JP2015224171A - ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
に対処しているのが現状である。
製造装置50の成形炉51内部には、断面楔状の外表面形状を有する成形体52が配設されており、図示しない溶融窯で溶融されたガラス(溶融ガラス)を成形体52に供給することで、当該溶融ガラスが成形体52の頂部から溢れ出るようになっている。そして、溢れ出た溶融ガラスは、成形体52の断面楔状を呈する両側面を伝って下端で合流することで、溶融ガラスからガラスリボンGの成形が開始されるようになっている。成形体52下端で合流した直後のガラスリボンGは、冷却ローラ(エッジローラ)53によって幅方向の収縮が規制されながら下方へ引き伸ばされて所定の厚みまで薄くなる。次に、前記所定厚みに達したガラスリボンGをローラ54で送りだすことにより、徐冷炉(アニーラ)で徐々に冷却し、ガラスリボンGの熱歪を除き、徐冷されたガラスリボンGを室温程度の温度にまで十分に冷却するようになっている。徐冷炉を通過したガラスリボンGは、湾曲補助ローラ55によって鉛直方向から水平方向へと進行方向を変えた後、ガラスリボンGの幅方向両端部に存在する不要部分(冷却ローラ53やローラ54等が接触した部分)を長手方向切断装置56で切断する。その後、幅方向切断装置57で所定幅毎に切断を行うことによって、本発明で使用されるガラス基板11を得ることができる。尚、幅方向切断装置57で幅方向に切断した後、長手方向切断装置56でガラスフィルムリボンGの不要部分を切断除去することによって、ガラス基板11を作製してもよい。また、上述の製造装置50では、枚葉式でガラス基板11を作製する方法について説明したが、これには限定されず、長手方向切断装置56によって不要部分を切断した後に幅方向に切断することなく、合紙を介してガラスリボンGをロール状に巻き取ることによってガラスロールを作製しても良い。また、上述の製造装置50では、可撓性のあるガラスフィルムであるガラス基板11を製造する方法について説明したが、比較的厚みのあるガラス基板11やセッター12を製造する場合には、湾曲補助ローラ55を設けずに縦姿勢のまま幅方向切断装置57で所定幅ずつ切断することで、枚葉式でガラス基板11やセッター12を製造することもできる。
縦700mm、横800mm、厚み500μmの矩形状の透明なガラス板15枚をガラス基板として使用した。ガラス基板は、日本電気硝子株式会社製の無アルカリガラス(製品名:OA−11、30〜380℃における熱膨張係数:38×10−7/℃、歪点685℃、徐冷点740℃)を使用した。15枚のガラス基板の反り量を、東芝製ガラス基板反り測定機により測定した。反り量の最大値は、20〜30μmであった。
上記15枚のガラス基板の熱収縮率の測定を、次のようにして行った。図5(a)に示すように、まず、ガラス基板の試料として、160mm×30mmの短冊状試料Tを準備する。この短冊状試料Tの長辺方向の両端部の夫々に、♯1000mp耐水研磨紙を用いて、端縁から20〜40mm離れた位置でマーキングMを形成する。その後、図5(b)に示すように、マーキングMを形成した短冊状試料TをマーキングMと直交方向に沿って2つに折り割って、試料片Ta,Tbを作製する。そして、一方の試料片Tbのみを所定条件で熱処理した後、図5(c)に示すように、熱処理を行っていない試料片Taと、熱処理を行った試料片Tbを並列に配列した状態で、2つの試料片Ta,TbのマーキングMの位置ずれ量(△L1,△L2)をレーザー顕微鏡によって読み取り、下記の式により熱収縮率を算出する。なお、式中のl0は、初期のマーキングM間の距離である。
熱収縮率=〔{△L1(μm)+△L2(μm)}×103〕/l0(mm)(ppm)
熱収縮率評価時の熱処理条件は、常温から500℃まで5℃/分で昇温した後に500℃で1時間保持し、500℃から5℃/分で降温するという温度プロファイルで行った。得られた熱収縮率の絶対値は、30〜35ppmの範囲であった。
縦800mm、横900mm、厚み1.0mmの矩形状の透明なガラス板15枚をセッターとして使用した。セッターについても、日本電気硝子社製の無アルカリガラス(製品名:OA−11、30〜380℃における熱膨張係数:38×10−7/℃、歪点685℃、徐冷点740℃)を使用した。なお、セッターの両表面には、150nm厚のITO膜をスパッタ成膜した。セッター上に上述の15枚のガラス基板を夫々載置して、15組の積層体を作製した。作製した積層体を、多段式の熱処理炉内に投入して、600℃まで10℃/分で昇温した後に600℃で90分間保持し、600℃から室温まで3℃/分で降温する温度プロファイルにて、熱処理を行った。熱処理後のガラス基板について、上記と同様に熱収縮率測定と反り量の測定を行った。いずれのガラス基板も、熱収縮率の絶対値は5ppm以下と非常に小さい値となった。反り量の最大値は、80〜120μmで熱処理前よりも大きな値となった。熱処理前の反り量(20〜30μm)より大きな値となる領域を熱変形領域とすると、熱処理後のガラス基板は、熱変形領域が30〜50mmの範囲であった。
熱処理後のガラス基板の周辺部を、ダイヤモンドホイールチップを使用したスクライブ法により端辺から5、10、30、50mm切断除去した。切断除去後のガラス基板の反り量と熱収縮率を、上記と同様に測定した。結果を表1に示す
11 ガラス基板
11a 周辺部
12 セッター
20 熱処理炉
30 測定手段
40 切断手段
50 成形装置
60 支持手段
Claims (8)
- 第1の寸法を有するガラス基板の製造方法であって、
前記第1の寸法よりも大きい第2の寸法を有するガラス基板をセッター上に載置して積層体を作製する積層体作製工程と、
前記積層体を熱処理炉内に投入して熱処理を行う熱処理工程と、
前記熱処理後の前記ガラス基板の反り量を測定する測定工程と、
前記測定後の前記ガラス基板の周辺部を切断除去して前記第1の寸法とする切断工程と、
を含むことを特徴とするガラス基板の製造方法。 - 前記切断工程では、前記測定工程で得られた前記反り量を基準として、前記ガラス基板の周辺部の切断幅を決定することを特徴とする請求項1に記載のガラス基板の製造方法。
- 前記積層体作製工程では、前記測定工程で得られた前記反り量を基準として、前記第2の寸法を決定することを特徴とする請求項2に記載のガラス基板の製造方法。
- 前記切断幅と前記第2の寸法の決定後に、前記測定工程を省略することを特徴とする請求項3に記載のガラス基板の製造方法。
- 前記熱処理工程の最高温度は、前記ガラス基板の徐冷点よりも低いことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のガラス基板の製造方法。
- 前記切断幅は、ガラス基板端辺から5〜50mmであることを特徴とする請求項2〜5のいずれかに記載のガラス基板の製造方法。
- 前記熱処理工程における降温速度は、1℃/分以上であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のガラス基板の製造方法。
- 前記ガラス基板の板厚は、500μm以下であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のガラス基板の製造方法。
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