JP2017201402A - ツール及びプロセスの効果を分離する基板マトリクス - Google Patents

Abstract

【課題】多くの異なるパラメータが、所定のテストマトリクステスト内に特定され不所望な交絡に悩まされることがあり、この交絡はパラメータと特性との間の相関の精度を減少させる傾向がある。交絡の原因を究明して計上することは非常に困難である。
【解決手段】手段特徴付けすべきプロセスを選択し、特徴付けすべきプロセスのパラメータを選択し、テストマトリクスで使用するパラメータの値を決定し、テストマトリクスの偏心度を特定し、基板上のセル内に作成すべきテスト構造を選択し、プロセスを通じて、偏心テストマトリクスにより決定されるような、パラメータの値を、各セルに用いて基板を処理し、セル内のテスト構造の特性を計測し、パラメータと特性との間の相関を展開することにより、プロセスを特徴付ける方法。
【選択図】図３

Description

本出願は、2008年5月21日に出願された米国仮特許出願第61/054,897号のすべての権利と、優先権を主張する。本発明は集積回路の製造の分野に関する。とりわけ、本発明は既知または未知の交絡(confounding)の影響を減らすか、または除去するやり方で、プロセスの入力パラメータをプロセスの出力特性に相関させることに関する。

非常に小さい集積回路に対する需要は、フィーチャの寸法等の集積回路の特性を厳しく制御するための要件を著しく増加させている。ここで用いる用語「集積回路」は、例えばシリコンやゲルマニウムのようなＩＶ族の材料または、ヒ化ガリウムのようなＩＩＩ−Ｖ族の化合物または、そのような材料の混合物で形成される基板のようなモノリシックの半導体基板上に形成されるデバイスを含む。前記用語は、メモリや論理回路として形成されるあらゆる種類のデバイス及びＭＯＳやバイポーラのようなあらゆる設計のデバイスを含む。前記用語には、フラットパネルディスプレイ、太陽電池及び電荷結合素子等の応用物も含まれる。フィーチャ寸法等の特性の均一性は、露光やフォーカス等の多数の異なるパラメータによってフォトリソグラフィのプロセス中に影響される。

現在、そのようなパラメータに対する設定は、図１に示すように、テスト基板１４上のセル１２内でテストパターンを露光することにより決定され、各パターンに対する設定は、フォトリソグラフィのパラメータの組み合わせである従来の直交テストマトリクス１０を用いて決定される。図１は実際のテストパターンそのものを示しているわけではない。なぜならば、様々な異なるテストパターンを使用し得るからであり、本発明は特に特定のテストパターン向けのものではないからである。それよりも、図１は基板１４上の各セル１２を処理するために使用することになるようなパラメータの設定値を示している。図１の例では、図面を過度に複雑にしないように、２つのパラメータだけを明記している。しかしながら、多くの異なるパラメータが、所定のテストマトリクステスト１０内に特定されうる。

図１に示したような従来のテストマトリクス１０では、セル１２の露光Eは、基板１４上のテストマトリクス１０の第１次元、例えばX次元方向にわたって、均一に増加しており、セル１２のフォーカスFは、基板１４のテストマトリクス１０の第２次元方向、例えばY次元方向にわたって均一に増加している。基板１４を処理した後には、基板１４上のテストパターンの寸法が所望サイズにどれくらい密に整合しているか、と言ったような、基板１４上のテストパターンの特性を、テストマトリクス１０の各セル１２にて計測して、テストマトリクス１０のパラメータと計測された特性との間の相関を生成する。

しかしながら、テスト基板１４を測定して解析するこの方法は、パラメータと計測された特性との間の相関にかかる不所望な交絡に悩まされることがあり、この交絡はパラメータと特性との間の相関の精度を減少させる傾向がある。交絡の原因を究明して計上することは非常に困難である。

