TW202104123A - 用於觸覺回饋之熔塊結構 - Google Patents

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Abstract

本揭示內容包括鹼金屬硼矽酸鹽玻璃粉末的熔塊糊狀物與溶劑及黏著劑。可以將熔塊糊狀物精確地沉積到玻璃基板上並燒製，以製造各種形狀及深度的觸覺回饋。

Description

用於觸覺回饋之熔塊結構
本揭示內容大體關於觸摸感應玻璃顯示器，且具體而言，關於在此類玻璃顯示器上的觸覺回饋(haptics)。
汽車及其他車輛內部主要使用玻璃作為結構及設計的組件，且玻璃顯示器正在取代習用的儀表板。利用觸摸感應技術（諸如利用觸覺回饋）的玻璃顯示器正在取代習用的按鈕、旋鈕、或轉盤。隨著這些玻璃顯示器的複雜度提高，駕駛員往往會低頭看一下玻璃顯示器以查看需要哪個觸覺回饋，這會導致駕駛時候注意力分散。
本揭示內容提供一種用於玻璃顯示器的基於熔塊(frit)的觸覺回饋以及一種製造此觸覺回饋的方法。
在一個實施例中，一種糊狀物包括熔塊粉末、黏著劑(binder)、及溶劑。
在第二個實施例中，一種觸覺回饋包括糊狀物的燒製產物，糊狀物包括熔塊粉末、黏著劑、及溶劑。
在第三個實施例中，一種製品包括玻璃基板以及觸覺回饋，觸覺回饋包含由經燒製的糊狀物製成的觸覺回饋，觸覺回饋經設置在玻璃基板上，經燒製的糊狀物包括熔塊粉末、黏著劑、及溶劑。
在第四個實施例中，一種製造製品的方法包括以下步驟：燒製熔塊糊狀物，以產生熔塊糊狀物的經燒製產物；以及離子交換處理基板以及在基板上的經燒製的熔塊糊狀物。
在第五個實施例中，一種製品藉由燒製熔塊糊狀物以產生熔塊糊狀物的經燒製產物，以及離子交換處理基板及基板上的熔塊糊狀物而製成。
現在將詳細參照所揭示標的的一些實施例，在附圖中部分示出此些實施例的實例。雖然將結合所列舉的申請專利範圍來描述所揭示標的，但將理解，示例性的標的不旨在將申請專利範圍限制於所揭示標的。 概要
觸覺回饋是可以通過觸摸感知的感測器。可以透過觸摸感覺到的凸起或圖案化表面被認為是被動式的觸覺回饋感測器，而可以啟動製程或後續動作的按鈕或感測器被認為是主動式的觸覺回饋感測器。
當前的觸覺回饋感測器相對於玻璃顯示器的表面缺乏三維形狀。將三維的觸覺回饋添加到玻璃顯示器可能很困難。許多可以用於觸覺回饋的材料的軟化點或熔點接近玻璃基板的軟化點或熔點，當燒製及成形玻璃顯示器時，會導致那些材料熔化，且在玻璃顯示器的表面上方無法保持三維形狀。
另外，在玻璃顯示器上難以製造三維觸覺回饋，因為許多材料無法承受用以強化用於汽車或其他消費性用途的觸摸感應玻璃顯示器的離子交換處理。
玻璃顯示器上的三維觸覺回饋必須與玻璃基板保持牢固的接合，以實現長期耐久性。用於觸覺回饋的材料的熱膨脹係數應與玻璃顯示器本身的熱膨脹係數相容，以避免可能導致破裂的熱應力。
總而言之，用於觸摸感應的玻璃顯示器的三維觸覺回饋應是觸摸感應的，與玻璃基板產生牢固的接合，並保持高度及形狀，以允許在沒有視覺輸入的情況下藉由觸摸進行區分。
可例如藉由分配及燒製熔塊糊狀物以在基板（諸如觸摸感應玻璃）上形成特定的三維熔塊形狀，來產生觸覺回饋。在這種情況下，觸覺回饋可以具有不同的形狀或圖案，以允許僅藉由觸摸來檢測及區分每個觸覺回饋，而無需視覺檢閱。 經燒製的熔塊糊狀物
形成觸覺回饋的經燒製的熔塊糊狀物應牢固地接合到其所處的基板。具體而言，與基板相比，熔塊糊狀物的熱膨脹係數(CTE)應在相容範圍內。
用於觸覺回饋的熔塊糊狀物可以包括熔塊粉末、黏著劑、及溶劑，將其結合然後燒製。可選擇地，熔塊糊狀物可進一步包括分散劑及/或觸變添加劑。熔塊粉末可以影響由糊狀物產生的玻璃的性質，諸如熱膨脹係數(CTE)、軟化點、及玻璃轉移溫度。
熔塊粉末可以是鹼金屬硼矽酸鹽玻璃粉末，諸如Rx Oy -ZnO-B2 O3 -SiO2 化合物家族中的玻璃熔塊，其中Rx Oy 代表金屬氧化物，諸如，例如氧化鋰、氧化鈉、氧化鉀、氧化鎂、氧化鈣、氧化鋇、氧化鋅、氧化鋁、氧化硼、氧化矽、氧化鋯、或上述的組合，如以下表1所示。
金屬氧化物 化學式
氧化鋰 Li2 O
氧化鈉 Na2 O
氧化鉀 K2 O
氧化鎂 MgO
氧化鈣 CaO
氧化鋇 BaO
氧化鋅 ZnO
氧化鋁 Al2 O3
氧化硼 B2 O3
氧化矽 SiO2
氧化鋯 ZrO2
表 1. 玻璃熔塊中金屬氧化物的化學式
熔塊粉末可以例如包含在約3.0-7.0莫耳%之間的Li2 O、在1.5-22.5莫耳%之間的Na2 O（例如，1.5-12.0莫耳%）、在1.0-13.5莫耳%之間的K2 O（例如，1.3-10.3莫耳%）、在2.0-2.5莫耳%之間的MgO、在1.0-5.0莫耳%之間的CaO（例如，2.3-5.0莫耳%）、在3.0-3.5莫耳%之間的BaO、在1.0-10.0莫耳%之間的ZnO（例如，2.40-5.0莫耳%）、在4.0-4.5莫耳%之間的Al2 O3 、在15.0-50.0莫耳%之間的B2 O3 （例如，33.3-44.3莫耳%）、在25.0-52.0莫耳%之間的SiO2 （例如，34.4-48.5莫耳%）、在1.0-2.0莫耳%之間的TiO2 、及在3.0-4.0莫耳%之間的ZrO2 。
熔塊粉末的CTE應與將在其上施加熔塊糊狀物的基板的CTE相容。這避免了CTE的不匹配及相關的應力，從而減少了由於糊狀物形成感測器時在基板與熔塊糊狀物之間的界面處產生的熱應力而導致的破裂。例如，熔塊粉末可具有範圍從約55x10-7 /o C至約85x10-7 /o C的CTE，此CTE對應於其上分配有熔塊糊狀物的特定基板的CTE。
當將熔塊糊狀物施加到基板並燒製時，熔塊糊狀物及基板在燒製的情況下必須都保持形狀。因此，熔塊粉末應具有允許在沒有軟化、流動、及失去形狀的情況下將熔塊粉末燒製到基板上的玻璃轉移溫度。例如，熔塊粉末可具有在從約400o C至約500o C的範圍內的玻璃轉移溫度。
另外，燒製溫度基本上不應超過基板玻璃的退火點，否則在將觸覺回饋接合到基板的製程期間會發生組件的翹曲。明顯的熔塊流動通常發生在軟化點或高於軟化點，因此，熔塊粉末的軟化點基本上不應超過基板的退火點，否則基板可能會翹曲。對於大多數汽車玻璃基板而言，熔塊粉末的軟化點可以在從約550o C至約650o C的範圍內。
可以將熔塊粉末與溶劑及黏著劑混合以產生熔塊糊狀物。混合可以藉由所屬技術領域中具有通常知識者所理解的通常手段來完成。當在混合的糊狀物中時，熔塊粉末本身可以為在約40體積%與約50體積%之間的熔塊糊狀物。在糊狀物中的熔塊粉末可以具有在從約2.00至約3.00 g/cm3 的範圍內的密度。溶劑可以是有機溶劑，構成約50體積%的糊狀物。黏著劑可以充當使熔塊粉末懸浮在溶劑中的試劑。可選擇地，可以將界面活性劑添加到糊狀物。熔塊粉末、溶劑、黏著劑及可選擇的界面活性劑的組合應形成具有可控的糊狀物黏度的穩定糊狀物。
熔塊糊狀物可以是黏稠的，以允許在基板上產生具有高度的形狀。熔塊糊狀物基本上不應流動，使得當將熔塊糊狀物施加到基板時可將熔塊糊狀物弄平。例如，熔塊糊狀物的黏度可以在從約500至約10,000 P的範圍內。
可選擇地，熔塊糊狀物可以包括著色劑或其他用於裝飾的顏料。著色劑可以為在從約5重量%至約10重量%的範圍內的熔塊糊狀物。著色劑的實例包括但不限於黑色顏料（諸如Ferro V-7709）、藍色顏料、綠色顏料（諸如Ferro V-11633）、及上述的組合。 觸覺回饋
可以在基板上將熔塊糊狀物燒製成觸覺回饋。糊狀物可以在高於熔塊粉末的玻璃轉移溫度及軟化點的溫度下燒製，但不應在使經燒製的熔塊粉末失去其形狀的此類高溫下燒製。例如，熔塊糊狀物可以在約500至700o C下燒製1小時。燒製溫度可以例如比熔塊粉末的軟化溫度高約50度，但是基本上不應高於在其上燒製熔塊糊狀物的特定基板的退火點。
由經燒製的熔塊糊狀物製成的觸覺回饋可具有至多約2 mm的高度。這允許在基板上提高觸覺回饋，從而可以藉由觸摸來感測觸覺回饋。另外，觸覺回饋可以具有各種形狀。觸覺回饋可以例如是點、圓形、正方形、三角形、或其他形狀，使得感測器具有基本上圓形或多邊形的剖面。替代地，可以將多個觸覺回饋以點圖案或其他形狀的組合放置，以產生不同的、具識別的觸覺回饋的簇(cluster)。
觸覺回饋可以由多層的熔塊糊狀物製成。在這種情況下，可以施加第一層的熔塊糊狀物並進行燒製。隨後，施加第二層在第一層的頂部並進行燒製。第一層及第二層的熔塊糊狀物可以具有相同的組成物或具有不同的組成物，只要它們的CTE在相似的範圍內以避免CTE不匹配。這可用以產生各種的顏色及紋理效果。
另外，觸覺回饋可以是彩色的、不透明的、透明的、亮面的、霧面的、或半透明的。熔塊糊狀物中的著色劑或其他顏料可提供顏色以區分各種觸覺回饋。另外，一些經燒製的熔塊糊狀物包括孔結構，當燒製時，這些孔結構使觸覺回饋不透明。可以將經燒製的糊狀物的觸覺回饋施加到用於觸摸螢幕顯示器的玻璃基板並與之熔合。 玻璃顯示器
第1圖圖示在玻璃顯示器10上的基於經燒製的熔塊糊狀物的觸覺回饋12。玻璃顯示器10可以是例如考慮用於汽車顯示器及控制面板的玻璃。玻璃顯示器10包括在基板14上的觸覺回饋12。觸覺回饋12在上面進行了詳細描述，並且觸覺回饋12是經燒製的熔塊糊狀物。
第2圖圖示與第1圖中類似的在玻璃基板上的經燒製的熔塊糊狀物的觸覺回饋。如第2圖中所示，經燒製的熔塊糊狀物的觸覺回饋可以有各種形狀或圖案。在這裡，線、點或上述的組合可以用以產生圓形、菱形、箭頭、及其他圖案或形狀，以區分各種觸覺回饋感測器。
基板14應該是高強度、耐刮及耐損傷、離子可交換的玻璃，適用於例如汽車或消費性設備中的觸摸螢幕應用。基板14可具有從約75x10-7 /o C至約105x10-7 /o C的CTE，此CTE與製成觸覺回饋12的熔塊糊狀物中的熔塊粉末的CTE相容。合適的基板的實例包括康寧公司所售的鋁矽酸鹽玻璃。
通常，基板14可以具有從約585o C至約630o C的退火溫度。當將觸覺回饋12附接到基板14時，燒製溫度低於基板的退火溫度，從而在不會使觸覺回饋12或基板14變形或熔化的情況下，在觸覺回饋12與基板14之間產生玻璃熔合接合。在一些實施例中，額外的黏合劑可用以在基板14與觸覺回饋12之間形成接合。這可以另外包括用有機溶劑（諸如異丙醇(IPA)）清潔基板14，並且在添加黏合劑之前空氣乾燥基板14。
透過將熔塊糊狀物施加到基板14，燒製熔塊糊狀物以產生觸覺回饋12，並且離子交換處理附接有觸覺回饋12的基板14，來製備玻璃顯示器10。然後，包括按鈕圖像（諸如家、音樂、GPS、風扇、A/C等）的裝飾圖案（諸如金屬、碳纖維、木質的圖案等），可以諸如透過網版印刷或噴墨印刷而經印刷在基板14的與觸覺回饋12相反的背側上。
可選擇地，可以在產生玻璃顯示器10之前，製備熔塊糊狀物。如本文中所論述，製備熔塊糊狀物包括混合玻璃熔塊粉末、溶劑、及黏著劑。在一些實施例中，可以添加其他的添加劑（諸如著色劑或顏料）。
然後，將熔塊糊狀物施加到基板14。應將熔塊糊狀物精確地施加到基板14，以產生不同的形狀及/或圖案。這可以藉由注射器分配、筆分配、藉由噴嘴施加、擠壓、使用刮刀、3D列印、網版印刷、或根據所屬技術領域中的技術者的其他方法來完成。可以施加各種形狀、高度、及圖案的熔塊糊狀物在基板14上，以產生可區分的觸覺回饋12。
隨後，燒製熔塊糊狀物以製造觸覺回饋12。可以在基本上不高於基板14的退火溫度的溫度下完成熔塊糊狀物的燒製。例如，可以在約650o C燒製熔塊糊狀物1小時，使得熔塊糊狀物軟化並流動，但不會過度地流動，而保持其形狀。
燒製之後，藉由離子交換處理對施加有觸覺回饋12的基板14進行化學強化。離子交換處理是從含較小離子的玻璃開始的化學強化製程，此等較小離子能夠在升高的溫度下在熔融鹽浴中與較大離子進行交換。在處理期間，較大離子取代玻璃顯示器中的較小離子。玻璃顯示器10表面中更緊密堆積的較大離子產生高壓縮應力，其轉變為玻璃顯示器10中的較高強度。玻璃顯示器10的離子交換處理可以透過一或多個離子浸漬浴或所屬技術領域中的技術者已知的其他方法來完成。可選擇地，玻璃顯示器10也可以以其他方式進行後處理，諸如進一步固化或清潔（諸如用IPA清潔）。在一些實例中，後處理包括添加裝飾圖案（諸如金屬、碳纖維、木質的圖案等），包括按鈕圖像（諸如家、音樂、GPS、風扇、A/C等）的裝飾圖案，（透過例如網版或噴墨印刷）經印刷在基板14的與觸覺回饋12相反的背側上。
這些基於熔塊粉末的觸覺回饋具有若干優點，其中一些是不可預期的。沉積技術（諸如精確分配）使它們自己能夠快速且可再現地沉積各種形狀。玻璃熔塊組成物的配方與潛在的基板玻璃在CTE及燒製溫度方面相容，允許結合觸覺回饋的玻璃顯示器具有更長的使用壽命。此外，玻璃熔塊組成物的配方允許觸覺回饋藉由與潛在的基板玻璃相容的離子交換處理，而經歷化學強化製程。
貫穿本文件，以範圍形式表示的值應以靈活的方式解釋為不僅包括明確記載為範圍極限的數值，還包括在此範圍內涵蓋的所有單獨數值或子範圍，如同明確記載每個數值及子範圍一樣。例如，「約0.1%至約5%」或「約0.1%至5%」的範圍應解釋為不僅包括約0.1%至約5%，還包括在所指範圍內的單獨數值（例如，1%、2%、3%、及4%）以及子範圍（例如，0.1%至0.5%、1.1%至2.2%、3.3%至4.4%）。除非另有說明，否則「約X至Y」與「約X至約Y」的陳述具有相同的意義。同樣地，除非另有說明，否則「約X、Y、或約Z」與「約X、約Y、或約Z」的陳述具有相同的意義。
在本文件中，除非上下文明確地另作規定，否則用語「一(a)」、「一(an)」、或「該(the)」是用以包括一或多個。除非另有說明，否則用語「或」是用以指非排他性的「或」。「A及B中的至少一者」與「A、B、或A及B」的陳述具有相同的意義。此外，應理解本文中採用的用語或用語（以及未另行定義者）是僅用於描述而非限制性的目的。任何段落標題的使用意欲輔助閱讀文件，且將不解釋為限制性的；與段落標題相關的資訊可出現在此特定段落之內或之外。
本文中所描述的方法中，在不脫離揭示內容的原理的情況下，可以以任何順序執行動作，有明確記載時間順序或操作順序除外。再者，除非明確的請求項文字記載分別地執行多個具體說明的動作，否則它們可以被同時執行。舉例而言，進行X的所請求動作與進行Y的所請求動作可於單一操作內同時進行，且所得製程將落入所請求製程的文義範圍內。
本文中所使用的用語「約」可在值或範圍內允許一定程度的變化，例如，在指定值或範圍的指定極限的10%之內、5%之內、或1%之內，並且包括確切指定值或範圍。
本文中所使用的用語「基本上」是指大多數或主要地，如在至少約50%、60%、70%、80%、90%、95%、96%、97%、98%、99%、99.5%、99.9%、99.99%、或至少約99.999%或更多、或100%中。
本文中所使用的用語「固化」是指暴露於任何形式的輻射、加熱、或允許經歷導致硬化或黏度增加的物理或化學反應。
本文中所使用的用語「孔(pore)」是指實心物體中的任何尺寸或形狀的凹陷、狹縫、或孔洞。孔可以完全地貫穿物體，或部分地貫穿物體。孔可以與其他孔相交。
本文中所使用的用語「溶劑」是指可使固體、液體、或氣體溶解的液體。溶劑的非限制性實例是聚矽氧、有機化合物、水、醇、離子液體、以及超臨界流體。
本文中所使用的用語「矽酸鹽」是指任何含矽的化合物，其中矽原子具有四個鍵與氧原子鍵合，其中氧原子與矽原子之間的鍵中的至少一者為離子鍵，諸如矽酸的任何鹽。氧離子的相反離子可以為任何其他合適的離子或多個離子。氧原子可以被其他矽原子取代，從而形成聚合物結構。一或多個氧原子可與矽原子以雙鍵鍵合；因此，矽酸鹽分子可以包括一個矽原子與2、3、或4個氧原子。矽酸鹽的實例包括矽酸鋁。沸石是可以包括矽酸鋁的材料的一個實例。矽酸鹽可以是鹽或離子的形式。
本文中所使用的用語「室溫」是指約15°C至28°C的溫度。
本文中所使用的用語「標準溫度及壓力」是指20°C及101 kPa。
本文中所使用的用語「表面」是指物體的邊界或側面，其中此邊界或側面可以具有任何周圍形狀且可以具有任何三維形狀，包括平坦的、彎曲的、或有角的，其中此邊界或側面可以是連續的或不連續的。雖然用語表面大體是指不具隱含深度的物體的最外邊界，但當使用用語「孔」指表面時，其是指表面開口與此孔在此表面下延伸至基板中的深度兩者。 實例
藉由參照以下舉例說明所提供的實例可以更好地理解本揭示內容的各種實施例。本揭示內容並不受限於本文中所提出的實例。 實例1-13
提供十三種熔塊粉末的工作實例，用於製造用於觸覺回饋的熔塊糊狀物。每個實例都是硼矽酸鹽玻璃，具有不同的鹼金屬或金屬氧化物（諸如氧化鋰、氧化鈉、氧化鉀、氧化鎂、氧化鈣、氧化鋇、氧化鋅、或氧化鋁）的組成物。在以下表2至表3中列出實例1-13的組成物。所有的百分比均以莫耳%列出。
實例1 實例2 實例3 實例4 實例5 實例6
Li2 O 3.0 3.0  --- ---  --- 3.0
Na2 O --- --- 9.0 12.0 9.0 8.0
K2 O 10.3 10.3 4.3 1.3 4.3 ---
MgO --- ---  ---  --- --- ---
CaO --- ---  ---  --- --- 2.3
BaO --- ---  ---  --- --- ---
ZnO 2.0 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0
Al2 O3 --- --- ---  --- --- ---
B2 O3 33.3 33.3 33.3 38.3 38.3 38.3
SiO2 51.4 48.5 48.4 43.4 43.4 43.4
ZrO2  --- ---   --- ---  ---  --- 
F- --- ---  --- ---  --- ---
表 2. 實例 1-6 的組成物
實例7 實例8 實例9 實例10 實例11 實例12 實例13        
Li2 O 3.0 3.0 --- --- --- 6.7 ---
Na2 O 8.0 1.5 --- --- --- 2.4 22.5
K2 O --- 2.3 13.3 13.3 13.3 --- ---
MgO 2.3 --- --- --- --- --- ---
CaO 5.0 --- --- --- --- 1.1 ---
BaO --- --- --- --- --- 3.2 ---
ZnO --- 2.0 5.0 5.0 5.0 1.3 10.0
Al2 O3 --- --- --- --- --- 4.3 4.0
B2 O3 38.3 38.3 38.3 44.3 47.3 15.3 38.5
SiO2 43.4 43.4 43.4 37.4 34.4 47.1 25.0
ZrO2 ---  ---  ---  ---  ---  3.7 ---
F- --- 9.5 --- --- --- 13.4 ---
TiO2 --- --- --- --- --- 1.5 ---
表 3. 實例 7-13 的組成物
實例1-13的組成物因為它們的玻璃轉移溫度(Tg )、熱膨脹係數(CTE)、及軟化點(Soft. Pt)而經具體地選擇，所有的組成物都允許低於基板玻璃的退火點的燒製溫度。在以下表4至表5中顯示這些性質。
  實例1   實例2   實例3   實例4   實例5   實例6  
Tg (o C) 475 474 496 491 485 481
CTE (x10-7 /o C) 74 77  --- 76.0 82.0 83.4
Soft. Pt (o C) 614 604 611 599 593 581
密度 (g/cm3 ) 2.35 2.40  ---  ---  ---  ---
表 4. 實例 1-6 的性質
  實例7   實例8   實例9   實例10   實例11   實例12   實例13
Tg (o C) 471 401 475 469 468 --- 489
CTE (x10-7 /o C) 74 56.5, 60.4 82.8 82.6  ---   60.7   105.4
Soft. Pt (o C) 596  --- 614 585  ---   600   ---
密度(g/cm3 ) 2.88 ---   ---  --- ---    2.65   ---
表 5. 實例 7-13 的性質
可以將實例1-13的熔塊粉末混合到有機溶劑與黏著劑中以產生熔塊糊狀物。可以精確地經注射器分配或筆分配熔塊糊狀物到康寧公司所售的由鋁矽酸鹽玻璃製成的玻璃基板上。可以經注射器分配熔塊粉末成圓形或點在這些基板上。施加熔塊糊狀物中的每一者到基板之後，可以在650o C下燒製1小時，以產生經熔合接合到基板玻璃的觸覺回饋。 實例14-21
使用來自實例4的玻璃以產生用於分配在玻璃上的熔塊糊狀物（實例14-21），並且隨後經燒製。在以下表6至表8中概述糊狀物實例14-21的組成物。
實例14 實例15 實例16
成分 作用 重量 % 體積 % 重量 % 體積 % 重量 % 體積 %
乙基纖維素 黏著劑 0.91 1.36 0.72 1.1 0.65 0.93
Elvacite 2045* 黏著劑
Texanol 溶劑 22.06 40.3 23.4 43.45 30.06 52.17
Byk 354 調平劑 0.76 1.38
Antiterra 202 抗沉降劑 0.51 1.09 0.34 0.72 0.31 0.62
Solsperse 9000 分散劑 0.76 1.43
oc-60 分散劑 0.49 1.23 0.67 1.04
熔塊 玻璃 75 54.44 75.05 53.5 68.31 45.24
Byk 410 觸變膠
乙酸丁酯 溶劑
乙醇 溶劑
總量   100 100 100 100 100 100
黏度 @ 1 sec-1 (P)   2560 691
黏度 @ 10 sec-1 (P)   1171 442
黏度 @  100 sec-1 (P)   256 138
表 6. 實例 14-16 的性質
實例17 實例18 實例19
成分 作用 重量 % 體積 % 重量 % 體積 % 重量 % 體積 %
乙基纖維素 黏著劑 0.1 0.16 0.1 0.17 0.85 1.19
Elvacite 2045* 黏著劑 1.53 2.59 1.38 2.38    
Texanol 溶劑 17.63 34 15.8 31.34 20.68 35.1
Byk 354 調平劑         0.71 1.21
Antiterra 202 抗沉降劑         0.49 0.95
Solsperse 9000 分散劑         0.71 1.25
oc-60 分散劑 3.85 6.65 3.44 6.13 0.85 1.19
熔塊 玻璃 76.89 56.6 79.28 59.98 67.35 41.88
Byk 410 觸變膠            
乙酸丁酯 溶劑            
乙醇 溶劑         8.36 17.23
總量   100 100 100 100 100 100
黏度 @ 1 sec-1 (P)   395   583   584  
黏度 @ 10 sec-1 (P)   189   284   750  
黏度 @ 100 sec-1 (P)   103   181   274  
表 7. 實例 17-19 的性質
實例20 實例21 實例22
成分 作用 重量 % 體積 % 重量 % 體積 % 重量 % 體積 %
乙基纖維素 黏著劑 0.8 1.09     0.7 1.0
Elvacite 2045* 黏著劑     1.59 2.45    
Texanol 溶劑 19.41 32.4 12.64 22.3 17.0 29.7
Byk 354 調平劑 0.67 1.12     0.6 1.0
Antiterra 202 抗沉降劑 0.46 0.87     0.4 0.8
Solsperse 9000 分散劑     0.43 0.79 0.6 1.1
oc-60 分散劑 0.66 1.14        
熔塊 玻璃 68 43.31 69.88 45.05 72.0 48.0
Byk 410 觸變膠     0.06 0.08    
乙酸丁酯 溶劑     15.4 29.33    
乙醇 溶劑 10 20.07     8.8 18.4
總量   100 100 100 100 100 100
黏度 @ 1 sec-1 (P)   1109   653   481  
黏度 @ 10 sec-1 (P)   764   408   106  
黏度 @ 100 sec-1 (P)   231   177   34  
表 8. 實例 20-22 的性質
在高速分散器（諸如Cowles或Sawblade的混合葉輪）中將實例14-22的成分與黏著劑及溶劑開始混合，以在混合物中剪切並分散黏著劑。將實例14-22以約1500至約1800 rpm混合達1與3小時之間。一旦黏著劑經完全溶解，添加各種添加劑，隨後將添加劑與黏著劑及溶劑混合額外的15分鐘。接下來，將熔塊粉末混入以產生熔塊糊狀物。用Mazauraster混合器完成初始混合，接著使用3輥研磨機進行三遍的第二次混合。藉由手完成進一步混合。
混合後，將實例14-22的熔塊糊狀物包裝、脫氣、及儲存在旋轉式輥研磨機上直至分配。在1秒-1 的低剪切速率及10秒-1 的中等剪切速率下測量糊狀物的黏度。
如以下參照實例23-24所述，將實例14-22分配成點及線。總而言之，實例14、15、16、及19的分配效能差。實例14太快流出。實例14、16、及19形成桁條(stringer)。實例15太黏以致於不能分配。相較之下，實例21及22具有良好的分配效能。實例21及22均具有良好的高度，流出很少。實例17、18及20具有平均效能。 實例23-24
在實例23及24中，將熔塊糊狀物施加到玻璃基板。用Nordson Asymtek Spectrum II的分配系統上的氣壓致動閥，將熔塊糊狀物精確地分配到玻璃基板上。分配閥包括具有活塞的注射器，並覆蓋有稱為接收器的空氣組件，並經安裝在用於精確分配的機器人上。附接GPD Global的S型噴嘴（21口徑）以分配熔塊糊狀物。
藉由形成點及線完成分配觸覺回饋的熔塊結構，以產生可以藉由手指觸摸來學習及識別的不同圖案。然後將針對這些圖案加以定義為關於為其分配什麼操作。經分配的點尺寸取決於所設置的參數及熔塊糊狀物的流變性。
利用於分配實例23（點）的不同參數包括作用在注射器上的氣壓（例如，以每平方英吋磅(psi)為單位的流體壓力）、閥門「開啟」時間的長度（以秒為單位）、噴嘴的口徑（例如，21口徑的噴嘴為0.022”/0.564 mm的內徑）、及噴嘴尖端與玻璃表面之間的間隙距離。用於分配實例24（線）的參數另包括線速度及移動前延遲。在以下表9中概述用以分配實例23及實例24中的觸覺回饋熔塊的參數。
  形狀 流體壓力 (psi) 定時 間隙 (mm) 移動前延遲
實例23 點 8.0 0.12秒 0.75 N/A
實例24 線 8.0 40.00 mm/秒 0.75 0.0 – 010 秒
表 9. 實例 23 及 24 的參數
決定實例23的點（諸如高度及直徑）以及實例24的線（諸如高度及寬度）的最終尺寸的其他因素是熔塊糊狀物的黏度以及糊狀物與玻璃表面的相互作用。較低黏度的材料更容易流出，並產生直徑大且高度低的點。
態樣(1)涉及一種經燒製的熔塊，經燒製的熔塊包含：熔塊粉末；黏著劑；以及溶劑。
態樣(2)涉及態樣(1)所述的經燒製的熔塊，其中熔塊粉末包含鹼金屬硼矽酸鹽玻璃。
態樣(3)涉及態樣(2)所述的經燒製的熔塊，其中鹼金屬硼矽酸鹽玻璃包含氧化鋰、氧化鈉、氧化鉀、氧化鎂、氧化鈣、氧化鋇、氧化鋅、氧化鋁、氧化硼、氧化矽、氧化鋯、氟化物、或上述的組合。
態樣(4)涉及態樣(1)至態樣(3)中任一者所述的經燒製的熔塊，其中熔塊粉末為約50體積%的經燒製的熔塊。
