JP2017201688A - 発光装置 - Google Patents

発光装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2017201688A
JP2017201688A JP2017085472A JP2017085472A JP2017201688A JP 2017201688 A JP2017201688 A JP 2017201688A JP 2017085472 A JP2017085472 A JP 2017085472A JP 2017085472 A JP2017085472 A JP 2017085472A JP 2017201688 A JP2017201688 A JP 2017201688A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
wavelength conversion
conversion member
emitting device
semiconductor laser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017085472A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6940749B2 (ja
Inventor
征爾 清田
Seiji Kiyota
征爾 清田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nichia Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Nichia Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nichia Chemical Industries Ltd filed Critical Nichia Chemical Industries Ltd
Publication of JP2017201688A publication Critical patent/JP2017201688A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6940749B2 publication Critical patent/JP6940749B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/0225Out-coupling of light
    • H01S5/02257Out-coupling of light using windows, e.g. specially adapted for back-reflecting light to a detector inside the housing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/005Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • H01S5/0087Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping for illuminating phosphorescent or fluorescent materials, e.g. using optical arrangements specifically adapted for guiding or shaping laser beams illuminating these materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/0233Mounting configuration of laser chips
    • H01S5/02345Wire-bonding
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/0235Method for mounting laser chips
    • H01S5/02375Positioning of the laser chips
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21LIGHTING
    • F21KNON-ELECTRIC LIGHT SOURCES USING LUMINESCENCE; LIGHT SOURCES USING ELECTROCHEMILUMINESCENCE; LIGHT SOURCES USING CHARGES OF COMBUSTIBLE MATERIAL; LIGHT SOURCES USING SEMICONDUCTOR DEVICES AS LIGHT-GENERATING ELEMENTS; LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21K9/00Light sources using semiconductor devices as light-generating elements, e.g. using light-emitting diodes [LED] or lasers
    • F21K9/60Optical arrangements integrated in the light source, e.g. for improving the colour rendering index or the light extraction
    • F21K9/64Optical arrangements integrated in the light source, e.g. for improving the colour rendering index or the light extraction using wavelength conversion means distinct or spaced from the light-generating element, e.g. a remote phosphor layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/005Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • H01S5/0071Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping for beam steering, e.g. using a mirror outside the cavity to change the beam direction
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/02208Mountings; Housings characterised by the shape of the housings
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/02208Mountings; Housings characterised by the shape of the housings
    • H01S5/02216Butterfly-type, i.e. with electrode pins extending horizontally from the housings
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/0225Out-coupling of light
    • H01S5/02255Out-coupling of light using beam deflecting elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/024Arrangements for thermal management
    • H01S5/02469Passive cooling, e.g. where heat is removed by the housing as a whole or by a heat pipe without any active cooling element like a TEC
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/30Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
    • H01S5/32Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures
    • H01S5/323Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser
    • H01S5/32308Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser emitting light at a wavelength less than 900 nm
    • H01S5/32341Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser emitting light at a wavelength less than 900 nm blue laser based on GaN or GaP

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

【課題】波長変換部材が外れた場合において、レーザ光が直接外部に向けて発振されない配置、波長変換部材が位置ずれした場合に、レーザ光の光路を遮るような形態等とするような安全策が講じられた発光装置を提供することを目的とする。
【解決手段】上方に開口した凹部13を有する基体16と、凹部13の底面13aに載置される半導体レーザ素子20と、凹部13に収容され、半導体レーザ素子20からの光の波長を変換するための波長変換部材32とを備え、凹部13は、底面13aよりも高い位置で波長変換部材32の下面を保持する保持面13cと、波長変換部材32の周縁の一部を包囲する包囲面13dとを有する発光装置。
【選択図】図1A

Description

本開示は発光装置に関する。
パッケージにレーザ素子と波長変換部材とが搭載され、キャップで封止された発光装置が提案されている。このような発光装置では、通常、レーザ光は、波長変換部材を通過してから外に取り出されるため、正常な動作においては、出力される光は概ね非レーザ光である。
しかし、この種の発光装置において、固定していた波長変換部材が外れるなどの異常が起こった場合に、レーザ光が直接外部に取り出される虞がある。したがって、波長変換部材が外れた場合でもレーザ光が直接外部に取り出されないような安全策が求められている。
本願は以下の発明を含む。
上方に開口した凹部を有する基体と、
前記凹部の底面に載置される半導体レーザ素子と、
前記凹部に収容される、前記半導体レーザ素子からの光の波長を変換するための波長変換部材とを備え、
前記凹部は、前記底面よりも高い位置で前記波長変換部材の下面を保持する保持面と、前記波長変換部材の周縁の一部を包囲する包囲面とを有する発光装置。
本開示によれば、波長変換部材を小型化するとともに、波長変換部材が位置ずれした場合にレーザ光の光路を遮り、外部へのレーザ光の漏れを防ぐことができる発光装置を提供することができる。
実施の形態1の発光装置を示す概略平面図である。 図1AにおけるB−B'線断面図である。 図1Aの発光装置を構成する基体の斜視図である。 図1Aの発光装置を構成する基体の平面図である。 図3AにおけるB−B'線断面図である。 図3AにおけるC−C'線断面図である。 実施の形態2の発光装置を構成する基体及び波長変換部材の概略平面図である。
以下に示す形態は、本発明の技術思想を具体化するための例示であって、本発明を以下に限定するものではない。また、各図面が示す部材の大きさや位置関係等は、説明を明確にするために誇張していることがある。さらに、同一の名称、符号については、原則として同一もしくは同質の部材を示しており、重複した説明は適宜省略する。
実施の形態1:発光装置
この実施形態の発光装置10は、図1A及びBに示すように、半導体レーザ素子20と、半導体レーザ素子20からの光の波長を変換するための波長変換部材32と、上方に開口する凹部13を有する基体16とを備える。波長変換部材32は、凹部13内に収容されている。
凹部13は、図2及び図3A〜3Cに示すように、底面13aと、底面13aよりも高い位置で、波長変換部材32の下面を保持する保持面13cと、波長変換部材32の周縁の一部を包囲する包囲面13dとを有する。半導体レーザ素子20は、底面13aに載置される。
(波長変換部材32)
波長変換部材32は、半導体レーザ素子20から発振されるレーザ光の波長を変換する部材である。波長変換部材32は、その下面が、凹部13内の保持面13cに保持され、かつ、その周縁の一部が、包囲面13dにより包囲されている。
波長変換部材32は、蛍光体を含有する蛍光体含有部材32bと、蛍光体含有部材32bを、貫通孔内に保持する保持部材32aとを有する。波長変換部材32においては、発光装置10の平面視において、発光点と重なる位置に、蛍光体含有部材32bが配置されている。蛍光体含有部材32bで生じた熱は保持部材32aを介して放熱される。ここで、光の出射点、発光点とは、発光装置から光が最大強度で出射される点又はその近傍の領域を意味する。
蛍光体含有部材32bとしては、例えば焼結体を用いることができる。焼結体としては、蛍光体そのものを焼結させたものや、蛍光体に焼結助剤を添加して焼結させたものが挙げられる。
蛍光体は、半導体レーザ素子20と組み合わせて白色光が得られるような材料を選択するのが好ましい。例えば、半導体レーザ素子20から青色光が出射される場合には、半導体レーザ素子20の出射光を励起光として黄色光を発する蛍光体を用いることができる。黄色光を発する蛍光体としては、YAG系の蛍光体が挙げられる。また、半導体レーザ素子20から青色光よりも短波の光(例えば紫外光等)が出射される場合には、青色、緑色及び赤色の各色を発光する蛍光体を用いることができる。
保持部材32aとしては、蛍光体含有部材32bからの放熱を考慮して、熱伝導率の高い材料を用いるのが好ましい。このような材料としては、例えば、銅、銅合金、鉄もしくは鉄合金等を含む金属、又は、窒化アルミニウムもしくは酸化アルミニウム等を含むセラミックなどが挙げられる。
保持部材32aは、半導体レーザ素子20が発振するレーザ光に対して遮光性を有するものが好ましい。具体的には、レーザ光を反射及び/又は吸収可能な部材であることが好ましい。これにより、蛍光体含有部材32bがレーザ光の光路からずれた場合において、保持部材32aで遮光、つまり反射及び/又は吸収することができる。したがって、何らかの理由により蛍光体含有部材32bが保持面から外れ、蛍光体含有部材32bがレーザ光の光路からずれた場合でも、レーザ光の光路に保持部材32aが位置するようにすれば、外部にレーザ光が漏れることを防止することができる。
波長変換部材32は、平面視で、凹部13の5〜40%を覆う大きさとすることができる。発光装置10では、包囲面13dを設けることで、波長変換部材32が剥離した際の移動可能範囲を狭めることができる。また、波長変換部材32は、平面視で、包囲面13dと接触しない程度の大きさ及び形状であることが好ましい。これにより、製造時にズレが生じても波長変換部材32が包囲面13dに接触しにくく、波長変換部材32の実装を容易とすることができる。
本実施形態では、波長変換部材32は、平面形状が略矩形状であり、互いに対向する第1隅部と第2隅部とを有する。波長変換部材32の平面形状は、例えば、四角形等の多角形、円形及び楕円等、種々の形状とすることができるが、製造容易である矩形等の四角形が好ましい。また、蛍光体含有部材32bを設ける貫通孔の大きさは、波長変換部材32に照射されるレーザ光のスポット径によって適宜調整することができる。例えば、スポット径の1倍以上、1.5倍以上等が挙げられる。波長変換部材32の厚みは、貫通孔内の蛍光体含有部材中に適度な蛍光体量を確保することができる厚みとすることが好ましく、例えば、0.2〜1mm程度とする。
(基体16)
基体16は、半導体レーザ素子20を実装することができる材料及び形状が選択される。例えば、基体16は、金属、ガラス、セラミックス等によって形成することができる。特に、基体16の耐食性及び放熱性等を考慮して、主としてセラミックスによって形成されていることが好ましい。セラミックスとしては、例えば、窒化アルミニウム、酸化アルミニウムなどが挙げられ、なかでも、耐食性及び放熱性に優れているため、窒化アルミニウムが好ましい。基体16の平面形状は、略円形、略楕円、略多角形等の種々の形状が挙げられる。例えば、基体16の平面形状は略矩形状である。なお、平面形状とは、平面視における外形を指す。また、平面視とは、基体16の上面16aを上側とし、底面を下側としたときに、上方から、すなわち上面16aに対して略垂直な方向から観察することを指す。