従って、必要なのは上述したような問題の少なくとも一部を克服できる方法である。

上述したもの等の必要性は、特徴付けすべきプロセスを選択し、特徴付けすべきプロセスのパラメータを選択し、テストマトリクスで使用するパラメータの値を決定し、テストマトリクスの偏心度（eccentricity）を特定し、基板上のセル内に作成すべきテスト構造を選択し、プロセスを通じて、偏心テストマトリクスにより決定されるような、パラメータの値を、各セルに用いて基板を処理し、セル内のテスト構造の特性を計測し、パラメータと特性との間の相関を展開することにより、プロセスを特徴付ける方法によって達成される。

下記で定義するように、テストマトリクスの偏心度を特定することにより、フォトレジストの厚さ、露光後の焼付け温度の均一性、リソグラフィプロセス中の露光の順序等の他の時々未知の変数による交絡の影響を、パラメータと特性との間で展開される相関から軽減させるか、除去することができる。これは、特性に及ぼすパラメータの影響をもっとよく示す相関関係を出現させる。

様々な実施形態においては、ふたつのパラメータを選択し、実施形態によっては、２つ以上のパラメータを選択する。実施形態によっては、プロセスをフォトリソグラフィプロセスとする。加えて、実施形態によっては、プロセスはフォトリソグラフィプロセスとし、２つのパラメータを選択し、選択するパラメータをフォーカス及び露光とする。実施形態によっては、パラメータの２つの値のみを決定し、他の実施形態では、パラメータの少なくとも３つの値を決定する。実施形態によっては、偏心度をテストマトリクスにランダムな順序で順序付け、他の実施形態では、偏心度をテストマトリクスに疑似ランダムな順序で順序づける。実施形態によっては多数のパラメータを選択し、これらパラメータの値のユニークな組み合わせで各セルを処理する。実施形態によっては、テスト構造は線幅を含む。ある実施対応では、１つ以上の特性を計測する。ある実施形態の特性は線幅を含む。実施形態によっては、相関は、入力変数としてのパラメータを、出力係数としての特性に相関させる多項式である。ある実施形態のパラメータと特性との間の相関は、前記特性が特性の所望の値にどれだけ近いかを示す。

以下、図面につき、詳細に説明することで、発明のさらなる利点を明らかにする。図面は細部を明瞭にするために実寸図示したものではなく、図面中の同様な参照番号は同様な要素を表している。

従来のテストマトリクスを示す図である。 本発明の実施形態による方法に使用するための偏心テストマトリクスを示す図である。 本発明の実施形態による方法のフローチャートである。

本発明によれば、様々な実施形態は、基板１４上で従来のテストマトリクス１０にて行われていたように、パラメータの値がテストマトリクスのある次元方向に一定には増加しないテストマトリクス10を生成することにより上述したような問題点の影響を軽減する。その代わりに、パラメータの値は本来バラバラまたはランダムな値のように見えるが、その本質を以下もっと詳しく述べるように、偏心度と称する。

実施形態によっては、テストマトリクス１０は、そのマトリクス１０の所定の次元において増加的にシフトするパラメータの値を使用し、実施形態によっては、パラメータのそれらの値は一定に増加するも、その値はテストマトリクス１０の所定の次元にわたり、マトリクス１０のあるセル１２から隣のセル１２へ移る際に、多少ランダムに選択されるように見え、その増加の本質及び増加の値は従来のテストマトリクス１０のように、すぐにはわからない。

図２に、本発明の実施形態による方法で用いるテストマトリクス１０を示してある。テストマトリクス１０は、フォトリソグラフィプロセス中の露光及びフォーカス等の少なくとも１つのプロセスパラメータの設定値を規定する。ある実施形態では、少なくとも２つの変数をテストマトリクス１０に表す。マトリクスのセル１２の各々は、プロセスパラメータの設定値、または複数のパラメータが評価に含まれる際には、組み合わせるパラメータの設定値を表す。図２に示した例では、テストマトリクス１０に露光EとフォーカスFとの２つのプロセスパラメータを示している。セル１２のそれぞれは、これら２つのパラメータの組み合わせを示している。セル１２は、様々な異なるパラメータの組み合わせを持ちうる。ある実施形態では、テストマトリクス１０のセル１２のそれぞれは、パラメータの異なったユニークな組み合わせを有する。他の実施形態では、テストマトリクス１０のセル１２の幾つかは、冗長な組み合わせを持つ。そのような決定は、例えば統計的経験設計に従ってなされる。

本発明によるテストマトリクス１０の実施形態において、所定のパラメータの値は、テストマトリクス１０全体にわたって一様には増加しない。例えば、図２に示した実施形態では、第３行目のフォーカスFの値は、その行全体を左から右に読むと３，２，３，５，３，２及び６である。つまり、テストマトリクス１０のその次元にわたって移動すると、フォーカスパラメータの値について、すぐに認識できるパターンは存在していない。同様に、テストマトリクス１０のセル１２の第３列目を上から下に移動してみると、フォーカスパラメータFの値は、５，４，３，２，１及び４である。ここでも、テストマトリクス１０のその次元を下方に移動してみると、フォーカスパラメータの値について、すぐに認識できるパターンは存在していない。テストマトリクス１０の露光パラメータEについても同様の状態が存在する。実施形態によっては、２つ以上のパラメータが各セル１２内に示され、すべてのパラメータの値について、テストマトリクスを所定の次元にわたって移動した際に、同じ偏心度が観察される。

なお、テストマトリクス１０の任意の所定のパラメータに対し、そのパラメータが実際上一定の決まりで増加する行または列を見つけることがありうる。しかしながら、この状態はセル１２の配列の偏心性によって生じるのであって、図１の従来のテストマトリクスで示されるように、テストマトリクス１０全体にわたって一様に増加するものではない。

セル１２内のパラメータの値の偏心度は多数の異なる方法で決定することができる。例えば、偏心度は全くのランダムか、疑似ランダムのものとするか、特定の空間的なパターンにより特定するか、または数学的アルゴリズムにより設定することができる。偏心度は、基板を処理する際の特定のツールの特定の制限や複雑さを考慮に入れることもできる。例えば、所定の露光ツール内における基板上の特定の露光パターンは、セットアップの容易さ、露光の早さまたは露光性能の精度の観点で、利点を提供しうる。例えば、ある実施形態では、あるパラメータに対して所定の値、例えばフォーカスに対する値として３の値を持つセル１２のすべてを、基板１４上のテストマトリクス１０の所定の象限内に配置することができる。しかしながら、図１に示しているように、テストマトリクス１０の全体にパラメータの値を一様に増加させるのではない。とにかく、図２の偏心パターンは図１の従来のパターンと比較すると、シャッフルされたように見える。

テストマトリクス１０の各パラメータの設定を決定した後、基板１４上のテストマトリクス１０の各セル１２は、セル１２に特定したパラメータに従って処理される。例えば、所定のセル１２が、フォーカスの値が１で、露光の値が３に特定されたフォーカス及び露光のパラメータを持つ場合、そのセル１２はそれらの処理設定値を用いてアライナ、ステッパ、もしくは他の露光ツールにより処理される。他の全てのセルにも同様に、全テストマトリクス１０が各セル１２の設定値に従って処理されるまで、各セルに特定された処理設定値を用いて露光ツールにより処理される。

パラメータの値の偏心度は、様々な基準によって規定することもできるが、本発明の幾つかの実施形態の他の見地では、テストマトリクス１０の露光の順序とする。最新の露光ツールでは、生産工程中の露光の順序を、スループットまたは配置精度のために最適化することができる。これはまた、幾つかの実施形態における、偏心テストマトリクス１０の露光中のケースでもある。例えば、テストマトリクスのセル１２を空間的に近い順に露光したり、或いは位置にかかわらず露光パラメータの順に露光したりするのが有利なこともある。

上述したように、各セル１２は、ある実施形態においては、セルの内部に画定された少なくとも１つのテスト構造を有している。実施形態によっては、それぞれのセル１２が、全く同じテスト構造を含むものもある。さらに実施形態によっては、様々な異なるテスト構造がそれぞれのセル１２の内部に含まれるものもある。上述のパラメータの値に従って、基板１４を処理した後には、セル１２内部のテスト構造の様々な特性を計測する。例えば、ある実施形態では、テスト構造の所定の寸法のサイズや、フォトレジスト等の特定層の厚さを計測する。他の例では、フォトリソグラフィ以外の処理ステップに対する注入のドーズ量または堆積層の厚さを計測することができる。この情報は各セル１２用に記録しておく。

次に、ある実施形態では、入力変数としてのパラメータの値と出力変数としての計測された特性との間の相関を展開する。計測された特性の絶対値に対して相関を展開する代わりに、別の実施形態では、計測された特性の値が、それらの特性に対する意図した値にどれだけ密に一致しているかの相関を展開することができる。このようにして、パラメータが特性に及ぼす影響の数学的モデルを作成する。これを用いて、このように特徴付けられるプロセスに望まれる設定値を決めることができる。

図３には、本発明による方法のフローチャート１００を示してある。最初のステップでは、ブロック１０２内に記載してあるように、特徴付けすべきプロセスを選択する。上述したように、好適な例として用いたプロセスは、ステッパやアライナのような露光ツールを伴うフォトリソグラフィプロセスの間にフォトレジストを露光するプロセスである。しかしながら、イオン注入、エッチング、堆積、アニール等のような他の任意数のプロセスをこの方法で特徴付けることもできる。

次に、ブロック１０４内に記載してあるように、特徴付けすべきパラメータを選択する。これらのパラメータは、典型的に特徴付けのために選択したプロセスに固有のものである。例えば、上述の記述は、フォトリソグラフィのパラメータである露光とフォーカスの双方に触れている。他のプロセスのパラメータとしては、温度、圧力、ドーパント濃度、電力、バイアス電圧、流量、時間等を挙げることができる。上述の例は２つのパラメータのみについて触れているが、任意数のあらゆるパラメータを特徴付けることができる。

次のステップでは、ブロック１０６内に記載してあるように、パラメータ値、つまりパラメータを特徴付けるレベルを決定する。上述した例では、パラメータ値は１から６または７までの範囲の値とした。しかしながら、これらの数字は表現上のものであって、例を極度に複雑にしないようにするために単純な値を用いた。実際の実施に当たって、もっと複雑な値の範囲やもっと複雑なステップを採用することになる。ある実験的設計手法に従って、所与のパラメータの３つのレベルだけを試した。他の実験的な設計手法では、一定に増加するか又は一定には増加しない、様々なレベルを試した。

次のステップでは、ブロック１０８内に記載してあるように、テストマトリクスの偏心度を特定する。このことは、詳しく調べようとするプロセスにどのような交絡因子があろうと、これらの交絡因子をバラバラにするために、セル１２をいかに「ごちゃ混ぜに」するかを決定することを意味する。例えば、基板１４をプロセス中にチャックにより保持する場合には、チャックが引き起こす基板１４の反りの交絡の影響をバラバラにするように偏心度を選択することになることになりうる。基板の温度プロファイルの交絡の影響を低減させるために、別の偏心度を選択することもある。しかしながら、偏心度は既知または未知の様々な交絡因子をバラバラにするために、ランダムまたは疑似ランダムな方法で選択することもある。当面のプロセスにこのステップ１０８を適用した後は、テストマトリクス１０は、図１のテストマトリクス１０のように順序付けられるのではなく、図２のテストマトリクスのようになり、「ごちゃ混ぜになった」ように見える。

次に、方法１００のブロック１１０内に記載してあるように、いくつかの種類のテスト構造を選択する必要がある。テスト構造は、１つ以上のマスク又はレチクル上に画定され、基板１４上に形成される物理的な構造を画定する。選択された１または複数のテスト構造は、実施形態によっては、特徴付けるパラメータと、テスト構造の計測可能な特性との間の関係を表す。例えば、測定すべき１つの特性が線幅である場合には、本実施形態におけるテスト構造は、ブロック１０４及び１０６で選択されるプロセスのパラメータの様々な値により、ある方法で影響を受けた線の寸法を含むことになる。

