JP2012529077A - 光再偏向フィルム及び該フィルムを使用したディスプレイ - Google Patents

光再偏向フィルム及び該フィルムを使用したディスプレイ Download PDF

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Abstract

光再偏向フィルム(100)は、第1の方向に沿って延びる第1の微小構造(150)を有する第1の主面(110)と、艶消し層の一部を形成し得る、第2の微小構造(160)を有する前記第1の主面と反対側の第2の主面(120)と、を有する。第2の主面は約3%以下の光学的ヘイズ値及び約85%以下の光学的透明度を有する。光再偏向フィルムは約1.75以上の平均有効透過率を有する。光再偏向フィルム(100)は粒子を含み得る。第2の微小構造は傾きの分布を有し得る。
【選択図】図1

Description

本発明は、光を再偏向するための光学フィルムに関する。本発明は、こうした光学フィルムを組み込んだディスプレイシステムなどの光学システムに更に適用可能である。
液晶ディスプレイ(LCD)などのディスプレイシステムは、例えばコンピュータのモニター、携帯情報端末(PDA)、携帯電話、携帯音楽プレーヤー、及び薄型液晶テレビなどの様々な用途及び市販の装置において使用されている。多くのLCDは、液晶パネル、及び液晶パネルに光照射するためのバックライトとしばしば呼ばれる広範囲光源を有している。バックライトは通常、1以上のランプ、並びに例えばライトガイド、ミラーフィルム、光再偏向フィルム、位相差フィルム、偏光フィルム及び拡散フィルムなどの多数の光制御フィルムを有している。拡散フィルムは通常、光学的欠陥を隠し、バックライトが放射する光の輝度の均一性を高めるために用いられる。
本発明は一般的には光再偏向フィルムに関するものである。一実施形態では、光再偏向フィルムは、第1の方向に沿って延びる複数の第1の微小構造を有する第1の主面を有する。光再偏向フィルムは更に、複数の第2の微小構造を有する、第1の主面と反対側の第2の主面を有する。第2の主面は約3%以下の光学的ヘイズ値及び約85%以下の光学的透明度を有する。光再偏向フィルムは約1.75以上の平均有効透過率を有する。ある場合には、複数の第1の微小構造は第1の方向に沿って延びる複数の直線プリズムを含む。ある場合には、複数の第1の微小構造のある微小構造の最大の高さは、該複数の第1の微小構造の別の微小構造の最大の高さと異なる。ある場合には、複数の第1の微小構造のある微小構造の高さは第1の方向に沿って変化する。複数の第2の微小構造は突起部及び/又は凹部を含み得る。ある場合には、複数の第2の微小構造は、第2の主面の少なくとも約80%、又は少なくとも約85%、又は少なくとも約90%、又は少なくとも約95%を覆う。複数の第2の微小構造は規則的又は不規則なパターンを形成し得る。ある場合では、第2の主面の約7%以下、又は約5%以下、又は約3%以下が約3.5°よりも大きい傾きの大きさを有する。ある場合には、第2の主面の約4%以下、又は約2%以下、又は約1%以下が約5°よりも大きい傾きの大きさを有する。ある場合には、第2の微小構造は光再偏向フィルムが含み得る粒子によって主として形成されるわけではない。ある場合には、光再偏向フィルムは約0.5μmよりも大きい平均サイズを有する粒子を含まない。ある場合には、複数の第2の微小構造の微小構造は、約6°以下の半値半幅(HWHM)を有する傾き分布を有する。ある場合には、光再偏向フィルムは、互いに反対側となる第1及び第2の主面を有する基材層と、基材層の第1の主面上に配置され、光再偏向フィルムの該第1の主面を含む第1の層と、基材層の前記第2の主面上に配置され、光再偏向フィルムの該第2の主面を含む艶消し層と、を有する。ある場合には、第1の層は約1.6以上の屈折率を有する。ある場合には、艶消し層は、複数の第2の微小構造の平均サイズよりも少なくとも5倍小さい平均サイズを有する複数の粒子を有する。ある場合には、艶消し層が粒子を含む場合、艶消し層の平均の厚さは粒子の平均サイズよりも少なくとも2μm大きい。ある場合には、艶消し層が粒子を含む場合、艶消し層の平均の厚さは粒子の平均サイズよりも少なくとも2倍だけ大きい。
別の実施形態では、光再偏向フィルムは複数の直線状微小構造を有する第1の主面、及び、複数の第2の微小構造を有する、第1の主面と反対側の第2の主面を有する。第2の主面は約3%以下の光学的ヘイズ値及び約85%以下の光学的透明度を有する。光再偏向フィルムの平均有効透過率は、平滑な第2の主面を有する以外は同じ構造を有する光再偏向フィルムと比較してその平均有効透過率以上、又はその平均有効透過率よりも約1.5%以下だけ小さい平均有効透過率を有する。ある場合には、複数の第2の微小構造は幾何学的対称性及び非対称的な傾きを有する。ある場合には、前記複数の第2の微小構造は幾何学的非対称性及び対称的な傾きを有する。
別の実施形態では、光学積層体は、第1の主面と反対側の第2の主面とを有する第1の光再偏向フィルムを有し、第1の主面は第1の方向に沿って延びる第1の複数の微小構造を有し、第2の主面は第2の複数の微小構造を有する。光学積層体は更に、第3の主面と反対側の第4の主面とを有する第2の光再偏向フィルムを有し、第3の主面は第1の光再偏向フィルムの第2の主面に面するとともに、第1の方向と異なる第2の方向に沿って延びる第3の複数の微小構造を有し、第4の主面は第4の複数の微小構造を有する。第2及び第4の主面のそれぞれは、約3%以下の光学的ヘイズ値及び約85%以下の光学的透明度を有する。ある場合には、光学積層体は約2.5以下の平均有効透過率を有する。
別の実施形態では、光学積層体は、第1の主面と反対側の第2の主面とを有する第1の光再偏向フィルムを有し、第1の主面は第1の方向に沿って延びる第1の複数の微小構造を有する。光学積層体は更に、第3の主面と反対側の第4の主面とを有する第2の光再偏向フィルムを有し、第3の主面は第1の光再偏向フィルムの第2の主面に面するとともに、第1の方向と異なる第2の方向に沿って延びる第3の複数の微小構造を有する。第2及び第4の主面のそれぞれは、約3%以下の光学的ヘイズ値及び約85%以下の光学的透明度を有する。光学積層体の平均有効透過率は、平滑な第2及び第4の主面を有する以外は同じ構造を有する光学積層体と比較してその平均有効透過率以上であるか、又はその平均有効透過率よりも約1%以下だけ小さい平均有効透過率を有する。ある場合には、光学積層体は、平滑な第2及び第4の主面を有する以外は同じ構造を有する光学積層体と比較してその平均有効透過率以上である平均有効透過率を有する。
別の実施形態では、光学フィルムは、幾何学的対称性及び非対称的な傾き分布を有する構造化主面を有する。ある場合には、光学フィルムは、約3%以下の光学的ヘイズ値及び約85%以下の光学的透明度を有する。
別の実施形態では、光学フィルムは、幾何学的非対称性及び対称的な傾き分布を有する構造化主面を有する。ある場合には、光学フィルムは、約3%以下の光学的ヘイズ値及び約85%以下の光学的透明度を有する。
以下の本発明の異なる実施形態の詳細な説明を添付の図面と併せて考慮することで本発明のより完全な理解及び認識を得ることが可能である。
光再偏向フィルムの概略側面図。 有効透過率を測定するための光学システムの概略側面図。 凹部を有する微小構造の概略側面図。 突起部を有する微小構造の概略側面図。 規則的に配列された微小構造の概略平面図。 不規則に配列された微小構造の概略平面図。 微小構造の概略側面図。 表面の割合(f)に対する計算された光学的ヘイズ値。 表面の割合(f)に対する計算された光学的透明度。 光学フィルムの概略側面図。 別の光学フィルムの概略側面図。 切削工具システムの概略側面図。 異なるカッターの概略側面図。 異なるカッターの概略側面図。 異なるカッターの概略側面図。 異なるカッターの概略側面図。 異なる微小構造化表面の光学顕微鏡写真。 異なる微小構造化表面の光学顕微鏡写真。 異なる微小構造化表面の光学顕微鏡写真。 異なる微小構造化表面の光学顕微鏡写真。 異なる微小構造化表面の光学顕微鏡写真。 異なる微小構造化表面の光学顕微鏡写真。 異なる倍率で示した異なる微小構造化表面のSEM像。 異なる倍率で示した異なる微小構造化表面のSEM像。 異なる倍率で示した異なる微小構造化表面のSEM像。 異なる倍率で示した異なる微小構造化表面のSEM像。 異なる倍率で示した異なる微小構造化表面のSEM像。 異なる倍率で示した異なる微小構造化表面のSEM像。 異なる倍率で示した異なる微小構造化表面のSEM像。 異なる倍率で示した異なる微小構造化表面のSEM像。 異なる倍率で示した異なる微小構造化表面のSEM像。 微小構造化表面のAFMによる表面プロファイル。 2つの互いに直交する方向に沿った図21の微小構造化表面の断面プロファイル。 2つの互いに直交する方向に沿った図21の微小構造化表面の断面プロファイル。 2つの互いに直交する方向に沿った図21の微小構造化表面の傾きの分布率(%)。 図21の微小構造化表面の高さの分布率(%)。 図21の微小構造化表面の傾きの大きさの分布率(%)。 図21の微小構造化表面の累積傾き分布率(%)。 異なる微小構造化表面の累積傾き分布率(%)。 光学積層体の概略側面図。 ディスプレイシステムの概略側面図。
本明細書においては、複数の図で用いられる同じ参照符号は、同じ又は同様の性質及び機能を有する同じ又は同様の要素を示す。
本発明は、ディスプレイシステムの輝度を大幅に高めることが可能であると同時に、スクラッチなどの物理的欠陥並びにモアレ及び色ムラなどの望ましくない光学的効果をマスクし、かつ/又は防止することが可能な、光再偏向フィルムに一般的に関する。開示される再偏向フィルムは、輝度を高めるための直線状の微小構造のアレイ、及びディスプレイの美観を高めるための艶消し面を有する。艶消し面の光学的ヘイズ値は、輝度を維持するうえで充分に低く、艶消し面の光学的透明度は、欠陥をマスク及び/又は防止するうえで充分に低い。
図1は、入射光を所望の方向に再偏向するための光再偏向フィルム100の概略側面図である。光再偏向フィルム100は、Y方向に沿って延びる複数の微小構造150を有する第1の主面110を有している。光再偏向フィルム100は更に、第1の主面110の反対側に位置し、複数の微小構造160を有する、第2の主面120を有している。
光再偏向フィルム100は更に、第1の主面110と第2の主面120それぞれとの間に配置され、第1の主面172及び反対側の第2の主面174を有する基材層170を有している。光再偏向フィルム100は更に、基材層の第1の主面172上に配置され、光再偏向フィルムの第1の主面110を含むプリズム層130と、基材層の第2の主面174上に配置され、光再偏向フィルムの第2の主面120を含む艶消し層140と、を有している。艶消し層は主面120の反対側に主面142を有している。
例示的な光再偏向フィルム100は、3つの層130、170及び140を有している。一般的に光再偏向フィルムは1つ以上の層を有し得る。例えば、ある場合には、光再偏向フィルムは第1の主面110及び第2の主面120それぞれを有する単一の層を有し得る。別の例では、ある場合において、光再偏向フィルムは多くの層を有し得る。例えばこうした場合では基材170が複数の層を有し得る。
微小構造150は、光再偏向フィルムの主面120に入射する光を、例えば正のZ軸方向などの所望の方向に沿って再偏向するように主として設計されている。例示的な光再偏向フィルム100では、微小構造150はプリズム状の直線状構造である。一般的に、微小構造150は、入射光のある部分を回折させ、入射光の異なる部分を回収することによって光を再偏向させることが可能なものであればいずれの種類の微小構造であってよい。例えば、微小構造150の断面形状は湾曲かつ/又は区分的に直線状の部分とするか、これを含んだものとすることができる。例えば、ある場合には、微小構造150を、Y方向に沿って延びる直線状の円筒形レンズとすることができる。
直線状のプリズム状微小構造150のそれぞれは、頂角152、及び例えば主平面172のような共通の基準平面から測定した高さ154を有している。光再偏向フィルムの光学的結合又はウェットアウトを低減し、かつ/又は耐久性を高めることが望ましい場合のような、ある場合には、プリズム状微小構造150の高さがY方向に沿って変化してもよい。例えば、プリズム状の直線状微小構造151のプリズムの高さをY方向に沿って変化させる。こうした場合では、プリズム状微小構造151は、Y方向に沿って変化する局所的高さ、最大高さ155、及び平均高さを有する。ある場合には、直線状微小構造153のようなプリズム状の直線状微小構造は、Y方向に沿って一定の高さを有する。こうした場合では、微小構造は、最大高さ及び平均高さに等しい一定の局所的高さを有する。
光学的結合及びウェットアウトを低減させることが望ましい場合のような、ある場合には、直線状微小構造の一部のものがより短く、直線状微小構造の一部のものがより大きな高さを有する。例えば、直線状微小構造153の高さ156は直線状微小構造157の高さ158よりも小さい。
頂角すなわち二面角152は、ある用途において望ましい任意の値を有し得る。例えばある場合には、頂角152は、約70°〜約110°、又は約80°〜約100°、又は約85°〜約95°の範囲であってよい。ある場合には、微小構造150は、例えば90°などの、約88°又は89°〜約92°又は約91°の範囲であり得る等しい頂角を有する。
プリズム層130は、ある用途において望ましい任意の屈折率を有し得る。例えばある場合には、プリズム層の屈折率は、約1.4〜約1.8、又は約1.5〜約1.8、又は約1.5〜約1.7の範囲である。ある場合には、プリズム層の屈折率は約1.5以上、又は約1.55以上、又は約1.6以上、又は約1.65以上、又は約1.7以上である。
光再偏向フィルム100が液晶ディスプレイシステムで使用される場合のような、ある場合には、光再偏向フィルム100は、ディスプレイの輝度を増大又は向上させ得る。こうした場合では、光再偏向フィルムは、1よりも大きな有効透過率又は相対利得を有する。本明細書で用いるところの有効透過率とは、フィルムが所定位置にないディスプレイの輝度に対する、フィルムがディスプレイシステムの定位置に配されたディスプレイシステムの輝度の比のことである。
有効透過率(ET)は、図2に概略側面図で示すような光学システム200を使用して測定することができる。光学システム200は光軸250を中心として配置され、放射又は出射面212、直線光吸収偏光子220、及び光検出器230を通るランベルト光215を放射する中空のランベルト光箱を有している。光箱210は、光ファイバー270によって光箱の内部280と接続された安定化された広帯域光源260によって光照射される。光学システムによってETを測定しようとする試験試料は、光箱と吸収直線偏光子との間に置かれる。
光再偏向フィルム100のETは、直線プリズム150が光検出器に面し、微小構造160が光箱に面するようにして光再偏向フィルムを位置240に配置することによって測定することができる。次に、スペクトル重み付けされた軸方向輝度I(光軸250に沿った輝度)を、直線吸収偏光子を通じ、光検出器によって測定する。次に、光再偏向フィルムを取り外し、光再偏向フィルムが位置240に配置されていない状態でスペクトル重み付けされた輝度Iを測定する。ETは、I/Iの比である。ET0は、直線プリズム150が直線吸収偏光子220の偏光軸に対して平行な方向に沿って延びている場合の有効透過率であり、ET90は、直線プリズム150が直線吸収偏光子の偏光軸に対して垂直な方向に沿って延びている場合の有効透過率である。平均有効透過率(ETA)は、ET0とET90との平均である。
本明細書で開示する有効透過率の値は、光検出器230としてSpectraScan(商標)PR−650 Spectra熱量計(フォト・リサーチ社(Photo Research, Inc.)(カリフォルニア州チャツワース)より販売)を使用して測定したものである。光箱210は、全反射率が約85%であるテフロン(登録商標)製キューブであった。
光再偏向フィルム100がディスプレイシステムにおいて輝度を高めるために使用され、直線プリズムが約1.6よりも大きな屈折率を有するような、ある場合には、光再偏向フィルムの平均有効透過率(ETA)は約1.5以上、又は約1.55以上、又は約1.6以上、又は約1.65以上、又は約1.7以上、又は約1.75以上、又は約1.8以上、又は約1.85以上である。
艶消し層140の微小構造160は、望ましくない物理的欠陥(例えばスクラッチなど)及び/又は光学的欠陥(例えばディスプレイ又は照明システム内のランプからの不要に明るい、すなわち「ホット」スポットなど)を隠すように主として設計されており、その際、光再偏向フィルムが光を再偏向して輝度を高める性能に与える悪影響はまったくないかあるいはごくわずかである。このような場合では、第2の主面120は、約5%以下、又は約4.5%以下、又は約4%以下、又は約3.5%以下、又は約3%以下、又は約2.5%以下、又は約2%以下、又は約%1.5以下、又は約1%以下の光学的ヘイズ値、及び約85%以下、又は約80%以下、又は約75%以下、又は約70%以下、又は約65%以下、又は約%60以下の光学的透明度を有する。
本明細書で用いるところの光学的ヘイズ値とは、垂直方向から4°よりも大きく逸れた透過光の、全透過光に対する比として定義される。本明細書で開示するヘイズ値は、ASTM D1003に述べられる方法にしたがって、Haze−Gard Plusヘイズ計(ビー・ワイ・ケー・ガーディナー社(BYK-Gardiner)メリーランド州シルバースプリング)を使用して測定されたものである。本明細書で用いるところの光学的透明度とは、Tが垂直方向から1.6〜2°だけ逸れた透過光、Tが垂直方向から0〜0.7°の間にある透過光であるものとしての、(T−T)/(T+T)の比のことを指す。本明細書で開示する透明度値は、ビー・ワイ・ケー・ガーディナー社(BYK-Gardiner)より販売されるHaze−Gard Plusヘイズ計を使用して測定されたものである。
微小構造160は、ある用途において望ましい任意の種類の微小構造であってよい。ある場合には、微小構造160は凹部であってよい。例えば図3Aは、陥凹した微小構造320を有し、艶消し層140と同様の艶消し層310の概略側面図である。ある場合には、微小構造160は突起部であってもよい。例えば図3Bは、突出した微小構造340を有し、艶消し層140と同様の艶消し層330の概略側面図である。
ある場合には、微小構造160は規則的なパターンを形成する。例えば図4Aは、主面415内に規則的なパターンを形成し、微小構造160と同様の微小構造410の概略平面図である。ある場合には、微小構造160は不規則なパターンを形成する。例えば図4Bは、不規則なパターンを形成し、微小構造160と同様の微小構造420の概略平面図である。ある場合には、微小構造160はランダムに見える疑似ランダムパターンを形成する。
一般的に、微小構造160は任意の高さ及び任意の高さの分布を有し得る。ある場合には、微小構造160の平均の高さ(すなわち、平均の最大高さから平均の最小高さを引いたもの)は、約5μm以下、又は約4μm以下、又は約3μm以下、又は約2μm以下、又は約1μm以下、又は約0.9μm以下、又は約0.8μm以下、又は約0.7μm以下である。
図5は、艶消し層140の一部の概略側面図である。詳細には図5は、主面120内の微小構造160及び対向する主面142を示している。微小構造160は、微小構造の表面全体にわたった傾き分布を有している。例えば微小構造は、θが、位置510において微小構造表面と直交する(α=90°)垂線520と、同じ位置において微小構造表面と接する接線530との間の角度であるものとして、位置510において傾きθを有する。傾きθは、接線530と艶消し層の主面142との間の角度でもある。
艶消し層140の光学的ヘイズ値及び透明度を、例えばTracePro(ラムダ・リサーチ社(Lambda Research Corp.)(マサチューセッツ州リトルトン)より販売)などの市販のレイトレーシングプログラムと同様のプログラムを使用して計算した。計算を行うにあたり、各微小構造が、σに等しい半値反幅(HWHM)を有するガウス傾き分布を有するものと仮定した。更に、艶消し層の屈折率が1.5に等しいものと仮定した。計算結果を図6及び7に示す。図6は、fを微小構造160によって覆われた主面120の面積の割合(%)であるものとして、9個の異なるσの値について表面の割合「f」に対する計算された光学的ヘイズ値を示したものである。図7は、fに対する計算された光学的透明度を示したものである。微小構造160が、輝度をまったく又はほとんど低下させることなく物理的及び/又は光学的欠陥を効果的に隠す場合のような、ある場合には、複数の微小構造160が第2の主面120の少なくとも約70%、又は少なくとも75約%、又は少なくとも約80%、又は少なくとも約85%、又は少なくとも約90%、又は少なくとも約95%を覆う。微小構造がガウスすなわち正規傾き分布を有する場合のような、ある場合には、分布のHWHM(σ)は、約4.5°以下、又は約4°以下、又は約3.5°以下、又は約3°以下、又は約2.5°以下、又は約2°以下である。
上記に開示したような例示的な計算法においては、微小構造160はHWHMがσに等しいガウス傾き分布を有するものと仮定した。一般的に微小構造はある用途において望ましい任意の分布を有し得る。例えば微小構造が球状部分であるような、ある場合には、微小構造は2つの限定角度の間の均一な分布を有し得る。他の例示的な傾きの分布としては、ローレンツ分布、放物線状分布、及びガウス分布などの異なる分布の組み合わせが挙げられる。例えばある場合には、微小構造はより小さいHWHM(σ)を有する第1のガウス分布が、より大きなHWHM(σ)を有する第2のガウス分布と加え合わされるか、又は合成された分布を有し得る。ある場合には、微小構造は非対称的な傾き分布を有し得る。ある場合には、微小構造は対称的な分布を有し得る。
図8は、基材170と同様の基材850上に配置された艶消し層860を有する光学フィルム800の概略側面図である。艶消し層860は、基材850に付属する第1の主面810、第1の主面の反対側の第2の主面820、及び結合剤840中に分散された複数の粒子830を有している。第2の主面820は、複数の微小構造870を有している。微小構造870の相当の部分、例えば少なくとも約50%、又は少なくとも約60%、又は少なくとも約70%、又は少なくとも約80%、又は少なくとも約90%は、粒子830上に配置され、主として粒子830に起因して形成されている。換言すれば、粒子830は微小構造870が形成される主要因となっている。こうした場合では、粒子830は、約0.25μmよりも大きい、又は約0.5μmよりも大きい、又は約0.75μmよりも大きい、又は約1μmよりも大きい、又は約1.25μmよりも大きい、又は約1.5μmよりも大きい、又は約1.75μmよりも大きい、又は約2μmよりも大きい平均サイズを有する。
ある場合には、艶消し層140を艶消し層860と同様なものとし、第2の主面120に微小構造160の形成の主要因となる複数の粒子を含ませることができる。
粒子830は、ある用途において望ましい任意の種類の粒子であってよい。例えば、粒子830はポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリスチレン(PS)、又はある用途において望ましい他の任意の材料で形成することができる。一般的に、粒子830の屈折率は結合剤840の屈折率とは異なっているが、ある場合には、これらは同じ屈折率を有してもよい。例えば、粒子830は、約1.35、又は約1.48、又は約1.49、又は約1.50の屈折率を有してよく、結合剤840は、約1.48、又は約1.49、又は約1.50の屈折率を有してよい。
ある場合には、艶消し層140は粒子を含まない。ある場合には、艶消し層140は粒子を含むが、粒子は微小構造160の形成の主要因とはなっていない。例えば、図9は、基材170と同様の基材950上に配置された、艶消し層140と同様の艶消し層960を有する光学フィルム900の概略側面図である。艶消し層960は、基材950に付属する第1の主面910、第1の主面の反対側の第2の主面920、及び結合剤940中に分散された複数の粒子930を有している。第2の主面970は、複数の微小構造970を有している。艶消し層960は粒子930を含んではいるが、粒子は微小構造970の形成の主要因とはなっていない。例えばある場合には、粒子は微小構造の平均のサイズよりも大幅に小さい。こうした場合では、微小構造は例えば構造化工具を微小複製することによって形成することができる。こうした場合では、粒子930の平均サイズは、約0.5μm未満、又は約0.4μm未満、又は約0.3μm未満、又は約0.2μm未満、又は約0.1μm未満である。こうした場合では、微小構造970の相当の割合、例えば少なくとも約50%、又は少なくとも約60%、又は少なくとも約70%、又は少なくとも約80%、又は少なくとも約90%が、約0.5μmよりも大きい、又は約0.75μmよりも大きい、又は約1μmよりも大きい、又は約1.25μmよりも大きい、又は約1.5μmよりも大きい、又は約1.75μmよりも大きい、又は約2μmよりも大きい平均サイズを有する粒子上には配置されない。ある場合には、粒子930の平均サイズは、微小構造930の平均サイズよりも少なくとも約2倍、少なくとも約3倍、少なくとも約4倍、少なくとも約5倍、少なくとも約6倍、少なくとも約7倍、少なくとも約8倍、少なくとも約9倍、少なくとも約10倍小さい。ある場合には、艶消し層960が粒子930を含む場合、艶消し層960は、粒子の平均サイズよりも少なくとも約0.5μm、又は少なくとも1μm、又は少なくとも1.5μm、又は少なくとも2μm、又は少なくとも2.5μm、又は少なくとも3μm大きい平均の厚さ「t」を有する。ある場合には、艶消し層が複数の粒子を含む場合、艶消し層の平均の厚さは、粒子の平均の厚さよりも、少なくとも約2倍、又は少なくとも約3倍、又は少なくとも約4倍、又は少なくとも約5倍、又は少なくとも約6倍、又は少なくとも約7倍、又は少なくとも約8倍、又は少なくとも約9倍、又は少なくとも約10倍大きい。
再び図1を参照すると、ある場合には、光再偏向フィルム100は、プリズム層130、基材層170、又は艶消し層140などの層の少なくとも一部において層の屈折率を高めるための小粒子を有している。例えば、光再偏向フィルム100の1つ以上の層が、例えば米国特許第7,074,463号(ジョーンズ(Jones)ら)及び米国特許出願公開第2006/0210726号に述べられるシリカ又はジルコニアナノ粒子などの無機ナノ粒子を含んでもよい。ある場合には、光再偏向フィルム100は約2μm、又は約1.5μm、又は約1μm、又は約0.75μm、又は約0.5μm、又は約0.25μm、又は約0.2μm、又は約0.15μm、又は約0.1μmよりも大きな平均サイズを有する一切の粒子を含まない。
微小構造160は、ある用途において望ましい任意の製造方法を使用することによって形成することができる。例えば、微小構造は、工具から微小複製の使用によって製造することが可能であり、こうした工具は彫刻又はダイヤモンド旋盤の使用などの任意の利用可能な製造方法によって製造することができる。例示的なダイヤモンド旋盤システム及び方法は、例えばそれらの開示内容をその全容にわたって本明細書に援用する、国際特許出願公開第WO 00/48037号、並びに米国特許第7,350,442号及び同第7,328,638号に述べられるような高速工具サーボ装置(FST)を含み、かつこれを利用したものであってよい。
図10は、微小構造160及び艶消し層140を作製するために微小複製可能な工具を切削するために使用することが可能な切削工具システム1000の概略側面図である。切削工具システム1000はねじ切り旋盤回転プロセスを用いたものであり、駆動装置1030によって中心軸1020を中心として回転かつ/又は中心軸1020に沿って移動可能なロール1010と、ロール材料を切削するためのカッター1040と、を有している。カッターはサーボ1050に取り付けられ、駆動装置1060によってX方向に沿ってロールの内部へと、かつ/又はロールに沿って動かすことができる。一般的にカッター1040は、ロール及び中心軸1020に対して垂直に取り付けられ、ロールが中心軸を中心として回転する際にロール1010の彫刻可能な材料の内部へと送り込まれる。次いでカッターは中心軸に平行に送られてねじ切りが作製される。カッター1040は、高周波数かつ低変位量で同時に作動させることにより、微小複製されることで微小構造160を形成する形成部がロールに作製される。
サーボ1050は高速工具サーボ装置(FTS)であり、しばしばPZTスタックと呼ばれる、カッター1040の位置を速やかに調節する固体圧電(PZT)素子を有している。FTS 1050は、カッター1040のX、Y、及びZ方向、又は軸外方向への高精度かつ高速の運動を可能とする。サーボ1050は、静止位置に対して制御された運動を生じさせることが可能な任意の高品質変位サーボであってよい。ある場合には、サーボ1050は、0〜約20μmの範囲の変位を、約0.1μm又はこれよりも高い分解能で高い信頼性で、かつ繰り返し与えることが可能である。
駆動装置1060は、カッター1040をX方向に沿って中心軸1020と平行に動かすことができる。ある場合には、駆動装置1060の変位分解能は約0.1ミクロンよりも高く、又は0.01μmよりも高い。駆動装置1030によって生ずる回転運動が駆動装置1060によって生ずる並進運動と同期することによって、得られる微小構造160の形状が正確に制御される。
ロール1010の彫刻可能な材料は、カッター1040によって彫刻可能な任意の材料であってよい。例示的なロール材料としては、銅などの金属、各種ポリマー及び各種ガラス材料が挙げられる。
カッター1040は任意の種類のカッターでよく、ある用途において望ましい任意の形状を有し得る。例えば図11Aは、半径「R」の円弧状の切削チップ1115を有するカッター1110の概略側面図である。ある場合には、切削チップ1115の半径Rは少なくとも約100μm、又は少なくとも約150μm、又は少なくとも約200μm、又は少なくとも約300μm、又は少なくとも約400μm、又は少なくとも約500μm、又は少なくとも約1000μm、又は少なくとも約1500μm、又は少なくとも約2000μm、又は少なくとも約2500μm、又は少なくとも約3000μmである。
別の例として、図11Bは、頂角βを有するV字状切削チップ1125を有するカッター1120の概略側面図である。ある場合には、切削チップ1125の頂角βは少なくとも約100°、又は少なくとも約110°、又は少なくとも約120°、又は少なくとも約130°、又は少なくとも約140°、又は少なくとも約150°、又は少なくとも約160°、又は少なくとも約170°である。更に他の例として、図11Cは、区分直線からなる切削チップ1135を有するカッター1130の概略側面図であり、図11Dは、湾曲した切削チップ1145を有するカッター1140の概略側面図である。
再び図10を参照すると、ロールの材料を切削する際の中心軸1020に沿ったロール1010の回転及びX方向に沿ったカッター1040の運動によって、中心軸に沿ってピッチPを有するロールの周りにねじ切り経路を画定する。カッターがロール表面に垂直な方向に沿って動いてロール材料を切削するにしたがって、カッターによって切削される材料の幅はカッターが移動又は出し入れされる際に変化する。例えば図11Aを参照すると、カッターによる最大の貫通深さは、カッターにより切削される最大幅Pに対応している。光再偏向フィルム100の微小構造160が幾何学的に対称であり、輝度をまったくあるいはほとんど低減させることなく物理的及び/又は光学的欠陥を隠す、又はマスクすることが充分可能であるような、ある場合には、P/Pの比は約1.5〜約6、又は約2〜約5、又は約2.5〜約4の範囲にある。
切削工具システム1000と同様の切削工具システムを用いてパターン形成されたロールを作製した後、該パターン形成された工具を微小複製することによって艶消し層140と同様の艶消し層を作製することにより、微小構造160と同様の微小構造を有する幾つかの試料を作製した。図12は、切削チップ1115の半径が約480μmであるカッター1110と同様のカッターを用いて作製した試料の平面光学顕微鏡写真である。試料は幾何学的に対称であり、対称的な傾き分布を有していた。ただし、幾何学的に対称であるとは、例えばX方向のような1つの方向に沿った平均の微小構造のサイズが、例えばY方向のような直交する方向に沿った平均の微小構造のサイズとほぼ同じであることを意味する。詳細には、試料は、X方向に沿って約1.18°の平均の傾きの大きさと、Y方向に沿って約1.22°の平均の傾きの大きさを有していた。図13は、切削チップ1115の半径が約480μmであるカッター1110と同様のカッターを用いて作製した試料の平面光学顕微鏡写真である。試料は幾何学的に対称であり、非対称的な傾き分布を有していた。詳細には、試料は、X方向に沿って約0.72°の平均の傾きの大きさと、Y方向に沿って約1.11°の平均の傾きの大きさを有していた。図14は、切削チップ1115の半径が約3300μmであるカッター1110と同様のカッターを用いて作製した試料の平面光学顕微鏡写真である。試料は幾何学的に非対称であり、非対称的な傾き分布を有していた。詳細には、試料は、X方向に沿って約0.07°の平均の傾きの大きさと、Y方向に沿って約1.48°の平均の傾きの大きさを有していた。図15は、切削チップ1115の半径が約3300μmであるカッター1110と同様のカッターを用いて作製した試料の平面光学顕微鏡写真である。