JP2014071206A - プロキシミティ露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】マスクと基板を接近させた際にマスクと基板との間にある圧縮された空気を素早く排出し、生産効率の向上を図ることができるプロキシミティ露光装置を提供する。
【解決手段】プロキシミティ露光装置１００は、マスクホルダ２０と、制御部３０とを備えている。マスクホルダ２０は、本体部２１と、空気室用真空手段３２と、エアー吸引路３４とを備えている。本体部２１は、マスク２の周縁部を吸着保持するマスクマスク吸着溝２２と、マスク２の中央部の上部に位置する空気室２７と、を有する。制御部３０は、通常時では空気室２７の圧力をマスク２の自重によるたわみを補正する第１の圧力値に制御し、マスク２と基板１を接近させる際に、空気室２７の圧力を第１の圧力値よりも高い圧力である第２の圧力値に制御する。
【選択図】図３

Description

本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、プロキシミティ方式を用いて基板の露光を行うプロキシミティ露光装置に関するものである。

表示用パネル基板としては、例えば液晶ディスプレイ装置を構成するＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板及びカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイ用基板や有機ＥＬ（Electroluminescence）基板等が挙げられる。これらの表示用パネル基板の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われる。

露光装置としては、レンズ又は鏡を用いてマスクのパターンを基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式とがある。プロキシミティ方式は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能は劣るが、照射光学系の構成が簡単で、かつ処理能力が高く量産用に適している。

従来の、この種のプロキシミティ方式を用いた露光装置としては、例えば、特許文献１に記載されているようなものがある。この特許文献１に記載されたプロキシミティ露光装置は、マスクの周縁部を保持することでマスクの上方に気密室を形成するマスクホルダを備えている。比較的に大型のマスクは、マスクホルダに保持された際、中心部がその自重によって重力方向に弧状にたわむ。そのため、特許文献１に記載されたプロキシミティ露光装置では、気密室のエアーを吸引することで、マスクのたわみを補正している。

特開２００３−１３１３８８号公報

しかしながら、従来のプロキシミティ露光装置では、マスクと基板を接近させた際、マスクと基板との間の空気が圧縮され、この圧縮された空気に押されてマスクが変形していた。マスクが変形した状態で露光するとマスクパターンが歪んで転写されてしまう。そのため、圧縮された空気がマスクと基板との隙間から抜けて、マスクの形状が元に戻り、マスクと基板との間隔（Ｇａｐ）が安定するまで露光を待たなければならなかった。その結果、従来のプロキシミティ露光装置では、マスクと基板とのＧａｐを安定させて露光するまでの工程にかかる時間が長くなり、生産効率が低下する、という問題を有していた。

また、従来のプロキシミティ露光装置では、空気室である気密室の圧力が常に一定の圧力値となるように制御するものがあった。そして、マスクが圧縮された空気に押されて変形すると、空気室の体積が少なくなり、空気室の圧力が上昇する。そのため、このようなプロキシミティ露光装置では、マスクが変形して圧力が上昇した空気室の圧力を所定値に戻すために、空気室のエアーがさらに吸引されていた。その結果、圧縮された空気がマスクと基板との隙間から抜けて、マスクの形状が元に戻るまでさらに時間がかかる可能性が有った。

本発明の目的は、上記従来技術における実情を考慮し、マスクと基板を接近させた際にマスクと基板との間にある圧縮された空気を素早く排出し、生産効率の向上を図ることができるプロキシミティ露光装置を提供することにある。

上記課題を解決し、本発明の目的を達成するため、本発明のプロキシミティ露光装置は、マスクと基板との間に所定の間隔を設けて、マスクのパターンを基板へ転写するものであって、基板が搭載されるチャックと、マスクホルダと、制御部と、を備えている。
マスクホルダは、チャックに搭載された基板の上方でマスクを保持する。マスクホルダは、本体部と、空気室用真空手段と、エアー吸引路と、を備えている。
本体部は、枠体状に形成され、マスクの周縁部を吸着保持するマスク吸着溝と、マスクの中央部の上部に位置する空気室と、を有する。空気室用真空手段は、本体部の空気室のエアーを吸引する。また、エアー吸引路は、空気室と空気室用真空手段を接続する。
制御部は、マスクホルダを制御する。また、制御部は、通常時では空気室の圧力をマスクの自重によるたわみを補正する第１の圧力値に制御し、マスクと基板を接近させる際に、空気室の圧力を第１の圧力値よりも高い圧力である第２の圧力値に制御する。

また、本発明の他のプロキシミティ露光装置は、マスクと基板との間に所定の間隔を設けて、マスクのパターンを基板へ転写するものであって、基板が搭載されるチャックと、マスクホルダと、を備えている。
マスクホルダは、チャックに搭載された基板の上方でマスクを保持する。また、マスクホルダは、本体部と、空気室用真空手段と、エアー吸引路と、バルブとを備えている。
本体部は、枠体状に形成され、マスクの周縁部を吸着保持するマスク吸着溝と、マスクの中央部の上部に位置する空気室と、を有する。空気室用真空手段は、本体部の空気室のエアーを吸引する。エアー吸引路は、空気室と空気室用真空手段を接続する。バルブは、エアー吸引路に設けられ、エアー吸引路を通過するエアーの流量を略一定に保つ。

上記構成のプロキシミティ露光装置によれば、空気室の圧力を通常時よりも高めることで、マスクと基板との間の圧縮された空気を素早く排出することができ、生産効率の向上を図ることができる。

本発明の実施の形態例にかかるプロキシミティ露光装置を示す概略構成図である。 図１に示すプロキシミティ露光装置におけるチャックを露光位置へ移動した状態を示す概略構成図である。 本発明の実施の形態例にかかるプロキシミティ露光装置の要部を示す断面図である。 本発明の実施の形態例にかかるプロキシミティ露光装置のマスクホルダの制御系を示すブロック図である。 本発明の実施の形態例にかかるプロキシミティ露光装置のＧａｐ制御時の動作を示すもので、マスクホルダを基板に接近させた状態を示す説明図である。 本発明の実施の形態例にかかるプロキシミティ露光装置のＧａｐ制御時の動作を示すもので、マスクと基板との間にある空気が抜ける状態を示す説明図である。 本発明の実施の形態例にかかるプロキシミティ露光装置のＧａｐ制御時の動作を示すもので、Ｇａｐ制御が完了した状態を示す説明図である。

以下、プロキシミティ露光装置を実施するための形態について、図１〜図７を参照して説明する。なお、各図において共通の部材には、同一の符号を付している。また、本発明は、以下の形態に限定されるものではない。

［プロキシミティ露光装置の構成例］
まず、本発明の実施の形態例（以下、「本例」という。）にかかるプロキシミティ露光装置ついて、図１〜図４を参照して説明する。
図１は本例のプロキシミティ露光装置を示す概略構成図、図２はチャックを露光位置へ移動した状態を示す図である。

図１に示すプロキシミティ露光装置は、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式を用いてマスクのパターンを基板へ転写する装置である。

図１に示すように、プロキシミティ露光装置１００は、ベース３と、Ｘガイド４と、Ｘステージ５と、Ｙガイド６と、Ｙステージ７と、θステージ８と、チャック支持台９と、基板１を保持するチャック１０を備えている。また、プロキシミティ露光装置１００は、マスク２を保持するマスクホルダ２０と、マスクホルダ２０を制御する制御部３０（図４参照）を有している。

プロキシミティ露光装置１００は、これらの他に、基板１をチャック１０へ搬入し、また基板１をチャック１０から搬出する基板搬送ロボット、マスク搬送ロボットや、露光光を照射する照射光学系、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。マスク搬送ロボットは、マスク２をマスクホルダ２０へ搬入し、またマスク２をマスクホルダ２０から搬出する。

ベース３は、プロキシミティ露光装置１００の下部に設けられている略平板状の部材である。ベース３の上面には、レール状のＸガイド４が設けられている。Ｘガイド４は、基板１がチャック１０へ搬入され、また基板１がチャック１０から搬出されるロード／アンロード位置Ａと、チャック１０に搭載された基板１を露光する露光位置Ｂと、の間におけるチャック１０の移動をガイドする。以下の説明において、ベース３の水平面上の一方向をＸ方向とし、ベース３の水平面上であってＸ方向に直交する方向をＹ方向とする。また、Ｘ方向及びＹ方向に直交する方向をＺ方向（上下方向）とする。

