JP2014051742A - 摺動性に優れる硬質皮膜の形成方法 - Google Patents
摺動性に優れる硬質皮膜の形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014051742A JP2014051742A JP2013223405A JP2013223405A JP2014051742A JP 2014051742 A JP2014051742 A JP 2014051742A JP 2013223405 A JP2013223405 A JP 2013223405A JP 2013223405 A JP2013223405 A JP 2013223405A JP 2014051742 A JP2014051742 A JP 2014051742A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- target
- hard
- forming
- atomic ratio
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0664—Carbonitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Mounting, Exchange, And Manufacturing Of Dies (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
Abstract
【解決手段】化学式WxBaCbNcで示すことができ、0≦a≦0.12、0.5≦b≦0.8、0.01≦c<0.15、0<x−a−c、x−a−c<b≦0.9、0.2≦x<0.5、x+a+b+c=1の各式を満たすと共に、δ−WNとWC1−xの混合物を含む結晶構造を有した硬質皮膜を基材の表面に成膜する硬質皮膜の形成方法であって、成膜時に基材に印加するバイアス電圧を−50V〜−100Vの範囲内とし、硬質皮膜中のδ−WNとWC1−xの割合を調整して、硬質皮膜を基材の表面に成膜する。
【選択図】なし
Description
メタン分圧(Pa)>0.163+1.44×アーク電流密度(A/cm2)
という数式で表すことができる。この数式を満たすことで、硬質皮膜中のCの原子比を、BとNが添加されていない場合のより好ましいCの原子比である0.7以上とすることができる。尚、V等、同等のアーク電流で、Tiと蒸発量が等価なターゲット2に関してもこの数式を適用することができる。
(実施例1)
金属元素Mよりなる金属ターゲット、或いは金属元素MとBよりなる複合ターゲットを用いて、図1に示すようなカソード放電型のアークイオンプレーティング装置により表1に原子比を示す各組成の皮膜を基材表面に形成した。この実施例1では、まず、皮膜の組成を確認すると共に皮膜の硬度を測定するために、基材として表面を鏡面研磨した超硬合金を使用し、その表面に表1に示す各組成の皮膜を形成した。また、摺動試験用として、SKD11基板(硬度HRC60)を基材として、その基材の表面に密着性を向上させるために3μm厚のCrN層を形成した後、その表面に表1に示す各組成の皮膜を形成した。
ベーン :SKD61鋼(HRC50)、3.5×5mm、長さ20mm、先端半径10R
ディスク:SKD11鋼(HRC60)+コーティング
摺動速度:0.2m/秒
荷重 :500N
摺動距離:500m
試験温度:25℃(加熱なし)、及び400℃
金属元素MとしてTiを用いて金属ターゲットとし、実施例1と同様、図1に示すようなカソード放電型のアークイオンプレーティング装置により、アーク電流、メタン(CH4)分圧を、表2に示すように種々変化させ、基材として表面を鏡面研磨した超硬合金を使用し、その表面に硬質皮膜を形成した。尚、使用したアーク蒸発源、即ち使用蒸発源は、図2に示す使用蒸発源A、図3に示す使用蒸発源B、図4に示す使用蒸発源Cの3種である。成膜時の基材電圧は200Vである。
メタン分圧(Pa)=0.163+1.44×アーク電流密度(A/cm2)
という図5に表示した斜線よりも上の領域とすれば良いことが分かる。
メタン分圧(Pa)>0.163+1.44×アーク電流密度(A/cm2)
を満たせば、Tiと反応していない遊離C成分が必ず生じることができるように、皮膜中のC含有量を好適な原子比0.7以上とすることができる。
金属元素MをWとし、ターゲットとしてWCからなるW0.5C0.5ターゲット(ホットプレス品φ100mm)を用いて、図1に示すようなカソード放電型のアークイオンプレーティング装置で、基材の表面にWを含有する硬質皮膜を形成した。
実施例3と同様に金属元素MをWとし、ターゲットとしてWCからなるW0.5C0.5ターゲット(直径は10インチ)を用いて、スパッタリング法によって、全圧力0.6Paで、メタン−窒素雰囲気中において、基材の表面にWを含有する硬質皮膜を形成した。
実施例3と同様に、W0.5C0.5ターゲット(ホットプレス品φ100mm)を用いて、図1に示すようなカソード放電型のアークイオンプレーティング装置で、基材の表面にWを含有する硬質皮膜を形成した。
W0.5C0.5ターゲット(ホットプレス品φ100mm)或いはWターゲットを用いて、図1に示すようなカソード放電型のアークイオンプレーティング装置で、基材の表面にWを含有する硬質皮膜の形成を行う試験を実施した。
2…ターゲット
2a…蒸発面
3…基材
4…磁力線
5…アーク蒸発源
6…排気口
7…ガス供給口
8…真空容器
9…基材ステージ
10…バイアス電源
11…アーク電源
12…フィラメント加熱用交流電源
13…フィラメント型イオン源
14…放電用直流電源
15…ヒータ
16…アース
17…磁石
e…電子
Claims (1)
- 化学式WxBaCbNcで示すことができ、
0≦a≦0.12、
0.5≦b≦0.8、
0.01≦c<0.15、
0<x−a−c、
x−a−c<b≦0.9、
0.2≦x<0.5、
x+a+b+c=1
の各式を満たすと共に、δ−WNとWC1−xの混合物を含む結晶構造を有した硬質皮膜を、基材の表面に成膜する硬質皮膜の形成方法であって、
WCからなるターゲットを用いて、C含有ガスと窒素を含む混合雰囲気中で、カソード放電型のアークイオンプレーティング装置により、前記ターゲットの蒸発面に略直交して前方ないし平行に進行する磁力線を形成した状態で、前記硬質皮膜を前記基材の表面に成膜するに際し、
成膜時に基材に印加するバイアス電圧を−50V〜−100Vの範囲内とし、前記硬質皮膜中のδ−WNとWC1−xの割合を調整して、前記硬質皮膜を基材の表面に成膜することを特徴とする摺動性に優れる硬質皮膜の形成方法。
但し、前記各式で、x、a、b、cは、夫々W、B、C、Nの原子比を示す。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013223405A JP5695721B2 (ja) | 2007-12-03 | 2013-10-28 | 摺動性に優れる硬質皮膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007311993 | 2007-12-03 | ||
JP2007311993 | 2007-12-03 | ||
JP2013223405A JP5695721B2 (ja) | 2007-12-03 | 2013-10-28 | 摺動性に優れる硬質皮膜の形成方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012167022A Division JP2012211398A (ja) | 2007-12-03 | 2012-07-27 | 摺動性に優れる硬質皮膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014051742A true JP2014051742A (ja) | 2014-03-20 |
JP5695721B2 JP5695721B2 (ja) | 2015-04-08 |
Family
ID=40733712
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008208710A Pending JP2009155721A (ja) | 2007-12-03 | 2008-08-13 | 摺動性に優れる硬質皮膜とその硬質皮膜の形成方法 |
JP2012167022A Pending JP2012211398A (ja) | 2007-12-03 | 2012-07-27 | 摺動性に優れる硬質皮膜 |
JP2013223405A Expired - Fee Related JP5695721B2 (ja) | 2007-12-03 | 2013-10-28 | 摺動性に優れる硬質皮膜の形成方法 |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008208710A Pending JP2009155721A (ja) | 2007-12-03 | 2008-08-13 | 摺動性に優れる硬質皮膜とその硬質皮膜の形成方法 |
JP2012167022A Pending JP2012211398A (ja) | 2007-12-03 | 2012-07-27 | 摺動性に優れる硬質皮膜 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (3) | JP2009155721A (ja) |
KR (1) | KR20090057893A (ja) |
CN (1) | CN101451228B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110171975A (zh) * | 2019-05-28 | 2019-08-27 | 株洲万融新材科技有限公司 | 一种大尺寸高密度无粘结相碳化钨靶材及其制备方法 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5353310B2 (ja) * | 2009-03-05 | 2013-11-27 | 株式会社不二越 | バナジウム含有被膜およびバナジウム含有被膜を被覆した金型または切削工具 |
JP5473890B2 (ja) * | 2010-12-27 | 2014-04-16 | 日本ピストンリング株式会社 | ピストンリング |
JP2013000773A (ja) * | 2011-06-16 | 2013-01-07 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 被覆回転ツール |
WO2013129321A1 (ja) * | 2012-02-29 | 2013-09-06 | 住友電気工業株式会社 | 被覆回転ツールおよびその製造方法 |
JP6024739B2 (ja) * | 2012-02-29 | 2016-11-16 | 住友電気工業株式会社 | 被覆回転ツールおよびその製造方法 |
JP6211858B2 (ja) * | 2013-09-12 | 2017-10-11 | 株式会社神戸製鋼所 | 潤滑性と耐摩耗性に優れた硬質皮膜の製造方法 |
JP6267604B2 (ja) * | 2014-03-03 | 2018-01-24 | 株式会社神戸製鋼所 | 硬質皮膜およびその形成方法、ならびに鋼板熱間成型用金型 |
WO2017159030A1 (ja) * | 2016-03-14 | 2017-09-21 | 株式会社神戸製鋼所 | 硬質皮膜及び硬質皮膜被覆部材 |
JP2017206756A (ja) * | 2016-05-20 | 2017-11-24 | 株式会社神戸製鋼所 | 硬質皮膜及び金型 |
FR3059757B1 (fr) * | 2016-12-07 | 2018-11-16 | H.E.F. | Piece de frottement, systeme mecanique comprenant une telle piece de frottement, et procede de mise en oeuvre |
CN108165941B (zh) * | 2017-12-26 | 2019-10-29 | 浙江大学 | 一种高化学计量比的多晶wc薄膜及其低温制备方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0471214A (ja) * | 1990-07-12 | 1992-03-05 | Nippon Chemicon Corp | 電解コンデンサ用アルミニウム電極およびその製造方法 |
JP2001152319A (ja) * | 1999-11-25 | 2001-06-05 | Kohan Kogyo Kk | 密着性に優れた表面処理層を有する表面処理金属部材、その表面処理方法、及びその表面処理方法を用いてなる回転機器用部材 |
JP2001172763A (ja) * | 1999-12-16 | 2001-06-26 | Kobe Steel Ltd | 金属含有硬質炭素膜の形成方法 |
US20070254187A1 (en) * | 2006-04-27 | 2007-11-01 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd) | Amorphous-carbon-based hard multilayer film and hard surface member having the film on surface |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62102501A (ja) * | 1985-10-30 | 1987-05-13 | ティーディーケイ株式会社 | 抵抗発熱体 |
JPS62112302A (ja) * | 1985-11-12 | 1987-05-23 | ティーディーケイ株式会社 | サ−マルヘツド用発熱体 |
US5142390A (en) * | 1989-02-23 | 1992-08-25 | Ricoh Company, Ltd. | MIM element with a doped hard carbon film |
JPH05101462A (ja) * | 1991-10-01 | 1993-04-23 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 光磁気記録媒体 |
KR0134942B1 (ko) * | 1993-06-11 | 1998-06-15 | 이다가끼 유끼오 | 비정질 경질 탄소막 및 그 제조 방법 |
DE10262174B4 (de) * | 2001-07-23 | 2007-03-15 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.), Kobe | Harte verschleissfeste Schicht, Verfahren zum Bilden derselben und Verwendung |
JP4360082B2 (ja) * | 2001-12-17 | 2009-11-11 | 住友電気工業株式会社 | 非晶質炭素被膜の製造方法及び非晶質炭素被覆摺動部品 |
JP3848200B2 (ja) * | 2002-04-10 | 2006-11-22 | 株式会社神戸製鋼所 | 高面圧下での摺動特性に優れる摺動部材 |
JP4231686B2 (ja) * | 2002-12-26 | 2009-03-04 | 株式会社不二越 | Cr系窒化物及び炭化物被覆摺動部材 |
JP4753249B2 (ja) * | 2006-01-13 | 2011-08-24 | 株式会社神戸製鋼所 | ガラス成形用金型 |
JP2007277663A (ja) * | 2006-04-10 | 2007-10-25 | Toyota Motor Corp | 摺動材 |
JP4400603B2 (ja) * | 2006-09-12 | 2010-01-20 | 株式会社日立製作所 | 硬質炭素被膜を有する部材 |
-
2008
- 2008-08-13 JP JP2008208710A patent/JP2009155721A/ja active Pending
- 2008-11-11 CN CN2008101760853A patent/CN101451228B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-11-17 KR KR1020080113768A patent/KR20090057893A/ko not_active Application Discontinuation
-
2012
- 2012-07-27 JP JP2012167022A patent/JP2012211398A/ja active Pending
-
2013
- 2013-10-28 JP JP2013223405A patent/JP5695721B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0471214A (ja) * | 1990-07-12 | 1992-03-05 | Nippon Chemicon Corp | 電解コンデンサ用アルミニウム電極およびその製造方法 |
JP2001152319A (ja) * | 1999-11-25 | 2001-06-05 | Kohan Kogyo Kk | 密着性に優れた表面処理層を有する表面処理金属部材、その表面処理方法、及びその表面処理方法を用いてなる回転機器用部材 |
JP2001172763A (ja) * | 1999-12-16 | 2001-06-26 | Kobe Steel Ltd | 金属含有硬質炭素膜の形成方法 |
US20070254187A1 (en) * | 2006-04-27 | 2007-11-01 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd) | Amorphous-carbon-based hard multilayer film and hard surface member having the film on surface |
JP2007291484A (ja) * | 2006-04-27 | 2007-11-08 | Kobe Steel Ltd | 非晶質炭素系硬質多層膜及びこの膜を表面に備えた硬質表面部材 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110171975A (zh) * | 2019-05-28 | 2019-08-27 | 株洲万融新材科技有限公司 | 一种大尺寸高密度无粘结相碳化钨靶材及其制备方法 |
CN110171975B (zh) * | 2019-05-28 | 2021-09-07 | 株洲新融利实业有限公司 | 一种大尺寸高密度无粘结相碳化钨靶材及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009155721A (ja) | 2009-07-16 |
KR20090057893A (ko) | 2009-06-08 |
JP2012211398A (ja) | 2012-11-01 |
JP5695721B2 (ja) | 2015-04-08 |
CN101451228B (zh) | 2011-04-20 |
CN101451228A (zh) | 2009-06-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5695721B2 (ja) | 摺動性に優れる硬質皮膜の形成方法 | |
US8080324B2 (en) | Hard coating excellent in sliding property and method for forming same | |
KR100837031B1 (ko) | 경질 피막 및 이의 성막 방법 | |
Bobzin et al. | Advantages of nanocomposite coatings deposited by high power pulse magnetron sputtering technology | |
Wei et al. | Effects of pulsed bias duty ratio on microstructure and mechanical properties of TiN/TiAlN multilayer coatings | |
US6287711B1 (en) | Wear-resistant coating and component | |
JP5138892B2 (ja) | 硬質皮膜 | |
US20090214787A1 (en) | Erosion Resistant Coatings | |
JP5621881B2 (ja) | 硬質皮膜被覆工具 | |
EP2201154B1 (en) | Method of producing a layer by arc-evaporation from ceramic cathodes | |
JP4408231B2 (ja) | 硬質積層皮膜および硬質積層皮膜の形成方法 | |
KR20090029239A (ko) | 비정질 탄소계 경질 다층막 및 이러한 막을 표면에 구비한 경질 표면 부재 | |
JP2000178738A (ja) | ダイヤモンド状炭素膜を被覆した部材 | |
Liu et al. | Effect of duty cycle on microstructure and mechanical properties of AlCrN coatings deposited by HiPIMS | |
JP2009275292A (ja) | 硬質皮膜、硬質皮膜被覆材および冷間塑性加工用金型ならびに硬質皮膜の形成方法 | |
JP6267604B2 (ja) | 硬質皮膜およびその形成方法、ならびに鋼板熱間成型用金型 | |
Lugscheider et al. | Investigation of the mechanical and structural properties of Ti–Hf–C–N arc PVD coatings | |
JP4666241B2 (ja) | 摺動部材 | |
JP4808972B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
JP2003013200A (ja) | 硬質炭素膜およびその製造方法 | |
JP6211858B2 (ja) | 潤滑性と耐摩耗性に優れた硬質皮膜の製造方法 | |
JP4408230B2 (ja) | 硬質積層皮膜および硬質積層皮膜の形成方法 | |
KR20010037811A (ko) | 절삭공구/내마모성 공구용 표면 피복 경질합금 | |
JPH0417664A (ja) | 切削工具・耐摩工具用表面被覆硬質部材 | |
JPH0250948A (ja) | 複合超硬材料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140728 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140805 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150203 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150206 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5695721 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |