JP2016510062A

JP2016510062A - （２ｓ，５ｒ）−２−カルボキシアミド−７−オキソ−６−スルホオキシ−１，６−ジアザ−ビシクロ［３．２．１］オクタンのナトリウム塩のためのプロセス

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Publication number: JP2016510062A
Application number: JP2015560790A
Authority: JP
Inventors: スニルヴィシュヌバグワングプタ; スニルバージナスジャダフ; ヴィプルラネ; プラサッドケシャブデシュパンデ; サティシュバブサー; ラヴィンドラダッタトラヤイエオール; マヘッシュヴィタルブハイパテル
Original assignee: Wockhardt Ltd
Current assignee: Wockhardt Ltd
Priority date: 2013-03-08
Filing date: 2013-10-12
Publication date: 2016-04-04
Anticipated expiration: 2033-10-12
Also published as: CA2904089C; BR112015021240A2; RU2015142826A; NZ711326A; JP6253676B2; US20160016955A1; RU2632192C2; US9567335B2; EP3013829A1; AU2013380573A1; AU2013380573A8; KR101763056B1; WO2014135930A1; KR20150122238A; CN105143226A; MX2015011723A; AU2013380573B2; CA2904089A1

Abstract

（２Ｓ，５Ｒ）−２−カルボキシアミド−７−オキソ−６−スルホオキシ−１，６−ジアザ−ビシクロ［３．２．１］オクタンのナトリウム塩を調製するためのプロセスであって、式（ＩＩＩ）の化合物を得るための式（ＩＩ）の化合物のアミド化を含む上記プロセスが開示されている。

Description

関連特許出願
本出願は、２０１３年３月８日に出願され、その開示があたかも本明細書に完全に書き換えられたかのように全体として参照により本明細書に組み込まれているインド特許出願第７１８／ＭＵＭ／２０１３号の利益を主張する。その明細書に引用されている特許、特許出願、及び文献を含めた全ての参考文献は、明確にそれら全体として参照により本明細書に組み込まれている。
本発明は、（２Ｓ，５Ｒ）−２−カルボキシアミド−７−オキソ−６−スルホオキシ−１，６−ジアザ−ビシクロ［３．２．１］オクタンのナトリウム塩の調製のためのプロセスに関する。

（２Ｓ，５Ｒ）−２−カルボキシアミド−７−オキソ−６−スルホオキシ−１，６−ジアザ−ビシクロ［３．２．１］オクタンのナトリウム塩として化学的に知られている式（Ｉ）の化合物は、抗細菌性を有している。式（Ｉ）の化合物は、また、アビバクタム又はＮＸＬ−１０４として知られており、米国特許第７，１１２，５９２号に開示されている。

１つの一般的態様において、式（Ｉ）

の化合物の調製のためのプロセスであって、
（ａ）式（ＩＩＩ）の化合物を得るために式（ＩＩ）の化合物をアミド化剤と反応させるステップと、

（ｂ）式（ＩＶ）の化合物を得るために式（ＩＩＩ）の化合物を水素化分解するステップと、

（ｃ）式（Ｖ）の化合物を得るために式（ＩＶ）の化合物をスルホン化するステップと、

（ｄ）式（Ｖ）の化合物を式（Ｉ）の化合物に変換するステップと、
を含む、上記プロセスが提供される。
本発明の１つ又は複数の実施形態の詳細が、以下の記述の中に示されている。本発明のその他の特徴、目的及び有利な点は、特許請求の範囲を含めた以下の記述から明らかとなろう。

図１はＸ線粉末回折パターンを示す図である。

例示的な実施形態に対する言及がこれからなされ、特定の言葉がその実施形態を説明するために本明細書では使用される。それにもかかわらず、それにより本発明の範囲の限定が意図されることはないことが理解されるべきである。従来の技術に熟達している者及びこの開示の所有権を有している者には心に浮かぶであろう本明細書に説明されている本発明の特徴の変更及びさらなる修正、並びに本明細書で説明されているような本発明の原理のさらなる応用は、本発明の範囲内と考えられるべきである。本明細書及び添付の特許請求の範囲で使用されるとき、単数形「１つの（ａ）」、「１つの（ａｎ）」、及び「その（ｔｈｅ）」は、その文脈が別なふうにはっきりと指示していない限り、複数の指示対象を含むことに留意しなければならない。本明細書に引用されている特許、特許出願、及び文献を含めた全ての参考文献は、あたかも本明細書に完全に書き換えられたかのように明確にそれら全体として参照により本明細書に組み込まれている。
用語「ＨＯＢｔ」は、本明細書で使用されるとき、１−ヒドロキシベンゾトリアゾールを指す。
用語「ＥＤＣ」は、本明細書で使用されるとき、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミドを指す。

１つの一般的態様において、式（Ｉ）

（ｄ）式（Ｖ）の化合物を式（Ｉ）の化合物に変換するステップと、
を含む、上記プロセスが提供される。

式（ＩＩＩ）の化合物は、式（ＩＩ）の化合物を適切なアミド化剤と反応させることによって得られる。いくつかの実施形態において、このアミド化剤は、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾール：アンモニア錯体を含む。いくつかの他の実施形態において、式（ＩＩＩ）の化合物は、式（ＩＩ）の化合物を１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミドヒドロクロリド及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾールの存在下で１−ヒドロキシベンゾトリアゾール：アンモニア錯体と反応させることによって得られる。このアミド化反応は、適切な溶媒中で行うことができる。いくつかの実施形態において、このアミド化反応は、反応溶媒としての水の中で行われる。いくつかの実施形態において、式（ＩＩＩ）の化合物は、アンモニア溶液の存在下で、式（ＩＩ）の化合物を１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミドヒドロクロリド及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾールと反応させることによって得られた。

式（ＩＶ）の化合物は、式（ＩＩＩ）の化合物の水素化分解によって得られる。その水素化分解反応は、適切な水素化分解剤を使用して行うことができる。いくつかの実施形態において、式（ＩＶ）の化合物を得るための式（ＩＩＩ）の化合物の水素化分解は、遷移金属触媒及び水素源の存在下で行われる。いくつかの他の実施形態において、遷移金属触媒は、パラジウム炭素であり、水素源は水素ガスである。いくつかの他の実施形態において、その水素化分解反応は、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及びジクロロメタンの混合物（１：１の容積比）のような適切な溶媒の存在下で行われる。いくつかの実施形態において、式（ＩＶ）の化合物を得るための式（ＩＩＩ）の化合物の水素化分解は、溶媒としてのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：ジクロロメタン混合物（１：１の容積比）中、水素ガスの下で１０％のパラジウム炭素触媒を使用して行われる。

式（Ｖ）の化合物は、式（ＩＶ）の化合物をスルホン化することによって得られる。そのスルホン化反応は適切な溶媒の存在下で行うことができる。いくつかの実施形態において、式（Ｖ）の化合物を得るための式（ＩＶ）の化合物のスルホン化は、式（ＩＶ）の化合物を三酸化硫黄−Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド錯体と反応させ、その後酢酸テトラブチルアンモニウムの１０％水溶液により処理することによって行われる。

式（Ｖ）の化合物は、適切な試薬の存在下で式（Ｉ）の化合物に変換される。いくつかの実施形態において、式（Ｖ）の化合物は、式（Ｖ）の化合物を２−エチルヘキサン酸ナトリウムと反応させることによって式（Ｉ）の化合物に変換される。

いくつかの実施形態において、式（Ｉ）の化合物は、スキーム１に記載されているプロセスを使用して調製される。

別の一般的な態様において、本発明によるプロセスは、ＨＰＬＣにより測定して少なくとも９７％の純度を有する式（Ｉ）の化合物の調製をもたらす。

いくつかの実施形態において、８．６９（±０．２）、９．６５（±０．２）、１１．２２（±０．２）、１２．４４（±０．２）、１３．０１（±０．２）、１６．４８（±０．２）、１７．４８（±０．２）、１８．５８（±０．２）、１９．３５（±０．２）、２０．８９（±０．２）、２２．２７（±０．２）、２５．０３（±０．２）、２６．０７（±０．２）、２８．１４（±０．２）、２９．７４（±０．２）、３４．２８（±０．２）、３６．０１（±０．２）、及び３７．１８（±０．２）度２シータからなる群から選択されるピークを含むＸ線粉末回折パターンを有する式（Ｉ）の化合物が提供される。

スキーム−１

いくつかの実施形態において、式（Ｉ）の化合物は、図１に示されているものと実質的に同じＸ線粉末回折パターンを有する。

さまざまな置き換え及び修正が、本発明の範囲及び精神から逸脱することなく本明細書に開示される本発明になされ得ることは当業者には容易にわかるであろう。例えば、当業者であれば、本発明は記載された一般的記述の範囲内のさまざまな異なる化合物を使用して実施され得ることがわかるであろう。

