JP2014056783A - 荷電粒子線装置及び試料観察方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 試料が載置された空間の圧力が前記筐体内部の圧力より大きく保たれるように試料が載置された空間を隔離し、一次荷電粒子線を透過または通過させる着脱可能な隔膜と、試料と隔膜との接触を防止する接触防止部材と、接触防止部材の少なくとも一部を荷電粒子光学鏡筒の光軸方向に移動可能とする調整機構と、を備えることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
本願は上記課題を解決する手段を複数含んでいるが、その一例を挙げるならば、試料と一次荷電粒子線を透過または通過させる着脱可能な隔膜との接触を防止する接触防止部材の少なくとも一部を荷電粒子光学鏡筒の光軸方向に移動可能とする調整機構を備えることを特徴とする。
[数式1]Z=(A−B)―C
前述の通り、荷電粒子線の平均自由工程の観点から隔膜と試料間との距離Zは1000μm以下と短いことが望ましい。また、隔膜10と試料6とが接触しないためには次式に従う必要がある。
[数2]Z=A−B>C
隔膜保持部材155と隔膜10との間で真空封じするために真空封じ部材407が具備されている様子を図示している。真空封じ部材407は例えば接着剤や両面テープなどである。もし、前記隔膜保持部材155と隔膜10との間に当該真空封じ部材が存在している場合は、前記距離Cは隔膜保持部材155と隔膜10との真空封じ部材及び隔膜10の厚みを積算した距離となる。
400:接触防止部材、401:試料台、402:めねじ、403:境界、404:滑り防止材、
405:接触防止部材、406:ボールベアリング、407:真空封じ部材
Claims (11)
- 一次荷電粒子線を試料上に照射する荷電粒子光学鏡筒と、真空ポンプとを備える荷電粒子線装置において、
前記荷電粒子線装置の一部を成し、内部が前記真空ポンプにより真空排気される筐体と、
前記試料が載置された空間の圧力が前記筐体内部の圧力より大きく保たれるように前記試料が載置された空間を隔離し、前記一次荷電粒子線を透過または通過させる着脱可能な隔膜と、
前記試料と前記隔膜との接触を防止する接触防止部材と、
前記接触防止部材の前記試料と前記隔膜とが接触する位置を前記荷電粒子光学鏡筒の光軸方向に移動可能とする調整機構と、
を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記荷電粒子線装置の一部を成し内部が前記真空ポンプにより真空排気される第1の筐体と、
前記第1の筐体の側面、または内壁面、または前記荷電粒子光学鏡筒に位置が固定される、前記試料を内部に格納する第2の筐体と、を備え、
前記隔膜は前記第2の筐体の上面側に設けられ、
前記第2の筐体内部の圧力が前記第1の筐体内部の圧力と同等か、
前記第2の筐体内部の圧力を前記第1の筐体内部の圧力よりも高い状態に維持することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記接触防止部材が、前記試料を保持する試料台または前記隔膜を保持する部材に具備されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記接触防止部材は微調整用部材を有し、
前記接触防止部材が前記試料を保持する試料台または前記隔膜を保持する部材に前記微調整用部材を介して接触することで、前記試料台と前記隔膜を保持する部材との間の距離が前記接触防止部材により一定に制限された状態のまま、前記試料台を前記荷電粒子光学鏡筒の光軸の垂直方向に駆動可能であることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記微調整用部材はボールベアリングであることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記接触防止部材が前記隔膜を保持する部材に接触したことを検知する検知手段を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項2に記載の荷電粒子線装置において、
前記試料が載置された空間の少なくとも一つの側面を形成するように設置される蓋部材を有し、
前記蓋部材に、前記試料の位置を変更する試料ステージが設けられていることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記試料が載置された空間を所望のガス雰囲気及び所望の圧力にすることが可能なガス導入出口を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 一次荷電粒子線を透過または通過させる着脱可能な隔膜により、前記試料が載置された空間の圧力が前記荷電粒子光学鏡筒内部の圧力より大きく保たれるように前記試料が載置された空間が隔離された状態で、前記試料に前記一次荷電粒子線を照射することで前記試料を観察する試料観察方法において、
前記試料と前記隔膜との接触を防止する接触防止部材の、前記試料の表面に対する高さを調整するステップと、
前記試料を前記隔膜の直下に配置するステップと、
前記隔膜の直下に配置された試料を前記荷電粒子線光学鏡筒の光軸方向に移動させて前記隔膜に接近させるステップと、
前記接触防止部材により前記隔膜から前記試料の表面までの距離を一定に保つステップと、
前記試料と前記隔膜とが非接触の状態で前記一次荷電粒子線を前記試料に照射するステップとを備えること特徴とする試料観察方法。 - 請求項9に記載の試料観察方法において、
前記試料を保持する試料台または前記隔膜を保持する部材に前記接触防止部材を接触させることで前記隔膜から前記試料の表面までの距離を一定に保つことを特徴とする試料観察方法。 - 請求項9に記載の試料観察方法において、
前記隔膜から前記試料の表面までの距離を一定に保った状態のまま、前記試料を前記荷電粒子光学鏡筒の光軸の垂直方向に駆動するステップを有することを特徴とする試料観察方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012202188A JP5936497B2 (ja) | 2012-09-14 | 2012-09-14 | 荷電粒子線装置及び試料観察方法 |
DE112013003728.9T DE112013003728T5 (de) | 2012-09-14 | 2013-07-03 | Mit einem Strahl geladener Teilchen arbeitende Vorrichtung und Probenbeobachtungsverfahren |
KR1020157000314A KR20150022983A (ko) | 2012-09-14 | 2013-07-03 | 하전 입자선 장치 및 시료 관찰 방법 |
PCT/JP2013/068201 WO2014041876A1 (ja) | 2012-09-14 | 2013-07-03 | 荷電粒子線装置及び試料観察方法 |
US14/422,186 US9240305B2 (en) | 2012-09-14 | 2013-07-03 | Charged particle beam device and sample observation method |
CN201380041332.8A CN104520965A (zh) | 2012-09-14 | 2013-07-03 | 带电粒子束装置以及试样观察方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012202188A JP5936497B2 (ja) | 2012-09-14 | 2012-09-14 | 荷電粒子線装置及び試料観察方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014056783A true JP2014056783A (ja) | 2014-03-27 |
JP2014056783A5 JP2014056783A5 (ja) | 2015-01-22 |
JP5936497B2 JP5936497B2 (ja) | 2016-06-22 |
Family
ID=50278010
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012202188A Expired - Fee Related JP5936497B2 (ja) | 2012-09-14 | 2012-09-14 | 荷電粒子線装置及び試料観察方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9240305B2 (ja) |
JP (1) | JP5936497B2 (ja) |
KR (1) | KR20150022983A (ja) |
CN (1) | CN104520965A (ja) |
DE (1) | DE112013003728T5 (ja) |
WO (1) | WO2014041876A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101798473B1 (ko) * | 2016-05-30 | 2017-11-17 | (주)코셈 | 고분해능 주사전자현미경 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6302702B2 (ja) * | 2014-02-27 | 2018-03-28 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡および画像生成方法 |
JP6711655B2 (ja) * | 2016-03-18 | 2020-06-17 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 集束イオンビーム装置 |
KR102181455B1 (ko) * | 2018-12-28 | 2020-11-23 | 참엔지니어링(주) | 시료 관찰 장치 및 방법 |
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WO2012104942A1 (ja) * | 2011-01-31 | 2012-08-09 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59146145A (ja) | 1983-02-09 | 1984-08-21 | Akashi Seisakusho Co Ltd | 試料移動装置 |
JP2004039708A (ja) * | 2002-07-01 | 2004-02-05 | Nikon Corp | 荷電粒子線露光装置 |
JP2007324099A (ja) | 2006-06-05 | 2007-12-13 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料微動システム、及び荷電粒子線装置 |
WO2009049235A2 (en) * | 2007-10-12 | 2009-04-16 | Deka Products Limited Partnership | Systems, devices and methods for cardiopulmonary treatment and procedures |
JP5253800B2 (ja) | 2007-12-26 | 2013-07-31 | 日本電子株式会社 | 試料保持体及び観察・検査方法並びに観察・検査装置 |
JP6207824B2 (ja) * | 2012-10-01 | 2017-10-04 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置、隔膜の位置調整方法および隔膜位置調整ジグ |
JP6051014B2 (ja) * | 2012-10-29 | 2016-12-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料格納用容器、荷電粒子線装置、及び画像取得方法 |
-
2012
- 2012-09-14 JP JP2012202188A patent/JP5936497B2/ja not_active Expired - Fee Related
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2013
- 2013-07-03 KR KR1020157000314A patent/KR20150022983A/ko active IP Right Grant
- 2013-07-03 DE DE112013003728.9T patent/DE112013003728T5/de not_active Ceased
- 2013-07-03 US US14/422,186 patent/US9240305B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2013-07-03 WO PCT/JP2013/068201 patent/WO2014041876A1/ja active Application Filing
- 2013-07-03 CN CN201380041332.8A patent/CN104520965A/zh active Pending
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20150022983A (ko) | 2015-03-04 |
US20150235803A1 (en) | 2015-08-20 |
JP5936497B2 (ja) | 2016-06-22 |
US9240305B2 (en) | 2016-01-19 |
DE112013003728T5 (de) | 2015-05-21 |
CN104520965A (zh) | 2015-04-15 |
WO2014041876A1 (ja) | 2014-03-20 |
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A521 | Request for written amendment filed |
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