プロキシミティ露光装置１００は、基板１をＸＹ方向へ間歇的に移動させて（ステップ移動させて）、基板１の一面を複数のショットに分けて露光する。

図２に示すように、基板１が搭載されたチャック１０は、ロード／アンロード位置Ａから露光を行う露光位置Ｂに移動する。露光位置Ｂの上方には、マスクホルダ２０が設置されている。

次に、図３及び図４を参照してマスクホルダ２０について説明する。
図３は、マスクホルダ２０の断面図である。

図３に示すように、マスクホルダ２０は、マスク２を吸着保持する本体部２１と、マスク２と基板１との間隔（Ｇａｐ）を検出するＧａｐセンサ４０と、負圧制御コントローラ４１とを有している。また、マスクホルダ２０は、本体部２１を昇降動作させるマスク昇降機構４２（図４参照）を有している。本体部２１は、マスク昇降機構４２によってＺ方向に沿って昇降することにより、チャック１０に載置された基板１に接近または離反する。

なお、本例では、マスクホルダ２０を動作させて基板１に接近または離反させた例を説明したが、これに限定されるものではなく、基板１が載置されたチャック１０を昇降動作させて、基板１をマスクホルダ２０に接近または離反させてもよい。

本体部２１は、枠体状に形成されており、中央部には、略四角形状に開口した開口部２１ａが形成されている。開口部２１ａは、本体部２１をＺ方向、すなわち本体部２１の一面２１ｂから、一面２１ｂと反対側の他面２１ｃにかけて貫通している。

本体部２１の一面２１ｂにおける開口部２１ａの周縁部には、マスク吸着溝２２が設けられている。マスク吸着溝２２には、マスク吸引路２３が接続されており、このマスク吸引路２３には、マスク吸着バルブ２４が設けられている。また、マスク吸引路２３は、マスク吸着用真空手段２５に接続されている。マスク吸着用真空手段２５としては、例えば真空ポンプや、真空室等その他各種の空気を吸い出す手段が適用されるものである。マスク吸着用真空手段２５が動作することで、マスク吸着溝２２が負圧になり、マスク２の周縁部を吸着する。これにより、マスク２は、開口部２１ａの一面２１ｂ側を塞ぐようにして本体部２１に吸着保持される。

また、本体部２１の他面２１ｃにおける開口部２１ａの周縁部には、他面２１ｃから一面２１ｂ側に向けて一段凹んだ段差部２１ｄが形成されている。この段差部２１ｄには、開口部２１ａを塞ぐように略平板状の上蓋２６が取り付けられている。そして、本体部２１に吸着保持されたマスク２と、開口部２１ａと、上蓋２６によって、空気室２７が形成されている。

なお、上蓋２６と段差部２１ｄは、密閉されていない。そのため、上蓋２６と段差部２１ｄとの間から外部の空気が空気室２７に流れ込む。

さらに、本体部２１のＺ方向の上方には、Ｇａｐセンサ４０が設けられている。Ｇａｐセンサ４０は、本体部２１と共にマスク昇降機構４２（図４参照）によってＺ方向に沿って昇降する。このＧａｐセンサ４０は、本体部２１に吸着保持されたマスク２と基板１との間隔を計測する。

マスクホルダ２０は、圧力計２８と、開閉バルブであるＯＮ／ＯＦＦバルブ２９と、流量調整バルブ３１と、空気室用真空手段３２と、負圧制御コントローラ４１とを有している。圧力計２８は、差圧測定用接続路３３を介して本体部２１の空気室２７に接続されている。圧力計２８は、空気室２７の圧力と大気圧との差（以下、単に圧力という）を測定する。圧力計２８は、負圧制御コントローラ４１に接続されている。そして、圧力計２８は、測定した圧力情報を負圧制御コントローラ４１に出力する。

空気室用真空手段３２は、エアー吸引路３４を介して空気室２７に接続されている。そして、空気室用真空手段３２は、空気室２７内のエアーを吸引する。エアー吸引路３４には、ＯＮ／ＯＦＦバルブ２９と流量調整バルブ３１が設けられている。ＯＮ／ＯＦＦバルブ２９は、エアーが通過するエアー吸引路３４を開閉可能に構成されている。空気室用真空手段３２としては、マスク吸着用真空手段２５と同様に、例えば真空ポンプや、真空室等その他各種の空気を吸い出す手段が適用されるものである。

流量調整バルブ３１は、バルブの開口径を任意に変更可能に構成されている。そして、流量調整バルブ３１は、バルブの開口径を変更することで、エアー吸引路３４を通過するエアーの量を調整する。これにより、空気室２７の圧力を所定の値に調整することができる。また、流量調整バルブ３１は、負圧制御コントローラ４１に接続されている。そして、負圧制御コントローラ４１は、圧力計２８が測定した値に応じて流量調整バルブ３１の開口径を調整する。

図４は、マスクホルダ２０の制御系を示すブロック図である。
図４に示すように、マスクホルダ２０は、制御部３０と、この制御部３０に接続されたＧａｐセンサ４０、負圧制御コントローラ４１及びマスク昇降機構４２とを有している。Ｇａｐセンサ４０は、マスク２と基板１との間隔（Ｇａｐ）を測定し、制御部３０に出力する。さらに、制御部３０は、マスク昇降機構４２を制御し、本体部２１をＺ方向に昇降させる。

また、負圧制御コントローラ４１には、制御部３０から制御信号が出力される。そして、負圧制御コントローラ４１は、制御部３０から送られた制御信号に基づいて流量調整バルブ３１を制御し、空気室２７の圧力を所定の値に調整する。

ここで、マスク２は、本体部２１に吸着保持された際、中央部がその自重によりＺ方向の下方に向かって弧状にたわむ。そのため、制御部３０は、露光を行う露光時や基板１が露光位置に搬送される時等（以下、「通常時」という）では、空気室２７の圧力を大気圧よりも低い第１の圧力値に制御している。これにより、マスク２の中央部は、Ｚ方向の上方に浮上し、自重によるたわみが補正される。その結果、マスク２の面を基板１の面と略平行に保つことができる。

また、制御部３０は、マスク２と基板１とを接近させて、マスク２と基板１とのＧａｐを制御する時（以下、「Ｇａｐ制御」という）では、空気室２７の圧力を第１の圧力値よりも高い圧力である第２の圧力値に制御している。なお、第２の圧力値は、大気圧よりも低く、あるいは大気圧と同じ値である。

［プロキシミティ露光装置のＧａｐ制御の動作例］
次に、上述した構成を有するプロキシミティ露光装置１００のＧａｐ制御の動作例について図１，図２及び図５〜図７を参照して説明する。
図５〜図７は、Ｇａｐ制御中のプロキシミティ露光装置１００を示す断面図である。

まず、図１に示すように、プロキシミティ露光装置１００は、チャック１０をロード／アンロード位置Ａに移動させる。そして、作業員または搬送装置によってチャック１０に基板１が搭載される。チャック１０に基板１が搭載されると、チャック１０は、図２に示すように、マスクホルダ２０のＺ方向の下方、すなわち露光位置Ｂに移動する。なお、マスクホルダ２０の本体部２１には、マスク２が予め吸着保持されている。このとき、空気室２７の圧力は、第１の圧力値に制御されている。

チャック１０が露光位置に移動すると、制御部３０は、マスク昇降機構４２を制御して、図５に示すように本体部２１をＺ方向に沿って下降させる。このとき、制御部３０は、空気室２７の圧力を第１の圧力値から第１の圧力値よりも高い第２の圧力値に制御する。

マスク２と基板１とが接近すると、マスク２と基板１との間にある空気Ｓ１が圧縮される。その結果、マスク２は、圧縮された空気Ｓ１によって押されてＺ方向の上方に向かって弧状に反る。しかしながら、空気室２７の圧力は、通常時の第１の圧力値よりも高い第２の圧力値に設定している。

そのため、図６に示すように、圧縮された空気Ｓ１は、マスク２を介して通常時よりも高い圧力の空気室２７のエアー（空気）Ｓ２によって押される。これにより、圧縮された空気Ｓ１を、マスク２の周辺から迅速に排出することができるため、マスク２と基板１との間における圧力を素早く大気圧に戻すことができる。

制御部３０は、空気室２７の圧力を第１の圧力値から第２の圧力値に変更してから、所定の時間（例えば、１秒間）経過すると、空気室２７の圧力を第２の圧力値から第１の圧力値に戻す。また、制御部３０は、Ｇａｐセンサ４０が測定した基板１とマスク２とのＧａｐ信号に基づいて、空気室２７の圧力を第２の圧力値から第１の圧力値に戻してもよい。また、マスク２がその自重によってＺ方向の下方にたわみ、マスク２と基板１が接触することを防ぐために、空気室２７の圧力は、マスク２が平坦化する直前に第２の圧力値から第１の圧力値に戻すことが好ましい。

