JP2013200319A - 電子顕微鏡システム及びそれを用いたパターン寸法計測方法 - Google Patents
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Abstract
本発明の目的は,試料の実際のパターンエッジ端に即した輪郭線情報を出力する電子顕微鏡システムを提供することにある。
【解決手段】
電子顕微鏡像のパターンエッジの各点において,パターンエッジに対して接線方向に該電子顕微鏡像を投影して局所投影波形を生成し,各点で生成した局所投影波形を,予め作成しておいた,試料の断面形状と電子線信号波形とを関連づけるライブラリに当てはめることによって,試料上に転写されたパターンの断面形状を推定し,断面形状に則したエッジ端の位置座標を求め,この位置座標の連なりとしてパターンの輪郭線を出力する。
【選択図】図1
Description
特に威力を発揮するのは,部位によってパターンの断面形状が変化するようなケースである。「発明が解決しようとする課題」において述べたように,従来の技術では,実際のパターンエッジ端と,検出されるエッジ端のずれ量が部位によって異なる。特に,高精度なOPC検証を行おうとする際には,この問題は重大である。本発明によれば,部位ごとに断面形状を推定し,推定した断面形状に即してエッジ点を決定するので,実際のパターンエッジ端からのずれ量が部位によって異なるという問題が解決される。
本実施例による形状計測のフローは基本的には図1を用いて説明した第1の実施の形態の場合と同じであるが、異なる点は、本実施の形態においては,暫定輪郭線を抽出(S130)した後,設計データとのマッチングを行い,設計データを参照することで,輪郭線上の各点について,近傍エッジとの距離を算出しておく(S131)点である。
本実施例による形状計測のフローは基本的には図1を用いて説明した第1の実施の形態の場合と同じであるが、異なる点は、本実施の形態においては,暫定輪郭線を抽出(S140)した後,暫定輪郭線に沿った局所領域にて,部分画像を切り出し(S240),三次元の断面形状を対象に電子線シミュレーションを行って作成したSEM像ライブラリ33とのマッチングを行う(S340)点である。S440以降のステップは、基本的に図1で説明したS400以降のステップと同じである。
Claims (14)
- 走査型電子顕微鏡を用いて表面にパターンが形成された試料の所望の箇所の画像を取得する電子線画像取得手段と、
前記試料のパターンの断面形状と該パターンの断面形状に対応する電子線信号波形情報とを関連づけるライブラリを記憶する記憶手段と、
該電子線画像取得手段で取得した前記試料のパターンの画像から得られる情報を前記記憶手段に記憶されたライブラリ情報を参照して処理することにより前記パターンの寸法情報を抽出する寸法情報抽出手段と、
該寸法情報抽出手段で抽出した前記パターンの寸法に関連する情報を画面上に表示する出力手段と
を備えた電子顕微鏡システム。 - 請求項1記載の電子顕微鏡システムであって、前記寸法情報抽出手段は、前記試料の画像から得られる情報を前記記憶手段に記憶されたライブラリ情報を参照して処理することにより前記パターンの寸法情報として前記試料上に形成されたパターンの輪郭情報を得ることを特徴とする電子顕微鏡システム。
- 請求項2記載の電子顕微鏡システムであって、前記寸法情報抽出手段において前記試料の画像から得られる情報は、前記試料の画像におけるパターンエッジの各点又は代表点において,パターンエッジに対して接線方向に該画像を投影して生成した局所投影波形であることを特徴とする電子顕微鏡システム。
- 請求項1記載の電子顕微鏡システムであって、前記寸法情報抽出手段は前記パターンの寸法情報としてパターンの幅情報と該パターンの高さ情報とを抽出することを特徴とする電子顕微鏡システム。
- 請求項1記載の電子顕微鏡システムであって、前記寸法情報抽出手段は前記パターンの寸法情報として複数のパターンの間隔の情報を抽出し、前記出力手段は、該抽出した複数のパターンの間隔の情報を該複数のパターンの設計データと共に画面上に表示することを特徴とする電子顕微鏡システム。
- 請求項1記載の電子顕微鏡システムであって、前記記憶手段に記憶させておくライブラリは、さまざまな断面形状の試料の電子線信号波形を計算機シミュレーションによって得たものであることを特徴とする電子顕微鏡システム。
- 請求項1記載の電子顕微鏡システムであって、前記記憶手段に記憶するライブラリにおいて、前記試料のパターンの断面形状と関連づける該パターンの断面形状に対応する電子線信号波形情報は、前記パターンのエッジに対して接線方向に該パターンの画像を投影して生成した局所投影波形から求めた電子線信号波形の特徴量であることを特徴とする電子顕微鏡システム。
- 走査型電子顕微鏡を用いて表面にパターンが形成された試料の所望の箇所の画像を取得し、
前記試料のパターンの断面形状と該パターンの断面形状に対応する電子線信号波形情報とを関連づけるライブラリを記憶し、
前記取得した試料のパターンの画像から得られる情報を前記記憶手段に記憶されたライブラリ情報を参照して処理することにより前記パターンの寸法情報を抽出し、
該抽出した前記パターンの寸法に関連する情報を画面上に表示することを特徴とする電子顕微鏡システムを用いたパターン寸法計測方法。 - 請求項8記載のパターン寸法計測方法であって、前記パターンの寸法情報を抽出することを、前記試料の画像から得られる情報を前記記憶されたライブラリ情報を参照して処理することにより前記パターンの寸法情報として前記試料上に形成されたパターンの輪郭情報を得ることを特徴とする電子顕微鏡システムを用いたパターン寸法計測方法。
- 請求項9記載のパターン寸法計測方法であって、前記パターンの寸法情報を抽出する工程において、前記試料の画像から得られる情報は、前記試料の画像におけるパターンエッジの各点又は代表点において,パターンエッジに対して接線方向に該画像を投影して生成した局所投影波形であることを特徴とする電子顕微鏡システムを用いたパターン寸法計測方法。
- 請求項8記載のパターン寸法計測方法であって、前記パターンの寸法情報を抽出する工程において、前記パターンの寸法情報としてパターンの幅情報と該パターンの高さ情報とを抽出することを特徴とする電子顕微鏡システムを用いたパターン寸法計測方法。
- 請求項8記載のパターン寸法計測方法であって、前記パターンの寸法情報を抽出する工程において、前記パターンの寸法情報として複数のパターンの間隔の情報を抽出し、前記画面上に表示する工程において、該抽出した複数のパターンの間隔の情報を該複数のパターンの設計データと共に画面上に表示することを特徴とする電子顕微鏡システムを用いたパターン寸法計測方法。
- 請求項8記載のパターン寸法計測方法であって、前記記憶しておくライブラリは、さまざまな断面形状の試料の電子線信号波形を計算機シミュレーションによって得たものであることを特徴とする電子顕微鏡システムを用いたパターン寸法計測方法。
- 請求項8記載のパターン寸法計測方法であって、前記記憶するライブラリにおいて、前記試料のパターンの断面形状と関連づける該パターンの断面形状に対応する電子線信号波形情報は、前記パターンのエッジに対して接線方向に該パターンの画像を投影して生成した局所投影波形から求めた電子線信号波形の特徴量であることを特徴とする電子顕微鏡システムを用いたパターン寸法計測方法。
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