以下の例は、現在最もよく知られた本発明の実施形態を説明する。しかしながら、以下は本発明の原理の例示的な又は説明のための適用にすぎないことを理解されるべきである。多数の修正及び代替の組成物、方法、並びに系が、当業者により本発明の精神及び範囲から逸脱することなく考案され得る。添付の特許請求の範囲はそのような修正及び処理の範囲にわたることが意図されている。かくして、本発明は特殊性と共に上に記載されているが、以下の例は、最も現実的で好ましい本発明の実施形態であると現在考えられることに関連してさらなる詳細を提供している。

（例１）
（２Ｓ，５Ｒ）−硫酸モノ−｛２−カルボキシアミド−７−オキソ−１，６−ジアザ−ビシクロ［３．２．１］オクタンのナトリウム塩の調製
ステップ−１：（２Ｓ，５Ｒ）−２−カルボキシアミド−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザ−ビシクロ［３．２．１］オクタンの調製：

方法−１：
出発化合物（（２Ｓ，５Ｒ）−ナトリウム６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザ−ビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキシレート、式（ＩＩ）の化合物）は、インド特許出願第６９９／ＭＵＭ／２０１３号に開示されている手順に従って調製された。磁気撹拌機を備えた１００ｍｌの丸底フラスコに、（２Ｓ，５Ｒ）−ナトリウム６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザ−ビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキシレート（１０．０ｇ、０．０３３ｍｏｌ）を、続いて新たに調製したＨＯＢｔ．アンモニア錯体（１０．０ｇ、０．０６６ｍｏｌ）、ＥＤＣヒドロクロリド（９．６２ｇ、０．０５０ｍｏｌ）及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（４．５１ｇ、０．０３３ｍｏｌ）を仕込んだ。この固体の混合物に、水（３０ｍｌ）を約３５℃で添加し、撹拌を開始した。沈殿が３０分後に起こった。その反応混合物を、約３５℃でさらに２０時間撹拌した。ジクロロメタン（１５０ｍｌ）をその懸濁液に添加し、その反応塊をそのまま１０分間撹拌した。層を分離した。水性層をさらなるジクロロメタン（５０ｍｌ）で洗浄した。合わせた有機層を、真空下で蒸発させ、残渣（２１ｇ）を得た。その残渣を、アセトン（２１ｍｌ）で３０分間撹拌し、吸引下で濾過して、約４５℃での真空下の乾燥後、白色固体として（２Ｓ，５Ｒ）−２−カルボキシアミド−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザ−ビシクロ［３．２．１］オクタンを、５．５ｇの量の６０％の収率で得た。

分析
H¹NMR (DMSO-d₆)
7.35 -7.45 (m, 6H), 7.25 (bs, 1H), 4.89 - 4.96 (dd, 2H), 3.68 (d, 1H), 3.62 (s, 1H), 2.90 (s, 2H), 2.04 - 2.07 (m, 1H), 1.70-1.83 (m, 1H), 1.61-1.66 (m, 2H).
MS (ES+) C₁₄H₁₇N₃O₃ = 276.1 (M+1)
純度：ＨＰＬＣにより測定して９３．９５％。
比旋光度：［α］²⁵ _D−８．５１°（ｃ０．５％、ＣＨＣｌ₃）