その後、ブロック１１２内に記載してあるように、１つ以上の基板１４を処理する。上述したように、テストマトリクス１０の各セル１２は、そのセル１２に関連するパラメータの値によって処理される。上述した例を引き継ぐため、フォトリソグラフィプロセスでは、このことは、テストマトリクス１０内の各セル１２に指定されるような、フォーカスや露光の設定値で、各セル１２を露光することを意味する。

いったん基板１４を処理したら、ブロック１１４内に記載してあるように、各セル１２内のテスト構造の特性を計測する。ある実施形態では、１つの特性のみを計測し、他の実施形態では、様々な特性を計測する。実施形態によっては、計測すべき特性は、基板１４の処理が終わるまでは選択せず、他の実施形態では、特性を基板の処理が終了する前に選択する。実施形態によっては、特性値の実際の変化は様々なパラメータの設定値によっては生じないことを見いだすためだけに１つ以上の特性を計測するのであって、この場合には、パラメータにより従属している様々な特性が選択され計測されている。

最後に、ブロック１１６内に記載してあるように、特性とパラメータとの間の１つ以上の相関を展開する。ある実施形態では、相関は入力としてのパラメータの値を出力としての特性の値に関連付ける。他の実施形態では、相関は入力としてのパラメータの値を、計測された特性が期待される、又は望まれる特性の値に調和する度合いに関連づける。

相関を展開した後には、その相関を様々なレシピに対してプロセスパラメータを設定するために使用したり、又は現在の処理装置を使って設定または測定することが難しいパラメータまたは特性に対する相関を推定するために使用したりするといったような、多くの付加のステップを実行することができる。

ある実施形態では、前記方法の多数のステップを特定の装置を使用して達成する。例えば、フォトリソグラフィプロセスでは、基板１４を露光ツールを使用して処理する。ドーピングプロセスでは、基板１４は注入装置を用いて処理する。従って、そのステップは、機械が実施形態によって異なっていても、特定の機械を使用して実行される。加えて、処理する際に、処理機械は基板１４を物理的に変形する。もし物理的な変形が起こらなければ、処理後に計測する特性は存在し得ない。

さらに、前記特性は特定の機械を用いて測定する。測定する特性が線幅であると、その機械は光学装置であるか、物理的なプロファイラである。前記特性が屈折率であると、その機器は偏光解析器である。加えて、実施形態によっては、パラメータと特性との間の相関を展開するためにコンピュータ（または処理装置）を使用する。従って、本発明による方法は、一連のメンタルなステップだけで実施することできず、特定の機械の使用を含むことが不可欠である。

ここで一般的に例示した方法を実施することにより、パラメータと興味のある特性との間の相関をとって、基板１４の処理中に該基板に固有の交絡の影響を実質上なくす。例えば、テストマトリクス１０の偏心度は、基板１４の片側から反対側までに、プロセスで固有の問題で所与の特性に段階的な変化をもたらす交絡影響をなくす傾向にある。図１の従来のテストマトリクスを使用すると、そのような段階的な変化は、その次元において増加するパラメータの値の変化と交絡することになる。しかしながら、図２に例示したような本発明による偏心テストマトリクスを使用すると、そのような交絡因子は、パラメータと特性との間で展開される相関から実質上除去される。

特性と興味のあるパラメータとの間の改善された相関の使い方の１つは、製品基板からの計測学データから抽出した特性情報をフォーカス及びドーズ量等のリソグラフィの露光パラメータに転用して、改良された数学モデルの構造にて用いる用い方である。これは、結局、リソグラフィプロセス中の制御を良好にすることになる。

前述した本発明の好適な実施形態の記述は、例示目的のために提示した。網羅的であることや、本発明を開示した正確な形態に限定することを意図したものではない。上記の記述を認識することにより、明白な変更やバリエーションを行うことができる。実施形態は、発明の原理及びその実際の応用を図示する最良のものを提供すべく努力して選択及び記述されており、それによって当業者に、発明を様々な実施形態で、意図する特定の用途に適合する様々な変更を加えて利用できるようにしている。公平に、法的に及び公平に権利を認められる幅に従って解釈されたときに、添付の特許請求の範囲で画定する、そのような変更やバリエーションのすべては本発明の範囲に属する。