マスク２と基板１との間における圧力が大気圧に戻ると、図７に示すように、マスク２が平坦化し、マスク２の面が基板１の面に対して略平行になる。そして、マスク２と基板１とのＧａｐが安定し、Ｇａｐセンサ４０の測定値が予め設定したＧａｐ値となると、Ｇａｐ制御が終了する。Ｇａｐ制御が終了すると、基板１に対して露光が行われる。

上述したように、本例のプロキシミティ露光装置１００によれば、Ｇａｐ制御を行う際に空気室２７の圧力を通常時よりも高めることで、マスク２の下方で圧縮された空気Ｓ１を押し出す力を通常時よりも高めている。そのため、圧縮された空気Ｓ１によって変形したマスク２を素早く平坦に戻すことができる。これにより、Ｇａｐ制御にかかる時間を短縮することができ、生産効率の向上を図ることが可能となる。

［他の変形例］
なお、上述した実施の形態例では、制御部３０が空気室２７の圧力を第１の圧力値と第２の圧力値に制御した例を説明したが、これに限定されるものではない。例えば、下記の第１の変形例や第２の変形例としてもよい。

第１の変形例としては、マスク２と基板１とを接近させる際に、制御部３０が所定時間のみＯＮ／ＯＦＦバルブ２９を閉め（ＯＦＦにする）、空気室２７のエアーを吸引することを一時的に停止させる。空気室２７のエアーの吸引を停止させることで、空気室２７には、上蓋２６と段差部２１ｄとの間から外部の空気が流れ込む。これにより、空気室２７の圧力は、大気圧とほぼ等しくなり、通常時の設定圧力値である第１の圧力値よりも高くなる。その結果、圧縮された空気Ｓ１を押し出す力を高めることができ、変形したマスク２を素早く平坦に戻すことができる。

なお、第１の変形例では、所定時間のみＯＮ／ＯＦＦバルブ２９を閉める例を説明したが、これに限定されるものではなく、Ｇａｐセンサ４０が測定したマスク２と基板１とのＧａｐ値に応じてＯＮ／ＯＦＦバルブ２９のＯＮとＯＦＦを切り換えてもよい。

また、第２の変形例としては、マスク２と基板１とを接近させる際に、制御部３０が負圧制御コントローラ４１を停止（ＯＦＦ）し、空気室２７の圧力制御を停止させる。負圧制御コントローラ４１をＯＦＦにすると、流量調整バルブ３１の開口径は、一定の値で固定される。

ここで、図５及び図６に示すように、マスク２をＺ方向に下降させると、マスク２と基板１との間の空気Ｓ１が圧縮され、マスク２の下方の圧力が上昇する。そして、マスク２は、圧縮された空気Ｓ１によって押されてＺ方向の上方に向かって弧状に反る。マスク２がＺ方向の上方に反ることで、空気室２７の体積が縮小し、空気室２７の圧力は、第１の圧力値よりも上昇する。

上述したように、第２の変形例では、マスク２と基板１とを接近させる際に空気室２７の圧力制御を停止させて流量調整バルブ３１の開口径を固定している。そのため、空気室２７の圧力は、第１の圧力値よりも高くなる。その結果、圧縮された空気Ｓ１を押し出す力を高めることができ、マスク２を素早く平坦に戻すことができる。また、圧力制御のＯＮ／ＯＦＦの切り換えは、上述した実施の形態例や第１の変形例と同様に、時間で制御してもよく、Ｇａｐセンサ４０の測定したマスク２と基板１とのＧａｐ値に基づいて制御してもよい。

また、第２の変形例では、圧力制御をＯＦＦにすることで流量調整バルブ３１の開口径を固定する例を説明したが、これに限定されるものではない。例えば、マスク２と基板１とを接近させる際、制御部３０は、流量調整バルブ３１の開口径が一定となるように制御してもよい。または、開口径を任意に変更可能な流量調整バルブ３１ではなく、開口径が固定されたバルブをエアー吸引路３４に設けてもよい。これにより、圧力制御をＯＦＦにした状態と同様の状態にすることができ、第２の変形例と同様の効果及び作用を得ることができる。

以上、本発明の露光装置の実施の形態について、その作用効果も含めて説明した。しかしながら、本発明の露光装置は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変形実施が可能である。

１…基板、 ２…マスク、 ３…ベース、 ９…チャック支持台、 １０…チャック、 ２０…マスクホルダ、 ２１…本体部、 ２１ａ…開口部、 ２１ｂ…一面、 ２１ｃ…他面、 ２１ｄ…段差部、 ２２…マスク吸着溝、 ２３…マスク吸引路、 ２４…マスク吸着バルブ、 ２５…マスク吸着用真空手段、 ２６…上蓋、 ２７…空気室、 ２８…圧力計、 ２９…ＯＮ／ＯＦＦバルブ（開閉バルブ）、 ３０…制御部、 ３１…流量調整バルブ、 ３２…空気室用真空手段、 ３３…差圧測定用接続路、 ３４…エアー吸引路、 ４０…Ｇａｐセンサ、 ４１…負圧制御コントローラ、 ４２…マスク昇降機構、 １００…プロキシミティ露光装置

Claims (8)

1. マスクと基板との間に所定の間隔を設けて、前記マスクのパターンを前記基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、
   前記基板が搭載されるチャックと、
   前記チャックに搭載された前記基板の上方で前記マスクを保持するマスクホルダと、
   前記マスクホルダを制御する制御部と、を備え、
   前記マスクホルダは、
   枠体状に形成され、前記マスクの周縁部を吸着保持するマスク吸着溝と、前記マスクの中央部の上部に位置する空気室と、を有する本体部と、
   前記本体部の前記空気室のエアーを吸引する空気室用真空手段と、
   前記空気室と前記空気室用真空手段を接続するエアー吸引路と、を備え、
   前記制御部は、通常時では前記空気室の圧力を前記マスクの自重によるたわみを補正する第１の圧力値に制御し、前記マスクと前記基板を接近させる際に、前記空気室の圧力を前記第１の圧力値よりも高い圧力である第２の圧力値に制御する
   プロキシミティ露光装置。
2. 前記制御部は、所定の時間経過すると前記空気室の圧力を前記第２の圧力値から前記第１の圧力値に制御する
   請求項１に記載のプロキシミティ露光装置。
3. 前記基板と前記マスクとの間隔を測定するＧａｐセンサを設け、
   前記制御部は、前記Ｇａｐセンサが測定した値に基づいて前記空気室の圧力を前記第２の圧力値から前記第１の圧力値に制御する
   請求項１に記載のプロキシミティ露光装置。
4. 前記第２の圧力値は、大気圧以下である
   請求項１に記載のプロキシミティ露光装置。
5. 前記エアー吸引路を通過する空気の流量を調整する流量調整バルブを設け、
   前記制御部は、前記流量調整バルブの開口径を調整することで、前記空気室の圧力を前記第１の圧力値または前記第２の圧力値に制御する
   請求項１に記載のプロキシミティ露光装置。
6. 前記制御部は、前記流量調整バルブの開口径を所定の開口径に固定することで、前記空気室の圧力を前記第１の圧力値から前記第２の圧力値に制御する
   請求項５に記載のプロキシミティ露光装置。
7. 前記エアー吸引路には、前記エアー吸引路を開閉可能に構成された開閉バルブが設けられ、
   前記制御部は、前記開閉バルブを閉じることで、前記空気室の圧力を前記第１の圧力値から前記第２の圧力値に制御する
   請求項１に記載のプロキシミティ露光装置。
8. マスクと基板との間に所定の間隔を設けて、前記マスクのパターンを前記基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、
   前記基板が搭載されるチャックと、
   前記チャックに搭載された前記基板の上方で前記マスクを保持するマスクホルダと、
   前記マスクホルダは、
   枠体状に形成され、前記マスクの周縁部を吸着保持するマスク吸着溝と、前記マスクの中央部の上部に位置する空気室と、を有する本体部と、
   前記本体部の前記空気室のエアーを吸引する空気室用真空手段と、
   前記空気室と前記空気室用真空手段を接続するエアー吸引路と、
   前記エアー吸引路に設けられ、前記エアー吸引路を通過する前記エアーの流量を略一定に保つバルブと、を備えた
   プロキシミティ露光装置。