JP2014118221A - 基板浮上装置 - Google Patents
基板浮上装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014118221A JP2014118221A JP2012271996A JP2012271996A JP2014118221A JP 2014118221 A JP2014118221 A JP 2014118221A JP 2012271996 A JP2012271996 A JP 2012271996A JP 2012271996 A JP2012271996 A JP 2012271996A JP 2014118221 A JP2014118221 A JP 2014118221A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- substrate
- vent
- manifold
- supply source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 106
- 238000005188 flotation Methods 0.000 title abstract 5
- 238000007667 floating Methods 0.000 claims abstract description 41
- 238000005339 levitation Methods 0.000 claims description 55
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 20
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 20
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 20
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 5
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 5
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【解決手段】気体を噴出もしくは吸引する複数の第1の通気口と、気体を吸引もしくは噴出する複数の第2の通気口と、を上面に有する浮上板を備え、前記第1の通気口および前記第2の通気口から気体の噴出および吸引を行うことにより、基板を上方に浮上させる基板浮上装置であり、基板を浮上させる際の前記第1の通気口および前記第2の通気口の動作は所定時間ごとに切り替わり、第1の通気口が気体を噴出している場合は第2の通気口は気体を吸引し、第1の通気口が気体を吸引している場合は第2の通気口は気体を噴出している。
【選択図】図1
Description
2 浮上ステージ
3 異物
10 浮上板
11 第1の通気口
12 第2の通気口
13 第1のマニホールド
14 第1の分岐配管
15 第2のマニホールド
16 第2の分岐配管
17 気体供給源
18 三方弁
19 開閉バルブ
20 吸引力供給源
21 三方弁
22 開閉バルブ
30 清掃部
31 天板
32 側板
33 吸引配管
41 開閉バルブ
42 開閉バルブ
43 開閉バルブ
44 開閉バルブ
51 噴出口
52 気体供給源
80 塗布装置
81 搬送装置
82 塗布部
90 基板浮上装置
91 マニホールド
92 分岐配管
93 噴出口
94 気体供給手段
95 マニホールド
96 分岐配管
97 吸引口
98 吸引力供給手段
99 異物
W 基板
Claims (3)
- 気体を噴出もしくは吸引する複数の第1の通気口と、
気体を吸引もしくは噴出する複数の第2の通気口と、
を上面に有する浮上板を備え、
前記第1の通気口および前記第2の通気口から気体の噴出および吸引を行うことにより、基板を上方に浮上させる基板浮上装置であり、
基板を浮上させる際の前記第1の通気口および前記第2の通気口の動作は所定時間ごとに切り替わり、第1の通気口が気体を噴出している場合は第2の通気口は気体を吸引し、第1の通気口が気体を吸引している場合は第2の通気口は気体を噴出していることを特徴とする、基板浮上装置。 - 前記第1の通気口および前記第2の通気口は、同一の形状を有し、前記第1の通気口と前記第2の通気口とが隣接するように前記浮上板の上面に配置されていることを特徴とする、請求項1に記載の基板浮上装置。
- 前記浮上板の上面にある異物を定期的に除去する清掃部をさらに有することを特徴とする、請求項1または2のいずれかに記載の基板浮上装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012271996A JP6086476B2 (ja) | 2012-12-13 | 2012-12-13 | 基板浮上装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012271996A JP6086476B2 (ja) | 2012-12-13 | 2012-12-13 | 基板浮上装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014118221A true JP2014118221A (ja) | 2014-06-30 |
JP6086476B2 JP6086476B2 (ja) | 2017-03-01 |
Family
ID=51173418
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012271996A Active JP6086476B2 (ja) | 2012-12-13 | 2012-12-13 | 基板浮上装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6086476B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016190423A1 (ja) * | 2015-05-28 | 2016-12-01 | 株式会社ニコン | 物体保持装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
KR20190125399A (ko) * | 2017-03-15 | 2019-11-06 | 코아 플로우 리미티드 | 폐색 검출 기능이 있는 비접촉식 지지 플랫폼 |
KR20200022678A (ko) * | 2018-08-23 | 2020-03-04 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
JP2023042120A (ja) * | 2021-09-14 | 2023-03-27 | 株式会社ナノテム | 非接触位置決め装置及び検査システム |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS592733U (ja) * | 1982-06-28 | 1984-01-09 | 株式会社日立製作所 | エアベアリング搬送装置 |
JP2004345814A (ja) * | 2003-05-23 | 2004-12-09 | Murata Mach Ltd | 浮上搬送装置 |
JP2009256002A (ja) * | 2008-04-11 | 2009-11-05 | Hitachi Plant Technologies Ltd | 板状体搬送装置及びその制御方法 |
JP2011176086A (ja) * | 2010-02-24 | 2011-09-08 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置 |
JP2012190890A (ja) * | 2011-03-09 | 2012-10-04 | Tokyo Electron Ltd | 基板浮上搬送方法及び基板浮上搬送装置及び基板処理装置 |
-
2012
- 2012-12-13 JP JP2012271996A patent/JP6086476B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS592733U (ja) * | 1982-06-28 | 1984-01-09 | 株式会社日立製作所 | エアベアリング搬送装置 |
JP2004345814A (ja) * | 2003-05-23 | 2004-12-09 | Murata Mach Ltd | 浮上搬送装置 |
JP2009256002A (ja) * | 2008-04-11 | 2009-11-05 | Hitachi Plant Technologies Ltd | 板状体搬送装置及びその制御方法 |
JP2011176086A (ja) * | 2010-02-24 | 2011-09-08 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置 |
JP2012190890A (ja) * | 2011-03-09 | 2012-10-04 | Tokyo Electron Ltd | 基板浮上搬送方法及び基板浮上搬送装置及び基板処理装置 |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107615169B (zh) * | 2015-05-28 | 2021-02-23 | 株式会社尼康 | 物体保持装置、曝光装置、平板显示器的制造方法及器件制造方法 |
CN107615169A (zh) * | 2015-05-28 | 2018-01-19 | 株式会社尼康 | 物体保持装置、曝光装置、平板显示器的制造方法及器件制造方法 |
KR20180013996A (ko) * | 2015-05-28 | 2018-02-07 | 가부시키가이샤 니콘 | 물체 유지 장치, 노광 장치, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 및 디바이스 제조 방법 |
JPWO2016190423A1 (ja) * | 2015-05-28 | 2018-03-15 | 株式会社ニコン | 物体保持装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
KR102625921B1 (ko) * | 2015-05-28 | 2024-01-16 | 가부시키가이샤 니콘 | 물체 유지 장치, 노광 장치, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 및 디바이스 제조 방법 |
WO2016190423A1 (ja) * | 2015-05-28 | 2016-12-01 | 株式会社ニコン | 物体保持装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 |
TWI731860B (zh) * | 2015-05-28 | 2021-07-01 | 日商尼康股份有限公司 | 物體保持裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、以及元件製造方法 |
US11305950B2 (en) | 2017-03-15 | 2022-04-19 | Core Flow Ltd. | Noncontact support platform with blockage detection |
KR102473921B1 (ko) * | 2017-03-15 | 2022-12-02 | 코아 플로우 리미티드 | 폐색 검출 기능이 있는 비접촉식 지지 플랫폼 |
KR20190125399A (ko) * | 2017-03-15 | 2019-11-06 | 코아 플로우 리미티드 | 폐색 검출 기능이 있는 비접촉식 지지 플랫폼 |
KR102134161B1 (ko) | 2018-08-23 | 2020-07-21 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
KR20200022678A (ko) * | 2018-08-23 | 2020-03-04 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
JP2023042120A (ja) * | 2021-09-14 | 2023-03-27 | 株式会社ナノテム | 非接触位置決め装置及び検査システム |
JP7369384B2 (ja) | 2021-09-14 | 2023-10-26 | 株式会社ナノテム | 非接触位置決め装置及び検査システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6086476B2 (ja) | 2017-03-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100818003B1 (ko) | 에어 부상 유닛, 반송방법, 및 에어 부상 반송장치 | |
JP6086476B2 (ja) | 基板浮上装置 | |
KR101040706B1 (ko) | 기판용 건식 초음파 세정장치 | |
TW201410572A (zh) | 上浮用空氣板 | |
KR101218400B1 (ko) | 진공흡착장치 | |
KR20140011776A (ko) | 비접촉 멀티 이송 장치 및 이를 이용한 이물질 제거 방법 | |
JP6605871B2 (ja) | 基板浮上搬送装置 | |
KR101064893B1 (ko) | 평판 플로팅 시스템 | |
KR20100129034A (ko) | 글래스 이송장치 | |
JP3994372B2 (ja) | 空気保持装置 | |
JP2017205999A (ja) | 脆性基板スクライバー用粉塵除去装置 | |
JP2014114085A (ja) | 基板浮上装置および基板浮上装置の洗浄方法 | |
JP2004123254A (ja) | 大型薄板状材の搬送方法及び装置 | |
JP5740394B2 (ja) | 旋回流形成体及び非接触搬送装置 | |
JP4171293B2 (ja) | 薄板状材の搬送方法及び装置 | |
JP4932897B2 (ja) | ノズル、ドライクリーナ及びドライクリーナシステム | |
JP4595841B2 (ja) | ワーク搬送装置 | |
CN109843822A (zh) | 玻璃基板的制造方法 | |
JP2006019525A (ja) | 基板処理装置 | |
WO2020059796A1 (ja) | 浮上搬送装置 | |
JP2013166608A (ja) | 浮上搬送装置および浮上搬送方法 | |
JP2005206304A (ja) | エア浮上式コンベア | |
JPH11138752A (ja) | 枚葉印刷機のシート案内装置 | |
JP4488965B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP4830339B2 (ja) | 搬送装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151030 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160608 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160610 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160808 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170125 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170126 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6086476 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |