例１と同様にして、赤外遮蔽フィルム試料２を作製した。 (Example 2)
In <Formation of Heat Ray Reflective Layer on Resin Film> in Example 1, 15 layers were simultaneously applied (total film thickness of heat ray reflective layer; 2.3 μm). The infrared shielding film sample 2 was produced like Example 1 except having changed so that it might become.

低屈折率層：１，３，５，７，９，１１，１３，１５層目；１７０ｎｍ
高屈折率層：２，４，８，１０，１２，１４層目；１２０ｎｍ、６層目（厚くした層）；２５０ｎｍ（合計２３３０ｎｍ）。 Low refractive index layers: 1, 3, 5, 7, 9, 11, 13, 15th layer; 170 nm
High refractive index layer: 2, 4, 8, 10, 12, 14th layer; 120 nm, 6th layer (thickened layer); 250 nm (2330 nm in total).

（実施例３）
実施例１の＜樹脂フィルムへの熱線反射層の形成＞において、１１層同時重層塗布（熱線反射層の全膜厚；１．９μｍ）とし、更に塗布量を変えて乾燥時の膜厚が下記になるように変更した以外は、実施例１と同様にして、赤外遮蔽フィルム試料３を作製した。 (Example 3)
In <Formation of Heat Ray Reflective Layer on Resin Film> in Example 1, 11 layers were simultaneously applied (total film thickness of heat ray reflective layer: 1.9 μm), and the coating amount was changed and the film thickness upon drying was as follows: The infrared shielding film sample 3 was produced like Example 1 except having changed so that it might become.

低屈折率層：１，３，５，７，９，１１層目；１８０ｎｍ
高屈折率層：２，６，８，１０層目；１３０ｎｍ、４層目（厚くした層）；３００ｎｍ（合計１９００ｎｍ）。 Low refractive index layer: 1, 3, 5, 7, 9, 11th layer; 180 nm
High refractive index layer: 2, 6, 8, 10th layer; 130 nm, 4th layer (thickened layer); 300 nm (total 1900 nm).

（実施例４）
実施例１の＜樹脂フィルムへの熱線反射層の形成＞において、４１層同時重層塗布（熱線反射層の全膜厚；５．８μｍ）とし、更に塗布量を変えて乾燥時の膜厚が下記になるように変更した以外は、実施例１と同様にして、赤外遮蔽フィルム試料４を作製した。 Example 4
In <Formation of heat ray reflective layer on resin film> in Example 1, 41 layers are simultaneously applied (total thickness of heat ray reflective layer: 5.8 μm), and the coating amount is changed and the film thickness upon drying is as follows. The infrared shielding film sample 4 was produced like Example 1 except having changed so that it might become.

低屈折率層：１，３，５，７，９，１１，１３，１５，１７，１９，２１，２３，２５，２７，２９，３１，３３，３５，３７，３９，４１層目；１５０ｎｍ
高屈折率層：２，４，６，８，１０，１２，１４，１６，１８，２２，２４，２６，２８，３０，３２，３４，３６，３８，４０層目；１３０ｎｍ、２０層目（厚くした層）；２００ｎｍ（合計５８２０ｎｍ）。 Low refractive index layers: 1, 3, 5, 7, 9, 11, 13, 15, 17, 19, 21, 23, 25, 27, 29, 31, 33, 35, 37, 39, 41st layer; 150 nm
High refractive index layer: 2, 4, 6, 8, 10, 12, 14, 16, 18, 22, 24, 26, 28, 30, 32, 34, 36, 38, 40th layer; 130 nm, 20th layer (Thickened layer); 200 nm (total 5820 nm).

（実施例５）
実施例１の（熱線吸収層用塗布液の調製）において、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）粒子（商品名：ＳＲ３５Ｍ、ＡＮＰ社製）を、セシウム含有酸化タングステンとして用いたセシウムドープト酸化タングステン粒子の含有量の１／５（質量比）の量を添加した以外は、実施例１と同様にして、赤外遮蔽フィルム試料５を作製した。 (Example 5)
In Example 1 (Preparation of coating solution for heat ray absorbing layer), antimony-doped tin oxide (ATO) particles (trade name: SR35M, manufactured by ANP) were used as cesium-containing tungsten oxide particles. An infrared shielding film sample 5 was produced in the same manner as in Example 1 except that an amount of 1/5 (mass ratio) of the content was added.

（比較例１）
実施例１の（熱線吸収層の形成；赤外遮蔽フィルム試料１の作製）において、乾燥膜厚が１１．０μｍとなる条件で熱線吸収層の形成を行った以外は、実施例１と同様にして、赤外遮蔽フィルム試料６を作製した。 (Comparative Example 1)
In Example 1 (formation of heat ray absorbing layer; preparation of infrared shielding film sample 1), the heat ray absorbing layer was formed under the condition that the dry film thickness was 11.0 μm. Thus, an infrared shielding film sample 6 was produced.

（比較例２）
実施例１の＜樹脂フィルムへの熱線反射層の形成＞において、１９層同時重層塗布（熱線反射層の全膜厚；３．２μｍ）とし、更に塗布量を変えて乾燥時の膜厚が下記になるように変更した以外は、実施例１と同様にして、赤外遮蔽フィルム試料７を作製した。 (Comparative Example 2)
In <Formation of Heat Ray Reflective Layer on Resin Film> in Example 1, 19 layers are simultaneously applied (total film thickness of heat ray reflective layer: 3.2 μm), and the coating amount is changed and the film thickness upon drying is as follows. The infrared shielding film sample 7 was produced like Example 1 except having changed so that it might become.

低屈折率層：３，５，７，９，１１，１３，１５，１７層目；１５０ｎｍ、１層目（厚くした層）；８００ｎｍ、１９層目（ＰＬ層）；１００ｎｍ
高屈折率層：２，４，６，８，１０，１２，１４，１６，１８層目；１２０ｎｍ（合計３１８０ｎｍ）。 Low refractive index layer: 3, 5, 7, 9, 11, 13, 15, 17th layer; 150 nm, 1st layer (thickened layer); 800 nm, 19th layer (PL layer); 100 nm
High refractive index layers: 2, 4, 6, 8, 10, 12, 14, 16, 18th layer; 120 nm (total 3180 nm).

（比較例３）
［赤外遮蔽フィルム試料８の製造］
＜反射層の形成＞
米国特許第６０４９４１９号に記載の溶融押し出し方法に従い、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）ＴＮ８０６５Ｓ（帝人化成社製）とポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）樹脂アクリペットＶＨ（三菱レイヨン社製）とを、３００℃に溶融し、押出しにより積層し、（ＰＭＭＡ（１５２ｎｍ）／ＰＥＮ（１３７ｎｍ））６４／（ＰＭＭＡ（１６４ｎｍ）／ＰＥＮ（１４８ｎｍ））６４／（ＰＭＭＡ（１７７ｎｍ）／ＰＥＮ（１６０ｎｍ））６４／（ＰＭＭＡ（１９１ｍ）／ＰＥＮ（１７３ｎｍ））６４となるように縦横約３倍に延伸した後、熱固定、冷却を行って、計２５６層交互積層した反射層を得た。ここで、上記層構成において、「（ＰＭＭＡ（１５２ｎｍ）／ＰＥＮ（１３７ｎｍ））６４」とは、膜厚１５２ｎｍのＰＭＭＡ、膜厚１３７ｎｍのＰＥＮをこの順に積層したユニットを６４個積層させたという意味である。 (Comparative Example 3)
[Production of Infrared Shielding Film Sample 8]
<Formation of reflective layer>
According to the melt extrusion method described in US Pat. No. 6,049,419, polyethylene naphthalate (PEN) TN8065S (manufactured by Teijin Chemicals Co., Ltd.) and polymethyl methacrylate (PMMA) resin acripet VH (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) are melted at 300 ° C. And laminated by extrusion, (PMMA (152 nm) / PEN (137 nm)) 64 / (PMMA (164 nm) / PEN (148 nm)) 64 / (PMMA (177 nm) / PEN (160 nm)) 64 / (PMMA (191 m) ) / PEN (173 nm)) The film was stretched approximately 3 times in length and breadth to obtain 64, and then heat-fixed and cooled to obtain a reflective layer in which a total of 256 layers were alternately laminated. Here, in the above layer structure, “(PMMA (152 nm) / PEN (137 nm)) 64” means that 64 units each having a PMMA having a thickness of 152 nm and a PEN having a thickness of 137 nm stacked in this order are stacked. It is.

＜粘着層の形成＞
実施例１と同様にして作製した粘着層塗布液を、実施例１と同様のセパレーターＳＰ−ＰＥＴのシリコン面に対して、コンマコーターにて乾燥膜厚が１０μｍになるように塗工し、８０℃、１分間乾燥し、第２給紙から反射層を形成したフィルムを給紙し、反射層とラミネートして、反射層上に粘着層を形成した。 <Formation of adhesive layer>
The adhesive layer coating solution produced in the same manner as in Example 1 was applied to the silicon surface of the separator SP-PET as in Example 1 with a comma coater so that the dry film thickness was 10 μm. A film having a reflective layer formed thereon was fed from the second paper feed and laminated with the reflective layer to form an adhesive layer on the reflective layer.

＜ハードコート層（ＨＣ層）（酸化タングステン）の形成＞
紫外線硬化性樹脂として、ビームセット５７７（荒川化学工業株式会社製）を用い、溶媒としてメチルエチルケトンを添加した。さらに、フッ素系界面活性剤（商品名：フタージェント（登録商標）６５０Ａ、株式会社ネオス製）を０．０８質量％、実施例１と同様のセシウムドープト酸化タングステン分散液２０質量％添加し、全固形分が４０質量部、となるように調製して、ハードコート層用塗布液を作製した。 <Formation of hard coat layer (HC layer) (tungsten oxide)>
Beam set 577 (Arakawa Chemical Industries, Ltd.) was used as an ultraviolet curable resin, and methyl ethyl ketone was added as a solvent. Furthermore, 0.08% by mass of a fluorine-based surfactant (trade name: Footage (registered trademark) 650A, manufactured by Neos Co., Ltd.), 20% by mass of the same cesium-doped tungsten oxide dispersion as in Example 1, A hard coating layer coating solution was prepared by adjusting the total solid content to 40 parts by mass.

粘着層を形成した層とは反対側の最外層に、上記調製したハードコート層用塗布液を、グラビアコーターにて、乾燥層厚が５．０μｍとなる条件で塗布し、９０℃で１分間乾燥させた。次に、紫外線ランプを用いて、照度１００ｍＷ／ｃｍ２、照射量０．５Ｊ／ｃｍ２の条件で紫外線を照射することにより塗膜を硬化させてハードコート層を形成し、赤外遮蔽フィルム試料８を作製した。この赤外遮蔽フィルム試料８は、光入射側より、粘着層、反射層、ハードコート層がこの順で積層されてなる層構成である。 The hard coat layer coating solution prepared above is applied to the outermost layer opposite to the layer on which the adhesive layer has been formed with a gravure coater under the condition that the dry layer thickness is 5.0 μm, and at 90 ° C. for 1 minute. Dried. Next, an ultraviolet ray lamp is used to cure the coating film by irradiating ultraviolet rays under the conditions of an illuminance of 100 mW / cm 2 and an irradiation amount of 0.5 J / cm 2 to form a hard coat layer, and an infrared shielding film sample 8 was produced. This infrared shielding film sample 8 has a layer structure in which an adhesive layer, a reflective layer, and a hard coat layer are laminated in this order from the light incident side.

上記実施例および比較例で作製した赤外遮蔽フィルム試料１〜８について、以下の方法によって、赤外反射率／可視光透過率、耐候性（変色（ΔＥ）、熱線吸収層の割れ、端部剥がれ）を評価した。結果を下記表１に示す。   About the infrared shielding film samples 1-8 produced by the said Example and comparative example, by the following methods, an infrared reflectance / visible light transmittance, a weather resistance (discoloration ((DELTA) E), a crack of a heat ray absorption layer, an edge part) (Peeling) was evaluated. The results are shown in Table 1 below.

（評価項目）
＜赤外反射率、可視光透過率の測定＞
上記で作製した赤外遮蔽フィルム試料からセパレーターＳＰ−ＰＥＴ（剥離フィルム）を剥がして、赤外遮蔽フィルム試料の粘着層をガラスに貼り付け、分光光度計（積分球使用、日立製作所社製、Ｕ−４１００）を用い、各赤外遮蔽フィルム試料の赤外反射率（８００〜１３００ｎｍ、１３００〜１６００ｎｍ）を測定し、平均反射率を計算した。また、可視光透過率（３８０〜７５０ｎｍ）も測定した。 (Evaluation item)
<Measurement of infrared reflectance and visible light transmittance>
The separator SP-PET (peeling film) is peeled off from the infrared shielding film sample prepared above, and the adhesive layer of the infrared shielding film sample is attached to glass, and a spectrophotometer (using an integrating sphere, manufactured by Hitachi, Ltd., U -4100), the infrared reflectance (800-1300 nm, 1300-1600 nm) of each infrared shielding film sample was measured, and the average reflectance was calculated. Further, the visible light transmittance (380 to 750 nm) was also measured.

＜耐候性（変色）の評価＞
上記で作製した赤外遮蔽フィルム試料からセパレーターＳＰ−ＰＥＴ（剥離フィルム）を剥がして、赤外遮蔽フィルム試料の粘着層を６ｃｍ×１２ｃｍのガラスに貼り、ガラス側が光入射側になるように配置し、キセノンウェザーメーター（温度：ＢＰＴ６３℃、湿度：５０％ＲＨ、スガ試験機 ＳＸ−７５）を用いて、放射強度６０Ｗ／ｍ２（降雨１８分／１２０分のサイクル条件）で１０００時間照射した。照射前後の透過光からそれぞれＬ＊値、ａ＊値、ｂ＊値を計算し、その差異から色差（ΔＥ）を計算した。このΔＥの値が小さいほど、キセノン光曝露による着色の程度が小さいことを意味する。なお、照射前後の透過光につき、分光光度計（Ｕ−４０００型）（積分球使用、日立製作所製）を用いて測定した。 <Evaluation of weather resistance (discoloration)>
The separator SP-PET (peeling film) is peeled off from the infrared shielding film sample prepared above, the adhesive layer of the infrared shielding film sample is attached to 6 cm × 12 cm glass, and the glass side is placed on the light incident side. Using a xenon weather meter (temperature: BPT 63 ° C., humidity: 50% RH, Suga Test Machine SX-75), irradiation was performed for 1000 hours at a radiation intensity of 60 W / m 2 (cycle conditions of 18 minutes / 120 minutes of rainfall). The L * value, a * value, and b * value were calculated from the transmitted light before and after irradiation, and the color difference (ΔE) was calculated from the difference. A smaller value of ΔE means that the degree of coloring due to exposure to xenon light is smaller. The transmitted light before and after irradiation was measured using a spectrophotometer (U-4000 type) (using an integrating sphere, manufactured by Hitachi, Ltd.).

・耐候性（変色）の評価基準
◎：ΔＥ＜１
○：１≦ΔＥ＜２
△：２≦ΔＥ＜３
×：ΔＥ≧３。 ・ Evaluation criteria for weather resistance (discoloration) ◎: ΔE <1
○: 1 ≦ ΔE <2
Δ: 2 ≦ ΔE <3
X: ΔE ≧ 3.

＜耐候性（熱線吸収層の割れ）＞
上記＜耐候性（変色）の評価＞の条件において１０００時間照射後に、各赤外遮蔽フィルム試料の熱線吸収層に割れが生じていないか目視と光学顕微鏡にて観察した。 <Weather resistance (crack of heat ray absorbing layer)>
After irradiation for 1000 hours under the above conditions of <weather resistance (discoloration)>, the heat ray absorbing layer of each infrared shielding film sample was observed visually and with an optical microscope.

・耐候性（熱線吸収層の割れ）の評価基準
◎：割れ無し
○：目視では見えないが、光学顕微鏡で割れが１〜２か所見える
△：目視でうっすら見えるか、光学顕微鏡で３か所以上見える
×：目視で割れが確認できる。 ・ Evaluation criteria for weather resistance (cracking of heat ray absorbing layer) ◎: No cracking ○: Not visible with eyes, but visible with 1-2 optical cracks △: Visually visible with 3 spots, or 3 with optical microscope Seen above x: Cracks can be confirmed visually.

＜耐候性（端部剥がれ）＞
上記＜耐候性（変色）の評価＞の条件において１０００時間照射後に、ガラスから各赤外遮蔽フィルム試料の端部が剥がれていないかを目視で確認した。 <Weather resistance (end peeling)>
It was visually confirmed whether or not the end of each infrared shielding film sample was peeled off from the glass after 1000 hours of irradiation under the above conditions of <weather resistance (discoloration)>.

・耐候性（端部剥がれ）の評価基準
○：問題なし（端部剥がれなし）
△：端部の１か所浮いてきている
×：端部の２か所以上浮いてきている。 ・ Evaluation criteria for weather resistance (end peeling) ○: No problem (no end peeling)
Δ: One end of the end is floating ×: Two or more ends are floating

表１の比較例３の熱線吸収層の膜厚は、ハードコート層（ＨＣ層）の膜厚を示している。   The film thickness of the heat ray absorbing layer of Comparative Example 3 in Table 1 indicates the film thickness of the hard coat layer (HC layer).

上記表１から、実施例１〜５の赤外遮蔽フィルムは、比較例１〜３の赤外遮蔽フィルムに比して、いずれも高い熱線遮蔽性は維持しつつ、耐候性に優れることが分かる。特に耐候性の評価項目である変色（ΔＥ）、熱線吸収層の割れ、端部剥がれがバランスよく高められていることがわかった。比較例１では、熱線吸収層の膜厚が厚すぎるため、変色が生じ、熱線吸収層の割れ、端部剥がれが大きくなる（より悪化する）ことがわかった。比較例２、３は共に１３００〜１６００ｎｍの波長の平均反射率が低いため、熱線吸収層への当該波長が侵入することで、該吸収層自体が熱くなり熱割れしたり、熱膨張・熱収縮を繰り返すことによりフィルムがカールし窓等に遮熱フィルムとして貼り付けた場合には端部が剥がれてしまうなど耐候性が不十分であることがわかった。   From Table 1 above, it can be seen that the infrared shielding films of Examples 1 to 5 are superior in weather resistance while maintaining high heat ray shielding properties as compared with the infrared shielding films of Comparative Examples 1 to 3. . In particular, it has been found that discoloration (ΔE), cracking of the heat ray absorbing layer, and peeling of the edge, which are evaluation items of weather resistance, are enhanced in a well-balanced manner. In Comparative Example 1, it was found that since the thickness of the heat ray absorbing layer was too thick, discoloration occurred, and cracking and edge peeling of the heat ray absorbing layer increased (becomes worse). Since Comparative Examples 2 and 3 both have a low average reflectance at a wavelength of 1300 to 1600 nm, the absorption layer itself becomes hot and thermally cracks, or expands and contracts due to the penetration of the wavelength into the heat ray absorbing layer. It was found that the weather resistance was insufficient, for example, when the film was curled and the film was affixed to a window or the like as a heat-shielding film, by repeating the above.

また実施例１〜５の赤外遮蔽フィルムの中では、８００〜１３００ｎｍの波長の平均反射率が３０％以上である実施例１、４、５の赤外遮蔽フィルムでは、（１３００〜１６００ｎｍの波長の平均反射率も高くなっており、いずれの作用効果かは明確ではないが）、少なくとも他の実施例３、４の赤外遮蔽フィルムに比して、熱線吸収層の割れを効果的に防止することができることがわかった。   Moreover, in the infrared shielding film of Examples 1-5, the average reflectance of the wavelength of 800-1300 nm is 30% or more, In the infrared shielding film of Examples 1, 4, 5 (wavelength of 1300-1600 nm) The average reflectance of the film is also high, and it is not clear which of these functions is effective), but at least as compared with the infrared shielding films of Examples 3 and 4, the heat ray absorbing layer is effectively prevented from cracking. I found out that I can do it.

また、実施例１〜５の赤外遮蔽フィルムの中では、熱線反射層の膜厚が５．５μｍ以下である実施例１〜３、５の赤外遮蔽フィルムでは、実施例４の赤外遮蔽フィルムに比して、赤外遮蔽フィルムの端部剥がれを効果的に防止することができることがわかった。   Moreover, in the infrared shielding film of Examples 1-5, in the infrared shielding film of Examples 1-3, 5 whose film thickness of a heat ray reflective layer is 5.5 micrometers or less, the infrared shielding of Example 4 It was found that the edge peeling of the infrared shielding film can be effectively prevented as compared with the film.

また、実施例１〜５の赤外遮蔽フィルムの中では、熱線反射層の層数が、高屈折率層と低屈折率層とを合わせて１３〜３９層である実施例１、２、５では、実施例３、４の赤外遮蔽フィルムに比して、耐候性の評価項目である変色（ΔＥ）、熱線吸収層の割れ、端部剥がれがバランスよく高められている（すなわち、これらの評価項目に評価△がなく、全て○か◎の評価である）ことがわかった。   Moreover, in the infrared shielding film of Examples 1-5, the number of layers of a heat ray reflective layer is 13-39 layers combining a high refractive index layer and a low refractive index layer. Then, compared with the infrared shielding films of Examples 3 and 4, discoloration (ΔE), which is an evaluation item of weather resistance, cracking of the heat ray absorbing layer, peeling of the end portions are improved in a balanced manner (that is, these There was no evaluation Δ in the evaluation items, and all were evaluations of ○ or ◎.

また、実施例１〜５の赤外遮蔽フィルムの中では、熱線吸収層に、さらにアンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）を含有する実施例５では、実施例１〜４の赤外遮蔽フィルムに比して、耐候性の評価項目である変色（ΔＥ）、熱線吸収層の割れ、端部剥がれが最もバランスよく高められており、とりわけ変色（ΔＥ）の発生を効果的に防止できる（評価◎である）ことがわかった。   Moreover, in the infrared shielding film of Examples 1-5, in Example 5 which contains an antimony dope tin oxide (ATO) further in a heat ray absorption layer, compared with the infrared shielding film of Examples 1-4. In addition, discoloration (ΔE), which is an evaluation item of weather resistance, cracking of the heat ray absorbing layer, and peeling off of the end portions are enhanced in a balanced manner, and in particular, the occurrence of discoloration (ΔE) can be effectively prevented (evaluation ◎). )I understood it.

１…赤外遮蔽フィルム、
２…粘着層、
３…熱線反射層、
３ａ…高屈折率層、
３ａ’…厚くした層（高屈折率層）、
３ｂ…低屈折率層、
４…樹脂フィルム、
５…熱線吸収層、
６…光透過性基体、
１０…赤外遮蔽体。 1 ... Infrared shielding film,
2 ... Adhesive layer,
3 ... heat ray reflective layer,
3a ... high refractive index layer,
3a '... thickened layer (high refractive index layer),
3b ... low refractive index layer,
4 ... Resin film,
5 ... heat ray absorbing layer,
6 ... Light transmissive substrate,
10: Infrared shield.

Claims (6)

光入射側より、ポリマーを含有する高屈折率層とポリマーを含有する低屈折率層の交互積層からなる熱線反射層と、セシウム含有酸化タングステンを含有する熱線吸収層とが積層されたフィルムであって、
１３００〜１６００ｎｍの波長の平均反射率が８％以上であり、熱線吸収層の膜厚が１０μｍ以下であることを特徴とする赤外遮蔽フィルム。 From the light incident side, a film in which a heat ray reflective layer composed of alternating layers of a high refractive index layer containing a polymer and a low refractive index layer containing a polymer and a heat ray absorbing layer containing cesium-containing tungsten oxide are laminated. And
An infrared shielding film, wherein an average reflectance at a wavelength of 1300 to 1600 nm is 8% or more, and a film thickness of the heat ray absorbing layer is 10 μm or less. ８００〜１３００ｎｍの波長の平均反射率が３０％以上であることを特徴とする請求項１に記載の赤外遮蔽フィルム。   The infrared shielding film according to claim 1, wherein an average reflectance at a wavelength of 800 to 1300 nm is 30% or more. 前記熱線反射層の膜厚が５．５μｍ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の赤外遮蔽フィルム。   The infrared shielding film according to claim 1, wherein the heat ray reflective layer has a thickness of 5.5 μm or less. 前記熱線反射層の層数が、高屈折率層と低屈折率層とを合わせて１３〜３９層であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の赤外遮蔽フィルム。   The infrared ray shielding film according to any one of claims 1 to 3, wherein the number of layers of the heat ray reflective layer is 13 to 39 layers including the high refractive index layer and the low refractive index layer. . 前記熱線吸収層に、さらにアンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）または錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の赤外遮蔽フィルム。   The infrared ray shielding film according to any one of claims 1 to 4, wherein the heat ray absorbing layer further contains antimony-doped tin oxide (ATO) or tin-doped indium oxide (ITO). 請求項１〜５のいずれかの赤外遮蔽フィルムを用いた赤外遮蔽体。   The infrared shielding body using the infrared shielding film in any one of Claims 1-5.
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