図2及び図3A〜3Cに示すように、基体16は、上方に開口した凹部13を有する。凹部13は、基体16の上面16aに繋がっている。基体16の上面16aとは、基体16が有する複数の面のなかで最も上側にある面を指す。凹部13は、半導体レーザ素子20を載置するために、及び、半導体レーザ素子20を配線等と電気的に接続するために、利用することができる。また、凹部13は、半導体レーザ素子20の光を反射、波長変換又は拡散させる部材を載置するために、及び、半導体レーザ素子を封止するために利用することができる。凹部13は、上述したような、底面13a、保持面13c、包囲面13dに加えて、接続面13b及び側面13eを有することができる。
底面13aは、半導体レーザ素子20等を載置するための面であり、例えば凹部13の最も深い位置にある。底面13aは、基体16の上面16a及び下面とほぼ平行であることが好ましい。これにより、半導体レーザ素子20等の実装が容易となる。底面13aは、発光装置10の平面積の5〜25%の平面積を有する又は凹部13の平面積の20〜65%の平面積を有することができる。本願においては、ほぼ平行とは、±1度程度の傾きが許容されることを意味する。
接続面13bは、配線層23を備える面である、配線層23は、ワイヤ81等を介して半導体レーザ素子20と電気的に接続される。
平面視において、底面13aの両側において半導体レーザ素子20に近接するように接続面13bを配置することができる。これにより、半導体レーザ素子20と接続面13bとのワイヤ接続を容易とすることができる。接続面13b設けられた配線層23の上面は、底面13aとほぼ平行な面であることが好ましい。これにより、ワイヤ81の配線層23への接続が容易になる。接続面13bの大きさは、例えば、凹部13の平面積の20〜75%の平面積を有する又は底面13aの平面積の50〜250%の平面積を有することができる。
配線層23は、例えば、銅、金、銀、アルミニウム、チタン、白金、ニッケル、パラジウム又はその合金の1以上からなる単層または複数層によって形成することができる。
接続面13bは、底面13aよりも上方に配置することが好ましい。これにより、半導体レーザ素子20と電気的に接続するワイヤ81の長さを短くすることができ、電気抵抗を低減することができる。また、ワイヤ81による半導体レーザ素子20等との接続が容易になる。接続面13bは、底面13aに半導体レーザ素子を載置した場合、半導体レーザ素子の上面の高さと同程度となるように設けることが好ましい。これにより、ワイヤ81の長さをより短くすることができる。
保持面13cは、波長変換部材32の下面を保持し、固定するために利用される面である。波長変換部材32は、AgやAuを含むペースト材料、AuSn等の半田材料、Ag粒子やAu粒子等の接合材料を介して保持面13cに固定される。保持面13cは、底面13aと平行であることが好ましい。これにより、波長変換部材32の下面を、入射するレーザ光の光軸に対して略垂直な状態で保持することができる。また、保持面13cは、接続面13bよりも上方にあることが好ましい。これにより、半導体レーザ素子を配線層23にワイヤ81によって接続する場合に、ワイヤ81が波長変換部材32に接触する可能性を減少させることができる。また、保持面13cが蓋体17に近づくため、高さ方向における波長変換部材32の移動可能範囲を減少させることができる。
保持面13cは、波長変換部材32を保持し得るように、波長変換部材32に接触する面積及び平面形状を有していることが好ましい。保持面13cの面積としては、例えば、凹部13の平面積の10〜30%の面積が挙げられる。また、波長変換部材32の平面積の20〜60%と接触することができる面積が挙げられる。あるいは、これらの双方を実現する面積とすることができる。
例えば、保持面13cの平面形状は、多角形又は多角形の角が丸みを有する形状が挙げられる。
包囲面13dは、保持面13cよりも上方であって、保持面13cに隣接して配置されている。包囲面13dは、保持面13c上に保持した波長変換部材の周縁を包囲するために、その周縁に対向するように配置されている。つまり、包囲面13dは、保持面13cに対して立った状態で配置されている。包囲面13dの保持面13cに対する角度は、波長変換部材32の周縁を含む側面の状態に対応させること、すなわち包囲面13dが波長変換部材32の側面とほぼ平行であることが好ましい。具体的には、包囲面13dの保持面13cに対する角度は、60〜120度程度が挙げられ、80〜100度程度が好ましく、90±数度程度がより好ましい。包囲面13dは、側面13eから独立して形成されていてもよいが、発光装置の小型化の観点から、凹部13の内側に、側面13eから突出する面として、つまり、側面13eから連続して形成されていることが好ましい。
包囲面13dは、波長変換部材32の周縁の一部を包囲するが、包囲する長さは、波長変換部材32の平面形状によって、適宜調整することができる。波長変換部材32の平面形状が略多角形である場合、包囲面13dは、2以上の角部を包囲する形状であることが好ましい。これにより、波長変換部材32が保持面13cから剥離した際に波長変換部材32の移動可能範囲をより狭めることができる。例えば、波長変換部材32の平面形状が四角形である場合、その1つの角、2つの角、3つの角、又は、全ての角を包囲するものを選択することができる。角を包囲するとは、少なくとも角の近傍において、角を構成する2つの辺を連続して包囲することをいう。波長変換部材32が四角形以外の形状である場合は、これらに相当する部位を包囲する形態とすることができる。包囲する長さは、例えば、波長変換部材32の周縁の長さの20%〜80%、20〜50%が挙げられる。
本実施形態では、波長変換部材32が、上述したように、互いに対向する第1隅部と第2隅部とを有する略矩形状であり、包囲面13dは、第1隅部を包囲する第1包囲面13d1と、前記第2隅部を包囲する第2包囲面13d2とを有する。図3Aに示すように、第1包囲面13d1は面13d11及び13d12を有し、第2包囲面13d2は面13d21及び13d22を有する。
図1A〜3Cにおいては、平面視で、波長変換部材32が略四角形であり、その対向する2つの角が、凹部13の側面に対向するように配置され、これら2つの角及びその近傍が、保持面13cに支持されている。また、これら2つの角と該角に隣接する2つの辺の角部近傍の一部のみが、それぞれ、保持面13cに対して直立する包囲面13d、つまり、第1包囲面13d1及び第2包囲面13d2に包囲されている。波長変換部材32は、保持面13cに、その下面の約1/3程度が支持/固定されている。また、波長変換部材32は、包囲面13dに、その外縁の約半分が300μm程度の間隔をあけて包囲されている。
このような保持面13c及び包囲面13dによって、波長変換部材32は、平面視における発光装置10の左右及び上下方向における移動可能範囲を狭めることができる。これにより、波長変換部材32は適所に支持されることができ、波長変換部材32のずれによるレーザ光の漏れを防止することができる。より確実に防止するためには、包囲面13dの大きさ及び位置と波長変換部材32の大きさ形状とを、波長変換部材32が最大限移動したとしても、レーザ光の光路を波長変換部材32によって遮ることができるものとすることが好ましい。また、保持面13cから蓋体17までの距離についても、波長変換部材32が最大限移動したとしても、レーザ光の光路を波長変換部材32によって遮ることができるものとすることが好ましい。これにより、波長変換部材32のずれによるレーザ光の漏れをより確実に防止することができる。
包囲面13dは、波長変換部材32の厚み方向の全部を包囲するものであってもよいし、一部を包囲するものであってもよい。例えば、包囲面13dの幅(発光装置10の高さ方向の長さ)は、波長変換部材32の10〜150%、20〜120%、50〜100%が挙げられる。包囲面13dから蓋体17までの最短距離は、波長変換部材32の厚みよりも小さいことが好ましい。これにより、包囲面13dを越えて波長変換部材32が移動することを防止可能である。
凹部13、底面13a、保持面13c及び包囲面13dの平面形状は、例えば、それぞれ多角形又はその角が丸められた形状等である。
底面13a、接続面13b、保持面13c及び包囲面13dは、例えば、平面視において、それぞれ異なる領域に配置される。また、底面13aと接続面13bとの高さの違いや、接続面13bと保持面13cとの高さの違いは、セラミック層のグリーンシートの1層ずつで調整することができる。セラミック層の1層分の厚みは、例えば100〜500μm程度である。
側面13eは、底面13a及び接続面13bから基体16の上面16aまでを繋ぐ面である。側面13eは、例えば、これらの面に対して60〜120度程度傾斜している。また、側面13eは、位置によって傾斜角度が異なっていてもよい。凹部13の外周における基体16の上面16aの一部には、例えば金属枠が接合され、この金属枠に後述する蓋体17を溶接等によって接合し、これによって半導体レーザ素子が封止される。
基体16は、さらに、上方に開口した第1凹部11及び第2凹部12を有していてもよい。第1凹部11及び第2凹部12は、発光装置10の組み立ての際に、基体16に半導体レーザ素子20等を搭載するための位置合わせの基準点を定めるためのマークとして用いることができる。また、第1凹部11及び第2凹部12は、発光装置10をレーザモジュールとして組み立てる場合に、発光装置10以外の部材との位置合わせに利用することができる。第1凹部11及び第2凹部12は、基体16を貫通していないものが好ましい。これにより、基体16が主としてセラミックスを含んで形成される場合、セラミック層のグリーンシートを複数積層し、焼成して製造することによる位置ずれを低減することができ、第1凹部11及び第2凹部12を精度良く形成することができる。また、基体16の底面積の減少を回避することができるため、放熱に寄与する面積をより大きく確保することができる。
基体16は、その上面16aであって、平面視において第1凹部11及び第2凹部12に隣接して、第1凹部11及び第2凹部12にそれぞれ繋がる第1金属層21及び第2金属層22を有することが好ましい。これらの金属層によって、発光装置10の製造工程における第1凹部11及び第2凹部12の画像認識が容易となる。すなわち、第1金属層21及び第2金属層22は、これらから露出したセラミック層と色味が異なっており、コントラストが大きいため、第1金属層21及び第2金属層22の内縁、すなわち第1凹部11及び第2凹部12の外縁を容易に認識することができる。
基体16は、さらに、外部電極24、25を有する。基体16は、さらに、外部電極24、25を配置するための第4凹部14及び第5凹部15を有していてもよい。外部電極24、25は、凹部13内の配線層23と、基体16内部に設けた内層配線等で電気的に接続されている。外部電極24、25は、例えば、銅、金、銀、アルミニウム、チタン、白金、ニッケル、パラジウム又はその合金の1以上からなる単層または複数層によって形成することができる。外部電極24、25は、配線層23と同じ材料であれば同様の工程で形成することができるため、好ましい。
第1凹部〜第5凹部11、12、13、14、15を備え、上面16a、底面13a、接続面13b、保持面13c及び包囲面13d、第4凹部14及び第5凹部15の底面等、高さの異なる部位を備える基体16は、例えば、主としてセラミックスで形成する。この場合には、複数層のグリーンシートにおいて、これらの面を構成し、他の面を露出し得る開口をそれぞれ形成し、それらを積層する。これにより、最も低い面(凹部13の底面13a)から基体16の上面16aまで、これらの面の位置に相当して、段階的な段差を有する基体16を得ることができる。また、基体16を主として金属で形成する場合は、プレス加工、押圧等の手法を組み合わせて段階的な段差を有する基体16を得ることができる。
(半導体レーザ素子20)
半導体レーザ素子20としては、例えば、窒化物半導体(主として一般式InxAlyGa1-x-yN、0≦x、0≦y、x+y≦1)で表される)などの半導体層を備える素子が挙げられる。その組成を調整することにより、半導体レーザ素子20の発振波長を調整することができる。例えば、400〜530nmの範囲に発振波長を有する半導体レーザ素子を用いることができる。YAG系蛍光体と組み合わせる場合は、発振波長が420〜490nmの範囲にある半導体レーザ素子20が好ましい。
半導体レーザ素子20は、レーザ光の発振面が基体16の凹部13の底面13aに略垂直となるように配置されることが好ましい。このような配置により、レーザ光を蓋体17に届かせるためには後述する反射部材31が必要となるため、反射部材31が剥離してレーザ光の光路から外れた場合には、レーザ光が直接外部に向けて発振されることを回避することができる。これにより、反射部材31の剥離時に他の部材も剥離していたとしても、レーザ光が直接外部に取り出されにくい。
半導体レーザ素子は、底面13aに直接配置してもよいが、底面13aにサブマウント18を介して配置することが好ましい。これにより、半導体レーザ素子20の光出射面を底面13aから離すことができ、半導体レーザ素子20からの光が底面13aに当たるのを抑制することができる。サブマウント18としては、例えば、炭化珪素、窒化アルミニウム等を用いることができる。サブマウント18を配置する場合においても、半導体レーザ素子20は、出射した光が、底面13aに対して実質的に平行な方向に進行するように実装することが好ましい。
(反射部材31)
発光装置10は、さらに、反射部材31を備えていることが好ましい。
反射部材31は、凹部13の底面13aであって、半導体レーザ素子20からの光を反射し得る位置に配置されている。反射部材31は、底面13aに対して傾斜した反射面を有しており、この反射面によって半導体レーザ素子20の光を上方に反射するように配置されている。
反射部材31は、平面視において、反射部材31で反射する光が発光点と重なるような位置に配置されることが好ましい。例えば、反射部材31は、その反射面が蛍光体含有部材32bの直下に位置するように配置される。
反射部材31としては、例えば、三角柱、四角錐台等の形状の光学ガラスの斜面に、反射膜が設けられた部材を用いることができる。底面13aと反射部材31の斜面との角度は、例えば、30〜60度が挙げられ、約45度が好ましい。これにより、底面13aとほぼ平行に進むレーザ光を、底面13aに対してほぼ垂直な方向に転換させることができる。
反射部材31は、1つの発光装置に1つのみ配置されていてもよいし、複数配置されていてもよい。半導体レーザ素子が、1つの発光装置に複数実装される場合は、複数配置されていてもよい。
(蓋体17)
発光装置10は、さらに、蓋体17を備えていることが好ましい。
蓋体17は、凹部13内に搭載された半導体レーザ素子20を封止するように、例えば、凹部13の開口を塞ぎ、基体16に接合されている。この場合、蓋体17は、平面視で、第1凹部11及び第2凹部12と重ならない位置で、基体16に接合されていることが好ましい。これにより、蓋体17による画像認識の障害を避けることができる。蓋体17の基体16への接続は、例えば、銀ロウ等を用いて行うこともできるが、基体16の上面に金属枠を設けて、この金属枠に蓋体17を溶接することが好ましい。これにより、気密性の向上した封止を行うことができる。
蓋体17は、波長変換部材32を通過した光を、好ましくは上方に、透過させる透光性部材33を有している。透光性部材33はガラス等によって形成することができる。
蓋体17は、透光性部材33を保持/固定するために、貫通孔34aを備える保持部材34を有していることが好ましい。貫通孔34aの光入射側における開口面積は、波長変換部材32の貫通孔の光出射側における開口面積よりも大きいことが好ましい。透光性部材33は、例えば、蓋体17の保持部材34の貫通孔34aを塞ぐように、蓋体17の保持部材34の貫通孔34aの内側又は蓋体17の保持部材34の波長変換部材32側とは反対側の面に固定される。保持部材34にはコバール等を含む金属などを用いることができる。
蓋体17が透光性部材33と保持部材34とを有する場合は、溶接により基体16と保持部材34とを固定することができる。溶接による場合は、透光性部材33と基体16とを確実に固定することができるため、発光装置10が振動などの衝撃を受けた場合においても蓋体17が基体16から外れ難い発光装置10とすることができる。また、保持部材34は半導体レーザ素子20が出射するレーザ光を遮光する部材であることが好ましい。このような保持部材34を有することによって、波長変換部材32の側方から漏れるレーザ光が外部に取り出され難い発光装置10とすることができる。
保持部材34は、凹部を有し、その凹部の一部が基体16の凹部13内に収まるように基体16の上面16aに固定されていることが好ましい。これにより、波長変換部材32と蓋体17とを近づけることができるため、波長変換部材32の発光装置10の高さ方向における移動可能範囲を狭めることができる。また、この場合、保持部材34の貫通孔34aは保持部材34が有する凹部の底面に設けられ、透光性部材33は蓋体17の凹部内に配置されることが好ましい。これにより、透光性部材33が、発光装置10以外の他の部品等に接触しにくくなるため、透光性部材33の損傷を低減することができる。また、波長変換部材32と透光性部材33とを近づけることができるため、透光性部材33を通過する波長変換部材32からの光量を増やし、波長変換部材32からの光の取り出し効率を高めることができる。
(レンズ19)
発光装置10は、さらに、レンズ19等を備えていてもよい。
レンズ19は、凹部13の底面13aであって、半導体レーザ素子20からの光を通過し得る位置に配置されていることが好ましい。レンズ19は、通常、レーザ光の集光又は平行光化するものを利用することができる。
実施の形態2:発光装置
この実施形態の発光装置では、図4に示すように、基体46の凹部43内に、上述した基体16と同様に、底面43aと、底面43aよりも高い位置で、波長変換部材32の下面を保持する保持面43cと、波長変換部材32の周縁の一部を包囲する包囲面43dとを有する。半導体レーザ素子20は、底面43aに載置される。その他の構成は、実質的に実施形態1の発光装置10と同様である。すなわち、基体46の上面46aに、蓋体17を接合し、半導体レーザ素子20等を封止した発光装置を得ることができる。
この発光装置では、平面視で、略四角形の波長変換部材32は、その開口形状が略四角形の凹部43内において、波長変換部材32の辺と凹部43の辺とが互いに平行に対向するように配置されている。
図4においては、平面視で、波長変換部材32の4つの角及びその近傍が、保持面43cに支持されている。また、側面43eに対向する2つの角と、これらの2つの角に挟まれた辺と、その辺に隣接する2辺の一部のみが、保持面43cに対して直立する包囲面43dにそれぞれ包囲されている。波長変換部材32は、保持面43cに、その下面の約1/3程度が支持され固定されている。また、波長変換部材32は、包囲面43dに、その外縁の約半分が300μm程度の間隔をあけて包囲されている。接続面43bには配線層23が設けられている。
このような保持面43c及び包囲面43dによって、波長変換部材32は、平面視における発光装置の左右及び上下方向における移動可能範囲を狭めることができ、波長変換部材32のずれによるレーザ光の漏れを防止することができる。ただし、このような包囲面43dを設けると、配線層23の面積が相対的に小さくなるため、配線層23の面積を大きくするためには、実施形態1のように、対向する2つの隅部のみを囲む包囲面13dとすることが好ましい。
10 発光装置
11 第1凹部
12 第2凹部
13、43 凹部(第3凹部)
13a、43a 底面
13b、43b 接続面
13c、43c 保持面
13d、43d 包囲面
13d1 第1包囲面
13d2 第2包囲面
13d11、13d12、13d21、13d22 面
13e、43e 側面
14 第4凹部
15 第5凹部
16、46 基体
16a、46a 上面
17 蓋体
18 サブマウント
19 レンズ
20 半導体レーザ素子
21 第1金属層
22 第2金属層
23 配線層
24、25 外部電極
31 反射部材
32 波長変換部材
32a 保持部材
32b 蛍光体含有部材
33 透光性部材
34 保持部材
34a 貫通孔
81 ワイヤ

Claims (7)

  1. 上方に開口した凹部を有する基体と、
    前記凹部の底面に載置される半導体レーザ素子と、
    前記凹部に収容される、前記半導体レーザ素子からの光の波長を変換するための波長変換部材とを備え、
    前記凹部は、前記底面よりも高い位置で前記波長変換部材の下面を保持する保持面と、前記波長変換部材の周縁の一部を包囲する包囲面とを有することを特徴とする発光装置。
  2. 平面視において、
    前記波長変換部材は、略矩形状であり、互いに対向する第1隅部と第2隅部とを有し、
    前記包囲面は、前記第1隅部を包囲する第1包囲面と、前記第2隅部を包囲する第2包囲面とを有する請求項1に記載の発光装置。
  3. 前記凹部は、さらに、前記底面よりも高く前記保持面よりも低い位置に、配線層を備える接続面を有する請求項1又は2に記載の発光装置。
  4. さらに、前記波長変換部材の直下であって前記凹部の底面に載置され、前記半導体レーザ素子からの光を反射する反射部材を備える請求項1から3のいずれか1つに記載の発光装置。
  5. 前記波長変換部材は、
    蛍光体を含有する蛍光体含有部材と、
    該蛍光体含有部材を、貫通孔内に保持する遮光性の保持部材とを有する請求項1から4のいずれか1つに記載の発光装置。
  6. さらに、前記凹部の開口を塞ぎ、前記半導体レーザ素子からの光を透過する透光性部材を有する蓋体を備える請求項1から5のいずれか1つに記載の発光装置。
  7. 前記蓋体は、さらに、前記半導体レーザ素子からの光を通す貫通孔を備える遮光性の保持部材を有し、
    前記透光性部材は、前記蓋体の保持部材の貫通孔を塞ぐように、前記蓋体の保持部材に固定されている請求項6に記載の発光装置。
JP2017085472A 2016-04-28 2017-04-24 発光装置 Active JP6940749B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016090768 2016-04-28
JP2016090768 2016-04-28

