JP4701460B2 - 検査装置、検査方法、及びパターン基板の製造方法 - Google Patents
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Description
製造方法を提供することである。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。以下に、本実施形態にかかる検査装置を、図1〜3を用いて説明する。本実施の形態では、EUVマスクの検査を行う検査装置を例として説明を行う。図1は、本発明の検査装置の照明光学系全体の構成図である。図2は、EUVマスク検査装置における偏光状態の説明図である。図3は、検査装置の照明領域と、検査領域の関係を模式的に示す図である。図1に示すように、検査装置は、レンズ1b、1c、1d、ミラー3a、及びハーフミラー6等を有する反射照明光学系51を用いて、EUVマスク8を照明する。
Ps=Rs×(1−Rs) (式2)
次に本発明にかかる実施形態2について、図5を用いて詳細説明する。図5はEUVマスク検査装置における光学系の一部を示した構成図である。なお、EUVマスク検査装置において、図1に示した検査装置と同等のものに関しては、同一の符号を付してある。したがって、その詳細については説明を適宜省略する。
次に本発明のEUVマスク検査装置の第三の実施形態について、図6を用いて説明する。図6に示された検査装置では、基本的構成は図1に示した検査装置と同じである。本実施形態では、ハーフミラーと、これに入射させる手法が実施の形態1と異なっている。ここでは、実施の形態1で示したハーフミラー6の代わりに、ハーフミラー31とミラー30が設けられている。したがって、他の構成については、適宜説明を省略する。
そして、実施の形態1と同様に、レーザ光L7は、対物レンズ7で集光されて、EUVマスク8に入射する。EUVマスク8で反射したレーザ光L7は、対物レンズ7を介して、ハーフミラー31に入射する。
次に、実施形態4にかかる検査装置について、図8を用いて説明する。図8に示された検査装置の基本的構成は図1に示した検査装置と同じである。本実施形態では、ハーフミラーと、これに入射させる手法が実施形態1と異なる。
Ps=(1−Rp)×Rs×(1−Rs) (式6)
ただし、PpとPsとを等しくする必要があるため、下記の式が成立する。
Rp=Rs×(1−Rs) (式7)
すなわちRpはRsの関数であるため、PpもRsで表すと、下記のようになる。
Pp=Rs×(1−Rs)×(1−Rs+Rs^2)) (式8)
これをグラフに表すと図9に示したようになる。Rs=0.50においてPpが最大値を取り(この場合、Rp=0.25となる。)、Pp=0.1875になる。従って、PpとPsの和は0.375であるため、伝達効率の理論最大値は約38%となる。
なお、上記の説明では検査を行う試料がEUVマスク8であるとして説明したが、試料はEUVマスク8に限られるものではない。例えば、試料はパターン基板であればよい。さらに、上記の実施形態では、TDIカメラ11a、11bを用いて、検査領域を撮像したが、TDIカメラ以外の光検出器(カメラ)を用いて撮像してもよい。このように、反射照明光学系51を用いて検査する検査装置に好適である。
1b レンズ
1c レンズ
1d レンズ
1e レンズ
2 ホモジナイザー
3a ミラー
3b ミラー
3c ミラー
3d ミラー
4 1/2波長板
4b 1/2波長板
5a 1/4波長板
5b 1/4波長板
5c 1/4波長板
6 ハーフミラー
6a ハーフミラー
7 対物レンズ
8 EUVマスク
8b パターン面
9 投影レンズ
10 空間分割ミラー
11a TDIカメラ
11b TDIカメラ
20 PBS
30 ミラー
31 ハーフミラー
40 ハーフミラー
40a ミラー
40b ミラー
40c ミラー
51 反射照明光学系
Claims (10)
- 対物レンズと、
試料と共役な位置に配置され、一部の照明光の偏光状態を変化させる第1の1/2波長板と、前記第1の1/2波長板から前記対物レンズまでの間に配置され、前記試料で反射した反射光が前記対物レンズを介して入射する第1の光分岐手段と、を有し、前記対物レンズの視野の一部である第1の領域を第1の偏光方向の直線偏光で照明し、前記対物レンズの視野内において前記第1の領域と異なる第2の領域を前記第1の偏光方向と直交する第2の偏光方向の直線偏光で照明する反射照明光学系と、
前記第1の領域において、前記試料で反射した反射光を検出する第1検出器と、
前記第2の領域において、前記試料で反射した反射光を検出する第2検出器と、を備え、
前記第1の光分岐手段が偏光状態に応じて光を反射する偏光ビームスプリッタであり、
前記反射照明光学系が、
前記第1の1/2波長板と前記偏光ビームスプリッタとの間に設けられ、照明光を円偏光にする第1の1/4波長板と、
前記対物レンズと偏光ビームスプリッタの間に設けられ、前記第1の1/4波長板によって円偏光になった照明光を直線偏光にする第2の1/4波長板と、を備える検査装置。 - 前記偏光ビームスプリッタから前記第1及び第2光検出器までの間に設けられ、前記第1及び第2光検出器に入射する反射光を直線偏光にする第3の1/4波長板と、を備える請求項1に記載の検査装置。
- 前記第1の1/2波長板が光路の半分に挿入されている請求項1又は2に記載の検査装置。
- 対物レンズと、
試料と共役な位置に配置され、一部の照明光の偏光状態を変化させる第1の1/2波長板と、前記第1の1/2波長板から前記対物レンズまでの間に配置され、前記試料で反射した反射光が前記対物レンズを介して入射する第1の光分岐手段と、を有し、前記対物レンズの視野の一部である第1の領域を第1の偏光方向の直線偏光で照明し、前記対物レンズの視野内において前記第1の領域と異なる第2の領域を前記第1の偏光方向と直交する第2の偏光方向の直線偏光で照明する反射照明光学系と、
前記第1の領域において、前記試料で反射した反射光を検出する第1検出器と、
前記第2の領域において、前記試料で反射した反射光を検出する第2検出器と、を備え、
前記第1の1/2波長板が光路の半分に挿入されている検査装置。 - 反射照明光学系によって、対物レンズの視野の一部である第1の領域を第1の偏光方向の直線偏光で、照明するステップと、
前記反射照明光学系によって、前記対物レンズの視野内において前記第1の領域と異なる第2の領域を前記第1の偏光方向と直交する第2の偏光方向の直線偏光で、照明するステップと、
前記第1の領域において試料で反射した反射光を、前記対物レンズを介して第1検出器で検出するステップと、
前記第2の領域において前記試料で反射した反射光を、前記対物レンズを介して第2検出器で検出するステップと、を備え、
前記反射照明光学系が試料と共役な位置に配置され、一部の照明光の偏光状態を変化させる第1の1/2波長板と、前記第1の1/2波長板から前記対物レンズまでの間に配置され、前記試料で反射した反射光が前記対物レンズを介して入射する第1の光分岐手段を備え、
前記第1の光分岐手段が偏光状態に応じて光を反射する偏光ビームスプリッタであり、
前記反射照明光学系が、
前記第1の1/2波長板と前記偏光ビームスプリッタとの間に設けられ、照明光を円偏光にする第1の1/4波長板と、
前記対物レンズと偏光ビームスプリッタの間に設けられ、前記第1の1/4波長板によって円偏光になった照明光を直線偏光にする第2の1/4波長板と、を備える検査方法。 - 前記偏光ビームスプリッタから前記第1及び第2光検出器までの間に設けられ、前記第1及び第2光検出器に入射する反射光を直線偏光にする第3の1/4波長板と、を備える請求項5に記載の検査方法。
- 前記第1の1/2波長板が光路の半分に挿入されている請求項5又は6に記載の検査方法。
- 反射照明光学系によって、対物レンズの視野の一部である第1の領域を第1の偏光方向の直線偏光で、照明するステップと、
前記反射照明光学系によって、前記対物レンズの視野内において前記第1の領域と異なる第2の領域を前記第1の偏光方向と直交する第2の偏光方向の直線偏光で、照明するステップと、
前記第1の領域において試料で反射した反射光を、前記対物レンズを介して第1検出器で検出するステップと、
前記第2の領域において前記試料で反射した反射光を、前記対物レンズを介して第2検出器で検出するステップと、を備え、
前記反射照明光学系が試料と共役な位置に配置され、一部の照明光の偏光状態を変化させる第1の1/2波長板と、前記第1の1/2波長板から前記対物レンズまでの間に配置され、前記試料で反射した反射光が前記対物レンズを介して入射する第1の光分岐手段を備え、
前記第1の1/2波長板が光路の半分に挿入されている検査方法。 - 前記第1の偏光方向、及び前記第2の偏光方向の少なくとも一方が前記試料に設けられたパターンに沿っていることを特徴とする請求項5乃至8のうちいずれか1項に記載の検査方法。
- 請求項5乃至9のうちいずれか1項に記載の検査方法により、フォトマスクを検査する検査ステップと、
前記検査ステップによって検査されたフォトマスクの欠陥を修正する欠陥修正ステップと、
前記欠陥修正ステップで修正されたフォトマスクを介して基板を露光する露光ステップと、
前記露光された基板を現像する現像ステップと、を有するパターン基板の製造方法。
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