JP2016169146A - 雑音最適化ガラス系コーティングで被覆された基板及びかかるコーティングの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】被覆された基板、好ましくは雑音最適化ガラス系コーティングを含むガラス又はガラスセラミックの被覆された基板装飾の提供。【解決手段】０．０８ｍ／ｓの速度で鍋を変位する間に、内部で受ける１ｋｇの質量の重量及び１７ｃｍのスタンド底部の直径を有する、シラルガン焙焼鍋２０ｃｍＡｃｃｅｎｔｏ型のシリット社製のエナメル底部を有するスチールホーロー鍋を使用している間に、装飾で被覆された外形寸法５００×５５０ｍｍ２を有する基板上でＤＩＮ４５６３１／Ａ１：２０１０−０３及びＤＩＮ４５６９２：２００９−０８に従って測定された、好ましくは、３アキューム未満のシャープネス及び／又は７ソーン未満のラウドネスを有する、雑音最適化されたガラス系装飾を含む、前記基板。【選択図】なし

Description

本発明は、被覆された基板、好ましくは雑音最適化ガラス系コーティングを含むガラス又はガラスセラミックの被覆された基板に関する。本発明はまた、基板、好ましくはガラス又はガラスセラミックの基板の、雑音最適化ガラス系コーティングによる被覆方法に関する。本発明はさらに、基板、好ましくはガラス又はガラスセラミックからなる基板の表面に雑音最適化コーティングを生成するためのガラス系コーティングの使用にも関する。

ガラスセラミック又は特殊ガラスのクックトップは、一部は審美的な理由のために、一部は様々な調理機器製造業者の差別化のために、一部は調理領域のマーキングを必要とする特定の法定規定のために、それらの表面でデザインされ着色されている。クックトップでの高温のために、特に調理領域における、約７００℃までの高温のために、加熱システム及び加熱状況に応じて、着色されたデザインのために、エナメルベースの色又はエナメル装飾のみが適している。

クックトップ表面上のエナメルベースの装飾は、不快なものとして考えられている鍋やフライパンなどの調理器具の変位から生じる雑音に関して、不利であることが見出されている。この問題は、例えば、導入ベースであるだけでなく、様々な方法で加熱される、いわゆる可変クックトップの設計に特に関連があり、その際、全く固定されていない調理領域の位置は定義されていないが、調理器具の自由に選択可能な調理位置への選択的な変位が可能である。これまでは、通常、円形の調理領域の囲みによって調理器具のスペースをマークする、予め規定された調理領域が存在していた。このような設計により、これらの調理領域から外側に加熱電力を生成することができなかったので、ユーザには、調理器具を変位させる理由がなかった。しかしながら、可変クックトップの場合、従来技術よりも大きな領域は、色／パターンの装飾によってマークし、そこに１つ以上の任意のサイズの鍋を選択的に配置して加熱することができる。可変クックトップの下に、例えば、幾つかの誘導コイルが提供されており、好ましくは、多くの小さなコイル、しかしながら、少なくとも２つのコイルは、柔軟に一緒に結合でき且つ全可変領域又は領域の一部のみを加熱できる。幾つかの小さな鍋又は小さな及び大きな鍋又は焙煎鍋が加熱されるかどうかに応じて、それぞれの加熱要素が相互接続されている。可変クックトップはまた、様々な加熱設計、例えば、照射加熱によって得られる及び／又は様々な加熱システムの組み合わせによって加熱できる。調理器具の配置の可能性においてこのような変化は、ユーザが調理器具をより頻繁に変位することにつながり、これはクックトップ上の装飾による上記の雑音の原因となる。

従来技術では、ガラス又はガラスセラミックの基板のコーティングのための装飾をデザインする際に、これまで以下の課題は、
− 転写されるべき基板（例えば、ゼロ伸長ガラスセラミック）との化学的／物理的適合性；
− 処理機能（準備、インプリント、基板等のセラミック化プロセスと組み合わせた焼成）、
− 調理器具製造業者の色／審美的要求；
− 耐摩耗性、耐熱性、密着性、インプリント基板の機械的強度、化学的に攻撃的な物質に対する抵抗性、洗浄性などの複数の性能特性を満たすこと
を対象としていた。

特に、これまで性能特性「洗浄性」及び「耐摩擦性」の最適化に関して、開発は、粗さの低い装飾を目的としていた。

従って、特開第２００７１０１１３４号公報及び特開第２０１４０３７９２６号公報は、改善された装飾の清浄性と装飾の粗さに関する特性との間の関係を提供している。特開第２００３２１７８１１号公報及び特開第２００４１７０７５４号公報によれば、改善された清浄性は別として、装飾の光学特性、例えば、光散乱及び透過も強調されている。独国特許第１０３３８１６５Ａ１号から、選択的に調整された粗さ特性による鍋底材料の小さな摩耗、その結果として、低下した装飾の汚染しやすさにつながる装飾が知られている。独国特許第１０２００４００２７６６Ａ１号によれば、熱的、化学的及び研磨の性質の複数の利点は、装飾の小さな粗さ特性に起因している。

増加した粗さの選択的な調整は、調理分野の使いやすさを簡素化しなければならない触覚設計構造の開発の枠内で行われる。これは独国特許第１０２０１１１１５３７９Ａ１号明細書に記載されている。

独国特許第１０２０１３１０２２２１Ａ１号から、更に、ガラス又はガラスセラミック基板上の特に耐スクラッチ性アモルファス及び透明トップコーティングが、特に低い表面粗さを有することが知られている。本明細書では、利点は、特に、クックトップ表面の機械的なスクラッチ感度の低下にある。

しかしながら、上記の文献のいずれにおいても、調理器具の変位時の雑音発生に関する調査が記載されていない。これまで、調理器具の変位時、特に表面構造の更なるトポグラフ的なデテールも含む場合の雑音の発生に関して、クックトップ、作業面又は同様に使用される表面上の装飾又は層の粗さ値に関する調査は全く知られていない。

これを考慮すると、本発明の課題は、実質的に音響心理学的特性の不快感が低減されるように、調理器具の変位の間の雑音の発生が変更される、被覆された基板、好ましくは、特に、特殊ガラス又はガラスセラミッククックトップとして適した、ガラス系の装飾を含む、ガラス又はガラスセラミックの被覆された基板を開示することである。

この課題は、被覆された基板、好ましくは、雑音最適化ガラス系装飾、好ましくは、１７ｃｍのスタンド底部の直径及び０．０８ｍ／ｓの速度で鍋を変位する間に、内部で受ける１ｋｇの質量を有する、シラルガン焙焼鍋２０ｃｍＡｃｃｅｎｔｏ型のシリット社製のエナメル被覆された底部を有するスチールホーロー鍋を利用する間に、装飾で被覆された５００ｍｍ×５５０ｍｍの外形寸法を有する基板上でＤＩＮ ４５６３１／Ａ１：２０１０−０３及びＤＩＮ ４５６９２：２００９−０８に従って測定された、３アキューム未満のシャープネス及び／又は７ソーン未満のラウドネスを有する、雑音最適化ガラス系装飾を含む、ガラス又はガラスセラミックの被覆された基板によって解決される。

このような新品同様の状態で使用された、シラルガン焙焼鍋Ａｃｃｅｎｔｏ型の鍋は、シリット社（独国）によって販売されている。これは、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ６５０７−１による６３５±５０ＨＶ０．１／１０のビッカース硬度及びＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ４２８８：１９９８による０．２〜０．９μｍの間の粗さＲａ、１７ｃｍのスタンド底部の直径、８．５ｃｍの高さ、上部リムで２０ｃｍの内径及び１．６ｋｇの空重量を有するエナメル底を有する。

不快なものとしてユーザに認識されない通常の速度で調理器具を変位させる際に、雑音の最適化を生じさせるクックトップを提供できるように基板が被覆されていることが判明した。

本発明の好ましい開発によれば、シャープネスは３アキューム未満であり、また、ラウドネスは７ソーン未満である。

このようなシャープネス及びこのようなラウドネスにより、ガラスセラミックの誘導調理面上での調理器具の変位を、特に、不快感なしに雑音低減できることが見出された。

前述の特徴なしに独立して特許可能である、本発明の更なる開発によれば、その装飾表面にて装飾で被覆された基板は、白色光干渉顕微鏡によって測定された粗さの量、０．１μｍよりも小さい１０ｍｍ^−１〜２０ｍｍ^−１の範囲のｒｍｓ（ｒｍｓ_{１０ｍｍ−１．．．２０ｍｍ−１}＜０．１μｍ）、好ましくはｒｍｓ_{１０ｍｍ−１．．．２０ｍｍ−１}＜０．０５μｍ、特に好ましくはｒｍｓ_{１０ｍｍ−１．．．２０ｍｍ−１}＜０．０２μｍ、及び粗さの量、０．４５μｍよりも小さい２０ｍｍ^−１〜５０ｍｍ^−１の範囲のｒｍｓ（ｒｍｓ_{２０ｍｍ−１．．．５０ｍｍ−１}＜０．０４５μｍ）、好ましくはｒｍｓ_{２０ｍｍ−１．．．５０ｍｍ−１}＜０．０３μｍ、特に好ましくはｒｍｓ_{２０ｍｍ−１．．．５０ｍｍ−１}＜０．０１５μｍを有する。

このような表面形状によって変位雑音のシャープネスを特に低減することが判明した。

以下に説明するような、ＤＩＮ４７６８によって従来技術で測定された粗さの特徴Ｒｚ及びＲａとシャープネスとの相関は、見出すことができなかった。しかしながら、上記の粗さ特性を用いて、シャープネスとの相関は作ることができる。特にシャープネスは、不快な雑音感を決定する。

これらの粗さ比率を最適化することによって、装飾に、聴力感覚”シャープネス”に関して良い影響を与えることができる。

本発明の更なる開発によれば、コーティングは、好ましくは、ケイ酸塩ガラス、ホウケイ酸ガラス、亜鉛ケイ酸塩ガラス、ホウ酸亜鉛ガラス、ホウケイ酸亜鉛ガラス、ホウケイ酸ビスマスガラス、ホウ酸ビスマスガラス、ビスマスケイ酸塩ガラス、リン酸塩ガラス、リン酸亜鉛ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、又はリチウムアルミノケイ酸塩ガラスに基づく焼成ガラスフリットからなる。

基本的に、上記のような、様々な装飾ガラスは、基板上の雑音最適化された装飾を提供するために、又は上記のトポグラフ的な特徴ｒｍｓ_{１０ｍｍ−１．．．２０ｍｍ−１}及びｒｍｓ_{２０ｍｍ−１．．．５０ｍｍ−１}を、それぞれ得るために利用することができる。

本発明の更なる開発によれば、ガラスフリットは、追加した顔料、充填剤及び／又は構造生成粒子を含有する。

特に、顔料の追加は、クックトップ上の境界の生成と商標表示などの製造業者固有の仕様にとって望ましい。本明細書では、特に顔料の追加は、可能性をもたらすコントラストと色のかなりの増加につながる。

特に、構造生成粒子の追加は、特にガラス球内において、本発明の別の変形において、音響信号として利用され得る調整可能なシャープネス及びラウドネスを有することが要求される特定の雑音につながり得る。本明細書では、特に、注目を集めるために大きなシャープネスを有する雑音を生成することができるが、この雑音は、ユーザの不必要な刺激を避けるために、従来技術の装飾と比較して「より静か」である（即ち、低下したラウドネスを有する）。

好ましくは、基板は、ガラス又はガラスセラミック、特にＬＡＳガラスセラミックから構成されている。ＬＡＳガラスセラミックは、好適な組成及び特定の温度領域におけるセラミック化にてゼロに近づき得る強力に低減された熱膨張を有するリチウムアルミノケイ酸塩ガラス（部分的に、リチウム−アルミニウム−ケイ酸塩ガラスセラミックとしても設計されている）として理解されている。例えば、出願人は、出願のために商標Ｃｅｒａｎ（登録商標）の下で、ＬＡＳガラスセラミックを、クックトップと共に製造し、販売している。

本発明による被覆された基板は、特に、可変調理面に適しており、特に、適切なコイル配置によって、自由な変位を可能にする及び／又は自由に選択可能な調理器具の変位可能性を有する、可変誘導調理面に適している。本明細書では、可変調理面は、任意のサイズの１つ以上の調理鍋を選択的に配置して加熱できる、少なくとも１つの領域を有する調理面として理解されている。特に、これは、好ましくは、可変調理面、例えば、複数の誘導コイルの下に、好ましくは多くの小さな、しかしながら、少なくとも２つのコイルが配置されることで実現され、これらは独立して相互接続でき且つ全可変領域を又はその一部の範囲のみを加熱できる。しかしながら、可変調理表面は、異なる加熱システム、例えば、照射加熱によって及び／又は異なる加熱システムの組み合わせによって得ることもできる。

本発明の更なる構成によれば、装飾は、少なくとも以下の成分を（酸化物基準の重量パーセントで）含むベースガラスのガラスフラックスを含む：

本明細書では、ベースガラスは、好ましくは、少なくとも１質量％の、特に好ましくは少なくとも２質量％のＡｌ_２Ｏ_３を含み得る。

本発明の更なる開発によれば、ベースガラスは、少なくとも１質量％、好ましくは少なくとも５質量％のＢ_２Ｏ_３を含む。

本発明の更なる開発によれば、ベースガラスは、少なくとも１質量％の、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、Ｌｉ_２Ｏ、及びそれらの混合物からなる群から選択されるアルカリ酸化物を含む。

更に、ベースガラスは、少なくとも１質量％の、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＳｒＯ、ＺｎＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、及びそれらの混合物からなる群から選択される酸化物を含み得る。

また、装飾は、少なくとも以下の成分を（酸化物基準で重量％で）含むベースガラスのガラスフラックスを含み得る：

基板の被覆は全表面で実施され得る。しかしながら、基本的に、基板の３％〜１００％の表面の一部のみが、その表面で装飾によって被覆されている。

更に、本発明は、低いシャープネス及びラウドネスを有する雑音最適化されたガラス系装飾を含む、基板、好ましくはガラス又はガラスセラミックの基板、特に可変調理面のための、特に好ましくは、ガラスセラミックの可変誘導調理面のための装飾方法であって、ガラスフリットを１０ナノメートル〜５０マイクロメートル、好ましくは２０ナノメートル〜２０マイクロメートル、特に好ましくは２〜１０マイクロメートルのＤ９０の粒径に粉砕し、分散剤と混合し、実質的に凝集物を含まないように均一化し、その後、基板の表面に適用して焼き付け、好ましくは、被覆された基板が、０．０８ｍ／ｓの速度で鍋を変位する間に、受ける１ｋｇの質量及び１７ｃｍのスタンド底面の直径を有するシラルガン焙焼鍋２０ｃｍＡｃｃｅｎｔｏ型のシリット社製のエナメル底部を有するスチールホーロー鍋を利用して、装飾で被覆された５００×５５０ｍｍの外形寸法を有する基板上でＤＩＮ４５６３１／Ａ１：２０１０−０３及びＤＩＮ４５６９２：２００９−０８に従って測定された、３アキューム未満のシャープネス及び／又は７ソーン未満のラウドネスを有する、前記装飾方法によって解決される。

新品同様の状態で使用された、このようなシラルガン焙焼鍋Ａｃｃｅｎｔｏ型の鍋は、シリット社（独国）によって市販されている。これはＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ６５０７−１による６３５±５０ＨＶ０．１／１０のビッカース硬度及びＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ４２８８：１９９８による０．２〜０．９μｍの間の粗さＲａ、１７ｃｍのスタンド底面の直径、８．５ｃｍの高さ、２０ｃｍの上部リムでの内径及び１．６ｋｇの空の重量を有する。

このような方法を用いて、特に、ガラスセラミック製の可変誘導調理面を製造でき、これは検出された変位雑音に関して最適化されていることが見出された。

更に好ましい開発によれば、本明細書では、装飾は、白色光干渉顕微鏡によって測定された表面の粗さ量ｒｍｓが、０．１マイクロメートルよりも小さい１０ｍｍ^−１．．．２０ｍｍ^−１の範囲（ｒｍｓ_{１０ｍｍ−１．．．２０ｍｍ−１}＜０．１μｍ）、好ましくはｒｍｓ_{１０ｍｍ−１．．．２０ｍｍ−１}＜０．０５μｍ、特に好ましくはｒｍｓ_{１０ｍｍ−１．．．２０ｍｍ−１}＜０．０２μｍであり、０．０４５マイクロメートルよりも小さい２０ｍｍ−１〜５０ｍｍ−１の範囲の粗さ量ｒｍｓ（ｒｍｓ_{２０ｍｍ−１．．．５０ｍｍ−１}＜０．０４５μｍ）、好ましくはｒｍｓ_{２０ｍｍ−１．．．５０ｍｍ−１}＜０．０３μｍ、特に好ましくはｒｍｓ_{２０ｍｍ−１．．．５０ｍｍ−１}＜０．０１５μｍであるように仕上げられている。

燃焼中のガラスフラックスが、このような粗さ量が生じるように調整されると、この方法で、調理器具の変位の間の変位雑音が不快なものとして検知されないように、調理面のシャープネスを十分に小さく維持することができる。

本発明の更に好ましい開発によれば、ガラスフリットの粉砕及び均質化は、実質的に２０マイクロメートル超の凝集物が存在しないように、好ましくは１０マイクロメートル未満の凝集物、特に５マイクロメートル未満の凝集物が存在するように実施される。

これに関して、「実質的になし」とは、かかる凝集物の体積占有率が１％よりも小さい、好ましくは０．１％よりも小さい、特に好ましくは０．０１％よりも小さいことと理解されている。

特に、凝集物の回避は、実際に、小さなシャープネス及び小さなラウドネスを達成し、調理器具の変位の間の検出された雑音を可能な限り小さく維持することを達成することが判明した。

ガラスフリットの粉砕にとって更に好ましいのは乾式粉砕法であり、特に球粉砕、ジェット粉砕、カウンタ粉砕、又は空気粉砕が好ましい。特に篩いと組み合わせた乾燥アトライターによる粉砕は、凝集物のない小さな粒子の分配を得るのに好ましい。

特に、乾式粉砕によって、その後の乾燥で湿式粉砕を用いる場合に生じる凝集物を回避できることが判明した。特に、製造した装飾と共に凹凸を含まない可能な限り平滑な表面が重要であるため、乾式粉砕法は、凝集物に起因する表面の望ましくない粒子を回避するのに特に適している。

本発明の更なる開発によれば、追加の材料、特に顔料、充填剤及び／又は構造付与粒子は、それと一緒に混合されて均質化される。

充填剤として、特にＳｉＯ_ｘ粒子、酸化アルミニウム粒子、発熱ケイ酸、石灰炭酸水素ナトリウム粒子、アルカリアルミノケイ酸塩粒子、ポリシロキサン球、ホウケイ酸ガラス球及び／又は中空ガラス球が考慮されている。

顔料として、特に、金属酸化物として構成された色付与顔料、特に、コバルト酸化物／スピネル、コバルトアルミニウムスピネル、コバルトアルミニウム亜鉛酸化物、コバルトアルミニウムケイ素酸化物、コバルトチタンスピネル、コバルトクロムスピネル、コバルトアルミニウムクロム酸化物、コバルトニッケルマンガン鉄クロム酸化物／スピネル、コバルトニッケル亜鉛チタンアルミニウム酸化物／スピネル、クロム鉄ニッケルマンガン酸化物／スピネル、コバルト鉄クロム酸化物／スピネル、ニッケル鉄クロム酸化物／スピネル、鉄マンガン酸化物／スピネル、酸化鉄、鉄クロム酸化物、鉄クロム亜鉛チタン酸化物、銅クロムスピネル、ニッケルクロムアンチモンチタン酸化物、チタン酸化物、ジルコニウムケイ素鉄酸化物／スピネルを混合することができる。顔料として、好ましくは吸収顔料として、特に板状又はピン状の顔料として被覆された効果顔料が利用されており、これらは個別の顔料として又は顔料混合物としてもガラスフリットに混合できる。

しかしながら、本発明者らは、雑音最適化された表面装飾を作り出すために、未溶融粒子が装飾の表面に含有されていないことが特に重要であることを見出した。本明細書では顔料及び充填剤は、装飾ガラスによって囲まれ／埋め込まれ、特に、装飾表面は顔料又は充填剤によって穿孔されていない。溶融プロセスの間の顔料及び充填剤は、液体ガラスフリットで十分に湿潤しているので、例えば、装飾表面の***又は窪みにつながる顔料／充填剤の浮き上がりが回避される。このため、好ましくは、粉砕後のガラスフリットに対して、最大２０質量％、好ましくは最大１０質量％、更に好ましくは最大７質量％、特に好ましくは最大５質量％の顔料及び充填剤が混合される。

特に、顔料が、通常の装飾の溶融過程中にガラス溶融物内に溶解しない部分的に高融点成分であるため、このように、顔料及び追加の添加剤の適切な制限により、装飾表面上での調理器具の変位の間にラウドネス又はシャープネスに悪影響を及ぼす***が装飾の表面に存在しないことを保証することができる。ここでは、好ましくは顔料、充填剤及び更なる添加剤の添加が完全に省略されている。

しかしながら、所望の色のために、顔料の添加は、高い割合であっても絶対に必要であり、従って、本発明の更に好ましい開発によれば、顔料及び場合により更なる充填剤が最初にガラスフラックスと一緒に溶融し、その後、ガラスフリットを得るために粉砕されて、装飾がガラス表面上に施される。着色は、本明細書では、ガラスフリットの滑らかな流れ後の装飾の焼き付けプロセスの間に着色体の結晶化によって生成し、その際、結晶は、主に、表面ではなく装飾層内で生成し、従って、ガラスフラックス内に埋め込まれている。

このように、特に、高い割合の色付与顔料も、ガラスフラックス内に完全に溶解し、基板表面での装飾の溶融の間もその後も、雑音の発生に悪影響を及ぼし得る、非溶融粒子を表面に残すことなく、それと統合することができる。

装飾を基板表面上に施すために、好ましくは、液体コーティング法、特に、スクリーン印刷、インクジェット印刷、オフセット印刷、圧力印刷、タンポン印刷、スプレー印刷、ディップコーティング、切り取り印刷法、ナイフ塗布、フラッディング、スピンコーティングを使用することができる。

特に、スクリーン印刷によるコーティングは、大量生産に適した方法であり、その際、１センチ当たり１００〜１４０スレッドのサイズを有するスクリーンが好ましい。実質的に凝集物のないカラーペーストの均質化を得るために、好ましくは、圧延機又は分散混練機を使用してもよい。

適用後、装飾を、好ましくは６００℃〜１２００℃の範囲の温度で、好ましくは１分から４時間までの時間で焼き付ける。

本明細書では、焼成温度は、好ましくは、できる限り粒子が突出しない非常に滑らかな表面に対して装飾の滑らかで均質な溶融が起こるように、基板に合わせて調整されている。本明細書では、好ましくは、焼成温度及び時間は、装飾の組成に合わせて調整されている。装飾の焼成は、通常、基板の軟化温度を下回る温度で起こるが、グレーズの溶融及び基板表面との緊密な結合を確保するのに十分に高い。

装飾を施した後、これは好ましくは、焼成前に高められた温度（例えば、１５０〜２００℃）で乾燥される。

それぞれの基板は、２０〜３００℃の範囲で７×１０^−６／Ｋ以下、好ましくは６．５×１０^−６／Ｋ以下、更に好ましくは５×１０^−６／Ｋ以下、特に好ましくは−１×１０^−６／Ｋ〜４．５×１０^−６／Ｋの範囲の熱膨張係数を有する、透明、色透明、半透明又は不透明なガラス又はガラスセラミックであってよい。特に好ましくはＬＡＳ（リチウムアルミニウムケイ酸塩）ガラスセラミックが使用されている。基板の厚さは０．１〜４０ｍｍ、好ましくは１〜１０ｍｍ、特に好ましくは３〜６ｍｍである。

本発明の好ましい開発では、ガラスセラミック、特にＬＡＳガラスセラミックは、装飾が未焼成のガラス状態で施された基板として使用され、その後、装飾が焼成され、同時に、未焼成ガラスがセラミック化される。「未焼成ガラス」は、ガラスセラミックがセラミック化プロセスによって生じるガラスに関する一般的な用語であることが留意されるべきである。従って、「未焼成ガラス」との用語は、特定のガラス／ガラスセラミック色に限定されるものではない。

このように、特に有効な生産が確保されている。また、装飾とガラス表面との緊密な結合も確保され、焼成プロセスによる基板の有害な変形が回避される。

本明細書における同時の焼成及びセラミック化の場合、好ましくは、８５０〜１２００℃、好ましくは９００〜１１５０℃の温度範囲が使用され、その際、時間は、通常、５〜２４０分、好ましくは１０〜６０分、特に好ましくは１０〜３０分である。

あるいは、装飾がセラミック化状態で施された後に、装飾が焼き付けられる基板として、ガラスセラミック、特にＬＡＳガラスセラミックを使用することも可能である。

装飾の焼き付けが、既にセラミック化したガラスセラミック上で行われる場合、焼成温度は、通常、より低いので、好ましくは、１〜２４０分、好ましくは２〜１２０分の時間にわたり、６００〜１２００℃、好ましくは７００〜９００℃の温度が使用される。

最終的に、本発明はまた、１７ｃｍのスタンド底部の直径及び０．０８ｍ／ｓの速度で鍋を変位する間に、内部で受ける１ｋｇの質量を有する、シラルガン焙焼鍋２０ｃｍＡｃｃｅｎｔｏ型のシリット社製のエナメル被覆された底部を有するスチールホーロー鍋を利用する間に、装飾で被覆された５００ｍｍ×５５０ｍｍの外形寸法を有する基板上でＤＩＮ ４５６３１／Ａ１：２０１０−０３及びＤＩＮ ４５６９２：２００９−０８に従って測定された、低いシャープネス及びラウドネス、特に３アキューム未満のシャープネス及び／又は７ソーン未満のラウドネスを有する、可変クックトップ、特に可変誘導調理面に特に適切な、ガラス又はガラスセラミックの基板表面上に雑音最適化されたコーティングを生成するためのガラス系装飾の使用も開示している。

最終的には、装飾は、好ましくは、白色光干渉顕微鏡によって測定された、０．１マイクロメートルよりも小さい_{１０ｍｍ−１．．．２０ｍｍ−１}の範囲の粗さ量ｒｍｓ（ｒｍｓ_{１０ｍｍ−１．．．２０ｍｍ−１}＜０．１μｍ）、好ましくはｒｍｓ_{１０ｍｍ−１．．．２０ｍｍ−１}＜０．０２μｍ、及び０．０４μｍよりも小さい２０ｍｍ^−１〜５０ｍｍ^−１の範囲の粗さ量ｒｍｓ（ｒｍｓ_{２０ｍｍ−１．．．５０ｍｍ−１}＜０．０４μｍ）、好ましくはｒｍｓ_{２０ｍｍ−１．．．５０ｍｍ−１}＜０．０１５μｍを有するコーティングの生成に使用される。

前述の特徴及びその後に記載されるべき特徴は、本発明の範囲から逸脱することなく、所定の組み合わせで使用できないだけでなく、様々な組み合わせでも又は別々でも使用できないことが理解されている。

本発明の更なる特徴及び利点は、図面を参照しながら、好ましい実施態様の次の説明から導き出すことができる。

使用される測定方法
装飾で被覆された基板の心理音響特性、即ち、表面上での調理器具の変位の間のヒトの雑音感は、２つのパラメータ、シャープネス及びラウドネスによって記載される。

パラメータシャープネスの実験的な測定は、ＤＩＮ ４５６９２：２００９−０８、聴感シャープネスの技術的測定シミュレーションに記載されている：高いシャープネス及び高いラウドネスは、通常、不快なものとして感知される。ラウドネスの測定は、ＤＩＮ ４５６３１／Ａ１：２０１０−０３に従って行った。

心理音響パラメータの詳細な記録は、本明細書では以下の方法に従って行う：

研究されるべき装飾がインプリントされた、外形寸法５００ｍｍ×５５０ｍｍ及び厚さ４ｍｍを有する調理面は、同じ寸法を有するゴム被覆金属フレーム上に配置される。本明細書における金属フレーム及びゴム用途の設計は、実質的に、与えられた指示に従って、例えば、保持装置に関してＤＩＮ５２３０６に従って行われる。フレームとプレートは、本明細書では、例えば、フリースカバーを使用することによって、音響振動に関して更なる保持装置から可能な限り離れて分離されている。

シリット社のエナメル底面を有する新品同様の状態のスチールホーロー鍋、１７ｃｍのスタンド底面の直径を有するシラルガン焙焼鍋２０ｃｍＡｃｃｅｎｔｏは、内側に付着する１ｋｇの質量の金属材料によって更にバラストされている。新品同様の状態では、鍋が、以下に記載されるべき実験手順の５０未満の検査サイクルを受けたことが理解されるべきである。

このような新品同様の状態で使用された、シラルガン焙焼鍋Ａｃｃｅｎｔｏ型の鍋は、シリット社（独国）によって市販されている。これはＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ６５０７−１による６３５±５０ＨＶ０．１／１０のビッカース硬度及びＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ４２８８：１９９８による０．２〜０．９μｍの間の粗さＲａ、１７ｃｍのスタンド底面の直径、８．５ｃｍの高さ、２０ｃｍの上部リムでの内径及び１．６ｋｇの空の重量のエナメル底を有する。

鍋は、自転せずに装飾された調理面にわたって環状に導かれ、その際、円形の中心から鍋底の中心まで測定された円の半径は２６ｍｍである。円運動の周波数は標準化された０．５Ｈｚ（表では「遅い」と示される）であり、場合により、二重周波数（１Ｈｚ）が使用され（表では「高速」）、これは、それぞれ、通常、調理面の日常の使用で生じるなどの、約０．０８ｍ／ｓ又は０．１６ｍ／ｓの変位速度に相当する。

あるいは、０．５Ｈｚの周波数及び５０ｍｍの変位経路で直線運動も使用した（約０．１ｍ／ｓ）。雑音録音は、記載された基準に従って行われ、その際、レベルの記録は、クックトップの中心より７００ｍｍ上方に垂直に吊り下げされているマイクを使用して行われる。雑音録音の分析のために、１０秒の連続録音時間を使用する。完全な実験の設定は、雑音孤立室及び雑音吸収室内である。また、より小さな基板表面（直径：２５０ｍｍ×３８０ｍｍ、厚さ４ｍｍ）が調査され；本明細書では、寸法とは無関係に、より小さなラウドネスの値であるが、同様のシャープネスの値が得られた。別に示されない限り、ラウドネスの値（特に特許請求の範囲内）は、常に最大面５００ｍｍ×５５０ｍｍを指す。

装飾で被覆された基板の比較評価の場合、音響特性への影響を測定するために、装飾表面の形状データが使用され、即ち、白色光干渉顕微鏡によって測定された粗さ値Ｒａ、Ｒｚ（ＤＩＮ４７６８参照）が使用された。

しかしながら、これらの値は、聴感を妨害するのに重要な心理音響パラメータと相関しないが、その代わりに、形状のより詳細な説明を必要とすることが見出された。

別の言い方をすれば、これは装飾で被覆された基板の騒音最適化表面を得るために、低い値のＲａ及びＲｚを有するものとして先行技術に記載された装飾を利用するのに十分ではない。

心理音響値と相関する新規な粗さパラメータを測定するために、白色光干渉顕微鏡を使用すると、ステッチング（横解像度０．８μｍ）により３．１２ｍｍ×３．１１ｍｍの表面上にトポグラフィー値が得られた。

白色光干渉顕微鏡分析は、ザイゴコーポレーション製のＮｅｗＶｉｅｗ ２００ ＣＨＲ型の白色光干渉顕微鏡を用いて行った。評価のために、Ｗｉｎｄｏｗｓ ＸＰ ＳＰ ３の下で３２ビットソフトウェアＭｅｔｒｏＰｒｏバージョン８．３．５を使用した。

測定／出力値のパラメータを以下のように決定した：
− 光学パラメータ：５０倍レンズ、ズーム倍率０．５倍、カメラ：３２０×２００画像ポイント→分解能０．８μｍ、
− ３．１２ｍｍ×３．１１ｍｍの表面上の表面のトポグラフィー値を測定するために、いわゆる「ステッチング」を使用した（個々の（より小さな）トポグラフィー記録と一緒にストリンギングする）、即ち、次のパラメータ：列１５、行２０、オーバーラップ２０％を用いた。このことから３９００±２０行及び列を有するトポグラフデータ（わずかに補正されたパラメータの選択又は少数の行／列にわたる平均化又はより小さな測定ウィンドウ［しかしながら、少なくとも１ｍｍ］の利用は調査の結果に有意な影響を与えるべきではない）。

測定されたトポグラフデータから、いわゆるパワースペクトル密度関数（ＰＳＤ）を計算することができる。この値は、例えば、基準ＩＳＯ１０１１０−８：２０１０（Ｅ）内で定義されている。トポグラフデータが、ｚ＝ｚ（ｘ，ｙ）で高さプロフィールを記載する場合、（行又は列）ＰＳＤ関数は、それぞれ、次のように定義されている。

表面の粗さ値は、ＰＳＤ１Ｄ，ｘ及びＰＳＤ１Ｄ，ｙについて、実質的に確率的性質であり、実質的に同じ値が得られるため、ＰＳＤの３９００±２０行及び３９００±２０列
にわたって平均化することによって、再び全平均
を再び構成することができる。

トポグラフィーのｒｍｓ粗さについてパーセバルの定理に基づいて、ＰＳＤ関数との以下の関係が得られる：

それに応じて、任意の周波数範囲について「粗さ量」を決定することができる（空間周波数の空間において、空間周波数はそれぞれの波長の逆数に相当する：ｆｘ〜１／λｘ）：

合計粗さｒｍｓは、それに応じて、「粗さ量」から計算することができる：

未被覆基板表面が既に長波範囲において不規則な粗さを有しているので、最初に長波粗さ成分を分析（周波数＜１ｍｍ^−１）のために濾過した。広いスペクトル範囲にわたって得られたトポグラフィーから、粗さのスペクトル密度（パワースペクトル密度、ＰＳＤ）−ｘ軸及びｙ軸にわたる平均−を表示することができる。装飾表面が、上記の測定における表面（３．１ｍｍ×３．１ｍｍ）よりも小さくなければならない場合、代わりにより小さい表面を使用して測定された値も使用できる。しかしながら、本明細書では、ＰＳＤ関数の平均化が、上記のものと同等である統計総人口全体で行われることが重要である（即ち、少なくとも２×３９００＝７８００ラインプロフィール全体の平均化）。

１０ｍｍ^−１〜２０ｍｍ^−１の間の粗さの量及び２０ｍｍ^−１〜５０ｍｍ^−１の間の粗さの量、即ち、ｒｍｓ（１０ｍｍ^−１．．．２０ｍｍ^−１）及びｒｍｓ（２０ｍｍ^−１．．．５０ｍｍ^−１）は、聴感シャープネスの値と相関し得る。

これらの粗さのパラメータを最適化することによって装飾に聴感シャープネスに関して良い影響を与えることができる。

本発明による基板の装飾及びコーティングの調製
本発明による装飾は、焼き付けたセラミックカラーに基づいている。セラミックカラーは、とりわけ、顔料、充填剤、構造生成粒子と混合され得る、ガラスフラックスからなる。

装飾の焼き付けは、通常、基板の軟化範囲を下回っているが、グレーズの溶融と基板の表面との緊密な結合を確保するのに十分に高い温度で行われる。グレーズを調製する可能性の１つは、溶融及び冷却後に粉砕される、ガラスフラックスとも呼ばれる、ガラス原料のガラスへの溶融にある。粉砕生成物はガラスフリットと呼ばれる。このようなガラスフリットは、通常、例えば、適切な添加剤、例えば、エナメル質粉末の適用を助ける働きをする、懸濁剤と混合される。

従来技術の装飾では、色付与顔料は、通常、粉砕されたガラスフリットに混合され、それと一緒に均質化される。

しかしながら、雑音最適化装飾の製造のために、色付与顔料などの添加の回避、又は最大１０質量％などの特定の量への限定は、それぞれ、特に有利であることが見出された。あるいは、また顔料は、ベースガラスと一緒に溶融して、ガラスフリットに粉砕することができる。それから調製された装飾は、フリット調製後に初めて顔料が混合された、比較の組成物の装飾よりも有利なラウドネス及びシャープネスの値を示した。

ガラスフリットを粉砕するために、異なる乾式及び湿式粉砕技術、例えば、球面グラインダー、ジェットグラインダーを利用することができる。特に、粉砕の間の粉砕物の凝集を（大幅に）回避するために、カウンタ粉砕、空気粉砕又は蒸気ジェット粉砕などの乾式粉砕プロセスが好ましい。特に、シフターと組み合わせた乾燥球グラインダーによる粉砕は、凝集体なしでタイトな粒子分布を得ることが好ましい。

以下において、グレーズの好ましい成分が更に詳細に説明される。以下の表１及び表２において、装飾として使用され得る、即ち、ガラス又はガラスセラミック基板のコーティングのための、様々なガラス組成物が示されている。

ガラスフリットとして、好ましくは、以下のガラスの種類、例えば、遊離アルカリ及びアルカリ含有ガラス、ケイ酸塩ガラス、ホウケイ酸ガラス、亜鉛ケイ酸塩ガラス、ホウ酸亜鉛ガラス、ホウケイ酸亜鉛ガラス、ホウケイ酸ビスマスガラス、ホウ酸ビスマスガラス、ビスマスケイ酸塩ガラス、リン酸塩ガラス、リン酸亜鉛ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、リチウムアルミノケイ酸塩ガラスが使用される。焼成条件及びキャリア材料（基板）に応じて、当業者は、特に、調整されたグレーズ厚さで、グレーズガラスの溶融開始又は溶融がそれぞれ確保されるように、適切なグレーズガラスを選択する。これは、例えば、ガラスの粘度値Ｔ_ｇ及びＥ_ｗが焼成温度よりも低いことを意味する。好ましくは、焼成温度は、軟化温度を少なくとも１００℃上回り、好ましくは少なくとも１５０℃上回り、更に好ましくは少なくとも２００℃上回る。焼成の時間は、使用される温度プラグラムに応じて、１分から数時間の間であってよい。

基板上の焼き付けたセラミック装飾の層厚さは、０．５μｍ〜５０μｍの間、好ましくは１μｍ〜２０μｍの間、特に好ましくは１μｍ〜７μｍの間であってよい。装飾は、グリッド、パターン、文字、記号等の構造装飾として、全面に又は局所的に、適用されてよく、単層として又は互いに横に並ぶ及び／又は互いに上に並ぶ複数の装飾として配置され得る。

続いて、試料コーティングに使用された複数の装飾パターンを図１〜４に示す。

また、基板表面上の装飾の他に、特に透明基板を有する装飾も底面に存在し得る。これらの装飾は、例えば、セラミック、ゾルゲル、シリコン、ポリマーベース、及び／又は金属酸化物／金属層であってよく、個別に並びに組み合わせて使用され得る。底面上の装飾も、グリッド、パターン、文字、記号等の構造化装飾として、全面に又は局所的のみ存在することができ、個々の層として又は互いに横に並ぶ又は互いに上に並ぶ複数の装飾として存在してもよい。

装飾の適用は、好ましくは、液体コーティング法、例えば、スクリーン印刷、インクジェット印刷、オフセット印刷、タンポン印刷、スプレー法、ディップコーティング、ロールコーティング、ナイフ塗布、フラッディング、スピンコーティングを使用して行われるだけでなく、切り取り印刷法によっても行うことができる。必要な、通常の有機添加剤は、装飾の焼き付け時に蒸発する。

基板として、好ましくは、ガラス及び／又はガラスセラミックを含む又はそれらからなる材料が使用される。基本的に、基板は、それぞれ、複合材料又は強化材料若しくは繊維強化材料からなることもできる。

基板は、更なるコーティングと混合されてよく及び／又は付加的な機能を果たし得る。例えば、基板は、化学的又は熱的に硬化されてよく及び／又は摩擦低減、抗スクラッチ、洗浄しやすさ等の機能性コーティングを含み得る。また、処理又は後処理、例えば、機械加工、例えば、研摩処理、研磨処理、又は化学的処理、例えば、エッチングも除外されない。基板は、好ましくは上面上の装飾領域の外側に、例えば、ボーリング、局所的凸部又は凹部を含有し得る。

結果
音響特性を試験する際に、ラウドネスの測定時に測定された基板プレートのサイズが重要であることが判明した。２５０×３８０ｍｍ^２のサイズの小プレートは、５００×５５０ｍｍ^２の通常使用されるプレートよりも小さなラウドネスの値を示す。対照的に、シャープネスの測定時に、小プレートと大プレートは測定誤差の範囲内で同じ結果につながる。

表３において、小プレート（２５０×３８０ｍｍ^２）の測定の結果をまとめる。表３による例において表面占有率は１００％であり、従って、図１〜４による特別なパターンは、それぞれの色がパターンの影響とは無関係に試験されるように選択されなかった。

焼き付け色２、３及び５の比較は、０．２０μｍ及び０．２１μｍのＲａ値の比較で、それぞれ、著しく異なる音響特性を示す。１．０２μｍの非常に高いＲａ値を有する色４は、ラウドネスに対して色２、色３、色５よりも有意に低い。

しかしながら、粗さ量ｒｍｓ（１０．．．２０ｍｍ^−１）（μｍ）及びｒｍｓ（２０．．．５０ｍｍ^−１）（μｍ）はシャープネス値と相関する。ラウドネスに対して並びにシャープネスに対して色６は最良の値を示すことが分かった。また、ｒｍｓ（１０．．．２０ｍｍ^−１）及びｒｍｓ（２０．．．５０ｍｍ^−１）のそれぞれの値は、０．０１７８μｍ及び０．００４８μｍで非常に低い、それらと相関する。また、色１、色８及び特に色１０は許容可能であると見なされなければならない。

顔料のサイズから、パラメータを導くことはできない。そのため、色の音響特性は、同等又は類似の粗さ値Ｒａの観点からでも、著しく異なっていた。

更に、占有値（表面占有率）、即ち、３％〜１００％の範囲で、基板表面の何パーセントが装飾で覆われていたかは、音響特性に強い影響を与えない。色とは無関係に、小さい占有値を有する装飾でも、例えば、１００％の同じ色で被覆された装飾よりも悪く評価された。ここで、この表面占有率において、シャープネスに関する値は、約０．２アキューム変化し、ラウドネスに関して約１ソーン変化する。従って、記載は３％〜１００％の広範囲の表面占有率にわたり有効である。

焼き付け色の層厚さは１〜１０μｍの間であった。

表４において、５００×５５０ｍｍ^２のサイズのプレート上で実施された雑音分析がまとめられた。本明細書では、以下の標準偏差が、より多くの分析の評価のために適用される：ラウドネス約１０ソーン；シャープネス約０．１〜０．２アキューム。本明細書では、異なる表面占有率（３％〜５０％）を有する異なるパターンも使用された。また、異なる速度の動きが与えられている。「ゆっくり」を指した動きは、０．０８ｍ／ｓを有する上記の動きに相当するが、「速い」動きは、０．１６ｍ／ｓを有する上記の動きに相当し、これはラウドネス及びシャープネスに関してより高い値をもたらす。

再び、色６は最良の結果を示す。

本明細書では、平均を組み合わせ、これらは４〜８のパターン（全てのパターン＞３％の占有率）からのラインパターンから計算したが、ポイントパターンは、パターン９〜１６（スチールホーロー鍋の利用）から計算した。

表５は、更なる例についての雑音分析の結果を示す。雑音分析のために、以下の標準偏差が、より多くの分析の評価に適用される：ラウドネス約１．０ソーン；シャープネス約０．１〜０．２アキューム；「速い」は０．１６ｍ／ｓの速度に相当し、「遅い」は０．０８ｍ／ｓの速度に相当し、標準は「遅い」。表５は、別の鍋（ここでは：スチールホーロー鍋と比較した際のステンレスホーロー鍋）で測定されたラウドネス及びシャープネスの値が、絶対値に関して異なるが、標準偏差の枠内のそれぞれの値の順番は変化しないことを明らかにする。このことから、クックトップの「雑音最適化」は、それぞれの鍋について「新たに」決定されてはならず、その代わりに、１つの鍋について集められた結果を、別の鍋を用いた状況に伝達することができ、この特許明細書の権利の範囲内では、「雑音最適化されたもの」として設計されたクックトップが全ての種類の鍋に関して「雑音最適化されたもの」として見られなければならないという結果になる。

例１０及び例１０ａは、特によく適しており、その際、顔料を全く混合しなかったが、それに反して、色体を焼成プロセスの間に（ガラスフリットの滑らかな流動後）装飾層内で結晶化させた。

図１は、異なる表面レイアウトを有する基板表面上の装飾パターンを示す。 図２は、異なる表面レイアウトを有する装飾用のスクリーン印刷パターンのための代替的な表面レイアウトを示す。 図３は、異なる表面レイアウトを有する正方形パターンでポイントパターンレイアウトの形状で装飾用のスクリーン印刷パターンの代替的な実施態様を示す。 図４は、異なる表面レイアウトでサブ化学量論的なグリッドパターンを有する装飾のための異なるスクリーン印刷パターンを示す。

実施例
実施例１（色８）
シフターを使用してアトライター（乾式）内で粉砕した５０ｇのガラスフリット（ガラスＣ（質量％での詳細：５８質量％ＳｉＯ_２、６質量％のＡｌ_２Ｏ_３、２０質量％のＢ_２Ｏ_３、６質量％のＲ_２Ｏ、１０質量％のＲＯ＋ＲＯ_２；Ｔ_ｇ＝４６０℃、Ｅ_ｗ＝６５０℃；Ｔ_ｇ＝転移温度及びＥ_ｗ＝軟化温度）、粒径Ｄ５０＝１．５μｍ、Ｄ９０＝４μｍ、凝集物なし）を、６０ｇのスクリーン印刷ペースト媒体と混合し、分散し、そして凝集物が存在しないように三ローラーミルを用いて均質化した。得られたペーストを、厚さ４ｍｍのリチウムアルミニウムケイ酸塩の未焼成ガラス上に適用し、透過的に着色した（１４０ファブリック、２５０×３８０ｍｍ^２上の全表面の装飾）。印刷された未焼成ガラスプレートを、同時に、炉内で焼き付けて、セラミック化した（Ｔ_ｍａｘ９３５℃、保持時間１０分）。このプレートのＲ_ａ値は０．２４μｍであった；ｒｍｓ _{１０ｍｍ−１．．．２０ｍｍ−１}：０．０９６μｍ、ｒｍｓ _{２０ｍｍ−１．．．５０ｍｍ−１}：０．０３５５μｍ；ラウドネス値は５．１ソーンであり、シャープネスの値は２．８アキュームであった。全く同様に調製された異なる未焼成ガラスプレートを、セラミック化プロセスの間もより低い最高温度（Ｔ_ｍａｘ８６０℃、保持時間１５分）で焼き付けた。このプレートのＲ_ａ値は０．１７μｍ；ｒｍｓ _{１０ｍｍ−１．．．２０ｍｍ−１}：０．１１μｍ、ｒｍｓ _{２０ｍｍ−１．．．５０ｍｍ−１}：０．０６８μｍであり、ラウドネスの値は５．８ソーンであり、且つシャープネスの値は３．１アキュームであった。ガラスフリットはここでも溶融するが、より低い最大温度のために、ラウドネス及びシャープネスの値が悪化した。

実施例２（色４）
色４の調製のために、シフターを有するアトライター（乾式）を使用して粉砕されたガラスフリット３５ｇ（ガラスＡ、質量％での詳細：５２％のＳｉＯ_２、１７％のＡｌ_２Ｏ_３、１９％のＢ_２Ｏ_３、４％のＲ_２Ｏ、８％のＲＯ＋ＲＯ_２、Ｔ_ｇ＝５８０℃、Ｅ_ｗ＝７５０℃）、粒径Ｄ５０＝１．５μｍ、Ｄ９０＝４μｍ）を、スクリーン印刷ペースト媒体６５ｇ及び４．５μｍの粒径の、均質な球形状を構造提供するメチルポリシロキサン粒子１５ｇと混合した。このペーストを、分散機を用いて１０分間均質化した。サイズ１４０のスクリーンを用いて、この色の点パターン１１及び１２の１つの層を、未焼成ガラス（５００ｍｍ×５５０ｍｍ、厚さ４ｍｍ）上にスクリーン印刷によって適用し、１８０℃で３０分間乾燥させた。焼成は約９００℃で未焼成ガラスのセラミック化と同時に行って、透明なガラスセラミックを得た。この焼き付けた装飾は、白っぽく、半透明で且つマットであった。Ｒ_ａ値は、両方のパターンで１．０２μｍ、ｒｍｓ １０ｍｍ^−１ _．．．２０ｍｍ^−１：０．３２μｍ、ｒｍｓ ２０ｍｍ^−１ _．．．５０ｍｍ^−１：０．５５μｍであった。ポイントパターン１１でのラウドネス及びシャープネスの値は：５ソーン及び３．６アキューム；ポイントパターン１２：５ソーン及び３．５アキュームであった。鍋移動時の雑音は非常にシャープであったが、静かになり、そして信号雑音として適用することができる。

実施例３（色６）
シフターを使用してアトライター（乾式）内で粉砕した５０ｇのガラスフリット（ガラスＡ、質量％での詳細：５２％のＳｉＯ_２、１７％のＡｌ_２Ｏ_３、１９％のＢ_２Ｏ_３、４％のＲ_２Ｏ、８％のＲＯ＋ＲＯ_２、Ｔ_ｇ＝５８０℃、Ｅ_ｗ＝７５０℃）、粒径Ｄ５０＝１．５μｍ、Ｄ９０＝４μｍ、凝集物なし）を、６０ｇのスクリーン印刷ペースト媒体と混合し、そして凝集物が存在しないように、三ローラーミルを用いて均質化した。得られるペーストを、既にセラミック化し、白みがかった、半透明の４ｍｍ厚さのガラスセラミック板上にスクリーン印刷（１４０スクリーン、２５０×３８０ｍｍ^２上の完全な表面装飾及び５００ｍｍ×５５０ｍｍ上のポイントパターン１１及び１２）によって適用し、その後、８５０℃で１時間焼き付けた。透明グレーズのＲ_ａ値は０．０７μｍ、ｒｍｓ _{１０ｍｍ−１．．．２０ｍｍ−１}：０．０１８μｍ、ｒｍｓ _{２０ｍｍ−１．．．５０ｍｍ−１}：０．００５μｍであった。全表面装飾されたプレートは、２ソーンのラウドネスと２．２アキュームのシャープネスを有していた。同等のシャープネスの値が、ポイントパターン１１及び１２でも得られた（ラウドネス２．５ソーン、シャープネス２．４アキューム）。

色６は、音響特性に関して有意に最良の結果を示した。また、ｒｍｓ値はそれに応じて低かった。

実施例４（色１０）
ガラスＡ（質量％での詳細：５２％のＳｉＯ_２、１７％のＡｌ_２Ｏ_３、１９％のＢ_２Ｏ_３、４％のＲ_２Ｏ、８％のＲＯ＋ＲＯ_２、Ｔ_ｇ＝５８０℃、Ｅ_ｗ＝７５０℃）中に、顔料が約１４５０℃で溶融したガラス内で完全に溶けて均質なガラスが得られるように、２５％のＴｉＯ_２を溶解した。これから５０ｇを、シフターを用いてアトライター（乾式）内で粉砕し（粒径Ｄ５０＝１．５μｍ、Ｄ９０＝４μｍ、凝集物なし）、７５ｇのスクリーン印刷ペースト媒体と混合し、凝集物が存在しないように三ローラーミルを用いて均質化した。得られたペーストを、スクリーン印刷（１４０ファブリック、２５０×３８０ｍｍ^２上の全表面装飾）を用いて、透過的に着色した未焼成ガラスの上に適用した。焼き付けを、未焼成ガラスのセラミック化と同時に行うと、暗色のガラスセラミック（ＣＥＲＡＮ（登録商標）Ｈｉｇｈｔｒａｎｓ ｅｃｏ）（Ｔ_ｍａｘ９３５℃、保持時間１０分）が得られ、装飾は薄青色を有していた。Ｒ_ａ値は０．２０μｍ、ｒｍｓ _{１０ｍｍ−１．．．２０ｍｍ−１}：０．０１９μｍ、ｒｍｓ _{２０ｍｍ−１．．５０ｍｍ−１}：０．０１０μｍであった。ラウドネスは３．２ソーンであり、シャープネスは２．３アキュームであった。従って、雑音最適化装飾の要求を満たした。

実施例５（色１０ｂ）
ガラスＣ（質量％での詳細：５８％のＳｉＯ_２、６％のＡｌ_２Ｏ_３、２０％のＢ_２Ｏ_３、６％のＲ_２Ｏ、１０％のＲＯ＋ＲＯ_２；Ｔ_ｇ＝４６０℃、Ｅ_ｗ＝６５０℃）中に、顔料が約１４５０℃で溶融したガラス内で完全に溶けて均質なガラスが得られるように、更に２０％のＴｉＯ_２を溶融した。これから５０ｇを、シフターを用いてアトライター（乾式）内で粉砕し（粒径Ｄ５０＝１．５μｍ、Ｄ９０＝４μｍ、凝集物なし）、７５ｇのスクリーン印刷ペースト媒体と混合し、凝集物が存在しないように三ローラーミル内で均質化した。得られたペーストを、スクリーン印刷（１４０スクリーン、２５０×３８０ｍｍ^２上の全表面装飾）を用いて透明に着色された未焼成ガラス上に適用した。焼き付けを、未焼成ガラスのセラミック化と同時に行うと、暗色のガラスセラミック（ＣＥＲＡＮ（登録商標）Ｈｉｇｈｔｒａｎｓ ｅｃｏ）（Ｔ_ｍａｘ９３５℃、保持時間１０分）が得られ、装飾は薄い灰白色であった。Ｒ_ａ値は０．２７μｍ、ｒｍｓ _{１０ｍｍ−１．．．２０ｍｍ−１}：０．０９８μｍ、ｒｍｓ _{２０ｍｍ−１．．５０ｍｍ−１}：０．０４２μｍであった。ラウドネスは５．５ソーンであり、シャープネスは２．６アキュームであった。従って、雑音最適化装飾の要求を満たした。

実施例６（色２）
色２の調製のために、４２．５ｇの粉砕したガラスフリット（湿式粉砕）（質量％での詳細：ガラスＡ（５２％のＳｉＯ_２、１７％のＡｌ_２Ｏ_３、１９％のＢ_２Ｏ_３、４％のＲ_２Ｏ、８％のＲＯ＋ＲＯ_２、Ｔ_ｇ＝５８０℃、Ｅ_ｗ＝７５０℃）、粒径Ｄ５０＝１．５μｍ、Ｄ９０＝４μｍ）を、白色顔料及び黒色顔料の顔料混合物（粒径Ｄ９０＝４μｍ）７．５ｇと混合し、スクリーン印刷ペースト媒体６０ｇと混合する。このペーストを三ローラーミルによって均質化した。スクリーン印刷（１４０スクリーン）を使用して、ストリップパターン４及び６を、透明に着色された未焼成ガラス（５００×５５０×４ｍｍ^３）上に印刷した。焼き付けを、未焼成ガラスのセラミック化と同時に行うと、暗色のガラスセラミック（ＣＥＲＡＮ（登録商標）Ｈｉｇｈｔｒａｎｓ ｅｃｏ）（Ｔ_ｍａｘ９３５℃、保持時間１０分）が得られた。焼き付けた装飾は灰色であり、Ｒ_ａ値は、両方のパターンで、０．２１μｍ、ｒｍｓ _{１０ｍｍ−１．．．２０ｍｍ−１}：０．１３μｍ、ｒｍｓ _{２０ｍｍ−１．．５０ｍｍ−１}：０．１２μｍであった。ラウドネスとシャープネスの値は、両方のストリップパターンで、１０．１ソーン、４．０アキューム（４）及び９．９ソーン／３．５アキューム（６）であった。これらの装飾は、雑音最適化装飾の要求を満たしていなかった。

実施例７（色７）
シフターを用いてアトライター（乾式）内で粉砕された５０ｇのガラスフリット（質量％での詳細：８０％のＳｉＯ_２、２％のＡｌ_２Ｏ_３、１４％のＢ_２Ｏ_３、４％のＲ_２Ｏ）、粒径Ｄ９０＝１０μｍ）を、６０ｇのスクリーン印刷ペースト媒体と混合し、凝集物がほとんど存在しなくなるように三ローラーミル内で均質化した。得られたペーストを、スクリーン印刷（１４０スクリーン、２５０×３８０ｍｍ^２上の全表面装飾）を用いて４ｍｍの厚さの既にセラミック化した白色ガラスセラミックプレート上に適用し、その後、９５０℃で１時間焼き付けた。白色の、透明な、無着色のグレーズのＲ_ａ値は、２．５μｍ、ｒｍｓ _{１０ｍｍ−１．．．２０ｍｍ−１}：０．０９６μｍ、ｒｍｓ _{２０ｍｍ−１．．．５０ｍｍ−１}：０．０３５５μｍであり、ラウドネスは９．３ソーンであり、シャープネスは３．３アキュームであった。この装飾は、雑音最適化装飾の要求を満たしていない。

実施例８（色１ａ）
シフターを使用してアトライター（乾式）内で粉砕したガラスフリット４５ｇ（ガラスＡ、質量％での詳細：５２％のＳｉＯ_２、１７％のＡｌ_２Ｏ_３、１９％のＢ_２Ｏ_３、４％のＲ_２Ｏ、８％のＲＯ＋ＲＯ_２、Ｔ_ｇ＝５８０℃、Ｅ_ｗ＝７５０℃）粒径Ｄ５０＝１．５μｍ、Ｄ９０＝４μｍ、凝集物なし）を、Ｄ９０＝２μｍの顔料混合物５ｇ及びスクリーン印刷媒体６０ｇと混合し、凝集物がこれ以上存在しなくなるように三ローラーミル内で均質化した。得られたペーストを、スクリーン印刷（１４０スクリーン、２５０×３８０ｍｍ^２上の全表面装飾）によって厚さ４ｍｍの透明なガラスプレート上に適用し、その後、焼き付けて、その間に、ガラスプレートを透明なガラスセラミックにセラミック化した（Ｔ_ｍａｘ９３５℃、保持時間１０分）。グレーズのＲ_ａ値は、０．１３μｍ、ｒｍｓ _{１０ｍｍ−１．．．２０ｍｍ−１}：０．０５７μｍ、ｒｍｓ _{２０ｍｍ−１．．．５０ｍｍ−１}：０．０３５μｍであった。全表面装飾されたプレートは、３．７ソーンのラウドネスと２．８アキュームのシャープネスを有しており、従って、騒音最適化装飾の要求を満たした。

実施例９（色１ｂ）
シフターを使用してアトライター（乾式）内で粉砕したガラスフリット４７．５ｇ（ガラスＡ、質量％での詳細：５２％のＳｉＯ_２、１７％のＡｌ_２Ｏ_３、１９％のＢ_２Ｏ_３、４％のＲ_２Ｏ、８％のＲＯ＋ＲＯ_２、Ｔ_ｇ＝５８０℃、Ｅ_ｗ＝７５０℃）、粒径Ｄ５０＝１．５μｍ、Ｄ９０＝４μｍ、凝集物なし）を、Ｄ９０＝２μｍの顔料混合物２．５ｇ及びスクリーン印刷媒体６０ｇと混合し、凝集物がこれ以上存在しなくなるように三ローラーミルによって均質化した。得られたペーストを、スクリーン印刷（１４０スクリーン、２５０×３８０ｍｍ^２上の全表面装飾）によって厚さ４ｍｍの透明なガラスセラミックプレート上に適用し、その後、８５０℃で１時間焼き付けた。グレーズのＲ_ａ値は、０．１８μｍ、ｒｍｓ _{１０ｍｍ−１．．．２０ｍｍ−１}：０．０４μｍ、ｒｍｓ _{２０ｍｍ−１．．．５０ｍｍ−１}：０．０１２μｍであった。全表面装飾されたプレートは、２．７ソーンのラウドネスと２．５アキュームのシャープネスを有しており、従って、騒音最適化装飾の要求を満たす。

要約すると、音響特性を改善する様々な可能性があると結論付けなければならない。

ガラスフラックス及び顔料の小さい粒径（例えば、Ｄ９０≦４μｍ）で低いＲ_ａ値（＜０．３μｍ）を有する色を得ることが可能であるが、特に凝集物は音響特性に大きな影響を及ぼす。色の凝集物は、出発材料の調製で開始する、選択された方法パラメータによって、並びにカラーペーストを得るための均質化及び分散によって減少させることができる。カラーペーストは、本質的に、２０μｍを上回る、好ましくは１０μｍを上回る、特に好ましくは５μｍを上回る凝集物を含んではならない。

凝集物を避けるために、特に、乾式粉砕法が好ましい。

また、焼成パラメータを、所望の最適化された音響特性を生じるために、基板に及びそれぞれの色に最適化することが重要である。基本的に、色は、例えば、装飾されたクックトップにとって望ましい特性を満たすために、かなり大きなパラメータ範囲にわたって焼き付けることができる。しかしながら、音響特性のために、範囲は、ガラスフラックスが完全に溶融して、顔料がフラックス内に十分に埋め込まれるように、そして更なる効果、例えば、蒸着プロセスによる表面の改質、ガラスフラックスの表面結晶化、顔料の浮動が回避されるように選択されなければならない。

これに関連して、別の調査から、明らかに顔料を添加しない装飾（色６）が特によく適している結果になる。また、色８（顔料を添加していない）も比較的良好な結果を示す。また、小さい顔料割合を有する色（他の測定と組み合わせた）も、改善された騒音特性（色１ｂ）をもたらす。

また、色本体が、ベースガラス層内で結晶化する、色１０も良好な結果を示した。これは、この方法で、非溶融顔料粒子が、騒音の発生に有害な影響を及ぼし得る装飾面に存在することが回避される事実によるものである。

Claims (28)

