JP2015079871A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015079871A JP2015079871A JP2013216464A JP2013216464A JP2015079871A JP 2015079871 A JP2015079871 A JP 2015079871A JP 2013216464 A JP2013216464 A JP 2013216464A JP 2013216464 A JP2013216464 A JP 2013216464A JP 2015079871 A JP2015079871 A JP 2015079871A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- main surface
- center side
- conductivity type
- base region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 47
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 21
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 11
- 108091006146 Channels Proteins 0.000 description 31
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 6
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 108010075750 P-Type Calcium Channels Proteins 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/70—Bipolar devices
- H01L29/72—Transistor-type devices, i.e. able to continuously respond to applied control signals
- H01L29/739—Transistor-type devices, i.e. able to continuously respond to applied control signals controlled by field-effect, e.g. bipolar static induction transistors [BSIT]
- H01L29/7393—Insulated gate bipolar mode transistors, i.e. IGBT; IGT; COMFET
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
- H01L29/0684—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by the shape, relative sizes or dispositions of the semiconductor regions or junctions between the regions
- H01L29/0692—Surface layout
- H01L29/0696—Surface layout of cellular field-effect devices, e.g. multicellular DMOS transistors or IGBTs
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
- H01L29/10—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions with semiconductor regions connected to an electrode not carrying current to be rectified, amplified or switched and such electrode being part of a semiconductor device which comprises three or more electrodes
- H01L29/1025—Channel region of field-effect devices
- H01L29/1029—Channel region of field-effect devices of field-effect transistors
- H01L29/1033—Channel region of field-effect devices of field-effect transistors with insulated gate, e.g. characterised by the length, the width, the geometric contour or the doping structure
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
- H01L29/10—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions with semiconductor regions connected to an electrode not carrying current to be rectified, amplified or switched and such electrode being part of a semiconductor device which comprises three or more electrodes
- H01L29/1095—Body region, i.e. base region, of DMOS transistors or IGBTs
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/70—Bipolar devices
- H01L29/72—Transistor-type devices, i.e. able to continuously respond to applied control signals
- H01L29/739—Transistor-type devices, i.e. able to continuously respond to applied control signals controlled by field-effect, e.g. bipolar static induction transistors [BSIT]
- H01L29/7393—Insulated gate bipolar mode transistors, i.e. IGBT; IGT; COMFET
- H01L29/7395—Vertical transistors, e.g. vertical IGBT
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/7801—DMOS transistors, i.e. MISFETs with a channel accommodating body or base region adjoining a drain drift region
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
Abstract
Description
(実施の形態1)
まず実施の形態1における半導体装置の構成について説明する。
されている。
上述したように本実施の形態においては、最端部に配置されたIGBTEDの電流能力は中央側に配置されたIGBTCDの電流能力よりも大きい。これにより、中央側に配置されたIGBTCDの自己発熱量を抑制することにより温度上昇を抑制することができる。このため、寄生バイポーラがオンすることによる過電流を抑制することができる。この過電流を抑制することで急激な温度上昇によって素子が破壊されることを抑制することができる。このようにして、素子全体での電流能力の低下を抑えつつ短絡耐量の向上が可能である。
図14および図15を参照して、本実施の形態の構成は、実施の形態1の構成と比較して、中央側に配置された素子のチャネル長CLおよびp型ベース領域BR、BCRの不純物濃度において異なっている。つまり、本実施の形態では、中央側に配置されたIGBTCDのチャネル長CLは、最端部に配置されたIGBTEDのチャネル長CLと同じ長さ寸法を有している。また、図15に示すように、中央側に配置されたIGBTCDのp型領域BRの不純物濃度は、最端部に配置されたIGBTEDのp型ベース領域BR、BCRの不純物濃度よりも高くなっている。
図16および図17を参照して、本実施の形態の構成は、実施の形態1の構成と比較して、中央側に配置された素子のチャネル長CLおよびp型ベース領域BR、BCRの不純物プロファイルの深さにおいて異なっている。つまり、本実施の形態では、中央側に配置されたIGBTCDのチャネル長CLは、最端部に配置されたIGBTEDのチャネル長CLと同じ長さ寸法を有している。
図19および図20を参照して、本実施の形態の構成は、実施の形態1の構成と比較して、中央側に配置された素子のチャネル長CLおよびn-ドリフト領域DRIにおいて異なっている。つまり、本実施の形態では、中央側に配置されたIGBTCDのチャネル長CLは、最端部に配置されたIGBTEDのチャネル長CLと同じ長さ寸法を有している。
図21および図22を参照して、本実施の形態の構成は、実施の形態1の構成と比較して、中央側に配置された素子のチャネル長CLおよびゲート電極間の距離において異なっている。つまり、本実施の形態では、中央側に配置されたIGBTCDのチャネル長CLは、最端部に配置されたIGBTEDのチャネル長CLと同じ長さ寸法を有している。
図23および図24を参照して、本実施の形態の構成は、実施の形態1〜5の構成と比較して、高耐圧NMOS(N channel Metal Oxide Semiconductor)である点で異なっている。具体的には、本実施の形態のn+ドレイン領域DNおよびn+ソース領域SEが主に異なっている。複数個の高耐圧NMOSの各々は、半導体基板SUBに形成されたn+ドレイン領域(第1導電型のドレイン領域)DNと、n+ドレイン領域DNと分かれて主表面に形成されたp型ベース領域(第2導電型のベース領域)PWと、p型ベース領域PW内の主表面に形成されたn+ソース領域(第1導電型のソース領域)SEとを有している。
(実施の形態7)
図25および図26を参照して、本実施の形態は、実施の形態6の構成と比較して、高耐圧PMOS(P channel Metal Oxide Semiconductor)である点で異なっている。具体的にはp型のチャネルが形成されるように構成されている点で主に異なっている。
(実施の形態8)
図27および図28を参照して、本実施の形態は、実施の形態1〜5の構成と比較して縦型IGBTである点で異なっている。具体的には、p+コレクタ領域CRが主表面と反対側の面に形成されており、n型領域NRがp+コレクタ領域CR上に形成されている点で主に異なっている。
(実施の形態9)
図29および図30を参照して、本実施の形態は、実施の形態6と比較して、縦型高耐圧NMOSである点で主に異なっている。具体的には、n+ドレイン領域DNが主張面と反対側の面に形成されており、n型領域NRがn+ドレイン領域DN上に形成されている点で主に異なっている。
上記の各実施の形態は適宜組み合わせることができる。
Claims (9)
- 主表面を有する半導体基板と、
それぞれが前記主表面に一方向に並んで配置された、複数個の絶縁ゲート型トランジスタ部を有する素子とを備え、
前記複数個の絶縁ゲート型トランジスタ部を有する素子は、前記一方向において、最端部に配置された素子と、前記最端部に配置された素子よりも中央側に配置された素子とを含み、
前記最端部に配置された素子の電流能力は、前記中央側に配置された素子の電流能力よりも大きい、半導体装置。 - 前記中央側に配置された素子のチャネル長は、前記最端部に配置された素子のチャネル長よりも長い、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記複数個の絶縁ゲート型トランジスタ部の各々は、前記半導体基板に形成された第1導電型のコレクタ領域と、
前記コレクタ領域と分かれて前記主表面に形成された第1導電型のベース領域と、
前記ベース領域内の前記主表面に形成された第2導電型のエミッタ領域とを含み、
前記中央側に配置された素子の前記ベース領域の不純物濃度は、前記最端部に配置された素子の前記ベース領域の不純物濃度よりも高い、請求項1または2に記載の半導体装置。 - 前記複数個の絶縁ゲート型トランジスタ部の各々は、前記半導体基板に形成された第1導電型のドレイン領域と、
前記ドレイン領域と分かれて前記主表面に形成された第2導電型のベース領域と、
前記ベース領域内の前記主表面に形成された第1導電型のソース領域とを含み、
前記中央側に配置された素子の前記ベース領域の不純物濃度は、前記最端部に配置された素子の前記ベース領域の不純物濃度よりも高い、請求項1または2に記載の半導体装置。 - 前記複数個の絶縁ゲート型トランジスタ部の各々は、前記半導体基板に形成された第1導電型のコレクタ領域と、
前記コレクタ領域と分かれて前記主表面に形成された第1導電型のベース領域と、
前記ベース領域内の前記主表面に形成された第2導電型のエミッタ領域とを含み、
前記中央側に配置された素子の前記ベース領域は、前記最端部に配置された素子の前記ベース領域よりも前記主表面から深い位置まで形成されている、請求項1または2に記載の半導体装置。 - 前記複数個の絶縁ゲート型トランジスタ部の各々は、前記半導体基板に形成された第1導電型のドレイン領域と、
前記ドレイン領域と分かれて前記主表面に形成された第2導電型のベース領域と、
前記ベース領域内の前記主表面に形成された第1導電型のソース領域とを含み、
前記中央側に配置された素子の前記ベース領域は、前記最端部に配置された素子の前記ベース領域よりも前記主表面から深い位置まで形成されている、請求項1または2に記載の半導体装置。 - 前記複数個の絶縁ゲート型トランジスタ部の各々は、前記半導体基板に形成された第1導電型のコレクタ領域と、
前記コレクタ領域と分かれて前記主表面に形成された第1導電型のベース領域と、
前記ベース領域内の前記主表面に形成された第2導電型のエミッタ領域とを含み、
前記中央側に配置された素子のドリフト領域は、前記最端部に配置された素子のドリフト領域よりも長い、請求項1または2に記載の半導体装置。 - 前記複数個の絶縁ゲート型トランジスタ部の各々は、前記半導体基板に形成された第1導電型のドレイン領域と、
前記ドレイン領域と分かれて前記主表面に形成された第2導電型のベース領域と、
前記ベース領域内の前記主表面に形成された第1導電型のソース領域とを含み、
前記中央側に配置された素子のドリフト領域は、前記最端部に配置された素子のドリフト領域よりも長い、請求項1または2に記載の半導体装置。 - 前記主表面に形成された素子分離構造をさらに備え、
前記中央側に配置された素子は、前記一方向に互いに対称に配置された第1および第2の絶縁ゲート型トランジスタ部を含み、
前記第1および第2の絶縁ゲート型トランジスタ部の各々は、前記主表面に形成されたベース領域上に形成された第1および第2のゲート電極を含み、
前記最端部に配置された素子は、前記主表面に形成された第3のゲート電極を含み、
前記一方向において、前記第1および第2のゲート電極間の距離は、前記第3のゲート電極と対向する前記素子分離構造との距離の2倍よりも長い、請求項1または2に記載の半導体装置。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013216464A JP6284336B2 (ja) | 2013-10-17 | 2013-10-17 | 半導体装置 |
KR20140129857A KR20150044803A (ko) | 2013-10-17 | 2014-09-29 | 반도체 장치 |
US14/500,324 US9583604B2 (en) | 2013-10-17 | 2014-09-29 | Semiconductor device with improved short circuit capability |
TW103134401A TWI631707B (zh) | 2013-10-17 | 2014-10-02 | 半導體裝置 |
EP20140187904 EP2863439A1 (en) | 2013-10-17 | 2014-10-07 | Semiconductor device |
CN201410553520.5A CN104576717B (zh) | 2013-10-17 | 2014-10-17 | 半导体器件 |
US15/405,725 US10128359B2 (en) | 2013-10-17 | 2017-01-13 | Semiconductor device with improved short circuit capability |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013216464A JP6284336B2 (ja) | 2013-10-17 | 2013-10-17 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015079871A true JP2015079871A (ja) | 2015-04-23 |
JP6284336B2 JP6284336B2 (ja) | 2018-02-28 |
Family
ID=51663064
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013216464A Active JP6284336B2 (ja) | 2013-10-17 | 2013-10-17 | 半導体装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9583604B2 (ja) |
EP (1) | EP2863439A1 (ja) |
JP (1) | JP6284336B2 (ja) |
KR (1) | KR20150044803A (ja) |
CN (1) | CN104576717B (ja) |
TW (1) | TWI631707B (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180055853A (ko) | 2015-09-14 | 2018-05-25 | 유이에이 엔터프라이즈 리미티드 | 금속 착물 |
JP2018022776A (ja) * | 2016-08-03 | 2018-02-08 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
WO2018237199A1 (en) | 2017-06-22 | 2018-12-27 | Renesas Electronics America Inc. | SOLID TOP TERMINAL FOR DISCRETE FEED DEVICES |
JP2019075536A (ja) * | 2017-10-11 | 2019-05-16 | 株式会社村田製作所 | パワーアンプモジュール |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010004003A (ja) * | 2008-05-20 | 2010-01-07 | Mitsubishi Electric Corp | パワー半導体装置 |
JP2010010408A (ja) * | 2008-06-27 | 2010-01-14 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2010165974A (ja) * | 2009-01-19 | 2010-07-29 | Oki Semiconductor Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2012009522A (ja) * | 2010-06-23 | 2012-01-12 | Mitsubishi Electric Corp | 電力用半導体装置 |
JP2013062411A (ja) * | 2011-09-14 | 2013-04-04 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置 |
WO2013121548A1 (ja) * | 2012-02-16 | 2013-08-22 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2650519B2 (ja) | 1991-07-25 | 1997-09-03 | 株式会社日立製作所 | 横型絶縁ゲートトランジスタ |
US6002153A (en) * | 1995-12-07 | 1999-12-14 | Kabushiki Kaisha Toshiba | MOS type semiconductor device with a current detecting function |
US6392859B1 (en) * | 1999-02-14 | 2002-05-21 | Yazaki Corporation | Semiconductor active fuse for AC power line and bidirectional switching device for the fuse |
JP4572795B2 (ja) * | 2005-02-10 | 2010-11-04 | サンケン電気株式会社 | 絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ |
JP4927340B2 (ja) * | 2005-02-24 | 2012-05-09 | オンセミコンダクター・トレーディング・リミテッド | 半導体装置 |
JP4586843B2 (ja) * | 2007-11-15 | 2010-11-24 | ソニー株式会社 | 半導体装置 |
JP5045733B2 (ja) * | 2008-12-24 | 2012-10-10 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
-
2013
- 2013-10-17 JP JP2013216464A patent/JP6284336B2/ja active Active
-
2014
- 2014-09-29 KR KR20140129857A patent/KR20150044803A/ko not_active Application Discontinuation
- 2014-09-29 US US14/500,324 patent/US9583604B2/en active Active
- 2014-10-02 TW TW103134401A patent/TWI631707B/zh active
- 2014-10-07 EP EP20140187904 patent/EP2863439A1/en not_active Withdrawn
- 2014-10-17 CN CN201410553520.5A patent/CN104576717B/zh active Active
-
2017
- 2017-01-13 US US15/405,725 patent/US10128359B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010004003A (ja) * | 2008-05-20 | 2010-01-07 | Mitsubishi Electric Corp | パワー半導体装置 |
JP2010010408A (ja) * | 2008-06-27 | 2010-01-14 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2010165974A (ja) * | 2009-01-19 | 2010-07-29 | Oki Semiconductor Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2012009522A (ja) * | 2010-06-23 | 2012-01-12 | Mitsubishi Electric Corp | 電力用半導体装置 |
JP2013062411A (ja) * | 2011-09-14 | 2013-04-04 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置 |
WO2013121548A1 (ja) * | 2012-02-16 | 2013-08-22 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20150044803A (ko) | 2015-04-27 |
TW201528507A (zh) | 2015-07-16 |
US20150108541A1 (en) | 2015-04-23 |
TWI631707B (zh) | 2018-08-01 |
CN104576717A (zh) | 2015-04-29 |
CN104576717B (zh) | 2019-05-17 |
EP2863439A1 (en) | 2015-04-22 |
JP6284336B2 (ja) | 2018-02-28 |
US9583604B2 (en) | 2017-02-28 |
US10128359B2 (en) | 2018-11-13 |
US20170125558A1 (en) | 2017-05-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9048213B2 (en) | Semiconductor device | |
JP6115050B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP4387119B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP6937883B2 (ja) | 炭化珪素半導体装置 | |
JP6458878B2 (ja) | 半導体装置 | |
US10128359B2 (en) | Semiconductor device with improved short circuit capability | |
JP6210913B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP6690336B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2009206284A (ja) | 半導体装置 | |
JP6906676B2 (ja) | 炭化珪素半導体装置 | |
JP5072043B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP5774422B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP5808827B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2012028451A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JP6584977B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP5996969B2 (ja) | 高耐圧半導体装置 | |
JP5947151B2 (ja) | 高耐圧半導体装置 | |
JP2009231851A (ja) | 半導体装置 | |
JP2009158728A (ja) | 半導体装置 | |
JP2017168755A (ja) | 半導体装置およびそれを用いたインバータ回路 | |
JP2017216482A (ja) | 半導体装置 | |
JP2009164383A (ja) | 半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160926 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170525 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170627 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170814 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180109 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180130 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6284336 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |