JP2013105936A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2013105936A5
JP2013105936A5 JP2011249560A JP2011249560A JP2013105936A5 JP 2013105936 A5 JP2013105936 A5 JP 2013105936A5 JP 2011249560 A JP2011249560 A JP 2011249560A JP 2011249560 A JP2011249560 A JP 2011249560A JP 2013105936 A5 JP2013105936 A5 JP 2013105936A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
reference mark
wavelength band
detected
position detection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011249560A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2013105936A (ja
JP5875335B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2011249560A priority Critical patent/JP5875335B2/ja
Priority claimed from JP2011249560A external-priority patent/JP5875335B2/ja
Priority to KR1020120125240A priority patent/KR101539827B1/ko
Priority to US13/671,930 priority patent/US9400437B2/en
Publication of JP2013105936A publication Critical patent/JP2013105936A/ja
Publication of JP2013105936A5 publication Critical patent/JP2013105936A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5875335B2 publication Critical patent/JP5875335B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明の一側面としての位置検出装置は、基準マークを利用して被検出体の位置を検出する位置検出装置であって、第1の波長帯域を有する計測光を用いて前記被検出体を照明する第1の照明光学系と、第2の波長帯域を有する基準光を用いて前記基準マークを照明する第2の照明光学系と、前記被検出体からの光束および前記基準マークからの光束を検出する検出光学系と、前記検出光学系による前記光束の検出結果に基づいて前記被検出体の位置を検出する位置検出部と、を有し、前記基準光の第2の波長帯域は、前記計測光の第1の波長帯域の上限と下限との間に設定されている。
本発明の他の側面としての位置検出装置は、基準マークを利用して被検出体の位置を検出する位置検出装置であって、測光を用いて前記被検出体を照明する第1の照明光学系と、前記計測光とは波長帯域が異なる波長帯域を有する基準光を用いて前記基準マークを照明する第2の照明光学系と、前記被検出体からの光束および前記基準マークからの光束を検出記光束の検出結果に基づいて前記被検出体の位置を検出する位置検出部と、を有し、前記位置検出部は、前記計測光で前記基準マークを検出した結果と前記基準光で該基準マークを検出した結果とに基づき、前記計測光の波長帯域と前記基準光の波長帯域とが互いに異なることで生じる前記基準マークの検出値の変動量を予め記憶し、該基準マークの検出値の変動量を用いて前記位置検出部による該被検出体からの光束検出結果を補正する。
なお、図3に示されるハーフミラー15は、ハーフミラーに限定されるものではなく、透過率や反射率などの特性を任意に変更することが可能である。図6は、ハーフミラー15の膜が透過率90%、反射率10%の光学特性を有する場合におけるハーフミラー特性の説明図である。図6(a)は基準マーク信号が100%入射した場合の透過特性と反射特性を示す。90%の光が透過され、画像検出素子11には10%の反射光が到達する。図6(b)はウエハマーク信号が100%入射した場合の透過特性と反射特性を示す。10%の光が反射され、画像検出素子11には90%の透過光が到達する。このように本実施例において、ハーフミラー15の膜の光学特性は、ウエハマークWMからの光束の光量が基準マークSMからの光束の光量より大きくなるように設定されている。透過率と反射率に差を付けることで、基準マーク信号の光量に対し、ウエハマーク信号をより多く取り込むことが可能となる。

Claims (10)

  1. 基準マークを利用して被検出体の位置を検出する位置検出装置であって、
    第1の波長帯域を有する計測光を用いて前記被検出体を照明する第1の照明光学系と、
    第2の波長帯域を有する基準光を用いて前記基準マークを照明する第2の照明光学系と、
    前記被検出体からの光束および前記基準マークからの光束を検出する検出光学系と、
    前記検出光学系による前記光束の検出結果に基づいて前記被検出体の位置を検出する位置検出部と、を有し、
    前記基準光の第2の波長帯域は、前記計測光の第1の波長帯域の上限と下限との間に設定されている、ことを特徴とする位置検出装置。
  2. 基準マークを利用して被検出体の位置を検出する位置検出装置であって、
    測光を用いて前記被検出体を照明する第1の照明光学系と、
    前記計測光とは波長帯域が異なる波長帯域を有する基準光を用いて前記基準マークを照明する第2の照明光学系と、
    前記被検出体からの光束および前記基準マークからの光束を検出記光束の検出結 に基づいて前記被検出体の位置を検出する位置検出部と、を有し、
    前記位置検出部は、前記計測光で前記基準マークを検出した結果と前記基準光で該基準マークを検出した結果とに基づき、前記計測光の波長帯域と前記基準光の波長帯域とが互いに異なることで生じる前記基準マークの検出値の変動量を予め記憶し、該基準マーク 検出値の変動量を用いて前記位置検出部による該被検出体からの光束検出結果を補正する、ことを特徴とする位置検出装置。
  3. 前記被検出体を照明する第1の光源と、
    前記基準マークを照明する第2の光源と、を更に有し、
    前記第1の光源および前記第2の光源のそれぞれは、ハロゲンランプ、LED、レーザ、レーザダイオードの少なくとも一つを備えて構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の位置検出装置。
  4. 前記第1の光源と前記第2の光源を共通化して一つの光源部が構成されていることを特徴とする請求項3に記載の位置検出装置。
  5. 前記一つの光源部は、前記被検出体を照明する光路と前記基準マークを照明する光路とを切り換える光路切換手段を有することを特徴とする請求項4に記載の位置検出装置。
  6. 前記基準光の波長帯域は、前記計測光の波長帯域の選択と連動して選択されることを特徴とする請求項4または5に記載の位置検出装置。
  7. 前記基準光および前記計測光は、互いに独立して光量調整が可能であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の位置検出装置。
  8. 前記被検出体からの光束と前記基準マークからの光束とを合成する光学素子と、
    前記光学素子で合成された光束を受光する画像検出素子と、を更に有し、
    前記光学素子の膜の光学特性は、前記第1の波長帯域を有する前記計測光と前記第2の波長帯域を有する前記基準光との間で互いに異なることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の位置検出装置。
  9. 前記被検出体からの光束と前記基準マークからの光束とを合成する光学素子と、
    前記光学素子で合成された光束を受光する画像検出素子と、を更に有し、
    前記光学素子の膜の光学特性は、前記被検出体から前記膜を介して前記画像検出素子へ 到達する光束の光量が前記基準マークから前記膜を介して前記画像検出素子へ到達する光束の光量より大きくなるように設定されていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の位置検出装置。
  10. 原版のパターンを基板に露光する露光装置であって、
    前記基板に形成されたマークの位置を検出する、請求項1乃至9のいずれか1項に記載の位置検出装置を有することを特徴とする露光装置。
JP2011249560A 2011-11-15 2011-11-15 位置検出装置および露光装置 Active JP5875335B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011249560A JP5875335B2 (ja) 2011-11-15 2011-11-15 位置検出装置および露光装置
KR1020120125240A KR101539827B1 (ko) 2011-11-15 2012-11-07 위치 계측 장치, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법
US13/671,930 US9400437B2 (en) 2011-11-15 2012-11-08 Position measurement apparatus and exposure apparatus which measure position of object using reference mark, and method of manufacturing device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011249560A JP5875335B2 (ja) 2011-11-15 2011-11-15 位置検出装置および露光装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2013105936A JP2013105936A (ja) 2013-05-30
JP2013105936A5 true JP2013105936A5 (ja) 2015-01-22
JP5875335B2 JP5875335B2 (ja) 2016-03-02

Family

ID=48280338

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011249560A Active JP5875335B2 (ja) 2011-11-15 2011-11-15 位置検出装置および露光装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US9400437B2 (ja)
JP (1) JP5875335B2 (ja)
KR (1) KR101539827B1 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103777476B (zh) * 2012-10-19 2016-01-27 上海微电子装备有限公司 一种离轴对准***及对准方法
JP6304948B2 (ja) * 2013-06-19 2018-04-04 キヤノン株式会社 光源装置、およびリソグラフィ装置
CN103499296A (zh) * 2013-10-21 2014-01-08 东华大学 基于机器视觉的批量零件自动检测***及方法
JP6590599B2 (ja) * 2014-11-28 2019-10-16 キヤノン株式会社 位置決定装置、位置決定方法、リソグラフィ装置、および物品の製造方法
JP6311639B2 (ja) * 2015-04-13 2018-04-18 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理装置の運転方法及び記憶媒体
JP6661303B2 (ja) * 2015-08-25 2020-03-11 キヤノン株式会社 位置検出装置、位置検出方法、露光装置及び露光方法
DE102017105697A1 (de) * 2017-03-16 2018-09-20 Ev Group E. Thallner Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Ausrichtung zweier optischer Teilsysteme
JP2020122930A (ja) * 2019-01-31 2020-08-13 キヤノン株式会社 計測装置、露光装置及び物品の製造方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2650396B2 (ja) 1989-02-07 1997-09-03 キヤノン株式会社 位置検出装置及び位置検出方法
JPH04321214A (ja) * 1991-04-19 1992-11-11 Canon Inc 位置検出装置
JP3104813B2 (ja) * 1992-04-09 2000-10-30 株式会社ニコン アライメント装置、投影露光装置、及び素子製造方法
JPH08264427A (ja) 1995-03-23 1996-10-11 Nikon Corp アライメント方法及びその装置
US5995198A (en) * 1995-06-01 1999-11-30 Nikon Corporation Exposure apparatus
JPH1038514A (ja) * 1996-07-23 1998-02-13 Nikon Corp 位置検出装置
JP3445100B2 (ja) * 1997-06-02 2003-09-08 キヤノン株式会社 位置検出方法及び位置検出装置
JPH11251218A (ja) * 1998-03-02 1999-09-17 Nikon Corp 位置検出方法及び装置、並びに該装置を備えた露光装置
JP2001057326A (ja) * 1999-08-17 2001-02-27 Nikon Corp 位置計測方法、位置計測装置および露光装置並びに露光方法
JP2001267196A (ja) * 2000-03-14 2001-09-28 Nikon Corp 位置検出装置、位置検出方法、露光装置、及び露光方法
JP4616983B2 (ja) 2000-11-22 2011-01-19 キヤノン株式会社 位置検出装置、該検出装置を用いた投影露光装置及びデバイス製造方法
JP2002170757A (ja) * 2000-11-30 2002-06-14 Nikon Corp 位置計測方法及びその装置、露光方法及びその装置、デバイスの製造方法
JP2002184677A (ja) * 2000-12-18 2002-06-28 Nikon Corp 位置計測方法、位置計測装置および露光方法並びに露光装置
JP2003324058A (ja) * 2002-05-01 2003-11-14 Nikon Corp 位置検出装置、露光装置及び露光方法
US7411667B2 (en) 2005-06-03 2008-08-12 Asml Netherlands B.V. Method for correcting disturbances in a level sensor light path
JP2008147369A (ja) 2006-12-08 2008-06-26 Canon Inc 面位置計測装置及びそれを用いた露光装置
JP5385652B2 (ja) * 2009-03-24 2014-01-08 キヤノン株式会社 位置検出装置、露光装置、位置検出方法、露光方法及びデバイス製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013105936A5 (ja)
JP5162006B2 (ja) 検出装置、露光装置、および、デバイスの製造方法
JP2011040549A5 (ja)
JP6226220B2 (ja) 照明装置、投射装置、スキャナおよび露光装置
JP2011040549A (ja) 検出装置、露光装置及びデバイスの製造方法
JP2011191118A (ja) 光干渉測定装置
JP2015021904A5 (ja)
US10223575B2 (en) Measurement apparatus for measuring shape of object, system and method for producing article
JP2009019941A (ja) 形状測定方法
JP5012810B2 (ja) 画像測定器
JP4701460B2 (ja) 検査装置、検査方法、及びパターン基板の製造方法
WO2012042943A1 (ja) 投光ビームの調整方法
JP2013061185A (ja) パターン検査装置およびパターン検査方法
JP2010192470A5 (ja)
TW201126132A (en) Measuring apparatus
JP2019117386A5 (ja) エンコーダ装置及び露光装置
CN115552195A (zh) 用于经埋藏计量目标的成像***
JP2018152374A5 (ja)
KR102373203B1 (ko) 검출 장치, 리소그래피 장치 및 물품 제조 방법
JP4721685B2 (ja) 形状測定方法及び形状測定装置
JP2010038654A (ja) 光学式変位測定装置
US20230184546A1 (en) Apparatus and method for measuring overlay
JP2006220578A (ja) 表面検査装置
JP2010014505A (ja) 三次元形状測定装置及び三次元形状測定方法
JP6146646B2 (ja) 照明装置、投射装置、スキャナおよび露光装置