JP2016111343A - 基板保持装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1を用いて、第1の実施形態に係る露光装置(リソグラフィ装置)1の構成について説明する。露光装置1は、ステップ・アンド・リピート方式にてレチクル2及び基板3を走査させながら、照明光(ビーム)6としてi線(波長365nm)を照射して、レチクル2に形成されているパターン(例えば回路パターン等)を基板3上に転写する投影型露光装置である。なお、図1において、投影光学系4の光軸(本実施形態では鉛直方向)に平行な軸をZ軸としている。Z軸に垂直な平面内において、露光時にレチクル2が走査する方向をX軸、当該X軸に直交する非走査方向をY軸としている。
そこで、図5(a)に示すチャック16を用いて、チャック16の中央部よりも周縁部に吸着孔32を多く形成していることによる吸着効果を確かめた。外周側が中心よりも1.7mm鉛直上向きに沿っている御椀型の基板3の吸着動作を行った。また比較例として、図5(b)に示すように、中央部に6個の吸着孔48が形成されたチャック50と、チャック50の外周に沿って配置されたリップシール31を用いて、同じ反り度合いの基板の吸着動作を行った。
第1の実施形態に係る保持装置10とは、吸着孔37の大きさ及び吸着孔32、37の配置が異なる。
図7は、第3の実施形態に係る保持装置10を+Z方向から見た図である。チャック16の吸着孔32は、同じ大きさ、同じ形状、一定間隔で形成されている。図7では、基板保持面における平面図形を2/3に縮小した領域を中央部としている。しかし、基板保持面における平面図形を2/3以上4/5以下に縮小した領域であれば構わない。
第1〜第3の実施形態において、基板3の搬入動作中に、弁34から真空源33bまでの間の空間を排気しておくことが好ましい。吸着動作開始の瞬間に一気に空間35内の空気を排気することができ、少ない排気流量の真空源33bであっても吸着することが容易となる。
本発明の一実施形態に係る物品(半導体集積回路素子、液晶表示素子、撮像素子、磁気ヘッド、CD−RW、光学素子、フォトマスク等)の製造方法は、リソグラフィ装置を用いて基板(ウエハやガラス板等)上にパターンを露光する工程と、露光された基板に対してエッチング処理及びイオン注入処理の少なくともいずれか一方を施す工程とを含む。さらに、他の周知の処理工程(現像、酸化、成膜、蒸着、平坦化、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含んでも良い。
3 基板
16 チャック(保持部材)
31 リップシール(シール部材)
32 吸着孔(吸気孔)
35空間
Claims (12)
- 基板を保持する基板保持装置であって、
基板との間の空間を排気するための複数の吸気孔が設けられた保持部材と、
前記保持部材の段差部の低い方に設けられ、前記空間を規定する環状のシール部材と、を有し、
前記保持部材の保持面における平面図形の中心と同じ中心を有し、前記平面図形を2/3以上4/5以下に縮小した図形の内側である第1領域と、前記第1領域と前記シール部材との間の第2領域と、を設定した場合に、
(前記第2領域に設けられた吸気孔の総面積/前記第2領域の面積)>(前記第1領域と前記第2領域を足し合わせた領域に設けられた吸気孔の総面積/前記第1領域と前記第2領域を足し合わせた領域の面積)
を満たすように前記複数の吸気孔が設けられ、
前記複数の吸気孔は共通の管と連通していることを特徴とする基板保持装置。 - 基板を保持する基板保持装置であって、
基板との間の空間を排気するための複数の吸気孔が設けられた保持部材と、
前記保持部材の段差部の低い方に設けられ、前記空間を規定する環状のシール部材と、
前記吸気孔を介して行う排気流量を制御する制御部と、を有し、
前記複数の吸気孔は共通の管と連通しており、
前記保持部材の保持面における平面図形の中心と同じ中心を有し、前記平面図形を2/3以上4/5以下に縮小した図形の内側である第1領域と、前記第1領域と前記シール部材との間の第2領域と、を設定した場合に、
前記制御部は、
(前記第2領域に設けられた吸気孔を介して行う排気の排気流量/第2領域の面積)>(前記第1領域と前記第2領域を足し合わせた領域に設けられた吸気孔を介して行う排気の排気流量/前記第1領域と前記第2領域を足し合わせた領域の面積)
を満たすように前記排気流量を制御することを特徴とする基板保持装置。 - 前記第1の領域には少なくとも1つの前記吸気孔が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の基板保持装置。
- 前記第2の領域における1つの吸気孔の孔面積が、前記第1の領域における1つの吸気孔の孔面積の2倍以上であることを特徴とする請求項3に記載の基板保持装置。
- 前記第1領域が前記平面図形を4/5に縮小した図形の内側であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の基板保持装置。
- 前記保持部材に設けられている吸気孔は3つ以上あり、少なくとも3つの吸気孔が一直線上に無いことを特徴とすることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の基板保持装置。
- 少なくとも1つの前記吸気孔は前記シール部材と対面するように前記段差部の側面に設けられていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の基板保持装置。
- 前記シール部材は、弾性の高分子材料であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の基板保持装置。
- 基板を保持する基板保持装置であって、
基板との間の空間を排気するための吸気孔が設けられた保持部材と、
前記保持部材の段差部の低い方に設けられ、前記空間を規定する円形のシール部材と、を有し、
前記保持部材の保持面の中心と同心の円であって、かつ前記円の内側である第1領域の面積と前記円の外側である第2領域の面積とが互いに同じになる円を設定した場合に、
前記第2領域に設けられている吸気孔の総面積が、前記第1領域と前記第2領域を足し合わせた領域に設けられている吸気孔の総面積の5割より大きくなるように、前記吸気孔設けられていることを特徴とする基板保持装置。 - 前記第2領域に設けられている吸気孔の総面積が、前記第1領域と前記第2領域を足し合わせた領域に設けられている吸気孔の総面積の10割以下となるように、前記吸気孔が設けられていることを特徴とする請求項9に記載の基板保持装置。
- 請求項1乃至10のいずれか1項に記載の保持装置を有し、
前記保持装置で保持された基板に対してビームを照射し、前記基板上にパターンを形成することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 請求項11に記載のリソグラフィ装置を用いて基板上にビームを照射する工程と、
前記基板に対してエッチング処理及びイオン注入処理の少なくともいずれか一方を施す工程と、を有することを特徴とする物品の製造方法。
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