JP2015087554A - 光走査装置及び該光走査装置を備えた画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
Description
《実施形態》
上記反射位置X1、X2、X3におけるビーム光の副走査方向の間隔は以下の(1)〜(3)の式により求まる。
=(反射位置X1における第1ビーム光の像高中央部の高さ)−(反射位置X1における第2ビーム光の像高端部の高さ)
=((反射位置X1における第1ビーム光の像高中央部の高さ)−(反射位置X1における第2ビーム光の像高中央部の光線幅/2×余裕度))−((反射位置X2における第2ビームの像高端部の高さ)+(反射位置X2における第2ビーム光の像高端部光線幅/2×余裕度))
=(d1−2×h1/fcy−d1−2×(Ap/2/fcy)×α)−(d1−2×h2/fcy/cosθ+d1−2×(Ap/2/fcy)×α/cosθ)
=d1−2×(h1−Ap×α/2−(h2+Ap×α/2)/cosθ)/fcy
=(反射位置X2における第2ビーム光の像高中央部の高さ)−(反射位置X2における第3ビーム光の像高中央部の高さ)
=d2−3×(h2−h3−Ap×α)/fcy
=(反射位置X3における第3ビーム光の像高端部の高さ)−(第4ビーム光の像高中央部の高さ)
=d3−4×((h3−Ap×α/2)/cosθ−h4+Ap×α/2)/fcy
ffθ :レンズの焦点距離
θ :像高端部に向かう光線の主走査断面内における角度
fcy :シリンダーレンズ焦点距離
h1 :シリンダーレンズへの第1ビーム光の入射高さ
h2 :シリンダーレンズへの第2ビーム光の入射高さ
h3 :シリンダーレンズへの第3ビーム光の入射高さ
h4 :シリンダーレンズへの第4ビーム光の入射高さ
Ap :アパーチャ径
α :ビーム光径の余裕度
d1−2 :ポリゴンミラーの反射面と反射位置X1との距離
d2−3 :ポリゴンミラーの反射面と反射位置X2との距離
d3−4 :ポリゴンミラーの反射面と反射位置X3との距離
反射位置X1における第1ビーム光D1及び第2ビーム光D2の間隔は2.05mm
反射位置X2における第2ビーム光D2及び第3ビーム光D3の間隔は2.18mm
反射位置X3における第3ビーム光D3及び第4ビーム光D4の間隔は1.02mm となる。
《実施例》
Ap=1mm、α=2、d1−2=180mm、d2−3=140mm、d3−4=90mm
θ23 第二ビーム光と第三ビーム光とのなす角度
θ34 第三ビーム光と第四ビーム光とのなす角度
X1 第一反射位置
X2 第二反射位置
X3 第三反射位置
X4 第四反射位置
D1 第一ビーム光
D2 第二ビーム光
D3 第三ビーム光
D4 第四ビーム光
1 画像形成装置
4 光走査装置
10a 感光体ドラム
10b 感光体ドラム
10c 感光体ドラム
10d 感光体ドラム
10p 感光第ドラムの表面(第一被走査面)
10q 感光第ドラムの表面(第二被走査面)
10r 感光第ドラムの表面(第三被走査面)
10s感光第ドラムの表面(第四被走査面)
15 光走査装置
40 光源部
40a 光源
40b 光源
40c 光源
40d 光源
44 ポリゴンミラー(回転多面鏡)
44a 反射面
46a 第一反射ミラー
46b 第二反射ミラー
46c 第三反射ミラー
46d 第四反射ミラー
70 入射光学系
Claims (3)
- 第一〜第四の被走査面にて走査される第一〜第四ビーム光を出射する光源部と、複数の反射面を有する回転多面鏡と、上記光源部から出射された上記第一〜第四ビーム光を、上記回転多面鏡の同じ反射面に異なる入射角で入射させる入射光学系と、該反射面にて反射した後の第一〜第四ビーム光をそれぞれ反射することにより上記第一〜第四の被走査面に導く第一〜第四反射ミラーと、を備えた光走査装置であって、
上記回転多面鏡の反射面にて反射した後の第一〜第四ビーム光は、該回転多面鏡の回転軸心方向において第一ビーム光、第二ビーム光、第三ビーム光、及び第四ビーム光の順に並んでおり、
上記第一ビーム光の上記第一反射ミラーにおける反射位置を第一反射位置とし、上記第二ビーム光の上記第二反射ミラーにおける反射位置を第二反射位置とし、上記第三ビーム光の上記第三反射ミラーにおける反射位置を第三反射位置とし、上記第四ビーム光の上記第四反射ミラーにおける反射位置を第四反射位置としたとき、上記回転多面鏡から各反射位置までの距離が、上記回転多面鏡の軸心方向に直交する方向において、上記第一反射位置、上記第二反射位置、上記第三反射位置、及び上記第四反射位置の順に大きくなるように設定されており、
上記回転多面鏡の反射面にて反射した後の、上記第一ビーム光と上記第二ビーム光とのなす角度をθ12とし、上記第二ビーム光と第三ビーム光とのなす角度をθ23とし、上記第三ビーム光と第四ビーム光とのなす角度をθ34としたとき、
上記3つの角度θ12,θ23,θ34のうちθ23が最も小さい、光走査装置。 - 請求項1記載の光走査装置において、
θ34>θ12>θ23の関係を満たす、光走査装置。 - 請求項1又は2記載の光走査装置を備えた画像形成装置。
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- 2013-10-30 JP JP2013226072A patent/JP5952799B2/ja active Active
-
2014
- 2014-10-17 US US14/517,115 patent/US9195161B2/en active Active
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