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017201688A true JP2017201688A (ja) 2017-11-09
JP6940749B2 JP6940749B2 (ja) 2021-09-29

Family

ID=60159088

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017085472A Active JP6940749B2 (ja) 2016-04-28 2017-04-24 発光装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US10263387B2 (ja)
JP (1) JP6940749B2 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018180658A1 (ja) * 2017-03-29 2018-10-04 パナソニックIpマネジメント株式会社 波長変換素子及び発光装置
WO2019131439A1 (ja) * 2017-12-26 2019-07-04 日亜化学工業株式会社 光学部材、発光装置及び光学部材の製造方法
JP2019175903A (ja) * 2018-03-27 2019-10-10 日亜化学工業株式会社 発光装置
WO2020166225A1 (ja) * 2019-02-14 2020-08-20 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 光源ユニット、光源装置及び測距装置
JP2020136659A (ja) * 2019-02-15 2020-08-31 日亜化学工業株式会社 発光装置の製造方法、発光装置、又は、基部
US11303095B2 (en) 2019-02-15 2022-04-12 Nichia Corporation Method of manufacturing light emitting device, light emitting device, and base member

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017183638A1 (ja) * 2016-04-18 2017-10-26 京セラ株式会社 発光素子収納用部材、アレイ部材および発光装置
JP6711333B2 (ja) * 2017-08-16 2020-06-17 日亜化学工業株式会社 発光装置
US20210359492A1 (en) * 2018-10-19 2021-11-18 Kyocera Corporation Optical element mounting package, electronic device, and electronic module
DE102020106594A1 (de) * 2019-03-12 2020-09-17 Nichia Corporation Verfahren zur herstellung eines optischen elements, optisches element, und lichtemittierende vorrichtung
US20220390689A1 (en) * 2019-09-30 2022-12-08 Kyocera Corporation Optical waveguide package and light-emitting device
TWI731473B (zh) * 2019-11-15 2021-06-21 晶智達光電股份有限公司 雷射元件

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000340876A (ja) * 1999-03-23 2000-12-08 Furukawa Electric Co Ltd:The 光半導体素子用パッケージおよびその製造方法
JP2007317811A (ja) * 2006-05-25 2007-12-06 Matsushita Electric Works Ltd 発光装置
JP2007335798A (ja) * 2006-06-19 2007-12-27 Toyoda Gosei Co Ltd 発光装置
JP2009170723A (ja) * 2008-01-17 2009-07-30 Nichia Corp 発光装置
JP2009289976A (ja) * 2008-05-29 2009-12-10 Nichia Corp 発光装置
JP2010251686A (ja) * 2009-03-26 2010-11-04 Harison Toshiba Lighting Corp 発光装置及びその製造方法
JP2012094419A (ja) * 2010-10-28 2012-05-17 Nippon Electric Glass Co Ltd 波長変換素子、それを備える光源及びその製造方法
JP2012512508A (ja) * 2008-12-18 2012-05-31 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 照明手段及び同照明手段を少なくとも1つ有するプロジェクタ
JP2013211695A (ja) * 2012-03-30 2013-10-10 Konica Minolta Inc 撮像装置
US20130272329A1 (en) * 2012-04-16 2013-10-17 Osram Opto Semiconductors Gmbh Laser diode devices
WO2015020205A1 (ja) * 2013-08-09 2015-02-12 株式会社光波 発光装置
JP2016004913A (ja) * 2014-06-17 2016-01-12 日亜化学工業株式会社 発光装置および発光装置の製造方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4097949B2 (ja) * 2001-04-20 2008-06-11 シャープ株式会社 空間光伝送システム
JP4948818B2 (ja) 2005-10-28 2012-06-06 京セラ株式会社 発光装置および照明装置
JP5083205B2 (ja) 2006-03-10 2012-11-28 日亜化学工業株式会社 発光装置
JP2008210960A (ja) 2007-02-26 2008-09-11 Kyocera Corp 発光装置および照明装置
JP5139519B2 (ja) * 2009-09-01 2013-02-06 株式会社東芝 半導体発光素子及び半導体発光装置
US8704433B2 (en) * 2011-08-22 2014-04-22 Lg Innotek Co., Ltd. Light emitting device package and light unit
EP2833422A4 (en) * 2012-03-30 2015-04-01 Mitsubishi Chem Corp LIGHT-EMITTING SEMICONDUCTOR DEVICE AND LIGHTING DEVICE
US20150307717A1 (en) * 2012-12-27 2015-10-29 Konica Minolta, Inc. Coating liquid and led device including reflective layer made of product of curing thereof
JP6044833B2 (ja) 2013-02-08 2016-12-14 スタンレー電気株式会社 発光装置及び車両用灯具
KR101998765B1 (ko) * 2013-03-25 2019-07-10 엘지이노텍 주식회사 발광소자 패키지