方法−２：
別法では、上記の化合物は、以下のプロセスを使用して調製された。磁気撹拌機を備えた５０ｍｌの丸底フラスコに、水（１５ｍｌ）中の（２Ｓ，５Ｒ）−ナトリウム６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザ−ビシクロ［３．２．１］オクタン−２−カルボキシレート（１ｇ、０．００３ｍｏｌ）の溶液、続いて撹拌下の３５℃で、ＥＤＣヒドロクロリド（１ｇ、０．００５ｍｏｌ）及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（０．３９ｇ、０．００３ｍｏｌ）を仕込んだ。その反応塊を、白色の懸濁液を得るために１時間撹拌した。この時点で、アンモニア水（２ｍｌ、容積当たり４０質量％）を撹拌下で添加した。その反応混合物をさらに５時間撹拌した。その懸濁液を濾過し、さらなる水（１０ｍｌ）で洗浄し、４５℃の真空下で乾燥後、０．２１ｇ量の（２Ｓ，５Ｒ）−２−カルボキシアミド−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザ−ビシクロ［３．２．１］を得た。
ステップ−２：（２Ｓ，５Ｒ）−２−カルボキシアミド−６−スルホオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザ−ビシクロ［３．２．１］オクタンのテトラブチルアンモニウム塩の調製：
パールシェーカーボトル（Parr shaker bottle）に、（２Ｓ，５Ｒ）−２−カルボキシアミド−６−ベンジルオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザ−ビシクロ［３．２．１］オクタン（７．０ｇ、０．０２５ｍｏｌ）を、続いてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとジクロロメタンの１：１の混合物（３５ｍｌ：３５ｍｌ）を仕込んだ。その透明な溶液に、１０％パラジウム炭素（１．７５ｇ）を添加し、そして水素圧を５０ｐｓｉまでかけた。その懸濁液を、３５℃で３時間振盪した。その触媒を、その反応混合物をセライト床（celite bed）により濾過することによって除去した。その触媒床を、ジクロロメタン（３０ｍｌ）で洗浄した。合わせた濾液は、４０℃未満の真空下で蒸発させ、油状の残渣を得た。その油状の残渣（４．７２ｇ）を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３５ｍｌ）に溶解し、その透明な溶液に、三酸化硫黄．ＤＭＦ錯体を撹拌下の１０℃で１回で添加した。その混合物を、さらに２時間３５℃でそのまま撹拌した。ＴＬＣが完全な変換を示したとき、酢酸テトラブチルアンモニウムの１０％水溶液（９．４４ｇ、０．０３１ｍｏｌ、３０ｍｌの水中）を、撹拌下で添加し、その反応混合物を終夜撹拌し、次いで温度が４０℃を超えないロータリーエバポレーターに基づく高真空蒸留にかけ、残渣を得た。キシレン（５０ｍｌ）をその残渣に添加し、ＤＭＦの痕跡が除去されるように同様に蒸発させた。かくして得られた乾燥残渣を、水（７０ｍｌ）と共に撹拌し、ジクロロメタンで抽出した（７０ｍｌ×２）。合わせた有機抽出物を、硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を４０℃未満の真空下で蒸発させ、粗生成物として７ｇの量で油状の残渣を得た。それを、メチルイソブチルケトン（２１ｍｌ）と共に約３５℃で３０分間撹拌し、（２Ｓ，５Ｒ）−２−カルボキシアミド−６−スルホオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザ−ビシクロ［３．２．１］オクタンのテトラブチルアンモニウム塩としての５．９ｇの量の白色固体を純粋な形で４６％の収率で得た。

分析
NMR: (CDCl₃)
6.63 (s, 1H), 5.48 (s, 1H), 4.34 (br s, 1H), 3.90 (d, 1H), 3.27-3.40 (m, 9H), 2.84 (d, 1H), 2.38 (dd, 1H), 2.21-2.20 (m, 1H), 1.60-1.71 (m, 12H), 1.40-1.50 (m, 8H), 1.00 (t, 12H).
ＭＳ（ＥＳ−）Ｃ₇Ｈ₁₀Ｎ₃Ｏ₆Ｓ．Ｎ（Ｃ₄Ｈ₉）₄＝遊離のスルホン酸として２６４．０（Ｍ−１）。
純度：ＨＰＬＣにより測定して９８．９８％。
比旋光度：［α］²⁵ _D −３０．９９°（ｃ０．５％、ＭｅＯＨ）

ステップ−３：（２Ｓ，５Ｒ）−２−カルボキシアミド−６−スルホオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザ−ビシクロ［３．２．１］オクタンのナトリウム塩の合成
磁気撹拌機を備えた１００ｍｌの丸底フラスコに、（２Ｓ，５Ｒ）−２−カルボキシアミド−６−スルホオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザ−ビシクロ［３．２．１］オクタンのテトラブチルアンモニウム塩（５．５ｇ、０．０１０８ｍｏｌ）、続いてエタノール（２８ｍｌ）を仕込み、約３５℃での撹拌下で透明な溶液を得た。この反応混合物に、エタノール（２８ｍｌ）中に溶解した２−エチルヘキサン酸ナトリウム（３．６ｇ、０．０２１ｍｏｌ）の溶液を撹拌下で１回で添加し、沈殿をもたらした。この懸濁液を、さらに２時間撹拌し、約３５℃で完全な沈殿を達成した。その反応混合物を吸引下で濾過し、そのウェットケーキをアセトンで洗浄した（３０ｍｌ×２）。そのウェットケーキを、真空下の４０℃で乾燥し、白色固体として（２Ｓ，５Ｒ）−２−カルボキシアミド−６−スルホオキシ−７−オキソ−１，６−ジアザ−ビシクロ［３．２．１］オクタンのナトリウム塩を２．６ｇの量での８３％の収率で得た。

分析
H¹NMR (DMSO-d₆)
7.39 (s, 1H), 7.24 (s, 1H), 3.98 (s, 1H), 3.68 (d, 1H), 3.02 (d, 1H), 2.92 (d, 1H), 2.00-2.10 (m, 1H), 2.80-2.90 (m, 1H), 1.55-1.70 (m, 2H).
ＭＳ（ＥＳ−）Ｃ₇Ｈ₁₀Ｎ₃Ｏ₆ＳＮａ＝遊離のスルホン酸として２６４．０（Ｍ−１）。
純度：ＨＰＬＣにより測定して９７．９８％。
比旋光度：［α］²⁵ _D−４９．３７°（ｃ０．５％、水）
粉末Ｘ線ディフラクトグラム：（度２シータ）：
８．６９（±０．２）、９．６５（±０．２）、１１．２２（±０．２）、１２．４４（±０．２）、１３．０１（±０．２）、１６．４８（±０．２）、１７．４８（±０．２）、１８．５８（±０．２）、１９．３５（±０．２）、２０．８９（±０．２）、２２．２７（±０．２）、２５．０３（±０．２）、２６．０７（±０．２）、２８．１４（±０．２）、２９．７４（±０．２）、３４．２８（±０．２）、３６．０１（±０．２）、及び３７．１８（±０．２）。

典型的なＸ線分析は、以下のようにして実施した。試験物質を、ふるい＃１００ＢＳＳに通すか、又は乳鉢と乳棒でそれを優しくこすり回してすりつぶす。その試験物質を一面に空洞表面を有する試料保持器上に均一に置き、その試料を押圧し、スライドガラスを使用して試料の表面が平らでむらがないように薄い均一なフィルムに切断する。Ｘ線回折図を以下の装置パラメーターを使用して記録する。

Claims

式（Ｉ）

の化合物の調製のためのプロセスであって、
（ａ）式（ＩＩＩ）の化合物を得るために式（ＩＩ）の化合物をアミド化剤と反応させるステップと、

（ｂ）式（ＩＶ）の化合物を得るために式（ＩＩＩ）の化合物を水素化分解するステップと、

（ｃ）式（Ｖ）の化合物を得るために式（ＩＶ）の化合物をスルホン化するステップと、

（ｄ）式（Ｖ）の化合物を式（Ｉ）の化合物に変換するステップと、
を含む、上記プロセス。
アミド化剤が、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾール：アンモニア錯体を含む請求項１に記載のプロセス。
式（ＩＩＩ）の化合物を得るための式（ＩＩ）の化合物のアミド化が、溶媒としての水の存在下で行われる請求項１に記載のプロセス。
式（ＩＶ）の化合物を得るための式（ＩＩＩ）の化合物の水素化分解が、遷移金属触媒及び水素源の存在下で行われる請求項１に記載のプロセス。
遷移金属触媒が、パラジウム炭素であり、水素源が、水素ガスである請求項４に記載のプロセス。
式（ＩＶ）の化合物を得るための式（ＩＩＩ）の化合物の水素化分解が、反応溶媒としてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及びジクロロメタン（容積比１：１）の存在下で行われる請求項４又は５に記載のプロセス。
式（Ｖ）の化合物を得るための式（ＩＶ）の化合物のスルホン化が、式（ＩＶ）の化合物を三酸化硫黄−Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド錯体と反応させ、続いて酢酸テトラブチルアンモニウムの１０％水溶液による処理によって行われる請求項１に記載のプロセス。
式（Ｖ）の化合物が、式（Ｖ）の化合物の２−エチルヘキサン酸ナトリウムとの反応によって式（Ｉ）の化合物に変換される請求項１に記載のプロセス。
請求項１から８までのいずれか１項に従って得られ、そしてＨＰＬＣにより測定して少なくとも９７％の純度を有する式（Ｉ）の化合物。
８．６９（±０．２）、９．６５（±０．２）、１１．２２（±０．２）、１２．４４（±０．２）、１３．０１（±０．２）、１６．４８（±０．２）、１７．４８（±０．２）、１８．５８（±０．２）、１９．３５（±０．２）、２０．８９（±０．２）、２２．２７（±０．２）、２５．０３（±０．２）、２６．０７（±０．２）、２８．１４（±０．２）、２９．７４（±０．２）、３４．２８（±０．２）、３６．０１（±０．２）、及び３７．１８（±０．２）度２シータからなる群から選択されるピークを含むＸ線粉末回折パターンを有する式（Ｉ）の化合物。