態樣(5)涉及態樣(1)至態樣(4)中任一者所述的經燒製的熔塊，其中熔塊粉末包含一或多個顆粒，一或多個顆粒中的每一者獨立地包含化學式RX OY -ZnO-B2 O3 -SiO2 的化合物，其中RX OY 表示一或多個鹼金屬氧化物。
態樣(6)涉及態樣(5)所述的經燒製的熔塊，其中熔塊粉末包含在從約30莫耳%至約50莫耳%的範圍內的三氧化二硼。
態樣(7)涉及態樣(1)至態樣(6)中任一者所述的經燒製的熔塊，其中熔塊粉末具有在從約400o C至約500o C的範圍內的玻璃轉移溫度。
態樣(8)涉及態樣(1)至態樣(7)中任一者所述的經燒製的熔塊，其中熔塊粉末具有在從約55x10-7 /o C至約85x10-7 /o C的範圍內的熱膨脹係數。
態樣(9)涉及態樣(1)至態樣(8)中任一者所述的經燒製的熔塊，其中熔塊粉末具有在從約550o C至約650o C的範圍內的軟化點。
態樣(10)涉及態樣(1)至態樣(9)中任一者所述的經燒製的熔塊，其中熔塊粉末具有在從約2.00 g/cm3 至約3.00 g/cm3 的範圍內的密度。
態樣(11)涉及態樣(1)至態樣(10)中任一者所述的經燒製的熔塊，其中經燒製的熔塊具有在從約500 P至約10,000 P的範圍內的黏度。
態樣(12)涉及態樣(1)至態樣(11)中任一者所述的經燒製的熔塊，進一步包含著色劑，其中著色劑為在從約5重量%至約10重量%的範圍內的經燒製的熔塊。
態樣(13)涉及一種觸覺回饋，觸覺回饋包含態樣(1)至態樣(12)中任一者所述的經燒製的熔塊。
態樣(14)涉及態樣(13)所述的觸覺回饋，其中經燒製的熔塊在約500o C至約700o C下燒製。
態樣(15)涉及態樣(13)或態樣(14)所述的觸覺回饋，其中觸覺回饋具有至多約2 mm的高度。
態樣(16)涉及態樣(13)至態樣(15)中任一者所述的觸覺回饋，其中觸覺回饋是彩色的、透明的、半透明的、亮面的、霧面的、或不透明的。
態樣(17)涉及態樣(13)至態樣(16)中任一者所述的觸覺回饋，其中觸覺回饋的剖面幾何形狀與基本上圓形一致。
態樣(18)涉及態樣(13)至態樣(17)中任一者所述的觸覺回饋，其中觸覺回饋的剖面幾何形狀與多邊形一致。
態樣(19)涉及態樣(13)至態樣(18)中任一者所述的觸覺回饋，其中觸覺回饋包含兩層或多層的請求項1所述的經燒製的熔塊。
態樣(20)涉及態樣(19)所述的觸覺回饋，其中兩層或多層的經燒製的熔塊具有基本上相似的組成物。
態樣(21)涉及態樣(19)或態樣(20)所述的觸覺回饋，其中兩層或多層的經燒製的熔塊具有不同的組成物。
態樣(22)涉及態樣(13)至態樣(21)中任一者所述的觸覺回饋，其中觸覺回饋包含微孔結構。
態樣(23)涉及一種製品，製品包含：玻璃基板；以及觸覺回饋，觸覺回饋包含請求項13-22中任一者所述的觸覺回饋，觸覺回饋經設置在玻璃基板上。
態樣(24)涉及態樣(23)所述的製品，其中基板具有從約75x10-7 /o C至約105x10-7 /o C的熱膨脹係數。
態樣(25)涉及態樣(23)或態樣(24)所述的製品，其中基板具有從約585o C至約630o C的退火點。
態樣(26)涉及態樣(23)至態樣(25)中任一者所述的製品，其中燒製溫度低於基板的退火溫度。
態樣(27)涉及態樣(23)至態樣(26)中任一者所述的製品，進一步包含黏合劑，將觸覺回饋接合到基板。
態樣(28)涉及態樣(23)至態樣(27)中任一者所述的製品，其中將觸覺回饋熔合到玻璃基板。
態樣(29)涉及一種方法，方法包含以下步驟：燒製熔塊糊狀物，以產生熔塊糊狀物的經燒製產物；以及離子交換處理基板及基板上的熔塊糊狀物。
態樣(30)涉及態樣(29)所述的方法，進一步包含以下步驟：藉由混合玻璃熔塊粉末、溶劑、及黏著劑製備熔塊糊狀物。
態樣(31)涉及態樣(29)或態樣(30)所述的方法，進一步包含以下步驟：在燒製之前，施加熔塊糊狀物到基板。
態樣(32)涉及態樣(31)所述的方法，其中施加步驟包含移液、筆分配、藉由噴嘴施加、擠壓、使用刮刀、3D列印、或網版印刷。
態樣(33)涉及態樣(29)至態樣(32)中任一者所述的方法，其中燒製熔塊糊狀物包含在約500o C至約700o C下燒製。
態樣(34)涉及態樣(29)至態樣(33)中任一者所述的方法，進一步包含以下步驟：後處理基板上的熔塊糊狀物。
態樣(35)涉及態樣(29)至態樣(34)中任一者所述的方法，進一步包含以下步驟：施加一或多個裝飾圖案或按鈕圖像。
態樣(36)涉及一種藉由態樣(29)至態樣(35)中任一者所述的方法製成的製品。
已採用的用語及表達被用作為描述性的用語而非限制性的用語，並且使用此類用語及表達不旨在排除所示出及所描述的特徵的任何均等物或其部分，而是應認識到，在本揭示內容的實施例的範圍內可以進行各種修改。因此，應理解，雖然已藉由具體實施例及可選的特徵具體地揭示本揭示內容，但是所屬技術領域中具有通常知識者可以採用本文中揭示的概念的修改及變化，並且此類修改及變化被認為是在本揭示內容的實施例的範圍內。 附加實施例
提供以下示例性實施例，其編號不被解釋為表示重要性程度：
實施例1提供一種經燒製的熔塊，經燒製的熔塊包括熔塊粉末、黏著劑、及溶劑。
實施例2提供實施例1所述的經燒製的熔塊，其中熔塊粉末包含鹼金屬硼矽酸鹽玻璃。
實施例3提供實施例1-2中任一者所述的經燒製的熔塊，其中鹼金屬硼矽酸鹽玻璃包含氧化鋰、氧化鈉、氧化鉀、氧化鎂、氧化鈣、氧化鋇、氧化鋅、氧化鋁、氧化硼、氧化矽、氧化鋯、氟化物、或上述的組合。
實施例4提供實施例1-3中任一者所述的經燒製的熔塊，其中熔塊粉末為約50體積%的經燒製的熔塊。
