JP2014516791A - 生物学的汚染を取り除く分離障壁を備える水の浄化および配分のためのシステムおよび方法 - Google Patents

Abstract

本発明は、少なくとも１つの処理水供給地点（Ａ）と、浄水の少なくとも１つの利用地点（Ｕ）と、ポンプ手段（１０１）と、滅菌手段（１０６）と、濾過手段（１０３）とを備える閉水流ループ（１０７）を備える処理水浄化システム（１８）であって、ゾーン（１０６）は、供給地点（Ａ）と、供給地点（Ａ）の上流に位置する水抽出地点（Ｐ）とを備えること、ならびに抽出地点（Ｐ）も供給地点（Ａ）も、ゾーン（１０６）の２つの他のセクタ（１０６Ａ、１０６Ｃ）により、ループ（１０７）をゾーン（１０６）に接続する２つの地点（Ｒ_Ｍ、Ｒ_Ｖ）から分離された滅菌ゾーン（１０６）のセクタ（１０６Ｂ）内に位置することを特徴とするシステム（１８）に関する。このようなシステムを使用する方法。

Description

本発明は、詳細には浄水流ループを装備する、水を浄化し、分配するシステムに関する。本発明はまた、このシステムを使用して水を浄化し、分配する方法に関する。

詳細には、分析化学および分析生物学研究所では、数多くの用途が純水または超純水さえ使用する必要がある。これらのシステムはまた、内科療法、たとえば透析のために、または非常に高いレベルの浄化を必要とする（血液、尿などのための）生物学的分析装置のために使用される。

水浄化システムは、所望の品質の水を生産するために設計されてきた。

したがって、特許文献である米国特許出願公開第２００８／０２３０４５０号明細書、米国特許第７，２５０，６１９号明細書、米国特許第５，２５９，９５４号明細書、米国特許第４，４９５，０６７号明細書、米国特許第４，８１０，３８８号明細書、および欧州特許第１８７５８１８号明細書が、紫外線ランプおよび使い捨てフィルタを含むいくつかのステップの水処理をインラインで使用して浄水を生産する方法について説明している。

特許文献である特公平３−２２３６６０号公報が、詳細には、限外濾過フィルタを通してインラインで分配する前に８０℃でタンク内に浄水を貯蔵することについて説明している。

図１、図２、および図３は、最新技術に従って純水または超純水さえも浄化し、分配するシステム１３、１３’、および１３”を示す。

システム１３および１３’は、分析生物学および分析化学研究所の用途で一般に使用される。これらのシステムはまた、内科療法、たとえば透析のために、または生物学的分析装置に供給するために使用される。

図１では、水を浄化し、分配するシステム１３は、たとえば逆浸透および電気脱イオン化により、当業者に公知の手法で、たとえば水道水ＥＶから処理水を生産する処理水生産システム１０に結合される。処理水生産システム１０は、一般に、一次回路と呼ばれる回路の形をとる。

システム１３は、この処理水の利用者に分配される準備ができた、浄化された純水または超純水を生産する。システム１３は、浄水流用閉ループである回路１００により主に構成される。回路１００は、一般に二次回路と呼ばれる。

システム１０は、供給地点２０でループ１００に入るパイプ１１により流動ループ１００に処理水を供給する。水流の方向に、供給地点２０の下流に、ループ１００は、ポンプ１０１と、一般に２５４ｎｍで放出する紫外線（ＵＶ）ランプ１０５と、フィルタ膜３を備える一般に精密濾過フィルタ１０３である濾過構成要素１０３とを備える。ポンプ１０１により、流れが流動ループ１００内部に維持され、かつ異なる水浄化構成要素内および流体回路内の水頭損失を補償することが可能になる。フィルタ１０３は、ループ１００からの分水路に取り付けられる。

利用者がシステム１３から浄水を抜き取る利用地点１０４は、フィルタ１０３の下流に位置する。利用者により抜き取られない浄水は、弁１０２を介してポンプ１０１の入口に向けて閉ループ１００の中を流れ続ける。弁１０２は、フィルタ１０３の入口で十分な背圧を発生させて、分配地点１０４で流動を得る。弁の開口圧力で、ポンプ１０１からの流動により、浄水がループ１００の中を流れることが可能になる。弁１０２は、較正された弁または吐出し弁のタイプからなる。

水の浄化および分配システム１３は、水処理用の少なくとも１つの構成要素１２により完成されてもよい。構成要素１２は、一般に、イオン交換樹脂カートリッジタイプ、および／または有機物を吸収するための材料を含むカートリッジタイプ、および／または限外濾過タイプからなる。構成要素１２は、好ましくは、（図１に示されるように）ポンプ１０１とＵＶランプ１０５の間に置かれる。示されない一変形形態によれば、構成要素１２はまた、ＵＶランプ１０５とフィルタ１０３の間に置かれてもよい。構成要素１２は、システム１０により生産された水の中に含まれる残留イオン、有機物、粒子、または発熱物質の除去を可能にしてもよい。構成要素１２は、図１に破線で表されている。構成要素１２が存在しない場合、単純なパイプがポンプ１０１をＵＶランプ１０５に連結する。

図２のシステム１３’は、ループ１００’が単純な供給地点２０の代わりにタンク１７を備える、図１のシステム１３の一変形形態を表す。システム１３’は、浄水流用閉ループである回路１００’により主に構成される。タンク１７は、パイプ１１を介して処理水生産システム１０により生産される水によっても、弁１０２を介して通過した後にタンク１７の上流側に到達する、利用地点１０４で抽出されなかった浄水によっても、供給される。ポンプ１０１は、このタンク１７からの出口に接続される。

さらに、システム１３’は、利用者によるどんな抜き取りとも無関係に、ループ１００’内の循環によりタンク１７からの水の断続的再循環を可能にする。これにより、たとえば、利用者により抽出が行われない期間中に、タンク１７内にあまりにも長時間水をよどませないことが可能になる。

提示されない一変形形態によれば、フィルタ１０３とタンク１７の間のループ１００’の一部の中の水流を除去することが可能であり、水は、利用地点１０４で、要求に応じてインラインで配分される。

図３は、ＵＶランプが２つの別個の回路を滅菌することができるということを除き、図２で説明されるシステムの構成要素を含む、米国特許第４，９６９，９９１号明細書で説明される特定のシステム１３”を示す。システム１３”は生産ラインを構成し、以下で説明されるように、浄水流用閉ループを実際に備えないが、タンク１７内に含まれる処理水は、利用者によるどんな抽出とも無関係にループ２６を介して流れて、ＵＶランプ１０５’を通過することによって浄化されてもよい。

図３では、ＵＶランプ１０５’は、２つの別個で独立の流体回路１０５’Ａおよび１０５’Ｂを所有する。システム１０により処理された水は、ＵＶランプ１０５’の回路１０５’Ａを通過することにより、パイプ２１、２２、および２３を介してタンクを満たす。タンク１７内に貯蔵された水は、ポンプ１０１’およびパイプ２６を使用することにより、回路１０５’Ａ内を流れることができる。パイプ２６および２１は、単一のパイプ２２に入り、パイプ２２は回路１０５’Ａに供給する。タンク１７およびポンプ１０１から得られる水は、ＵＶランプ１０５’の回路１０５’Ｂを通ってパイプ２４を通り過ぎて、パイプ２５を介して利用地点に到達する前に、浄化構成要素１２により浄化される。この水の循環は提供されない。

したがって、図３に示される米国特許第４，９６９，９９１号明細書は、一方の流れがタンク１７を満たす水を処理するために使用され、もう一方の流れが水を利用地点２５に直接分配するために使用される、２つの別個の流れを有する、ＵＶランプ１０５’のインライン使用法について説明している。

この構成によれば、ＵＶランプは、水抽出のサイクルおよび断続的循環のサイクル中だけ使用中となる（スイッチが入れられる）。生産システム１０とタンク１７の間のパイプ２６により、生産回路と分配回路の間の逆汚染または相互汚染の可能性をすべて除去することが可能にならない。さらに、この構成は、２つのポンプおよび別個の流れのＵＶランプなどの追加ハードウェアを必要とするので、複雑で、コストがかかる。

従来技術のシステム１３、１３’、および１３”はすべて、たとえば１カ月〜３カ月ごとに、流動ループおよびラインの定期的汚染除去を必要とする。この汚染除去は、一般に、熱水で、または塩素、過酸化物、もしくは任意の他の酸化成分の中から選択される少なくとも１つの化学製品で洗浄されることにより実施される。この汚染除去は、資格を与えられた技術者により実施されなければならず、このことが、水浄化システムの使用を複雑にすると同時に、コストを著しく増大させる。

事実上１回しか使えないフィルタであるフィルタを使用する他の方法が存在する。これらのフィルタは、それぞれ使用された後に、または非常に少ない回数使用された後に、交換される。

さらに、ＵＶランプが存在することにより、たとえば潜在的に「汚染された水」による相互汚染または逆汚染などのすべての汚染問題が解決されることができるようになるわけではない。その上、利用者が浄水をもはや抽出せず、かつランプが消されるために、特に、水が回路内で、たとえばタンク内でよどむとき、使用中に非常に低いレベルの細菌に絶えず維持することは非常に困難である。このことが、タンクからの水がＵＶランプ内を断続的に流れる場合でさえ当てはまるのは、細菌が豊富に存在し、落ちたときにタンクの水を汚染する、凝結による水の液滴が、タンクの上部に存在するためであり、これは、タンク内に到達している、新たに滅菌された水が、再度汚染されたことを意味する。

米国特許出願公開第２００８／０２３０４５０号明細書 米国特許第７２５０６１９号明細書 米国特許第５２５９９５４号明細書 米国特許第４４９５０６７号明細書 米国特許第４８１０３８８号明細書 欧州特許第１８７５８１８号明細書 特公平３−２２３６６０号公報 米国特許第４９６９９９１号明細書

ＡＡＭＩ ＲＤ６２：２００６年 ＡＡＭＩ ＲＤ５２：２００４年

生じる問題は、最小の微生物（一般に１００ＣＦＵ／Ｌ未満）を保証しながら、および利用者により望まれる浄水の処理水生産流量と、浄水の使用速度の両方に適合しながら、浄水が分配されることが可能になる水浄化システムを設計し、生産することである。ＣＦＵは「Ｃｏｌｏｎｙ Ｆｏｒｍｉｎｇ Ｕｎｉｔ（コロニー形成単位）」を意味する。

正確に言えば、浄化回路から浄水を抽出するケイデンスがどうであろうとも、利用者は、浄水を常に利用可能でなければならない。さらに、汚染除去のためのシステム停止は、できるだけ最小の頻度でなければならない。

本発明によるシステムは、有利には、効果的解決策が提供され、かつ従来技術のデバイスの欠点が軽減されることができるようにする。

この目的のために、本発明の様態の１つが、少なくとも１つの処理水供給地点と、少なくとも１つの浄水の利用地点と、少なくとも１つのポンプ手段と、ＵＶによる滅菌用ゾーンを規定するＵＶ放射による滅菌のための少なくとも１つの手段と、少なくとも１つの濾過手段とを備える水流用閉ループを備える処理水浄化システムであって、
ＵＶによる滅菌用ゾーンは、供給地点と、さらに、ループ内を流れる方向に、供給地点の上流に位置する少なくとも１つの浄水抽出地点とを備えること、ならびに抽出地点も供給地点も、ＵＶ滅菌ゾーンのセクタ内に位置し、前記セクタは、ＵＶ滅菌ゾーンの２つの他のセクタにより、ループを滅菌ゾーンに接続する２つの地点から分離されることを特徴とするシステムに関する。

浄水の抽出地点は、一般に少なくとも１つの抽出手段に結合される。浄水の抽出地点はまた、以下で説明されるように、ループ内の水の再循環を作り出すために役立つ場合があり、この再循環は、ループに供給する他の手段である。

ＵＶによる滅菌手段は、一般にＵＶランプである。ほとんどの場合、ＵＶ滅菌ゾーンは、ＵＶランプを含むエンベロープまたはケーシングを備えるデバイスである。このデバイスは、典型的には、その長さにわたり４つの接続地点を装備し、それにより、３つの滅菌セクタの範囲を定める。ほとんどの場合、ＵＶ放射滅菌ゾーンは、ループ内を水が流れる方向に、利用地点の上流に位置する。

ポンプ手段は、一般に少なくとも１つのポンプである。

濾過手段は、一般に少なくとも１つのフィルタであり、好ましくは、利用地点の上流にあり、かつ利用地点に非常に近い、微細孔フィルタまたは限外濾過フィルタなどの最終フィルタである。

ループを滅菌ゾーンに接続する２つの地点は、一般に上流地点（Ｍ）および下流地点（Ｖ）であり、上流の接続地点は、ループ内を水が流れる方向に、下流の接続地点に先行する。

したがって、本発明は、二次流動ループを生じさせることを巧に可能にし、二次流動ループ内部には、ＵＶ滅菌ゾーン内の異なるセクタの構成および位置、ならびに抽出地点および供給地点の構成および位置によって、不感帯も、細菌汚染に対して保護されていない処理水供給回路への連結も存在しない。二次ループ内を流れる水が、詳細には逆汚染または相互汚染を回避しながら、非常に低いレベルの細菌汚染（ループ内で１ＣＦＵ／ｍＬ未満、および利用地点で１００ＣＦＵ／Ｌ未満）に保たれることを可能にするのは、浄水流ループと、供給回路との間の境界、または再循環する処理水用回路との間の境界にさえ位置する、連続動作状態にある（スイッチが入った）ＵＶ障壁の存在である。

本発明によれば、「処理水」は、一次ループの水を処理する方法による水を意味し、「浄水」は、二次ループの水を浄化する方法により処理された水を意味する。

さらに、「汚染除去」は、存在する場合がある生きた成分または発熱性成分を除去する行為を意味する。この行為は、一般に特定の時間に実施される。本発明に関連して、「ＵＶによる滅菌」は、一般に連続動作で、１回または複数回の紫外線放射によって、生きた要素を破壊する行為を意味するために使用される。

最後に、本発明によれば、「浄化」は、微粒子状、イオン状、有機の、または生きている場合がある汚染物質の除去を意味する。当業者に公知であるように、浄化技法は、汚染物質のタイプに従って非常に異なってもよい、すなわち、逆浸透（イオンまたは有機の汚染物質に対して）、イオン交換樹脂（イオン汚染物質に対して）、活性炭（有機汚染物質に対して）、濾過（粒子および／または生きた汚染物質に対して）、限外濾過（生きた汚染物質および／または細菌の副産物および／または発熱物質に対して）、ＵＶ（紫外線放射が、ほとんどの場合に当てはまる２５４ｎｍである場合、生きた汚染物質に対して、および紫外線放射が１８５ｎｍである場合、有機汚染物質に対して）であってもよい。

本発明による浄水流用閉ループはまた、二次ループ、またはより簡単に本明細書ではループと呼ばれる。本発明によるシステムは、このループ内を水が連続的に流れるように設計された、真の閉ループシステムである。ループ内を流れループの中に入る水が常に滅菌ゾーンを通り過ぎるとき、ループ内を流れる水は連続的に浄化される。

本発明に関連して、抽出地点でループからの浄水の抽出が少なくとも１回行われる。また、必要に応じて、水の補充が提供されてもよく、この水は、滅菌ゾーン内を通過することにより滅菌される。また、最後に、好ましくは別個の時間に、浄水の抽出を行い、この同じ抽出地点で水の補充を提供することが可能である。したがって、ループに供給する処理水の流動と、利用者により抜き取られる水の流動の両方に応じて、異なる可能性が使用される。

ループ内の流動は、一般に、利用者により望まれる浄水の流動より多い、または等しい。利用者により抽出される水の流動は、一般に変わりやすく、順序づけられてもよい。

ループに供給するために、本発明によるシステムに入る処理水の生産速度は、分配される浄水の流動と等しくても、これより大きくてもよい。この場合、過剰に生産された処理水が、本発明によれば、一般に、貯蔵場所の中に置かれる、またはたとえば処理水の生産用回路の中に再循環させられる。

ループに供給するために、本発明によるシステムに入る処理水の生産速度はまた、一般に、分配される浄水の流動より少なくてもよい。この場合、一般に、本発明の一実施形態によれば、システムにより浄化され、貯蔵場所の中に置かれた水を追加することにより、ループに供給する水の流動を増大させることが可能である。その後補充として使用することができる、たとえばタンク内の貯蔵場所の中に過剰な浄水を置くことがこのように可能であることは、本発明によるシステムの好ましい実施形態の１つの利点の１つである。

貯蔵場所の中に水を置くことは、処理水の供給地点と異なる、ＵＶ滅菌ゾーン内の抽出地点で実施され、浄水が過剰モードであれ、補充モードであれ、滅菌されることができるようにする。

したがって、水抽出地点により、貯蔵場所の中に置くための過剰な浄水を、ループに供給する浄水であろうとなかろうと、タンクに、および／または処理水生産システムの入口に経路設定することが可能になる。

第１の実施形態によれば、抽出地点は、浄水が滅菌ゾーンのセクタ内をあらかじめ通過して、貯蔵場所の中に、一般に少なくとも１つのタンクの中に置かれることが可能になるように適合され、タンクの細菌汚染の可能性を低減する。したがって、本発明によるシステムは、少なくとも１つの貯蔵タンクをさらに備える。このようなタンクは、一般に大気に対して開放され、抽出手段により供給されることができる。これにより、有利には、ループが大気に接続されることが可能になる。したがって、タンク内の浄水が大気に接続されることにより、有利には、ほとんどの場合、ループの濾過手段のパージングにより得られる、滅菌ゾーン内を流れるどんな残留ガスも大気に吐き出すことが可能になる。

このような場合、好ましくは、システムは、タンクのＵＶ滅菌用の、好ましくは前記タンク内部に置かれた、またはさらにはタンク内に沈められた少なくとも１つの追加手段を備える。この追加の滅菌手段は、タンクの少なくとも一部の中に潜在的に存在する液体だけでなく、この液体から生じる凝結により潜在的に汚染される、タンクの沈められていない壁も滅菌するように適合される。

第２の実施形態によれば、抽出地点は、水が、処理水生産システム内で、好ましくは本発明によるシステムに供給する一次回路内で、少なくとも部分的に再循環させられることが可能になるように適合される。これは、滅菌ゾーンのセクタ内を先行して通過して実施され、これにより、一次回路の細菌汚染の可能性が低減される。この場合、本発明によるシステムは、抽出手段により供給され、かつ少なくとも１つの処理水生産システムに供給するように適合されることができる、少なくとも１つの再循環パイプを備える。

有利には、本発明によれば、流動ループは、好ましくは、ＵＶ滅菌ゾーン内の異なるセクタの構成および位置、ならびに抽出地点および供給地点、ならびに任意選択で利用地点の構成および位置によって、不感帯も、細菌汚染に対して保護されていない処理水供給回路への連結もなく、ＵＶゾーンは、浄水流ループ（二次回路）と供給回路（一次回路）との間の境界に位置する、連続動作状態にあるＵＶ障壁であり、これにより、二次ループ内を流れる水がループ内で１ＣＦＵ／ｍＬ未満、および利用地点で１００ＣＦＵ／Ｌ未満という非常に低いレベルの細菌汚染に保たれることが可能になる。

本発明によれば、抽出手段はまた、先行する第１の実施形態と第２の実施形態を組み合わせることにより、タンクに供給するのにも、処理水生産システムに供給するのにも役立つ場合がある。

ポンプ手段および濾過手段は、一般に、供給地点から抽出地点に進むループ部分で、好ましくは供給地点から利用地点に進むループ部分で、ループ内を水が流れる方向に、ループ上に連続的に配置される。

したがって、本発明は、二次流動ループを生じさせることを巧に可能にし、二次流動ループ内部には、ＵＶ滅菌ゾーン内に３つの異なる滅菌セクタを生成することによって、不感帯も、細菌汚染に対して保護されていない処理水供給回路への連結も存在しない。

ループ上に置かれた各滅菌手段、およびおそらくはタンク上および／またはタンク内に置かれてもよい追加の滅菌手段は、一般に、少なくとも１つのＵＶランプ、つまり、水銀灯、または放電ランプ（たとえば、キセノンランプ）、または少なくとも１つのＬＥＤ（発光ダイオード）を備える。滅菌手段は、殺菌特性を有する紫外線放射を放出する。本発明によれば、滅菌手段は、一般に、処理水用の（一次）生産回路と、浄水用の（二次）回路またはループとの間を、本質的に細菌であるバイオ汚染物質が通過するのを防ぐための連続的障壁を生成するために連続動作状態にある（スイッチが入れられる）。

さらに、二次ループの流体と処理水生産回路の間の交換が、ＵＶ滅菌ゾーン内で常に行われるので、逆汚染および相互汚染は、典型的には起こり得ない。これは、本発明の利点の１つである。

滅菌ゾーンのセクタの構成はまた、有利には、ループ内を流れる流体の冷却を可能にする。正確に言えば、流体は、ＵＶランプにより放散させられるエネルギーにより、典型的には細菌の成長に不利な２５〜４０℃に加熱される。本発明によれば、この流体は、有利には、セクタの少なくとも１つの中で、供給水と混合することにより冷却される。

その結果、本発明によれば、従来技術よりはるかに少ない頻度で、典型的にはほんの半年から１年ごとに、熱水または化学製品を通過させることにより、ループを除染することが可能である。

ポンプ手段は、ほとんどの場合ポンプである。さらに、ポンプ手段は、好ましくは、ループ上に存在する停止手段に結合され、前記停止手段は、好ましくは逆止め弁（または安全弁）である。ポンプ手段により、有利には、所望の量の浄水が利用地点で提供され、濾過および流体回路の構成要素に特有の水頭損失を補償することにより閉流動ループ内部の流れを維持することが可能になる。

濾過手段は、一般にフィルタ構成要素またはフィルタであり、ほとんどの場合、好ましくは、少なくとも１つの膜を備えるアブソリュートフィルタ、たとえば、孔径０．２２μｍまたは０．１μｍの膜を備えるフィルタである。このフィルタは、好ましくは、利用地点に位置する。このフィルタは、好ましくは、ループに連結された、パージングパイプである迂回パイプに結合される。フィルタが膜を備えるとき、前記パイプは、ループ内を水が流れる方向に、膜の上流に位置する。

濾過手段が膜を備えるフィルタであるとき、濾過手段は、一般に、ループに接続するための２つのパイプを備える。第１の接続パイプは、一般に濾過膜の上流に位置する。第１の接続パイプにより、ループ内を流れる浄水全体が、利用地点からの抜き取りが終了したときに、膜を水で洗い流すことが可能になり、これにより、有利には、この膜の上流または膜上の水の死容積を除去し、ループから戻っている、ループの下流側に一般に連結された第２の接続パイプにより再度出て、膜に存在するどんな残留ガスもパージング可能にする、すなわち自動排出可能にする。

濾過手段は、好ましくは、浄化水分配ループ上の分水路上に位置する。これにより、有利には、ループと利用地点の間の完全な分離が可能になる。濾過手段はまた、ループ上のインラインに位置してもよく、水はループ内を流れ、フィルタを通過し、利用地点は、フィルタの下流のループ上に位置する。それにもかかわらず、このような場合、利用地点は、たとえば膜によりループから分離されず、抜き取る地点で水の逆汚染のリスクが存在する。

利用地点は、一般に、濾過手段の場所に、さらにより好ましくは、濾過手段上に位置する。この場合、濾過手段は「最終」と呼ばれる。フィルタが膜フィルタであるとき、利用地点は、好ましくは、膜の下流に位置する。

本発明によれば、システムは、少なくとも１つの膜を備える限外濾過フィルタであることが好ましい追加の濾過手段をさらに備えてもよい。この限外濾過フィルタは、本発明によれば、カットオフしきい値が一般に１，０００Ｄａ〜１，０００，０００Ｄａまで変化する膜を備えるフィルタとして規定される。カットオフしきい値は、求められる性能に従って当業者により選択される。この限外濾過フィルタは、一般に、溶解されても、されなくてもよい、流体中に存在する分子を保持し、分子量は膜の選択のための、保持力の決定要因を構成する。本発明に関連して、保持力しきい値は、一般に浄水の発熱物質除去を可能にするように選択される。

濾過手段はまた、特有の０．１μｍまたは０．２２μｍ最終フィルタの特性と限外濾過フィルタの特性を組み合わせる、正に帯電したアブソリュートフィルタであってもよい。正確に言えば、濾過手段の正電荷が、親和力により発熱物質の吸収を可能にする。このフィルタは、おそらくは、追加の濾過手段が存在しなくても濾過手段の役割を果たす場合がある。

追加の濾過手段は、好ましくは、ポンプ手段の下流かつ濾過手段の上流に、迂回パイプが追加の濾過手段を滅菌ゾーンの上流に位置するループの地点に連結するように位置する。この迂回パイプは、一般に、ガスをパージするためのパイプであり、追加の濾過手段が少なくとも１つの膜を備えるフィルタであるとき、１つまたは複数の膜の上流を滅菌ゾーンの上流に位置するループの地点に連結する。

したがって、本発明の好ましい一実施形態によれば、追加の濾過手段は、一般に濾過手段（追加の濾過手段が膜フィルタであるとき、膜の上流に位置する地点にある）と、利用地点の下流かつＵＶ滅菌ゾーンの上流に位置するループの地点を連結する、パージングパイプである迂回パイプをさらに備える。

有利には、この迂回パイプは、存在する残留ガスをパージする、つまり、排出することを可能にする。

この迂回パイプが存在することにより、自動パージングが実施されることが可能になり、このことは、非常に有利である。実際には、既存の浄化システムにより、手作業によるパージングだけが行われることが可能になる。しかしながら、この手作業によるパージング動作は、詳細には利用者が資格のある技術者ではないとき、行うことが困難である。

迂回パイプは、一般に、ガスの排出が、前記パイプ内のより低い流量の水で効果的に実施され、ループから排出されるように構成される。これは、一般に、パイプの壁上にバイオフィルムがどのように形成することも回避するために、ループに属する異なるパイプ内で適切な線速度を維持することを意味する。

したがって、迂回パイプは、一般に、好ましくは、濾過手段または追加の濾過手段内に含まれるどんな残留ガスも、この迂回パイプを介して通過する水により移送され、それにより、大気に、たとえばタンク内にこのガスを排出するように構成される。本発明に関連してそれほど好ましくないが、迂回パイプが、同じく、どんな残留ガスも、同じく迂回パイプの中に部分的に排出されることができるようなものとすることも可能である。この場合、迂回パイプは、少なくとも１つのガス排出手段を備える。迂回パイプ内の流動は、有利には、たとえば、制限する手段を使用することにより、または迂回パイプを構成する管の直径を低減することなどにより、制限されてもよい。

好ましくは、本発明によれば、本発明のシステムのすべての濾過手段の完全性が、稼動前に１００％まで試験された。

一実施形態では、本発明によるシステムは、一般に、ループ内を流れる水を加熱するように適合された、ループの少なくとも１つの部分を加熱するための少なくとも１つの手段を備える。この加熱手段は、たとえば、ＵＶランプを含むステンレス鋼のケーシングによりＵＶ滅菌ゾーンが構成されるとき、たとえば、ＵＶ滅菌手段を取り囲む加熱スリーブであってもよい。加熱手段は、抵抗タイプの加熱素子であってもよい。最も一般的には、このような素子は沈められ、ループ上に位置する。加熱手段はまた、ループ上に位置する少なくとも１つの加熱素子により構成されてもよい。この加熱手段により、有利には、所定のサイクルを使用して、典型的には８５℃より高い温度の熱水でループを除染することが可能になる。

本発明によれば、本発明によるシステムの一部が、より具体的には濾過手段および隣接する回路構成要素を備えるループの一部が、１組の消耗できる構成要素であることがさらに好ましい。本発明によれば、「消耗できる構成要素」は、性能が特定の寿命に対して、または利用地点での、生産された／分配された浄水の特定の容積に対して適格である使い捨ての構成要素を意味する。

消耗できる構成要素は、一般に、濾過手段および隣接するパイプにより構成される。

１組は、一般に単一の部分を形成し、可能である場合には、照射または他の技法により無菌の、または除染された状態で１組のパッケージングで配送される。これにより、単純な機械的接続手段を使用して、消耗できるこの１組を迅速かつ簡単に変えることが可能になり、ループの、または１つもしくは複数の濾過構成要素の、汚染のリスクが低減される。１組は、その使用期間中の１組の性能の完全性を保証するためには、寿命が限られている、または水処理能力が限られている。１組はまた、１組がループ上に存在することが解析され、かつ１組の寿命または処理水の容積を追跡することが可能になる検出および認識のための手段を備えてもよい。検出手段は、ＲＦＩＤタグ、バーコード、メモリ回路、または光学的もしくは機械的な偏光子もしくは他の手段の形をとってもよい。

本発明による水浄化システムに供給する処理水生産システムは、一般に、イオン交換樹脂タイプまたは電気脱イオン化モジュールの脱イオン化ステップが加えられてもよい逆浸透処理デバイスを備える。

生産された処理水は、ループ内で供給地点に処理水が到達したときに滅菌ゾーンの中に流れ込み、これにより、有利には、ループ内に処理水が到達したときに処理水の細菌汚染を著しく低減することが可能になる。

有利には、本発明によるシステムにより、処理水の、および浄水の、微生物による相互汚染を回避することが可能になる。

水処理システムの水およびエネルギーの消費を低減するため、および／または２回の抜き取る動作の間に長期間ループ内で水の温度が上昇するという問題を回避するため、処理水生産システムだけでなくループの分配ポンプも停止することがときどき必要である。しかしながら、本発明による滅菌ゾーンの滅菌手段は、一般に、処理水生産回路とループの間の障壁を動作状態に保つために、連続的に動作状態になければならない。さらに、ループ内の生産および循環の中へ戻す規則的サイクルを提供して、システムを構成する水処理構成要素および流体回路内のバイオフィルムの形成および微生物の成長を回避することが有利である場合がある。実際には、本発明による滅菌手段をほとんどの場合構成するＵＶランプは、一般に連続的に作動している。

したがって、本発明による浄化システムにより得られる浄水に含まれる細菌、細菌の副産物、およびバイオ汚染物質のレベルは、水生産の限界を設定するＡＡＭＩ（Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ ｆｏｒ ｔｈｅ Ａｄｖａｎｃｅｍｅｎｔ ｏｆ Ｍｅｄｉｃａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ、医療器具開発協会）およびＥＰ（「Ｅｕｒｏｐｅａｎ Ｐｈａｒｍａｃｏｐｅｉａ（欧州薬局方）」）の仕様に適合する：
・ＡＡＭＩ ＲＤ６２：２００６年による血液透析用の純水：微生物についてはミリリットルあたり２００ＣＦＵ未満、および発熱物質についてはミリリットルあたり２ＥＵ、
・ＡＡＭＩ ＲＤ５２：２００４年による超純水：微生物についてはリットルあたり１００ＣＦＵ未満、および発熱物質についてはミリリットルあたり０．０３ＥＵ、
・ＥＰによる純水：微生物については１００ＣＦＵ／Ｌ未満、および発熱物質については０．２５ＥＵ／ｍＬ、および
・ＥＰによる超純水：微生物については１００ＣＦＵ／Ｌ未満、および発熱物質については０．０３ＥＵ／ｍＬ。

本発明はまた、本発明によるシステムの任意の使用法に関する。

したがって、本発明は、このようなシステムを使用する方法であって、方法は、閉水流ループ内に処理水流を作るステップを備える、処理水を浄化する方法からなり、処理水は少なくとも１つの供給するステップ中に供給地点により入り、前記浄化するステップは、好ましくは精密濾過ステップである少なくとも１つのフィルタリングするステップと、少なくとも１つの滅菌手段により滅菌する少なくとも１つのステップとを備え、方法から生じる流出する浄水は、フィルタリングするステップの場所で抽出される方法であって、
前記方法は、ループ内を水が流れる方向に、フィルタリングするステップの下流に位置する抽出地点で、ループ内を流れる水の一部を抽出する少なくとも１つのステップを備えること、
および滅菌するステップは、抽出地点の上流に位置するセクタ内、抽出地点の下流かつ供給地点の上流に位置するセクタ内、および供給地点の下流に位置するセクタ内で、ループ内を流れる水に対して連続的に実施されることを特徴とする方法に関する。

有利には、本発明による処理水を浄化する方法は、閉流動ループが、好ましくは、ＵＶ滅菌ゾーン内の異なるセクタの構成および位置、ならびに抽出地点および供給地点、ならびに任意選択で使用する地点の構成および位置によって、不感帯も、細菌汚染に対して保護されていない処理水供給回路への連結もないようなものであり、ＵＶゾーンは、浄水流ループ（二次回路）と供給回路（一次回路）との間の境界に位置する、連続動作状態にあるＵＶ障壁であり、これにより、二次ループ内を流れる水がループ内で１ＣＦＵ／ｍＬ未満、および利用地点で１００ＣＦＵ／Ｌ未満という非常に低いレベルの細菌汚染に保たれることが可能になる。

本発明による方法は、好ましくは、連続的に行われる、つまり、水はループの中を連続的に流れる。ループ内を流れループの中に入る水が滅菌ゾーンを通り過ぎるとき、ループ内を流れる水は連続的に浄化される。利用者は、自分の必要に従って、水を連続的に、または不連続に抜き取る。

濾過ステップは、少なくとも１つの濾過手段により、好ましくは膜フィルタにより実施される。このような場合、好ましい一変形形態によれば、方法は、１つまたは複数の濾過ゾーンから得られるどんな残留ガスも、大気に自動的に吐き出されるようなものである。

好ましくは、抽出するステップは、貯蔵場所の中に、典型的には大気に対して開放された少なくとも１つのタンクの中に置く少なくとも１つのステップに結合される。

この場合、好ましい一実施形態によれば、方法は、ループの抽出地点で貯蔵場所の中に置かれた水の一部をループの中に環流させる（すなわち、流れさせる）少なくとも１つのステップをさらに備える。この環流により、一般に、ループの利用地点で十分な流量を保証するために補充水が提供されることが可能になる。

本発明による方法は、ループ内を流れる水を加熱する少なくとも１つのステップを備えてもよい。このステップは、一般に、除染サイクル中に熱水を、つまり、一般に８５℃より高い温度で通過させることにより浄水回路の除染の役に立つ。

本発明による方法は、好ましくは限外濾過ステップである少なくとも１つの追加のフィルタリングするステップを備えてもよい。

この場合、本発明による方法は少なくとも２つのフィルタリングするステップを備え、方法から生じる流出する浄水は、２つのフィルタリングするステップの一方の場所で抽出される。好ましくは、第１のフィルタリングするステップは限外濾過ステップである。好ましくは、第２のフィルタリングするステップは精密濾過ステップである。

好ましい一実施形態によれば、方法は、ループ内を流れる水の一部をループから分水路内を流れさせることにより、少なくとも１つのパージするステップを備える。水をこのように流れさせることにより、一般に、このパージするステップでどんな残留ガスも排出することが可能になる。水のこの部分は、一般に、ループ内の総流動のわずかなパーセンテージを表し、流動の主要な部分はループ内で行われる。

好ましくは、このパージするステップは、フィルタリングするステップで実施される。これにより、有利には、どんな残留ガスの排出も可能になる。このパージするステップは、一般に、連続的に実施され、どんな残留ガスも、フィルタリングするステップとの関連で大気に排出される。濾過手段が、少なくとも１つの膜を備えるフィルタであるとき、このパージするステップは、一般に、フィルタの１つまたは複数の膜の上流にある特定の出口への分水路により実施される。このパージするステップにより、有利には、システム内に存在する空気の排出が可能になる（溶解したガス、および濾過手段内に捕獲された空気により、フィルタリングするステップが実施されることが可能になる）。

好ましい一実施形態では、本発明による方法は、ループ内を流れるどんなガスも大気に排出する少なくとも１つのステップを備える。一般に、ガスは、１つまたは複数のフィルタリングするステップの上流側から得られる。好ましくは、このステップは、タンクを使用することにより実施される。

本発明は、以下の添付図面に照らしてよりよく理解されよう。

従来技術による第１の水浄化用システムの図である。 従来技術による第２の水浄化用システムの図である。 従来技術による第３の水浄化用システムの図である。 本発明の第１の実施形態による水浄化用システムの図である。 本発明の第２の実施形態による水浄化用システムの図である。 除染用加熱構成要素をさらに装備する、図５による水浄化システムの図である。

図面では、同じ参照記号が同一構成要素を表す。

図１、図２、および図３については、すでに解説された。

図４は、本発明の第１の実施形態による水浄化用システム１８を示す。システム１８は、水ＥＶを、典型的には水道水ＥＶを使用して、たとえば逆浸透および電気脱イオン化により処理水生産用システム１０に結合される。

システム１８は、浄水を貯蔵するためのタンク１７を備える。システム１８はまた、二次流動用に閉ループ１０７上にすべて配置された、弁１０２に結合されたポンプ１０１を備えるポンプ手段と、膜３を備える精密濾過フィルタ１０３と、ＵＶ滅菌ゾーン１０６とを備える。フィルタ１０３は、ループ上の分水路上にあり、利用者により浄水を抜き取るための利用地点Ｕに供給する。

処理水生産システム１０の処理水は、ＵＶ滅菌ゾーン内に配置された供給地点Ａで、ライン１１により流動ループ１０７の中に入る。

パイプ１４により、水が抽出地点Ｐでループ１０７から抽出されることが可能になる。この水は、利用地点Ｕで使用されず、かつタンク１７内の貯蔵場所の中に置かれた、システム１８により生産された過剰な浄水に相当する。パイプ１４により、水が浄水生産システム１８の補充供給のために同じ地点Ｐで戻されることがさらに可能になる。示されていないが、タンク１７はまた、ループポンプ１０１が停止させられたときに、システム１０から生じる処理水により供給されてもよい。

ループ１０７内を浄水が流れる方向に関して地点Ｐの下流に位置するＵＶ滅菌ゾーン１０６のセクタが、セクタ１０６Ａである。

ループ１０７内を浄水が流れる方向に、地点Ｐの上流に位置するＵＶ滅菌ゾーン１０６のセクタが、このゾーン１０６のセクタ１０６Ｃである。

したがって、ゾーン１０６は、セクタ１０６Ａ、セクタ１０６Ｃにより、および地点Ｐと地点Ａの間に位置する中間補充セクタ１０６Ｂにより構成される。ゾーン１０６はループ１０７に接続され、接続地点Ｒ_Ｍを介してループ１０７の上流の部分を、および下流の接続地点Ｒ_Ｖを介してループ１０７の下流の部分を形成する。

利用地点Ｕで水が抜き取られないとき、ループ１０７の浄水の全体がゾーン１０６の中に流れ、高いレベルの水の滅菌を維持する。この時間の間、システム１０により生産された水は、地点Ａでループ１０７から得られる水と混合される。ループ１０７から得られる水は、セクタ１０６Ｂ（水が地点Ｐでの補充水である場合）、またはセクタ１０６Ｂおよび１０６Ｃ（水がループ戻りから得られる水である場合）さえも通過することによりすでに滅菌されている。地点Ａでの混合水は、ＵＶ滅菌セクタ１０６Ａにより滅菌される。したがって、システム１０により生産され、地点Ｕで抜き取られない過剰な水は、地点Ｐでループ１０７内を流れる水から抽出され、セクタ１０６Ｃを通過した後にタンク１７内の貯蔵場所の中に置かれる。

抜き取る間、地点Ｕで抜き取られる水の流量が、システム１０により生産される水の流量より小さい場合、ループ１０７からの水が、ＵＶランプにより構成される滅菌ゾーン１０６のセクタ１０６Ｃおよび１０６Ｂを通って流れ、その後、システム１０により生産された水と地点Ａで混合される。生産された過剰な水は、滅菌セクタ１０６Ｃ内を通過した後、タンク１７の中に貯蔵される。地点Ｕで抽出される水の流量が、システム１０により生産され、次いで、セクタ１０６Ａで滅菌される水の流量より大きい場合、タンク１７から得られる補充水がパイプ１４を介してループ１０７に供給される。補充水が流れるループ１０７の第１の部分がセクタ１０６Ｂであり、これにより、有利には、タンク１７内に存在する微生物によるループ１０７の逆汚染のリスクを回避することが可能になる。

図４に表されるデバイスでは、ＵＶランプ１５はタンク１７内部に存在する。このランプ１５は、定期的に、断続的に（たとえば１日あたり５分間４回）スイッチが入れられることによって、タンク１７内部の細菌増殖のリスクを低減することが可能になる。ループ１０７内を流れるどんな残留ガスもパイプ１４を介して大気に戻すことにより、自動パージングが実施されることが可能になるのもまた、タンク１７が存在するためである。

図５は、本発明の第２の実施形態による水浄化用システム１９を表す。図４に表されるシステム１８に対して、このシステム１９は、詳細には、濾過に関して、および過剰な処理水の再処理のために処理水生産システム１０を使用することにより、過剰な処理水を貯蔵場所に置く処理に関して、一変形形態を提示する。

したがって、システム１９は、供給地点Ａに処理水を供給する処理水生産用システム１０に結合される。システム１９は流動ループ１０９を備え、固定部分１９Ａから、および着脱可能部分１９Ｂから形成される。

ループ１０９は、滅菌ゾーン１０６と、ポンプ１０１と、分水路内に位置する場所にあるフィルタ１０３と、利用地点Ｕと、弁１０２とを備える。

システム１９は、膜１２１を備える限外濾過フィルタ１１１であり、かつポンプ１０１の下流かつフィルタ１０３の上流に位置する追加の濾過構成要素だけでなく、迂回パイプ１１０またはパージングパイプもさらに備える。パイプ１１０は、フィルタ１１１の膜１２１の上流側を、弁１０２の下流かつ滅菌ゾーン１０６の上流に位置する地点ＲＰに連結する。このライン１１０により、詳細には、ポンプ１０１をフィルタ１１１に連結するパイプ１１３内の抽出された水の一部の流動により、膜１２１の場所に存在するどんな残留ガスも水で洗い流されることが可能になる。この迂回ライン１１０は、詳細には、膜１２１の上流で捕獲されたどんな残留ガスも自動的に排出するための手段（図示されず）を備える。この手段は、ほとんどの場合、パージングを容易にするために、さまざまな構成要素、１つまたは複数のフィルタ、およびパイプを空間内で位置決めするステップから本質的になる。タンク１１２内で大気に接続することにより、この自動パージングが完了する。

さらに、使い捨て部分１９Ｂとして、３つの流水接続地点Ａｃ、Ｂｃ、およびＣｃが存在する。限外濾過フィルタ１１１の入口が、接続部Ｃｃに接続され、限外濾過フィルタ１１１のパージング出口が接続部Ｂｃに接続され、弁１０２に向けて導く最終フィルタ１０３用のループ戻り／パージが接続部Ａｃに接続される。その結果、システム１９を待機状態に置いた後、濾過構成要素１０３および１１１、ならびに濾過構成要素１０３および１１１に結合される管を備える消耗できる部分１９Ｂを固定部分１９Ａから非常に容易に分離し、滅菌された、または除染された新しい部分１９Ｂを地点Ａｃ、Ｂｃ、およびＣｃに取り付けることが可能である。したがって、フィルタ、およびフィルタに結合された管は、推奨される使用時間に従って、または生産される浄水の品質の悪化を示す水の分析結果にさらに従って、定期的に交換される。

ループ１０９内の過剰な浄水は、ゾーン１０６内に位置する抽出地点Ｐで抽出され、次いで、この水を貯蔵場所の中に置く前に、浄水の需要のピークを吸収するために、閉じられたタンク１６までパイプ１４を介して進む。このタンク１６は、パイプ１４の一部から、前記一部の容積が十分である場合、かなり簡単に形成される場合がある。

このタンク１６から得られる過剰な処理水は、システム１０に属する開放タンク１１２内の処理水生産システム１０の上流に再循環させられる。ループ１０９のフィルタのパージングから得られるガスは、タンク１１２内の大気に排出される。このタンク１１２により、パイプ１４内を流れる水の自動パージングが実施されることが可能になる。

図５に表されるシステム１９の場合、浄化システムの利用地点Ｕで抜き取る流量は、タンク１６の容積から得られる補充により補完される処理水の生産用システム１０の流量に制限される。

図６は、図５の一変形形態であり、かつ熱水を使って本発明による浄水流ループ１０９’の除染用サイクルをプログラムすることが可能な、システムの一変形形態１９’の図である。ＵＶ滅菌ゾーン１０６を取り囲む加熱スリーブ１０８、および／またはループ１０９’上に配置された加熱素子１１４により、ループ１０９’内を流れる水が加熱されることが可能になる。

（実施例）
以下の表１、表２、および表３では、図５に表されるようなシステム１９で処理水を浄化することにより、逆浸透（ＲＯ）および電気脱イオン化（ＥＤＩ）による水処理用システムから得られる処理水を使用して、汚染に関する値が得られた。フィルタ１１１は、カットオフしきい値が１３，０００Ｄａである単一の限外濾過膜を備え、フィルタ１０３は、膜が孔径０．２２μｍを有するアブソリュートフィルタである。

ＵＶ水銀灯の出力は１７Ｗである。

動作流量は以下のとおりである：
・ポンプ１０１およびパイプ１１３：１．８Ｌ／分（一定）
・パージングパイプ１１０：０．２Ｌ／分（一定）
・利用地点Ｕからの抜き取り：０．５Ｌ／分（平均）、１．１Ｌ／分（最大値）
・供給地点Ａに入る処理水の生産量：０．６Ｌ／分（一定）

測定は１３５日の期間にわたり行われた。

得られた値（平均）が以下の表１に示される。

細菌の実績が以下の表２に示される。

毎日の測定値が以下の表３に要約されている。

水のサンプルは、サンプリング弁および膜濾過方法（０．４５μｍの孔サイズの膜を備えるＭｉｌｌｉｐｏｒｅ社のＭｉｌｌｉｆｌｅｘ）を使用して最終フィルタの出口から得られた。

濾過後、膜は、３５℃で５日間増殖培地プレート（Ｒ２ＡおよびＴＳＡ）上で培養された。

培養時間後、膜上のＣＦＵがカウントされ、表３に示される。

したがって、使用するのが簡単であり、かつ経時的に安定した方法で超純水が生産されることが可能な本発明によるシステムの有効性が理解されることができる。

Claims (15)

1. 少なくとも１つの処理水供給地点（Ａ）と、少なくとも１つの浄水の利用地点（Ｕ）と、少なくとも１つのポンプ手段（１０１）と、ＵＶによる滅菌用ゾーン（１０６）を規定するＵＶ放射による滅菌のための少なくとも１つの手段（１０６）と、少なくとも１つの濾過手段（１０３）とを備える水流用閉ループ（１０７、１０９、１０９’）を備える処理水浄化システム（１８、１９、１９’）であって、
   ＵＶによる滅菌用ゾーン（１０６）は、供給地点（Ａ）と、さらに、ループ（１０７、１０９、１０９’）内を流れる方向に、供給地点（Ａ）の上流に位置する少なくとも１つの浄水抽出地点（Ｐ）とを備えること、ならびに抽出地点（Ｐ）も供給地点（Ａ）も、ＵＶ滅菌ゾーン（１０６）のセクタ（１０６Ｂ）内に位置し、前記セクタ（１０６Ｂ）は、ＵＶ滅菌ゾーンの２つの他のセクタ（１０６Ａ、１０６Ｃ）により、ループ（１０７、１０９、１０９’）を滅菌ゾーン（１０６）に接続する２つの地点（Ｒ_Ｍ、Ｒ_Ｖ）から分離されることを特徴とする、システム（１８、１９、１９’）。
2. 少なくとも１つの貯蔵タンク（１６、１７）をさらに備える、請求項１に記載のシステム（１８、１９、１９’）。
3. 抽出手段（１４）により供給され、かつ少なくとも１つの処理水生産システム（１０）に供給する（１１２）ように適合されることができる、少なくとも１つの再循環パイプを備える、請求項１から２のいずれか一項に記載のシステム（１８、１９、１９’）。
4. ポンプ手段（１０１）が、ループ（１０７、１０９、１０９’）上に存在する停止手段（１０２）に結合され、停止手段は、好ましくは逆止め弁である、請求項１から３のいずれか一項に記載のシステム（１８、１９、１９’）。
5. 濾過手段が、少なくとも１つのフィルタ（１０３）、好ましくは利用地点に位置し、好ましくはループ（１０７、１０９）に連結された迂回パイプに結合された、少なくとも１つの膜を備えるアブソリュートフィルタ（１０３）であることが好ましい、請求項１から４のいずれか一項に記載のシステム（１８、１９、１９’）。
6. 好ましくは限外濾過フィルタ（１１１）であり、かつ好ましくはポンプ手段（１０１）の下流かつ濾過手段（１０３）の上流に位置し、迂回パイプ（１１０）が追加の濾過手段（１１１）を滅菌ゾーン（１０６）の上流に位置するループ（１０９）の地点（ＲＰ）に連結するような、追加の濾過手段（１１１）を備える、請求項１から５のいずれか一項に記載のシステム（１９、１９’）。
7. ループ（１０９’）の少なくとも１つの部分を加熱するための少なくとも１つの手段（１０８）を備える、請求項１から６のいずれか一項に記載のシステム（１９’）。
8. 濾過手段（１１１、１０３）および隣接する回路構成要素を備えるループの一部が、１組の消耗できる構成要素（１９Ｂ、１９’Ｂ）である、請求項１から７のいずれか一項に記載のシステム（１９、１９’）。
9. 閉水流ループ（１０７、１０９、１０９’）内に処理水流を作るステップを備える、処理水を浄化する方法にして、処理水は少なくとも１つの供給するステップ中に供給地点（Ａ）により入り、前記浄化するステップは、好ましくは精密濾過ステップ（１０３）である少なくとも１つのフィルタリングするステップ（１１１、１０３）と、少なくとも１つの滅菌手段により滅菌する少なくとも１つのステップ（１０６）とを備え、方法から生じる流出する浄水は、フィルタリングするステップ（１０３）の場所（Ｕ）で抽出される方法であって、
   ループ（１０７、１０９、１０９’）内を水が流れる方向に、フィルタリングするステップ（１０３）の下流に位置する抽出地点（Ｐ）で、ループ（１０７、１０９、１０９’）内を流れる水の部分を抽出するステップ（１４、１１２）を備えること、
   ならびに滅菌するステップ（１０６）は、抽出地点（Ｐ）の上流に位置するセクタ（１０６Ｃ）内、抽出地点（Ｐ）の下流かつ供給地点（Ａ）の上流（１０６Ｂ）に位置するセクタ（１０６Ｂ）内、および供給地点の下流に位置するセクタ内で、ループ（１０７、１０９、１０９’）内を流れる水に対して連続的に実施されることを特徴とする、方法。
10. 抽出するステップが、貯蔵場所（１６、１７）の中に置く少なくとも１つのステップに結合される、請求項９に記載の方法。
11. ループ（１０７、１０９、１０９’）の抽出地点（Ｐ）で、貯蔵場所（１６、１７）の中に置かれた水の一部をループ（１０７、１０９、１０９’）内に再度環流させる少なくとも１つのステップをさらに備えることを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
12. ループ（１０９’）内を流れる水を加熱する少なくとも１つのステップ（１０８、１１４）を備える、請求項９から１１のいずれか一項に記載の方法。
13. 前記方法が、少なくとも２つのフィルタリングするステップ（１１１、１０３）を備え、方法から生じる放出される浄水は、２つのフィルタリングするステップの一方（１０３）の場所（Ｕ）で抽出され、第１のフィルタリングするステップは、好ましくは限外濾過ステップ（１１１）であり、第２のフィルタリングするステップは、好ましくは精密濾過ステップ（１０３）である、請求項９から１２のいずれか一項に記載の方法。
14. ループ（１０９、１０９’）内を流れる水の一部をループ（１０９、１０９’）から分水路（１１０）内を流れさせることにより、少なくとも１つのパージするステップを備える、請求項１３に記載の処理水を浄化する方法。
15. ループ（１０７、１０９、１０９’）内を流れるどんなガスも大気に排出する少なくとも１つのステップ（１５、１１２、１１０）を備える、請求項９から１４のいずれか一項に記載の処理水を浄化する方法。

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