JP2014188819A - パターン転写システムおよびパターン転写方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】パターン転写システム1は、ブランケット91および印刷版93を洗浄する第一洗浄部11と、ブランケット91に転写剤を塗布する塗布部41と、転写剤が塗布されたブランケット91、および、印刷版93を貼り合わせることによって、ブランケット91にパターンを転写する転写部51と、パターンが転写されたブランケット91を基板9に貼り合わせることによって、基板9にパターンを転写する転写部53と、を備えている。また、パターン転写システム1は、転写部51にてブランケット91にパターンを転写した印刷版93、および、転写部53にて基板9にパターンを転写したブランケット91を、第一洗浄部11に向けて搬送する受渡搬送部23を備えている。
【選択図】図1
Description
<1.1. 構成および機能>
図1は、第1実施形態に係るパターン転写システム1の概略平面図である。図1および以降の各図においては、説明の便宜上、X軸方向およびY軸方向の二方向で定義される平面を水平面とし、これらの二方向に垂直なZ軸方向を鉛直方向と定義する。
図5は、パターン転写システム1において、パターンが転写された基板9を製造する流れを示すフローチャートである。なお、図5に示されるフローチャートは、一例であり、各工程の実行順序などは、必要に応じて適宜変更可能であるものとする。
図6は、比較例に係るパターン転写システム100の概略平面図である。比較例に係るパターン転写システム100では、第一洗浄部11、前処理部31、塗布部41、転写部51、剥離部61、転写部53および剥離部63が、この順番で一列に配列されている。また、各処理部の側方部分に、無人搬送(AGV)エリア700が設けられている。AGVエリア700では、ブランケット91および印刷版93が第一洗浄部11の側から搬入され、剥離部63の側へ搬出される。また、AGVエリア700では、剥離部63の側から基板9が搬入され、かつ、パターンが転写された基板9が剥離部63の側から搬出される。さらに、AGVエリア700と、各処理部との間における、ブランケット91,印刷版93または基板9の搬送が、搬送ロボット701〜707によって行われる。
第1実施形態に係るパターン転写システム1では、ブランケット91および印刷版93を+X方向または−X方向に直線的に搬送して各処理が行われるよう、各処理部が配置されている。しかしながら、各処理部の配置方法は、これに限定されるものではない。
以上、実施形態について説明してきたが、本発明は上記のようなものに限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
11 第一洗浄部(洗浄部)
111 洗浄装置
11A,11B 洗浄部
13 第二洗浄部(第2の洗浄部)
14 プリウェット部
15 薬液処理部
16 リンス部
17 傾斜ローラ(傾斜部)
18 支持ローラ(支持部)
1A パターン転写システム
23 受渡搬送部(搬送部)
41 塗布部
51 転写部(第一転写部)
53 転写部(第二転写部)
511,531 転写装置
61,63 剥離部
611,631 剥離装置
711,731,751,771,791 搬送ロボット
71,73 ロボット搬送部
81 ブランケット処理部
83 印刷版処理部
85 転写処理部
9 基板
91 ブランケット
93 印刷版
Claims (9)
- オフセット印刷法によって基板にパターンを転写するパターン転写システムであって、
印刷版を洗浄する洗浄部と、
ブランケットに転写剤を塗布する塗布部と、
前記塗布部によって前記転写剤が塗布された前記ブランケット、および、前記洗浄部にて洗浄された印刷版を貼り合わせることによって、前記印刷版の印刷パターンに対応したパターンを前記ブランケットに転写する第一転写部と、
前記パターンが転写されたブランケットを基板に貼り合わせることによって、前記基板にパターンを転写する第二転写部と、
前記第一転写部にて前記ブランケットにパターンを転写した前記印刷版を前記洗浄部に向けて搬送する搬送部と、
を備えている、パターン転写システム。 - オフセット印刷法によって基板にパターンを転写するパターン転写システムであって、
ブランケットを洗浄する洗浄部と、
前記洗浄部にて洗浄された前記ブランケットに転写剤を塗布する塗布部と、
前記塗布部によって前記転写剤が塗布された前記ブランケット、および、印刷版を貼り合わせることによって、前記印刷版の印刷パターンに対応したパターンを前記ブランケットに転写する第一転写部と、
前記パターンが転写されたブランケットを基板に貼り合わせることによって、前記基板にパターンを転写する第二転写部と、
前記第二転写部にて前記基板にパターンを転写した前記ブランケットを前記洗浄部に向けて搬送する搬送部と、
を備えている、パターン転写システム。 - 請求項1または2に記載のパターン転写システムにおいて、
前記洗浄部が、前記ブランケットおよび前記印刷版の双方を洗浄可能な洗浄装置を備えている、パターン転写システム。 - 請求項3に記載のパターン転写システムにおいて、
前記洗浄装置は、前記ブランケットおよび前記印刷版を一方向に搬送しながら、その表面に処理液を供給することによって、前記ブランケットおよび前記印刷版を洗浄する、パターン転写システム。 - 請求項4に記載のパターン転写システムにおいて、
前記洗浄装置は、前記ブランケットおよび前記印刷版を傾斜させて搬送する傾斜搬送部と、
前記傾斜させた前記ブランケットおよび前記印刷版の重力方向下側の側端部を支持する支持部と、
を備えている、パターン転写システム。 - 請求項4または5に記載のパターン転写システムにおいて、
前記塗布部から前記第一転写部に至るまでの前記ブランケットの移動方向が、前記一方向とは逆方向である、パターン転写システム。 - 請求項2に記載のパターン転写システムにおいて、
前記洗浄部にて洗浄された前記ブランケットを、前記洗浄部とは異なる態様で洗浄する第2の洗浄部、
をさらに備えており、
前記塗布部は、前記第2の洗浄部にて洗浄された前記ブランケットに前記転写剤を塗布する、パターン転写システム。 - オフセット印刷法によって基板にパターンを転写するパターン転写方法であって、
(a) 印刷版を洗浄する工程と、
(b) ブランケットに転写剤を塗布する工程と、
(c) 前記(b)工程にて前記転写剤が塗布された前記ブランケット、および、前記(a)工程にて洗浄された印刷版を貼り合わせることによって、前記印刷版の印刷パターンに対応したパターンを前記ブランケットに転写する工程と、
(d) 前記(c)工程にて前記パターンが転写されたブランケットを基板に貼り合わせることによって、前記基板にパターンを転写する工程と、
を含み、
前記(a)工程にて洗浄される前記印刷版が、前記(c)工程にて前記ブランケットにパターンを転写した前記印刷版である、パターン転写方法。 - オフセット印刷法によって基板にパターンを転写するパターン転写方法であって、
(A) ブランケットを洗浄する工程と、
(B) 前記(A)工程にて洗浄された前記ブランケットに転写剤を塗布する工程と、
(C) 前記(B)工程にて前記転写剤が塗布された前記ブランケット、および、印刷版を貼り合わせることによって、前記印刷版の印刷パターンに対応したパターンを前記ブランケットに転写する工程と、
(D) 前記パターンが転写されたブランケットを基板に貼り合わせることによって、前記基板にパターンを転写する工程と、
を含み、
前記(A)工程にて洗浄される前記ブランケットが、前記(D)工程にて前記基板に前記パターンを転写した前記ブランケットである、パターン転写方法。
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