實施例5提供實施例1-4中任一者所述的經燒製的熔塊，其中熔塊粉末包含一或多個顆粒，一或多個顆粒中的每一者獨立地包含化學式RX OY -ZnO-B2 O3 -SiO2 的化合物，其中RX OY 表示一或多個金屬氧化物（諸如鹼金屬氧化物）。
實施例6提供實施例1-5中任一者所述的經燒製的熔塊，其中熔塊粉末包含在從約30莫耳%至約50莫耳%的範圍內的三氧化二硼。
實施例7提供實施例1-6中任一者所述的經燒製的熔塊，其中熔塊粉末具有在從約400o C至約500o C的範圍內的玻璃轉移溫度。
實施例8提供實施例1-7中任一者所述的經燒製的熔塊，其中熔塊粉末具有在從約55x10-7 /o C至約85x10-7 /o C的範圍內的熱膨脹係數。
實施例9提供實施例1-8中任一者所述的經燒製的熔塊，其中熔塊粉末具有在從約550o C至約650o C的範圍內的軟化點。
實施例10提供實施例1-9中任一者所述的經燒製的熔塊，其中熔塊粉末具有在從約2.00 g/cm3 至約3.00 g/cm3 的範圍內的密度。
實施例11提供實施例1-10中任一者所述的經燒製的熔塊，其中經燒製的熔塊具有在從約500 P至約10,000 P的範圍內的黏度。
實施例12提供實施例1-11中任一者所述的經燒製的熔塊，進一步包含著色劑，其中著色劑為在從約5重量%至約10重量%的範圍內的經燒製的熔塊。
實施例13提供一種觸覺回饋，觸覺回饋包含實施例1所述的經燒製的熔塊。
實施例14提供實施例13所述的觸覺回饋，其中經燒製的熔塊在約500o C至約700o C下燒製。
實施例15提供實施例13-14中任一者所述的觸覺回饋，其中觸覺回饋具有至多約2 mm的高度。
實施例16提供實施例13-15中任一者所述的觸覺回饋，其中觸覺回饋是彩色的、透明的、半透明的、亮面的、霧面的、或不透明的。
實施例17提供實施例13-16中任一者所述的觸覺回饋，其中觸覺回饋的剖面幾何形狀與基本上圓形一致。
實施例18提供實施例13-17中任一者所述的觸覺回饋，其中觸覺回饋的剖面幾何形狀與多邊形一致。
實施例19提供實施例13-18中任一者所述的觸覺回饋，其中觸覺回饋包含兩層或多層的請求項1所述的經燒製的熔塊。
實施例20提供實施例13-19中任一者所述的觸覺回饋，其中兩層或多層的經燒製的熔塊具有基本上相似的組成物。
實施例21提供實施例13-20中任一者所述的觸覺回饋，其中兩層或多層的經燒製的熔塊具有不同的組成物。
實施例22提供實施例13-21中任一者所述的觸覺回饋，其中觸覺回饋包含微孔結構。
實施例23提供一種製品，製品包括：玻璃基板以及觸覺回饋，觸覺回饋包含實施例13所述的觸覺回饋，觸覺回饋經設置在玻璃基板上。
實施例24提供實施例23所述的製品，其中基板具有從約75x10-7 /o C至約105x10-7 /o C的熱膨脹係數。
實施例25提供實施例23-24中任一者所述的觸覺回饋，其中基板具有從約585o C至約630o C的退火點。
實施例26提供實施例23-25中任一者所述的觸覺回饋，其中燒製溫度低於基板的退火溫度。
實施例27提供實施例23-26中任一者所述的觸覺回饋，進一步包含黏合劑，將觸覺回饋接合到基板。
實施例28提供實施例23-27中任一者所述的觸覺回饋，其中將觸覺回饋熔合到玻璃基板。
實施例29提供一種方法，方法包括以下步驟：燒製熔塊糊狀物，以產生熔塊糊狀物的經燒製產物，以及離子交換處理基板以及基板上的熔塊糊狀物。
實施例30提供實施例29所述的方法，進一步包含以下步驟：藉由混合玻璃熔塊粉末、溶劑、及黏著劑製備熔塊糊狀物。
實施例31提供實施例29-30中任一者所述的方法，進一步包含以下步驟：在燒製之前，施加熔塊糊狀物到基板。
實施例32提供實施例29-31中任一者所述的方法，其中施加步驟包含移液、筆分配、藉由噴嘴施加、擠壓、使用刮刀、3D列印、或網版印刷。
實施例33提供實施例29-32中任一者所述的方法，其中燒製熔塊糊狀物包含在約500o C至約700o C下燒製。
實施例34提供實施例29-33中任一者所述的方法，進一步包含以下步驟：後處理基板上的熔塊糊狀物。
實施例35提供一種藉由實施例29所述的方法製成的製品。
10:玻璃顯示器 12:觸覺回饋 14:基板
在附圖中，不一定按比例繪製，相似的符號在全部若干視圖中描述基本上相似的組件。具有不同字母尾碼的相似符號表示基本上相似的組件的不同實例。附圖以舉例的方式而非限制的方式大體示出本文件中討論的各種實施例。
第1圖示出在玻璃顯示器上的經燒製的熔塊糊狀物的觸覺回饋。
第2圖示出在玻璃顯示器上的各種圖案的經燒製的熔塊糊狀物的觸覺回饋。
國內寄存資訊(請依寄存機構、日期、號碼順序註記) 無 國外寄存資訊(請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記) 無

Claims (36)

  1. 一種經燒製之熔塊，包含： 一熔塊粉末； 一黏著劑；以及 一溶劑。
  2. 如請求項1所述之經燒製之熔塊，其中該熔塊粉末包含一鹼金屬硼矽酸鹽玻璃。
  3. 如請求項2所述之經燒製之熔塊，其中該鹼金屬硼矽酸鹽玻璃包含氧化鋰、氧化鈉、氧化鉀、氧化鎂、氧化鈣、氧化鋇、氧化鋅、氧化鋁、氧化硼、氧化矽、氧化鋯、氟化物、或上述之組合。
  4. 如請求項1所述之經燒製之熔塊，其中該熔塊粉末為約50體積%的該經燒製之熔塊。
  5. 如請求項1所述之經燒製之熔塊，其中該熔塊粉末包含一或多個顆粒，該一或多個顆粒中的每一者獨立地包含該化學式RX OY -ZnO-B2 O3 -SiO2 的一化合物，其中RX OY 表示一或多個鹼金屬氧化物。
  6. 如請求項5所述之經燒製之熔塊，其中該熔塊粉末包含在從約30莫耳%至約50莫耳%的一範圍內的三氧化二硼。
  7. 如前述請求項中任一項所述之經燒製之熔塊，其中該熔塊粉末具有在從約400o C至約500o C的一範圍內的一玻璃轉移溫度。
  8. 如請求項1至6中任一項所述之經燒製之熔塊，其中該熔塊粉末具有在從約55x10-7 /o C至約85x10-7 /o C的一範圍內的一熱膨脹係數。
  9. 如請求項1至6中任一項所述之經燒製之熔塊，其中該熔塊粉末具有在從約550o C至約650o C的一範圍內的一軟化點。
  10. 如請求項1至6中任一項所述之經燒製之熔塊，其中該熔塊粉末具有在從約2.00 g/cm3 至約3.00 g/cm3 的一範圍內的一密度。
  11. 如請求項1至6中任一項所述之經燒製之熔塊，其中該經燒製之熔塊具有在從約500 P至約10,000 P的一範圍內的一黏度。
  12. 如請求項1至6中任一項所述之經燒製之熔塊，進一步包含一著色劑，其中該著色劑為在從約5重量%至約10重量%的一範圍內的該經燒製之熔塊。
  13. 一種觸覺回饋，包含請求項1至6中任一項所述之經燒製之熔塊。
  14. 如請求項13所述之觸覺回饋，其中該經燒製之熔塊在約500o C至約700o C下燒製。
  15. 如請求項13所述之觸覺回饋，其中該觸覺回饋具有至多約2 mm的一高度。
  16. 如請求項13所述之觸覺回饋，其中該觸覺回饋是彩色的、透明的、半透明的、亮面的、霧面的、或不透明的。
  17. 如請求項13所述之觸覺回饋，其中該觸覺回饋的一剖面幾何形狀與一基本上圓形一致。
  18. 如請求項13所述之觸覺回饋，其中該觸覺回饋的一剖面幾何形狀與一多邊形一致。
  19. 如請求項13所述之觸覺回饋，其中該觸覺回饋包含兩層或多層的請求項1所述之經燒製之熔塊。
  20. 如請求項19所述之觸覺回饋，其中該等兩層或多層的該經燒製之熔塊具有一基本上相似的組成物。
  21. 如請求項19所述之觸覺回饋，其中該等兩層或多層的該經燒製之熔塊具有不同的組成物。
  22. 如請求項13所述之觸覺回饋，其中該觸覺回饋包含一微孔結構。
  23. 一種製品，包含： 一玻璃基板；以及 一觸覺回饋，包含請求項13所述之觸覺回饋，經設置在該玻璃基板上。
  24. 如請求項23所述之製品，其中該基板具有從約75x10-7 /o C至約105x10-7 /o C的一熱膨脹係數。
  25. 如請求項23所述之製品，其中該基板具有從約585o C至約630o C的一退火點。
  26. 如請求項23所述之製品，其中一燒製溫度低於該基板的一退火溫度。
  27. 如請求項23所述之製品，進一步包含一黏合劑，將該觸覺回饋接合至該基板。
  28. 如請求項23所述之製品，其中將該觸覺回饋熔合至該玻璃基板。
  29. 一種方法，包含以下步驟： 燒製一熔塊糊狀物，以產生該熔塊糊狀物的一經燒製產物；以及 離子交換處理該基板以及該基板上的該熔塊糊狀物。
  30. 如請求項29所述之方法，進一步包含以下步驟：藉由混合一玻璃熔塊粉末、一溶劑、及一黏著劑製備一熔塊糊狀物。
  31. 如請求項29或請求項30所述之方法，進一步包含以下步驟：在燒製之前，施加該熔塊糊狀物至該基板。
  32. 如請求項31所述之方法，其中該施加步驟包含移液、筆分配、藉由噴嘴施加、擠壓、使用一刮刀、3D列印、或網版印刷。
  33. 如請求項29或請求項30所述之方法，其中燒製該熔塊糊狀物包含在約500o C至約700o C下燒製。
  34. 如請求項29或請求項30所述之方法，進一步包含以下步驟：後處理該基板上的該熔塊糊狀物。
  35. 如請求項29或請求項30所述之方法，進一步包含以下步驟：施加一或多個裝飾圖案或按鈕圖像。
  36. 一種藉由請求項29或請求項30所述之方法製成之製品。
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DE102011115379B4 (de) * 2011-10-10 2018-09-27 Schott Ag Beschichtetes Glas- oder Glaskeramik-Substrat mit haptischen Eigenschaften und Glaskeramik-Kochfeld
DE102015110121A1 (de) * 2015-06-24 2016-12-29 Schott Ag Verfahren zur Herstellung eines Substrates mit einer texturierten Beschichtung auf Glasbasis und beschichtetes Substrat
CO2017013094A1 (es) * 2017-09-30 2018-03-28 Agp America Sa Artículo de vidrio con frita de vidrio y método de formación de fritas de vidrio
US11691912B2 (en) * 2018-12-18 2023-07-04 Apple Inc. Chemically strengthened and textured glass housing member

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