前述した本発明の好適な実施形態の記述は、例示目的のために提示した。網羅的であることや、本発明を開示した正確な形態に限定することを意図したものではない。上記の記述を認識することにより、明白な変更やバリエーションを行うことができる。実施形態は、発明の原理及びその実際の応用を図示する最良のものを提供すべく努力して選択及び記述されており、それによって当業者に、発明を様々な実施形態で、意図する特定の用途に適合する様々な変更を加えて利用できるようにしている。公平に、法的に及び公平に権利を認められる幅に従って解釈されたときに、添付の特許請求の範囲で画定する、そのような変更やバリエーションのすべては本発明の範囲に属する。
本発明は、以下の適用例としても実現可能である。
［適用例１］
プロセスを特徴付ける方法であって、該方法は、
特徴付けすべき前記プロセスを選択するステップと、
特徴付けすべき前記プロセスのパラメータを選択するステップと、
テストマトリクスで使用する前記パラメータの値を決定するステップと、
前記テストマトリクスの偏心度を特定するステップと、
基板上のセル内に作成すべきテスト構造を選択するステップと、
前記プロセスを通じて、前記偏心テストマトリクスにより決定されるような、前記パラメータの値を、各セルに用いて前記基板を処理するステップと、
前記セル内の前記テスト構造の特性を計測するステップと、
前記パラメータと前記特性との間の相関を展開するステップと
を含む方法。
［適用例２］
２つのパラメータを選択する、適用例１に記載の方法。
［適用例３］
２つより多くのパラメータを選択する、適用例１に記載の方法。
［適用例４］
前記プロセスはフォトリソグラフィプロセスである、適用例１に記載の方法。
［適用例５］
前記プロセスはフォトリソグラフィプロセスであり、２つのパラメータを選択し、前記２つのパラメータはフォーカス及び露光である、適用例１に記載の方法。
［適用例６］
前記パラメータの２つの値のみを決定する、適用例１に記載の方法。
［適用例７］
前記パラメータの少なくとも３つの値を決定する、適用例１に記載の方法。
［適用例８］
前記偏心度は前記テストマトリクスをランダムな順序で順序付ける、適用例１に記載の方法。
［適用例９］
前記偏心度は前記テストマトリクスを疑似ランダムな順序で順序付ける、適用例１に記載の方法。
［適用例１０］
多数のパラメータを選択し、これらパラメータの値のユニークな組み合わせで各セルを処理する、適用例１に記載の方法。
［適用例１１］
前記テスト構造は線幅を含む、適用例１に記載の方法。
［適用例１２］
１つより多い特性を計測する、適用例１に記載の方法。
［適用例１３］
前記特性は線幅を含む、適用例１に記載の方法。
［適用例１４］
前記相関は、入力変数としての前記パラメータを、出力変数としての前記特性に相関させる多項式である、適用例１に記載の方法。
［適用例１５］
前記パラメータと前記特性との間の前記相関は、前記特性が、該特性の所望値にどれほど近いかを示す、適用例１に記載の方法。
［適用例１６］
フォトリソグラフィプロセスを特徴付ける方法であって、該方法は、
テストマトリクスで使用するフォーカス及び露光の値を決定するステップと、
前記テストマトリクスに対して、ランダム及び疑似ランダムな偏心度の１つを特定するステップと、
基板上のセル内に作成すべき線幅を持つテスト構造を選択するステップと、
前記フォトリソグラフィプロセスを通じて、前記偏心テストマトリクスによって決定されるような前記フォーカス及び前記露光の値の組み合わせを前記各セルに用いて前記基板を処理するステップと、
前記セル内の前記テスト構造の前記線幅を計測するステップと、
入力変数としての前記フォーカス及び露光の値を、出力変数としての前記線幅に相関させる多項式を展開するステップと、
を含む方法。
［適用例１７］
前記テストマトリクスに、前記フォーカス及び露光以外のパラメータを使用する、適用例１６に記載の方法。
［適用例１８］
前記各フォーカス及び露光の３つの値のみを決定する、適用例１６に記載の方法。
［適用例１９］
パラメータと特性との間の相関は、前記特性が、該特性の所望値にどれほど近いかを示す、適用例１６に記載の方法。
［適用例２０］
前記各セルを、フォーカス及び露光のパラメータの値のユニークな組み合わせで処理する、適用例１６に記載の方法。

Claims (20)

1. プロセスを特徴付ける方法であって、該方法は、
   特徴付けすべき前記プロセスを選択するステップと、
   特徴付けすべき前記プロセスのパラメータを選択するステップと、
   テストマトリクスで使用する前記パラメータの値を決定するステップと、
   前記テストマトリクスの偏心度を特定するステップと、
   基板上のセル内に作成すべきテスト構造を選択するステップと、
   前記プロセスを通じて、前記偏心テストマトリクスにより決定されるような、前記パラメータの値を、各セルに用いて前記基板を処理するステップと、
   前記セル内の前記テスト構造の特性を計測するステップと、
   前記パラメータと前記特性との間の相関を展開するステップと
   を含む方法。
2. ２つのパラメータを選択する、請求項１に記載の方法。
3. ２つより多くのパラメータを選択する、請求項１に記載の方法。
4. 前記プロセスはフォトリソグラフィプロセスである、請求項１に記載の方法。
5. 前記プロセスはフォトリソグラフィプロセスであり、２つのパラメータを選択し、前記２つのパラメータはフォーカス及び露光である、請求項１に記載の方法。
6. 前記パラメータの２つの値のみを決定する、請求項１に記載の方法。
7. 前記パラメータの少なくとも３つの値を決定する、請求項１に記載の方法。
8. 前記偏心度は前記テストマトリクスをランダムな順序で順序付ける、請求項１に記載の方法。
9. 前記偏心度は前記テストマトリクスを疑似ランダムな順序で順序付ける、請求項１に記載の方法。
10. 多数のパラメータを選択し、これらパラメータの値のユニークな組み合わせで各セルを処理する、請求項１に記載の方法。
11. 前記テスト構造は線幅を含む、請求項１に記載の方法。
12. １つより多い特性を計測する、請求項１に記載の方法。
13. 前記特性は線幅を含む、請求項１に記載の方法。
14. 前記相関は、入力変数としての前記パラメータを、出力変数としての前記特性に相関させる多項式である、請求項１に記載の方法。
15. 前記パラメータと前記特性との間の前記相関は、前記特性が、該特性の所望値にどれほど近いかを示す、請求項１に記載の方法。
16. フォトリソグラフィプロセスを特徴付ける方法であって、該方法は、
    テストマトリクスで使用するフォーカス及び露光の値を決定するステップと、
    前記テストマトリクスに対して、ランダム及び疑似ランダムな偏心度の１つを特定するステップと、
    基板上のセル内に作成すべき線幅を持つテスト構造を選択するステップと、
    前記フォトリソグラフィプロセスを通じて、前記偏心テストマトリクスによって決定されるような前記フォーカス及び前記露光の値の組み合わせを前記各セルに用いて前記基板を処理するステップと、
    前記セル内の前記テスト構造の前記線幅を計測するステップと、
    入力変数としての前記フォーカス及び露光の値を、出力変数としての前記線幅に相関させる多項式を展開するステップと、
    を含む方法。
17. 前記テストマトリクスに、前記フォーカス及び露光以外のパラメータを使用する、請求項１６に記載の方法。
18. 前記各フォーカス及び露光の３つの値のみを決定する、請求項１６に記載の方法。
19. パラメータと特性との間の相関は、前記特性が、該特性の所望値にどれほど近いかを示す、請求項１６に記載の方法。
20. 前記各セルを、フォーカス及び露光のパラメータの値のユニークな組み合わせで処理する、請求項１６に記載の方法。

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