JP6294099B2 - パターン測定装置、及びパターン測定装置の管理装置 - Google Patents
パターン測定装置、及びパターン測定装置の管理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6294099B2 JP6294099B2 JP2014036139A JP2014036139A JP6294099B2 JP 6294099 B2 JP6294099 B2 JP 6294099B2 JP 2014036139 A JP2014036139 A JP 2014036139A JP 2014036139 A JP2014036139 A JP 2014036139A JP 6294099 B2 JP6294099 B2 JP 6294099B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- contour
- pattern
- contour line
- image processing
- measuring apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
Description
従って、図8に例示したようなDistortion値が得られ、且つDistortion値の閾値を3.0nmと設定した場合、それ以下で最もトップ側に近いTh.70%のパラメータで抽出された輪郭線をプロセスバイアス確認のための輪郭線として使用する。
202 偏向器
203 検出器
204 制御装置
205 管理装置
206 設計データ記憶媒体
207 画像処理部
208 メモリ
209 測定パラメータ設定部
210 入力装置
211 輪郭線抽出部
212 歪み量演算部
213 EPE測長実行部
Claims (5)
- 荷電粒子線装置によって得られた画像データに基づいて、画像データ上のパターンの輪郭線データを抽出する画像処理装置を備えたパターン測定装置において、
当該画像処理装置は、前記パターンエッジの輝度分布に対する複数の閾値設定に基づいて、複数の輪郭線を抽出すると共に、当該複数の輪郭線の歪みを示す指標値を求め、前記複数の輪郭線の輪郭線形成条件の中から、前記指標値が所定の条件を満たすパターンの最もボトム側、或いは最もトップ側の輪郭線の輪郭線形成条件を選択することを特徴とするパターン測定装置。 - 請求項1において、
前記画像処理装置は、前記所定の条件を満たす輪郭線形成条件によって得られた輪郭線に関する寸法測定を実行することを特徴とするパターン測定装置。 - 荷電粒子線装置によって得られた画像データに基づいて、画像データ上のパターンの輪郭線データを抽出する画像処理装置を備えたパターン測定装置において、
当該画像処理装置は、前記パターンエッジの輝度分布に対する複数の閾値設定に基づいて、複数の輪郭線を抽出すると共に、当該複数の輪郭線の歪みを示す指標値を求め、前記複数の輪郭線の輪郭線形成条件の中から、前記歪みを示す指標値が所定値以下、或いは所定値未満のパターンの最もボトム側、或いは最もトップ側の輪郭線の輪郭線形成条件を選択することを特徴とするパターン測定装置。 - 複数の荷電粒子線装置によって得られた画像データに基づいて形成される輪郭線データを評価する画像処理装置を備えたパターン測定装置の管理装置であって、
前記画像処理装置は、複数の輪郭線形成条件の中から、当該輪郭線の歪みを示す指標値が所定の条件を満たすパターンの最もボトム側、或いは最もトップ側の輪郭線の輪郭線形成条件を選択することを特徴とするパターン測定装置の管理装置。 - 請求項4において、
前記画像処理装置は、前記所定の条件を満たす輪郭線形成条件を、前記複数の荷電粒子線装置の機差評価を行うための輪郭線形成条件として設定することを特徴とするパターン測定装置の管理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014036139A JP6294099B2 (ja) | 2014-02-27 | 2014-02-27 | パターン測定装置、及びパターン測定装置の管理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014036139A JP6294099B2 (ja) | 2014-02-27 | 2014-02-27 | パターン測定装置、及びパターン測定装置の管理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015161554A JP2015161554A (ja) | 2015-09-07 |
JP6294099B2 true JP6294099B2 (ja) | 2018-03-14 |
Family
ID=54184739
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014036139A Active JP6294099B2 (ja) | 2014-02-27 | 2014-02-27 | パターン測定装置、及びパターン測定装置の管理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6294099B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4638800B2 (ja) * | 2005-10-27 | 2011-02-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡装置における機差管理システムおよびその方法 |
JP5276854B2 (ja) * | 2008-02-13 | 2013-08-28 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン生成装置およびパターン形状評価装置 |
JP2011179819A (ja) * | 2010-02-26 | 2011-09-15 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン測定方法及びコンピュータプログラム |
JP5417358B2 (ja) * | 2011-02-28 | 2014-02-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 画像処理装置、及び画像処理を行うためのコンピュータープログラム |
-
2014
- 2014-02-27 JP JP2014036139A patent/JP6294099B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015161554A (ja) | 2015-09-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10445875B2 (en) | Pattern-measuring apparatus and semiconductor-measuring system | |
US9858659B2 (en) | Pattern inspecting and measuring device and program | |
JP6759034B2 (ja) | パターン評価装置及びコンピュータープログラム | |
US9342878B2 (en) | Charged particle beam apparatus | |
JP5988615B2 (ja) | 半導体評価装置、及びコンピュータープログラム | |
JP6063630B2 (ja) | パターン計測装置、及び半導体計測システム | |
JP2009222454A (ja) | パターン測定方法及びパターン測定装置 | |
JP7427744B2 (ja) | 画像処理プログラム、画像処理装置、画像処理方法および欠陥検出システム | |
US10643326B2 (en) | Semiconductor measurement apparatus and computer program | |
US10190875B2 (en) | Pattern measurement condition setting device and pattern measuring device | |
KR102154667B1 (ko) | 패턴 계측 장치, 및 컴퓨터 프로그램 | |
WO2012029220A1 (ja) | 半導体製造装置の管理装置、及びコンピュータプログラム | |
KR101889833B1 (ko) | 패턴 측정 장치 및 컴퓨터 프로그램 | |
US10295339B2 (en) | Pattern measurement method and measurement apparatus | |
JP6294099B2 (ja) | パターン測定装置、及びパターン測定装置の管理装置 | |
JP2013200319A (ja) | 電子顕微鏡システム及びそれを用いたパターン寸法計測方法 | |
TWI697025B (zh) | 帶電粒子線裝置,截面形狀推定程式 | |
JP6043529B2 (ja) | パターン測定装置、及び輪郭線抽出装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170110 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20170116 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20170123 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170111 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20170803 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20170804 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20171013 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171024 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180116 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180215 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6294099 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |