JP2015011223A - 反射型表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】セルの開口率を確保しつつ、セル間を粒子が移動することによる表示ムラが発生しない反射型表示装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】反射型表示装置、を製造する方法であって、一方の基板上に所定のパターンで隔壁を形成する隔壁形成工程と、前記隔壁の頂面上に接着層を形成する接着層形成工程と、を備え、前記接着層形成工程は、前記隔壁の頂面上に接着性材料が分散媒に分散されたエマルション接着材を付与することによって当該エマルション接着材の接着性材料を形成する第１付与工程と、前記第１付与工程の後に、当該第１付与工程で形成された前記接着性材料上に更に前記エマルション接着材を付与することによって当該エマルション接着材の接着性材料を形成する第２付与工程と、を含んでいることを特徴とする反射型表示装置の製造方法。
【選択図】図１

Description

本発明は、電子ペーパー等に応用されている反射型表示装置の製造方法に関する。

反射型表示装置として、最近、表示媒体に含まれる電気応答性材料として電気泳動体を用いた電気泳動表示装置が広く用いられている。電気泳動表示装置とは、空気中または溶媒中の電気泳動体（通常は電気泳動する粒子）の電気的な泳動、すなわち粒子移動を利用して情報を表示する装置である。通常、２枚の基板間に電界を与えることで電気的な泳動の状態が制御され、それによって所望の表示が実現されるように構成される。電気泳動体としては、荷電粒子の他、荷電粉体も利用され得る。その場合、当該荷電粉体は気体中を電気的に泳動する。

電気泳動表示装置は、近年では特に、電子ペーパーとしての応用が注目されている。電子ペーパーとして応用する場合には、印刷物レベルの視認性（目にやさしい）、情報書き換えの容易性、低消費電力、軽量といった利点を享受できる。

電気泳動表示装置では、しかし、粒子や粉体の沈降や偏在に起因して、表示の不良、特にコントラストの低下が生じることがある。この現象を防止するべく、上下の電極基板間に隔壁を形成して、電気泳動する粒子や粉体の泳動空間、すなわち移動空間を微小な空間に分割することが採用されている。この微小な空間は、セルと呼ばれている。各セルの中に、電気泳動体を含むインキやガス（表示媒体）が封入されている。

例えば特許文献１（特許第３９２７８９７号公報）及び特許文献２（特開２０１２−１６３８９４号公報）には、上下の電極基板間に隔壁を形成した電気泳動表示装置の従来例が開示されている。

特許第３９２７８９７号公報 特開２０１２−１６３８９４号公報

本件発明者は、隔壁上に設けられた接着層と基板との接着の状況について鋭意研究を重ねるうち、以下のような知見を得るに至った。

隔壁上に設けられた接着層と基板との接着が不十分である場合には、セル間を粒子が移動してしまってセル間の粒子濃度差に起因する焼き付きムラが発生してしまうことがある。例えば、接着層の厚みが表示媒体であるインキ内の粒子の大きさより小さいと、接着層に入り込んだ粒子が邪魔をして、接着層と基板との接着が所望の程度以上になされないことがある。そのため、接着層の厚みをインキ内の粒子の大きさより大きくすることは必須となっている。

特許文献１に記載された接着層の形成方法は、隔壁の頂面に複数回接着材を転写させようとすると隔壁の頂面に形成された接着材が転写シート上の接着材に溶解してしまって、接着層を膜厚化することができない。このため、隔壁上に形成される接着層の厚みを大きくするためには、隔壁頂面の幅を広くする必要がある。しかし、隔壁頂面の幅を広くするとセルの開口率が低下してしまい、表示コントラストを低下させてしまう。

特許文献２に記載されている接着方法は、接着層と基板との接着が所望の程度以上になされるようインキに添加物を加えているが、この場合、インキの特性が変化して表示品質が低下してしまうことがある。

本発明は、このような事情に基づいて行われたものであり、その目的は、セルの開口率を確保しつつ、セル間を粒子が移動することによる表示ムラが発生しない反射型表示装置の製造方法を提供することにある。

本発明は、少なくとも一方が透光性を有しており各々電極が形成されている対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に所望の表示をする、反射型表示装置、を製造する方法であって、一方の基板上に所定のパターンで隔壁を形成する隔壁形成工程と、前記隔壁の頂面上に接着層を形成する接着層形成工程と、前記一方の基板または他方の基板上に前記表示媒体を配置する表示媒体配置工程と、前記表示媒体が配置された後に、前記隔壁で区画された各領域をセルとして、前記表示媒体が各セル内に封止されるよう、前記接着層上に他方の基板を接着する対向基板接着工程と、を備え、前記接着層形成工程は、前記隔壁の頂面上に接着性材料が分散媒に分散されたエマルション接着材を付与することによって当該エマルション接着材の接着性材料を形成する第１付与工程と、前記第１付与工程の後に、当該第１付与工程で形成された前記接着性材料上に更に前記エマルション接着材を付与することによって当該エマルション接着材の接着性材料を形成する第２付与工程と、を含んでいることを特徴とする反射型表示装置の製造方法である。

本発明によれば、接着層を形成するための接着材として接着性材料が分散媒に分散されたエマルション接着材が用いられる。エマルション接着材中の接着性材料はエマルション接着材の分散媒に溶解しないため、隔壁頂面上に形成された当該接着性材料上に更にエマルション接着材を付与することによって隔壁頂面上に接着性材料を積層させる、ということが容易である。このため、隔壁頂面の幅を広くすることなく所望の厚さの接着層を形成し得る。なお、隔壁頂面上にエマルション接着材を付与する回数は、接着層の所望の厚みに応じて適宜決定され得る。

例えば、隔壁頂面上にエマルション接着材を付与する回数は、前記接着層形成工程で積層された接着性材料の厚さが６μｍ以上であるように決定される。

例えば、前記エマルション接着材の分散媒は、水またはエタノールであり、前記接着性材料は、ポリエステルまたはポリウレタンである。接着性材料がポリエステルまたはポリウレタンである場合、当該接着性材料によって形成される接着層は、熱圧着により他方の基板と接着され得るが、常温においてはタックすなわちねばつきが無く、取り扱いの便宜が極めて良い。

本発明によれば、接着層を形成するための接着材として接着性材料が分散媒に分散されたエマルション接着材が用いられる。エマルション接着材中の接着性材料はエマルション接着材の分散媒に溶解しないため、隔壁頂面上に形成された当該接着性材料上に更にエマルション接着材を付与することによって隔壁頂面上に接着性材料を積層させる、ということが容易である。このため、隔壁頂面の幅を広くすることなく所望の厚さの接着層を形成し得る。

図１は、本発明の一実施の形態による反射型表示装置の構成を概略的に示す断面図である。 図２は、図１に示す反射型表示装置の製造方法を概略的に示すフロー図である。 図３は、隔壁形成工程の一例を概略的に示す図である。 図４は、隔壁の頂面の幅の定義について説明する図である。 図５は、転写法による接着層形成工程の一例を概略的に示す図である。 図６は、塗布法による接着層形成工程の一例を概略的に示す図である。 図７は、表示媒体配置工程の一例を概略的に示す図である。 図８は、導電性ペーストの機能を説明するための概略図である。 図９は、対向基板接着工程において、他方の基板上に一方の基板が接着されている様子を示す断面図である。

図１は、本発明の一実施の形態による反射型表示装置の構成を概略的に示す断面図である。本実施の形態による反射型表示装置は、少なくとも一方が透光性を有しており各々電極が形成されている対向する２枚の基板間１１，１６に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体１３が封入されていて、２枚の基板１１，１６間に所定の電界が与えられる際に表示媒体１３が所望の表示をするようになっている。ここで、本件の明細書及び特許請求の範囲において「透光性」とは、光を透過する性質、という程度の意味である。本実施の形態においては、視認側に配置される基板は、全光透過率が５０％以上、好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上となるような透光性を有している。

図１乃至図９において、一方の基板１１及び他方の基板１６の面上には、電極が設けられているが、それらの電極の図示は省略されている。本実施の形態においては、一方の基板１１が視認側に配置され、他方の基板１６が非視認側に配置される。

一方の基板１１としては、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等の透光性フィルムや透光性ガラスに、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等の透光性を有する電極（透光性電極）を付したものが、典型的に用いられ得る。

透光性電極は、塗工法やスパッタリング、真空蒸着法、ＣＶＤ法等によって形成され得る。透光性電極は、アクティブマトリクス駆動の場合及びセグメント駆動の場合は共通電極として用いられるので、必ずしもパターンが形成されている必要は無く、基板全面が電極であってもよい。一方、パッシブマトリクス駆動の場合、対向する両方の基板はパターン電極である必要があるため、透光性電極もストライプなどのパターンで形成される。

一方の基板１１の厚みは、１０μｍ〜１ｍｍが好適である。１０μｍよりも薄いと、パネルとしての強度を得ることができず、破損に至る危険度が増す一方、１ｍｍよりも厚いと、パネル重量が重くなり過ぎて取り扱いが不便になるし、コストも高くなるからである。破損しにくく取り扱いが容易である好適な厚みの範囲は、５０μｍ〜３００μｍ程度である。

一方の基板１１は、ロール状でもシート状でもどちらでも適用可能である。

他方の基板１６としては、樹脂フィルム、樹脂板、ガラス、エポキシガラス（ガラエポ）等の基材の表示媒体側の面に金属等の導電性材料によって対向電極が形成されたものが用いられ得る。また他方の基板１６は、透光性を有する基材が用いられてもよい。さらに透光性を有しているが不透明な基材であってもよく、電極面とは異なるもう一方の面を粗面化した不透明なガラス基材、樹脂フィルム、樹脂板、ガラス、エポキシガラス（ガラエポ）等が用いられ得る。本実施の形態では、他方の基板１６は、視認側と反対側の位置に配置されるため、透光性を有している必然性はない。しかし、熱膨張特性など一方の基板１１と同じ物性が必要とされる場合は、一方の基板１１と同様の透光性の部材が使用され得る。

対向電極としては、セグメント駆動及びパッシブマトリクス駆動の場合はパターン状の電極、また、アクティブマトリクス駆動の場合はＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）が配置される画素電極が用いられる。

他方の基板１６の厚みも、一方の基板１１の厚みと同様に、１０μｍ〜１ｍｍが好適である。１０μｍよりも薄いと、パネルとしての強度を得ることができず、破損に至る危険度が増す一方、１ｍｍよりも厚いと、パネル重量が重くなり過ぎて取り扱いが不便になるし、コストも高くなるからである。破損しにくく取り扱いが容易である好適な厚みの範囲は、５０μｍ〜３００μｍ程度である。

他方の基板１６も、ロール状でもシート状でもどちらでも適用可能である。

＜反射型表示装置の製造方法＞
図２は、図１に示す反射型表示装置の製造方法を概略的に示すフロー図である、また、図３は、隔壁形成工程の一例を概略的に示す図である。図３に示すように、まず、一般には水平方向に載置される一方の基板１１の上面に、例えばフォトリソグラフィ法（紫外線（ＵＶ）照射による露光→現像→焼成）によって、所定のパターンの隔壁１２が形成される（隔壁形成工程：図２の工程（１））。隔壁１２は、後述する複数のセルを規定する部材である。

隔壁１２は、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、常温硬化樹脂等によって構成可能であり、隔壁１２の形成方法は、フォトリソグラフィ法の他、エンボス加工などの型転写方法も採用され得る。さらに、所望のパターンの構造物を隔壁として製造しておいて、それを一方の基板１１に貼り付けるという方法も採用され得る。

隔壁１２の頂面の幅は、９μｍ〜５０μｍ、好ましくは９μｍ〜２０μｍである。９μｍというのは、隔壁１２が倒れることなくパターニングできる線幅の下限である。隔壁１２の頂面の幅が９μｍ未満である場合、隔壁１２の長さが６０μｍ以上に亘るようなパターンでは、少なくとも隔壁１２の一部が倒れたり、剥がれたり、剥がれた隔壁１２が基板上を移動したりする。そうなった場合には、隔壁１２による粒子の移動を防ぐという機能が失われ、表示品質が劣化してしまう。一方、好適な範囲の上限である５０μｍというのは、目視したときに隔壁１２が目立ち過ぎない上限である。

ここで、隔壁１２の頂面の幅の定義を、図４に示す。頂面の角が丸まっていなければ、図４（ａ）や図４（ｂ）に示すように、頂面の幅はそのまま定義される。一方、頂面の角が丸まっている場合には、図４（ｃ）や図４（ｄ）に示すように、頂面の延長面と壁面の延長面との交線間の幅として理解される。評価のための測定方法としては、隔壁１２が形成された一方の基板１１を硬化性樹脂にて包埋し、ミクロートーム（大和光機工業株式会社製：ＦＸ−８０１）により隔壁１２の断面を切り出し、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）によって撮影した画像に基づいて各幅を測定することができる。

隔壁１２の形状は、円、格子、ハニカム状（六角形）、その他の多角形など、基本的に任意である。開口率は、７０％以上が好ましく、特に９０％以上が好ましい。高開口率であるほど、表示可能エリアが広くなるため、高コントラストを得ることができる。

隔壁１２の高さは、５〜５０μｍ、好ましくは１０〜５０μｍである。５μｍ以下では、充填するインキ量が少なく、十分な表示特性、特にコントラストが得られない一方、５０μｍ以上では、パネルの厚みが厚すぎて、駆動電圧が上昇し過ぎてしまう。低駆動電圧で良好な表示特性が得られるという観点から、１０〜５０μｍの範囲の高さが好適である。

セルのサイズ（ピッチ）は、表示パネルの大きさにもよるが、０．０５〜１ｍｍピッチ、好ましくは０．１〜０．５ｍｍピッチである。ここで、ピッチとは、隣接するセルを重ねるべく移動させるのに必要な距離を意味している。

次に、隔壁１２上に接着層２２が形成される（接着層形成工程：図２の工程（２））。この接着層形成工程では、転写法や塗布法等の任意の方法を用いて隔壁１２の頂面上にエマルション接着材を付与することにより、ポリエステルやポリウレタンのような熱可塑性樹脂が、１〜１００μｍの厚みで形成される。好ましくは、１〜５０μｍの厚みで形成され、特に好ましくは、１〜２０μｍの厚みで形成される。

転写法の一例について具体的な説明を補足すれば、図５に示すように、例えば基材２１としてのＰＥＴフィルム上に、水やエタノールなどの分散媒に接着性材料としてミクロンサイズの樹脂を分散させたエマルション接着材２２１が７μｍの厚みで塗布された転写シート２０を用意する。

ここで、エマルション接着材は、水などの分散媒の中に接着性材料のポリマーが数ｎｍ〜数百ｎｍ程度の粒子の形態で分散されている接着材である。接着性材料の粒子の表面には、分散媒に分散させるための分子（界面活性剤）が形成されている。当該分子は、エマルション接着材を乾燥させた後は、接着性材料の粒子の表面から取れてしまう。当該分子が取れた接着性材料は膜状となり、膜状となった接着性材料上にエマルション接着材が付与されても、当該接着性材料は、付与されたエマルション接着材の分散媒に溶解しない。したがって、「エマルション接着材」には、接着性材料を当該接着性材料のポリマーを溶解させる性質を有する溶媒、例えば、ＭＥＫ、トルエン、アセトン等の有機溶媒等、に溶解させた接着材は含まれない。

次に、この転写シート２０を、エマルション接着材２２１の面が一方の基板１１の隔壁１２の頂面上に配置されるように、一方の基板１１と対向して配置する。この状態で、一方の基板１１と転写シート２０とを、常温で１ｋＰａの圧力でラミネートする。ラミネートの後で、常温のまま一方の基板１１を転写シート２０から剥離する。これにより、隔壁１２頂面上にエマルション接着材２２１の接着性材料が付与される（第１付与工程）。第１付与工程の後で、隔壁１２頂面上に付与されたエマルション接着材２２１を乾燥させる。これにより、隔壁１２頂面上に、接着性材料の第１の層２２ａが形成される。次に、当該第１の層２２ａ上に、第１付与工程と同様の方法でエマルション接着材２２１が付与される（第２付与工程）。そして、第２付与工程で隔壁１２頂面上に付与されたエマルション接着材２２１を乾燥させる。これにより、接着性材料の第２の層２２ｂが、接着性材料の第１の層２２ａ上に積層される。このようにして隔壁１２頂面上に接着性材料の層が複数積層されることによって、隔壁１２頂面上に接着層２２が形成される。もっとも、隔壁１２頂面上に積層される接着性材料の層の数は、接着層２２の所望の厚みに応じて適宜決定され得る。例えば、接着性材料の第２の層２２ｂの上に、第１付与工程と同様の方法で更にエマルション接着材２２１が付与され（第３付与工程）、接着性材料の第３の層が形成されてよい。また、第３の接着性材料の層の上に、第１付与工程と同様の方法で更にエマルション接着材２２１が付与され（第４付与工程）、接着性材料の第４の層が形成されてもよい。

なお、エマルション接着材２２１は、第１付与工程ないし第４付与工程を通して同じエマルション接着材２２１が用いられなくてもよく、各工程毎に異なる種類エマルション接着材が用いられてもよい。また、接着性材料の第１の層２２ａは、エマルション接着材２２１を用いて形成されなくてもよい。さらに、エマルション接着材の転写は、図５に示すように転写シート２０を隔壁１２の上に配置して、すなわち隔壁１２の上側から、行われなくてもよく、例えば、転写シート２０の上に隔壁１２を配置して、すなわち隔壁１２の下側から、行われてもよい。

図６は、塗布法による接着層形成工程の一例を示す図である。図６に示す例においては、エマルション接着材２２１が、接着材塗布ローラ７０によって隔壁１２頂面上に塗布される。

より詳細には、接着材塗布ローラ７０は、その外周面の一部が容器７１内に位置するように回転可能に設けられており、当該容器７１内のエマルション接着材２２１が接着材塗布ローラ７０に付着されるようになっている。当該容器７１に対して接着材塗布ローラ７０の回転方向の下流側には、アプリケータ７２が設けられており、接着材塗布ローラ７０に付着されたエマルション接着材２２１のうち余剰のエマルション接着材２２１が当該アプリケータ７２によって掻き取られるようになっている。アプリケータ７２に対して接着材塗布ローラ７０の回転方向の下流側かつ容器７１に対して接着材塗布ローラ７０の回転方向の上流側には、基板回転ローラ７３が、接着材塗布ローラ７０と平行且つ回転可能に設けられている。そして、基板回転ローラ７３は、接着材塗布ローラ７０と同期して回転されながら、基板回転ローラ７３に隔壁１２が外側に配置されるように巻き付けられた一方の基板１１の隔壁１２頂面を、接着材塗布ローラ７０上のエマルション接着材２２１に付着させることができるようになっている。基板回転ローラ７３の接着材塗布ローラ７０とは反対の側には、不図示の乾燥装置が設けられており、基板回転ローラ７３の外周面に向けて熱風を送るようになっている。そして、隔壁１２頂面上に接着層２２を形成する時には、エマルション接着材２２１が容器７１に入れられ、接着材塗布ローラ７０が、容器７１内のエマルション接着材２２１が付着されながら、また、アプリケータ７２によって余剰のエマルション接着材２２１が掻き落とされながら、回転される。また、基板回転ローラ７３に、一方の基板１１が、その隔壁１２が形成された面が外側に配置されるように巻き付けられる。その後、基板回転ローラ７３が、接着材塗布ローラ７０の回転と同期して回転され、基板回転ローラ７３に巻き付けられた一方の基板１１の隔壁１２頂面に、接着材塗布ローラ７０上のエマルション接着材２２１が付与される。隔壁１２頂面に付与されたエマルション接着材２２１は、基板回転ローラ７３の回転に伴って、不図示の乾燥装置から送風される熱風に晒されて乾燥される。図６に示す方法では、接着材塗布ローラ７０及び基板回転ローラ７３の回転が継続されることにより、隔壁１２頂面上へのエマルション接着材２２１の塗布及びその乾燥が、連続的に繰り返される。

接着層２２を形成するためのエマルション接着材２２１の分散媒としては、水が好ましく、接着性材料としては、東洋紡製ＭＤ−１９８５が好ましい。隔壁１２頂面上に付与される時のエマルション接着材２２１中の接着性材料の割合は、通常３０重量％〜５０重量％である。しかし、エマルション接着材２２１の粘度が高いほど、隔壁１２頂面に付与されるエマルション接着材２２１の量が多くなり、隔壁１２頂面に付与されたエマルション接着材２２１がセル内に侵入することが抑制されるため、隔壁１２頂面上に付与される時のエマルション接着材２２１中の接着性材料の割合は、高いほうが好ましい。さらに、隔壁１２頂面上に付与されたエマルション接着材２２１上に更にエマルション接着材２２１を付与させる場合には、当該隔壁１２頂面上に付与されたエマルション接着材２２１は、当該エマルション接着材２２１中の接着性材料の割合が９０重量％以上になるまで乾燥されることが好ましい。

エマルション接着材２２１の接着性材料として熱可塑性材料を用いた場合には当該接着性材料は常温においては固化しているため、タック、すなわちねばつきが無い。したがって、接着性材料が積層されて形成された接着層２２も、常温においてはタック、すなわちねばつきが無く、取り扱いの便宜が極めて良い。また、タック、すなわちねばつきが無いことによって、セル内に充填された表示媒体１３が接着層２２と接着してしまうことがない。そして、隔壁１２頂面の接着層２２をその接着性材料の軟化温度を超える温度にまで加熱して軟化させることにより、タック、すなわちねばつきを有するようになるため、他方の基板１６に確実に接着される。他方の基板１６との接着後の接着層２２は、再び常温においてはタック、すなわちねばつきが無いため、やはり表示媒体１３が接着層２２と接着してしまうことがなく、表示品質の低下のおそれもない。

具体的には、接着性材料としては、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリウレタンなどの熱可塑性ベースポリマーや、天然ゴム、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−プロピレン−スチレン共重合体などの熱可塑性エラストマーを主成分とし、粘着性付与樹脂や可塑剤を配合した樹脂が主に使用される。

隔壁１２と接着性材料との密着性を上げるために、隔壁１２に紫外線照射やプラズマ処理などにより表面処理が施されてもよいし、プライマーが形成されてもよい。あるいは、接着材２２１の方にシランカップリング剤が添加されてもよい。

次に、一方の基板１１上に表示媒体としてのインキ１３が配置される（表示媒体配置工程：図２の工程（３））。図７は、表示媒体配置工程の一例を概略的に示す図である。ここでは、（１）ディスペンサ３１あるいはインクジェット、ダイコートからインキ１３が滴下され（インキ滴下工程）、（２）アプリケータ３２あるいはドクターブレード、ドクターナイフ、中央スキージによって面内均一となるようにインキ１３が塗布される（インキ塗布工程）。なお、インキ１３は、一方の基板１６上に配置されてもよい。

表示媒体１３としては、少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が用いられ得る。電気応答性材料としては、電荷粒子材料、液晶材料があり、電荷粒子材料には白や黒、カラーなどの色づけされた粒子が電場に応答して移動するいわゆる電気泳動材料、または、粒子が二色に色分けされ電場により回転するツイストボールに代表される材料、または、電場により移動するナノ粒子材料等がある。一方、液晶材料は、ＰＤＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）で知られる透過と散乱を電気的に制御する材料や、液晶に色素を混合した材料、コレステリック液晶材料などがある。これらの電気応答性を有し光学特性を変化させる材料は、種類を問わずセルに隔離する必要があり、本発明の適用対象である。

図２に戻って、表示媒体配置工程の後で、導電性ペースト塗布工程が実施される（導電性ペースト塗布工程：図２の工程（４））。図８は、導電性ペーストの機能を説明するための概略図である。導電性ペースト１４は、例えば銀ペーストのような金属ペーストであり、例えばディスペンサ４１あるいはインクジェット、タンポ印刷、パット印刷、スタッピング印刷によって所定位置に塗布される。導電性ペースト１４は、図８に示すように、他方の基板１６に電圧をかけるための配線として機能する。一方の基板１１の透光性電極と他方の基板１６の対向電極との間に所定の電界（電圧）が与えられる際、表示媒体であるインキ１３中の電気応答性材料が駆動され、文字パターン等の所望の情報が表示される。その後、電界が与えられなくなっても、新たな電界が両基板間に与えられるまで、当該情報表示状態が維持される。

その後、隔壁１２上の接着層２２と、一方の基板１１に対して対向する他方の基板１６とが接着される（対向基板接着工程：図２の工程（５））。これにより、表示媒体（インキ１３）が各セル内に封止される。

対向基板接着工程は、図９に示すように、接着層２２を加熱させて接着力を得るようになっている。具体的には、ラミネータ９１によって所定の熱圧着圧力（ラミネート圧力）を付与しながら、接着層２２を周辺からその接着性材料の軟化温度を超える温度にまで加熱して軟化させることによって、隔壁１２と他方の基板１６とを接着する。もっとも、他の熱圧着の態様が採用されてもよい。

更に、本実施の形態では、ラミネータ９１による接着の後で、さらに両基板１１、１６の四辺（周辺部）を熱圧着する四辺熱圧着工程が実施される。具体的には、両基板１１、１６の四辺（周辺部）の下方にホットプレート９２を敷いておいて、両基板１１、１６の四辺部を内側から外側に金属片９３でラミネート圧を加えることで実施される。

その後、図２に示すように、ギロチン、上刃スライド装置、レーザカット装置、レーザーカッター等の断裁装置５１によって所定のサイズに断裁され（断裁工程：図２の工程（６））、所望の反射型表示装置の製造が完了する。

以上のように、本実施の形態によれば、接着層２２を形成するための接着材として接着性材料が分散媒に分散されたエマルション接着材２２１が用いられる。エマルション接着材２２１中の接着性材料はエマルション接着材２２１の分散媒に溶解しないため、隔壁１２頂面上に形成された当該接着性材料上に更にエマルション接着材２２１を付与することによって隔壁１２頂面上に接着性材料を積層させる、ということが容易である。このため、隔壁１２頂面の幅を広くすることなく所望の厚さの接着層を２２形成し得る。

また、隔壁１２頂面上にエマルション接着材を付与する回数は、接着層２２の所望の厚みに応じて適宜決定され得る。

また、接着性材料がポリエステルまたはポリウレタンであるため、当該接着性材料によって形成される接着層２２は、熱圧着により他方の基板と接着され得るが、常温においてはタックすなわちねばつきが無く、取り扱いの便宜が極めて良い。

次に、実際に行われた実施例について説明する。

＜反射型表示装置の実施例＞
＜実施例１＞
一方の基板１１として、３００ｍｍ×４００ｍｍ×厚さ０．１ｍｍのＰＥＴフィルム（東洋紡製Ａ４１００）の一方の面に透光性電極として酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）蒸着膜（厚さ０．２μｍ）が設けられた基板が用意された。透光性電極は、スパッタリング、真空蒸着法、ＣＶＤ法などの一般的な成膜方法によって形成され、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の他に、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等によっても形成され得る。

次に、当該一方の基板１１に、ネガ型感光性樹脂材料（デュポンＭＲＣドライフィルムレジスト（株）製のドライフィルムレジスト）を２０μｍの厚さにラミネートして１００℃、１分間の条件で加熱し、次いで露光マスクを使用して露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ^２ ）し、その後、１％ＫＯＨ水溶液を用いた現像を３０秒行い、２００℃、６０分間の条件で焼成することで、３００μｍピッチのハニカムパターンの隔壁１２が形成された。隔壁１２の頂面の幅は、１３μｍであった。

そして、転写シート基材２１として厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（帝人・デュポン社製）が用いられ、これに接着性材料であるポリエステル樹脂が約３０重量％の割合で水に分散されたエマルション接着材２２１（東洋紡製バイロナールＭＤ−１９８５）が厚さ７μｍで塗布された。なお、エマルション接着材２２１中の接着性材料の軟化温度は、約８０℃であった。

そして、転写シート２０の上に、一方の基板１１が、その隔壁１２が形成されている側の面を下にした状態で載せられ、この状態で、１ｋＰａ程度の押圧力で常温でラミネートされた。その後、常温のまま一方の基板１１が転写シート２０から剥離され（第１付与工程）、隔壁１２頂面に転写されたエマルション接着材２２１が乾燥された。これにより、隔壁１２の頂面の全面に接着性材料の第１の層２２ａが形成された。その後、同様の方法で、接着性材料の第１の層２２ａ上に転写シート２０のエマルション接着材２２１が転写され（第２付与工程）、転写されたエマルション接着材２２１が乾燥された。これにより、接着性材料の第２の層２２ｂが形成された。さらに、同様の方法で、第２の層２２ｂ上にエマルション接着材２２１が転写されて（第３付与工程）、接着性材料の第３の層が形成され、当該第３の層上にエマルション接着材２２１が転写されて（第４付与工程）、接着性材料の第４の層が形成された。その結果、隔壁１２の頂面の全面に積層された接着性材料の、隔壁１２頂面から頭頂部までの高さは、約７μｍとなった。

続いて、表示媒体として、以下の成分を有するインキ１３が用いられ、ディスペンサ３１から滴下されて、中央スキージ３２（ニューロング製のスキージ１：ウレタン樹脂製）にてスキージ処理されて、各セル内に充填された。基板幅方向にはみ出した余剰インキは、別の両端スキージ３３ａ、３３ｂ（ニューロング製のスキージ２：ウレタン樹脂製）にて掻き取られ、さらにロールワイパ３４にて拭き取られた。
＜インキ成分＞
・電気泳動粒子（二酸化チタン）・・・６０重量部
・分散液 ・・・４０重量部

続いて、隔壁パターン外周の一部（２ｍｍ×２ｍｍの正方形領域）に、銀ペースト（藤倉化成製）がディスペンサ４１によって点塗布された。

次いで、他方の基板１６として、３００ｍｍ×４００ｍｍ×厚さ０．５ｍｍの無アルカリガラス（日本電気硝子製ＯＡ−１０Ｇ）の一方の面に、２００μｍ×２００μｍの正方形電極が６００×８００個行列方向に整列したアモルファスＴＦＴアクティブマトリックスを形成した。アモルファスＴＦＴアクティブマトリックスは、液晶ディスプレイなどで一般的に用いられているものであり、正方形電極の材質はアルミニウムをチタンで被覆したものであった。

そして、大気中にて、一方の基板１１の隔壁１２上の接着層２２の上に他方の基板１６を重ね合わせて、ラミネータ９１で一定の熱圧着圧力をさらに付与しつつ、隔壁１２内のセル容積を超える余剰のインクを押し出しながら、一方の基板１１の隔壁１２と他方の基板１６とが密着された。熱圧着時の温度は、エマルション接着材２２１の接着性材料の軟化温度または融点以上の温度が好ましく、６０℃〜１３０℃、さらに好ましくは７０℃〜９０℃であり、本実施例では８０℃であった。また、熱圧着圧力は、０．０１ＭＰａ〜０．７ＭＰａが好ましく、特には０．１ＭＰａ〜０．４ＭＰａが好ましく、本実施例では０．３ＭＰａであった。

その後、断裁装置５１によって所定のサイズに断裁された。以上により表示パネルが作製された。続いて、一方の基板１１及び他方の基板１６の周辺にディスペンサ（不図示）を用いて紫外線硬化性樹脂（イー・エッチ・シー（株）製：ＬＣＢ−６１０）を塗工して封止し、紫外線を露光（露光量７００ｍＪ／ｃｍ^２ ）して硬化させた（外周封止処理）。

以上のようにして得られた表示パネルに対し、３万回のストライプ画像の書き込み試験を行ったところ、セル間の粒子の移動がほとんど無く、セル間の粒子濃度差に起因する焼き付きムラは生じなかった。

＜比較例１＞
前記実施例１に対し、隔壁１２頂面上の接着層２２を以下の方法で形成し、その他は同じ工程で、表示パネルを作製した。

すなわち、転写シート基材２１として厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（帝人・デュポン社製）が用いられ、これに接着性材料であるポリエステル樹脂が有機溶媒に溶解されたヒートシール剤２２１'（東洋紡製バイロン６３０）が厚さ２０μｍでダイコータにて塗布され、乾燥された。これにより、１０μｍの厚さのヒートシール剤２２１'の層を有する転写シート２０が作製された、なお、ヒートシール剤２２１'の軟化温度は、約１１０℃であった。そして、転写シート２０の上に、一方の基板１１が、その隔壁１２が形成されている側の面を下にした状態で載せられ、この状態で、１ｋＰａ程度の押圧力で常温でラミネートされた。その後、ヒートシール剤２２１'の周辺がその軟化温度を超える温度、例えば１３０℃程度にまで加熱され、その状態で一方の基板１１が転写シート２０から剥離された。その結果、ヒートシール剤２２１'が、隔壁１２の頂面の全面に熱転写された。隔壁１２の頂面からヒートシール剤２２１'の頭頂部までの高さは、約５μｍであった。

以上のようにして得られた表示パネルに対し、３万回のストライプ画像の書き込み試験を行ったところ、セル間の粒子の移動が生じ、セル間の粒子濃度差に起因する焼き付きムラが発生した。

なお、比較例１において隔壁２２頂面上に形成された接着層２２の上に更に転写シート２０上のヒートシール剤２２１'を付着させたところ、接着層２２のヒートシール剤２２１'が転写シート２０上のヒートシール剤２２１'の溶媒に溶解してしまって、接着層２２の厚みを増大させることはできなかった。

＜比較例２＞
前記比較例１に対して、隔壁１２をその頂面の幅が２０μｍとなるように形成し、その他は同じ工程で、表示パネルを作製した。接着層形成工程において隔壁１２頂面上に転写されたヒートシール剤２２１'の、隔壁１２の頂面から頭頂部までの高さは、約７μｍであった。

以上のようにして得られた表示パネルに対し、３万回のストライプ画像の書き込み試験を行ったところ、セル間の粒子の移動はなく、セル間の粒子濃度差に起因する焼き付きムラは生じなかった。しかし、表示パネルにおける隔壁１２の頂面の占める割合が高く、実施例１の表示パネルと比較してコントラストが低下していた。

１１ 一方の基板
１２ 隔壁
１３ インキ（表示媒体）
１６ 他方の基板
２２ 接着層
２２ａ 接着性材料の第１の層
２２ｂ 接着性材料の第２の層
２２１ エマルション接着材
２２１' ヒートシール剤
７０ 接着材塗布ローラ
７１ 容器
７２ アプリケータ
７３ 基板回転ローラ
３１ ディスペンサ
３２ アプリケータ
５１ 断裁装置
９１ ラミネータ

Claims (1)

1. 少なくとも一方が透光性を有しており各々電極が形成されている対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に所望の表示をする、反射型表示装置、を製造する方法であって、
   一方の基板上に所定のパターンで隔壁を形成する隔壁形成工程と、
   前記隔壁の頂面上に接着層を形成する接着層形成工程と、
   前記一方の基板または他方の基板上に前記表示媒体を配置する表示媒体配置工程と、
   前記表示媒体が配置された後に、前記隔壁で区画された各領域をセルとして、前記表示媒体が各セル内に封止されるよう、前記接着層上に他方の基板を接着する対向基板接着工程と、
   を備え、
   前記接着層形成工程は、
   前記隔壁の頂面上に接着性材料が分散媒に分散されたエマルション接着材を付与することによって当該エマルション接着材の接着性材料を形成する第１付与工程と、
   前記第１付与工程の後に、当該第１付与工程で形成された前記接着性材料上に更に前記エマルション接着材を付与することによって当該エマルション接着材の接着性材料を形成する第２付与工程と、
   を含んでいる
   ことを特徴とする反射型表示装置の製造方法。

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