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000340876A (ja) * 1999-03-23 2000-12-08 Furukawa Electric Co Ltd:The 光半導体素子用パッケージおよびその製造方法
JP2007317811A (ja) * 2006-05-25 2007-12-06 Matsushita Electric Works Ltd 発光装置
JP2007335798A (ja) * 2006-06-19 2007-12-27 Toyoda Gosei Co Ltd 発光装置
JP2009170723A (ja) * 2008-01-17 2009-07-30 Nichia Corp 発光装置
JP2009289976A (ja) * 2008-05-29 2009-12-10 Nichia Corp 発光装置
JP2012512508A (ja) * 2008-12-18 2012-05-31 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 照明手段及び同照明手段を少なくとも1つ有するプロジェクタ
JP2010251686A (ja) * 2009-03-26 2010-11-04 Harison Toshiba Lighting Corp 発光装置及びその製造方法
JP2012094419A (ja) * 2010-10-28 2012-05-17 Nippon Electric Glass Co Ltd 波長変換素子、それを備える光源及びその製造方法
JP2013211695A (ja) * 2012-03-30 2013-10-10 Konica Minolta Inc 撮像装置
US20130272329A1 (en) * 2012-04-16 2013-10-17 Osram Opto Semiconductors Gmbh Laser diode devices
WO2015020205A1 (ja) * 2013-08-09 2015-02-12 株式会社光波 発光装置
JP2016004913A (ja) * 2014-06-17 2016-01-12 日亜化学工業株式会社 発光装置および発光装置の製造方法

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2018180658A1 (ja) * 2017-03-29 2020-02-06 パナソニックIpマネジメント株式会社 波長変換素子及び発光装置
WO2018180658A1 (ja) * 2017-03-29 2018-10-04 パナソニックIpマネジメント株式会社 波長変換素子及び発光装置
JP7046917B2 (ja) 2017-03-29 2022-04-04 ヌヴォトンテクノロジージャパン株式会社 波長変換素子及び発光装置
US11646544B2 (en) 2017-12-26 2023-05-09 Nichia Corporation Method of manufacturing optical member
WO2019131439A1 (ja) * 2017-12-26 2019-07-04 日亜化学工業株式会社 光学部材、発光装置及び光学部材の製造方法
US11984697B2 (en) 2017-12-26 2024-05-14 Nichia Corporation Optical member and light emitting device
JPWO2019131439A1 (ja) * 2017-12-26 2021-01-21 日亜化学工業株式会社 光学部材、発光装置及び光学部材の製造方法
US11108210B2 (en) 2017-12-26 2021-08-31 Nichia Corporation Optical member, light emitting device, and method of manufacturing optical member
JP7319549B2 (ja) 2017-12-26 2023-08-02 日亜化学工業株式会社 光学部材、発光装置及び光学部材の製造方法
JP2019175903A (ja) * 2018-03-27 2019-10-10 日亜化学工業株式会社 発光装置
WO2020166225A1 (ja) * 2019-02-14 2020-08-20 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 光源ユニット、光源装置及び測距装置
JP7206494B2 (ja) 2019-02-15 2023-01-18 日亜化学工業株式会社 発光装置の製造方法、発光装置
US11664638B2 (en) 2019-02-15 2023-05-30 Nichia Corporation Light emitting device
US11303095B2 (en) 2019-02-15 2022-04-12 Nichia Corporation Method of manufacturing light emitting device, light emitting device, and base member
US11962121B2 (en) 2019-02-15 2024-04-16 Nichia Corporation Light emitting device
JP2020136659A (ja) * 2019-02-15 2020-08-31 日亜化学工業株式会社 発光装置の製造方法、発光装置、又は、基部

Also Published As

Publication number Publication date
US20170317469A1 (en) 2017-11-02
JP6940749B2 (ja) 2021-09-29
US10263387B2 (en) 2019-04-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6940749B2 (ja) 発光装置
JP6225976B2 (ja) 発光装置
JP6564206B2 (ja) 発光装置
JP6294417B2 (ja) 光半導体装置および光半導体装置の製造方法
JP6294418B2 (ja) 光半導体装置および光半導体装置の製造方法
WO2018043096A1 (ja) 光半導体装置および光半導体装置の製造方法
CN107795866B (zh) 发光装置
JP6665666B2 (ja) 発光装置の製造方法、レーザモジュールの製造方法及び発光装置
JP2015207646A (ja) 発光装置
JP6737760B2 (ja) 発光装置及びそれに用いる蓋体
JP2019212752A (ja) 発光装置
TW201316634A (zh) 發光裝置
JP2019175903A (ja) 発光装置
US20220320822A1 (en) Light emitting device
JP6439776B2 (ja) 発光装置
US10193294B2 (en) Light emitting device
JP6638546B2 (ja) パッケージ及び発光装置
JP7014645B2 (ja) 半導体発光装置
JP2017112138A (ja) 半導体レーザ装置
JP7071616B2 (ja) 光源装置
JP2019075460A (ja) 半導体発光素子および半導体発光装置
WO2023249074A1 (ja) 半導体発光装置
JP7323836B2 (ja) 光源装置
WO2022230339A1 (ja) 光源装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200330

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210310

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210323

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210510

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210803

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210816

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6940749

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150