1. 被覆された基板、好ましくは、ガラス又はガラスセラミックの被覆された基板、好ましくはガラスセラミックの誘導調理面であって、０．０８ｍ／ｓの速度で鍋を変位する間に、内部で受ける１ｋｇの質量の重量及び１７ｃｍのスタンド底部の直径を有する、シラルガン焙焼鍋２０ｃｍＡｃｃｅｎｔｏ型のシリット社製のエナメル底部を有するスチールホーロー鍋を使用している間に、装飾で被覆された外形寸法５００×５５０ｍｍ^２を有する基板上でＤＩＮ４５６３１／Ａ１：２０１０−０３及びＤＩＮ４５６９２：２００９−０８に従って測定された、好ましくは、３アキューム未満のシャープネス及び／又は７ソーン未満のラウドネスを有する、雑音最適化されたガラス系装飾を含む、前記基板。
2. シャープネスが３アキューム未満であり、またラウドネスが７ソーン未満である、請求項１に記載の基板。
3. 特に請求項１又は２に記載の、雑音最適化されたガラス系装飾を含む、被覆された基板、好ましくはガラス又はガラスセラミックの被覆された基板、好ましくはガラスセラミックの誘導調理面であって、装飾が、０．１マイクロメートルよりも小さい１０ｍｍ^−１〜２０ｍｍ^−１の範囲の白色光干渉顕微鏡によって測定された粗さ量ｒｍｓ（ｒｍｓ_１０ｍｍ ^−１ _{．．．２０ｍｍ} ^−１＜０．１μｍ）、好ましくはｒｍｓ_１０ｍｍ ^−１ _{．．．２０ｍｍ} ^−１＜０．０５μｍ、特に好ましくはｒｍｓ_１０ｍｍ ^−１ _{．．．２０ｍｍ} ^−１＜０．０２μｍを有し、０．０４５マイクロメートルよりも小さい２０ｍｍ^−１〜５０ｍｍ^−１の範囲の粗さ量ｒｍｓ（ｒｍｓ_２０ｍｍ ^−１ _{．．．５０ｍｍ} ^−１＜０．０４５μｍ）、好ましくはｒｍｓ_２０ｍｍ ^−１ _{．．．５０ｍｍ} ^−１＜０．０３μｍ、特に好ましくはｒｍｓ_２０ｍｍ ^−１ _{．．．５０ｍｍ} ^−１＜０．０１５μｍを有する、前記基板。
4. コーティングが、ケイ酸塩ガラス、ホウケイ酸ガラス、亜鉛ケイ酸塩ガラス、ホウ酸亜鉛ガラス、ホウケイ酸亜鉛ガラス、ホウケイ酸ビスマスガラス、ホウ酸ビスマスガラス、ビスマスケイ酸塩ガラス、リン酸塩ガラス、リン酸亜鉛ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、又はリチウムアルミノケイ酸塩ガラスに基づく焼き付けたガラスフリットからなる、請求項１から３までのいずれか１項に記載の基板。
5. ガラスフリットが、顔料及び／又は充填剤及び／又は構造提供粒子の添加剤を含む、請求項１から４までのいずれか１項に記載の基板。
6. 特に可変クックトップとして、特に可変誘導調理面としての用途のための、ガラスセラミック、特にＬＡＳガラスセラミックからなる、請求項１から５までのいずれか１項に記載の基板。
7. ３〜１００％の表面の一部は、その表面に装飾が設けられている、請求項１から６までのいずれか１項に記載の基板。
8. 小さなシャープネス及びラウドネスを有する騒音最適化されたガラス系装飾を含む、基板、好ましくはガラス又はガラスセラミックの基板、特にガラスセラミックの誘導調理面のための装飾方法であって、ガラスフリットを１０ナノメートル〜５０マイクロメートル、好ましくは２０ナノメートル〜１０マイクロメートル、特に好ましくは２〜１０マイクロメートルのＤ９０の粒径に粉砕し、分散媒体と混合し、実質的に凝集物を含まないように均一化し、その後、基板の表面に適用して焼き付け、好ましくは、被覆された基板が、０．０８ｍ／ｓの速度で鍋を変位する間に、内部で受ける１ｋｇの質量の重量及び１７ｃｍのスタンド底面の直径を有するシラルガン焙焼鍋２０ｃｍＡｃｃｅｎｔｏ型のシリット社製のエナメル底部を有するスチールホーロー鍋を使用して、装飾で被覆された５００×５５０ｍｍ^２の外形寸法を有する基板上でＤＩＮ４５６３１／Ａ１：２０１０−０３及びＤＩＮ４５６９２：２００９−０８に従って測定された、３アキューム未満のシャープネス及び／又は７ソーン未満のラウドネスを有する、前記装飾方法。
9. 白色光干渉顕微鏡によって測定された１０ｍｍ^−１〜２０ｍｍ^−１の範囲の表面の粗さ量ｒｍｓが、０．１マイクロメートルよりも小さく（ｒｍｓ_１０ｍｍ ^−１ _{．．．２０ｍｍ} ^−１＜０．１μｍ）、好ましくはｒｍｓ_１０ｍｍ ^−１ _{．．．２０ｍｍ} ^−１＜０．０２μｍであり、２０ｍｍ^−１〜５０ｍｍ^−１の範囲の粗さ量ｒｍｓが０．０４５マイクロメートルよりも小さく（ｒｍｓ_２０ｍｍ ^−１ _{．．．５０ｍｍ} ^−１＜０．０４５μｍ）、好ましくはｒｍｓ_２０ｍｍ ^−１ _{．．．５０ｍｍ} ^−１＜０．０１５μｍであるように装飾を焼き付ける、請求項８に記載の方法。
10. ガラスフリットの粉砕及び均質化が、実質的に２０マイクロメートル超の凝集物が存在しないように、好ましくは１０マイクロメートル未満の凝集物、特に好ましくは５マイクロメートル未満の凝集物が存在するように実施される、請求項８又は９に記載の方法。
11. ガラスフリットの粉砕のために、乾式粉砕法、特に球粉砕、ジェット粉砕、カウンタ粉砕又は空気粉砕、又は球粉砕とジェット粉砕とを組み合わせた使用、並びにカウンタ−ジェット粉砕、過熱蒸気を用いた作業を用いた、乾式粉砕法を使用する、請求項８から１０までのいずれか１項に記載の方法。
12. ガラスフリットを、添加剤、特に顔料、充填剤及び／又は構造提供粒子と混合し、それらと均質化する、請求項８から１１までのいずれか１項に記載の方法。
13. 充填剤ＳｉＯ_ｘ粒子、酸化アルミニウム粒子、熱分解法ケイ酸、石灰ナトロン粒子、アルカリアルミノシリケート粒子、ポリシロキサン球、ホウケイ酸ガラス球及び／又は中空ガラス球としての、請求項１２に記載の方法。
14. 顔料として、金属酸化物として構成された色付与顔料、特にコバルト酸化物／スピネル、コバルトアルミニウムスピネル、コバルトアルミニウム亜鉛酸化物、コバルトアルミニウムケイ素酸化物、コバルトチタンスピネル、コバルトクロムスピネル、コバルトアルミニウムクロム酸化物、コバルトニッケルマンガン鉄クロム酸化物／スピネル、コバルトニッケル亜鉛チタンアルミニウム酸化物／スピネル、クロム鉄ニッケルマンガン酸化物／スピネル、コバルト鉄クロム酸化物／スピネル、ニッケル鉄クロム酸化物／スピネル、鉄マンガン酸化物／スピネル、酸化鉄、鉄クロム酸化物、鉄クロム亜鉛チタン酸化物、銅クロムスピネル、ニッケルクロムアンチモンチタン酸化物、チタン酸化物、ジルコニウムケイ素鉄酸化物／スピネルを混合し、吸収顔料として、特にまた板状又はピン状の顔料として、個別の顔料として又は顔料混合物としてもガラスフリットに添加される、被覆された効果顔料を混合する、請求項１２又は１３に記載の方法。
15. 粉砕後のガラスフリットに対して、最大２０質量％の顔料及び／又は充填剤を混合し、好ましくは１０質量％、更に好ましくは最大７質量％、特に好ましくは最大５質量％の顔料及び／又は充填剤を混合する、請求項８から１４までのいずれか１項に記載の方法。
16. 装飾をガラス表面に施す前に、顔料及び／又は充填剤を混合し、ガラスフラックスと一緒に溶融して粉砕する、請求項８から１５までのいずれか１項に記載の方法。
17. 液体コーティング法、特にスクリーン印刷、インクジェット印刷、オフセット印刷、タンポン印刷、スプレー法、ディップコーティング、ロールコーティング、切り取り印刷法又はナイフ塗布、フラッディング、スピンコーティングを、基板表面上に装飾を施すために使用する、請求項８から１６までのいずれか１項に記載の方法。
18. 圧延機を均質化のために使用する、請求項１７に記載の方法。
19. 施した後の装飾を、好ましくは６００℃〜１２００℃の温度範囲で、１分〜４時間の時間で焼き付ける、請求項８から１８までのいずれか１項に記載の方法。
20. 装飾を、焼き付け前に高められた温度で乾燥させる、請求項１９に記載の方法。
21. 基板としてガラス又はガラスセラミックを、特にＬＡＳガラスセラミックを、可変クックトップ、特に可変誘導調理面の製造に使用する、請求項８から２０までのいずれか１項に記載の方法。
22. ガラス又はガラスセラミックを、２０〜３００℃の範囲で７×１０^−６／Ｋ以下、好ましくは６．５×１０^−６／Ｋ以下、更に好ましくは５×１０^−６／Ｋ以下、特に好ましくは−１×１０^−６／Ｋ〜４．５×１０^−６／Ｋの範囲の熱膨張係数を有する基板として使用する、請求項８から２１までのいずれか１項に記載の方法。
23. ガラスセラミック、特にＬＡＳガラスセラミックを基板として使用し、その上に装飾を未焼成ガラス状態で施して、装飾を焼き付けると同時に、未焼成ガラスをセラミック化する、請求項８から２２までのいずれか１項に記載の方法。
24. 焼き付け及びセラミック化を、８５０〜１２００℃、好ましくは９００〜１１５０℃の温度で、５〜２４０分、好ましくは１０〜６０分、特に好ましくは１０〜３０分の時間で行う、請求項２３に記載の方法。
25. ガラスセラミック、特にＬＡＳガラスセラミックを基板として使用し、その上に装飾をセラミック化した状態で施し、その後に装飾を焼き付ける、請求項８から２４までのいずれか１項に記載の方法。
26. 焼き付けを、６００〜１２００℃、好ましくは７００〜９００℃の温度で、１〜２４０分、好ましくは２〜１２０分の時間にわたり行う、請求項２５に記載の方法。
27. ０．０８ｍ／ｓの速度で鍋を変位する間に、内部で受ける１ｋｇの質量の重量及び１７ｃｍのスタンド底部の直径を有するシラルガン焙焼鍋２０ｃｍＡｃｃｅｎｔｏ型のシリット社製のエナメル底部を有するスチールホーロー鍋を利用する間に、装飾で被覆された５００ｍｍ×５５０ｍｍの外形寸法を有する基板上でＤＩＮ ４５６３１／Ａ１：２０１０−０３及びＤＩＮ ４５６９２：２００９−０８に従って測定された、小さなシャープネス及びラウドネス、特に３アキューム未満のシャープネス及び／又は７ソーン未満のラウドネスを有する、ガラス又はガラスセラミックの基板の表面上に騒音最適化されたコーティングを生成するための、特に可変クックトップとして使用するための、特に可変誘導調理面のための、ガラス系装飾の使用。
28. ０．１マイクロメートルよりも小さい１０ｍｍ^−１〜２０ｍｍ^−１の範囲の白色光干渉顕微鏡によって測定された粗さ量ｒｍｓ（ｒｍｓ_１０ｍｍ ^−１ _{．．．２０ｍｍ} ^−１＜０．１マイクロメートル）、好ましくはｒｍｓ_１０ｍｍ ^−１ _{．．．２０ｍｍ} ^−１＜０．０５μｍ、特に好ましくはｒｍｓ_１０ｍｍ ^−１ _{．．．２０ｍｍ} ^−１＜０．０２μｍを有し、０．０４５マイクロメートルよりも小さい２０ｍｍ^−１〜５０ｍｍ^−１の範囲の粗さ量ｒｍｓ（ｒｍｓ_２０ｍｍ ^−１ _{．．．５０ｍｍ} ^−１＜０．０４５μｍ）、好ましくはｒｍｓ_２０ｍｍ ^−１ _{．．．５０ｍｍ} ^−１＜０．０３μｍ、特に好ましくはｒｍｓ_２０ｍｍ ^−１ _{．．．５０ｍｍ} ^−１＜０．０１５μｍを有する、コーティングを生成するための装飾が使用される、請求項２７に記載の使用。