試料は幾何学的に非対称であり、非対称的な傾き分布を有していた。詳細には、試料は、X方向に沿って約0.18°の平均の傾きの大きさと、Y方向に沿って約0.85°の平均の傾きの大きさを有していた。図16は、切削チップ1125の頂角が約176°であるカッター1120と同様のカッターを用いて作製した試料の平面光学顕微鏡写真である。試料は幾何学的に対称であり、対称的な傾き分布を有していた。詳細には、試料は、X方向に沿って約2.00°の平均の傾きの大きさと、Y方向に沿って約1.92°の平均の傾きの大きさを有していた。図17は、切削チップ1125の頂角が約175°であるカッター1120と同様のカッターを用いて作製した試料の平面光学顕微鏡写真である。試料は幾何学的に非対称であり、対称的な傾き分布を有していた。詳細には、試料は、X方向に沿って約2.50°の平均の傾きの大きさと、Y方向に沿って約2.54°の平均の傾きの大きさを有していた。
図18A〜18Cは、3つの異なる倍率で示した試料の平面走査電子鏡写真(SEM)である。試料は、切削チップ1125の頂角が約176°であるカッター1120と同様のカッターを用いて作製した。試料は幾何学的に対称であった。共焦点顕微鏡法により、微小構造の平均高さは約2.67μmと測定された。図19A〜19Cは、3つの異なる倍率での試料の平面SEMである。試料は、切削チップ1115の半径が約480μmであるカッター1110と同様のカッターを用いて作製した。試料は幾何学的に対称であった。共焦点顕微鏡法により、微小構造の平均高さは約2.56μmと測定された。図20A〜20Cは、3つの異なる倍率で示した試料の平面SEMである。試料は、切削チップ1115の半径が約3300μmであるカッター1110と同様のカッターを用いて作製した。試料は幾何学的に非対称であった。共焦点顕微鏡法により、微小構造の平均高さは約1.46μmと測定された。
上記に概略を述べたプロセスによって作製した多数の試料の表面について、原子間力顕微鏡法(AFM)によって、約200μm×約200μmの面積で特性評価を行った。図21は、こうした試料の1つの例示的なAFM表面プロファイルであり、この試料を試料Aとした。試料は、約94.9%の光学的透過率、約1.73%の光学的ヘイズ値、及び約79.5%の光学的透明度を有していた。図22A及び22Bは、それぞれX及びY方向に沿った試料Aの例示的な断面プロファイルである。図23は、試料AについてX及びY方向に沿った傾きの分布率(%)を示したものである。X及びY方向にそれぞれ沿った傾きS及びSを以下の2つの式より計算した。
Figure 2012529077
ただし、H(x,y)は表面プロファイルである。傾きS及びSは、0.5°の傾きのビンサイズを使用して計算した。図23より明らかなように、試料AはX及びY方向の両方に沿って対称的な傾き分布を有していた。試料Aは、X方向に沿ってより広い傾き分布を有し、Y方向に沿ってより狭い傾き分布を有していた。図24は、試料Aについて分析した表面にわたった高さの分布率(%)を示したものである。図24から明らかなように、試料は約4.7μmの試料のピーク高さに対してほぼ対称的な高さ分布を有していた。図25は、試料Aの傾きの大きさ(%)を示したものであり、傾きの大きさSは下式より計算した。
Figure 2012529077
図26は、試料Aについて累積傾き分布率(%)S(θ)を示したものであり、S(θ)は下式より計算した。
Figure 2012529077
図26より明らかなように、試料Aの表面の約100%が約3.5°未満の傾きの大きさを有していた。更に、分析した表面の約52%が約1°未満の傾きの大きさを有し、分析した表面の約72%が約1.5°未満の傾きの大きさを有していた。
B、C、Dとした試料Aと似た3個の更なる試料について上記に概略を述べたようにして特性評価を行った。4個の試料A〜Dはいずれも微小構造160と同様の微小構造を有し、切削工具システム1000と同様の切削工具システムを用い、カッター1120と同様のカッターを用いてパターン形成されたロールを作製した後、該パターン形成された工具を微小複製して艶消し層140と同様の艶消し層を形成することによって作製した。試料Bは約95.2%の光学的透過率、約3.28%の光学的ヘイズ値、及び約78%の光学的透明度を有し、試料Cは約94.9%の光学的透過率、約2.12%の光学的ヘイズ値、及び約86.1%の光学的透明度を有し、試料Dは約94.6%の光学的透過率、約1.71%の光学的ヘイズ値、及び約84.8%の光学的透明度を有していた。更に、R1〜R6とした6個の比較用試料の特性評価を行った。試料R1〜R3は艶消し層860と同様のものであり、結合剤中に分散された複数の大きなビーズを含み、艶消し面は主としてこのビーズの故に形成されたものである。試料R1は約17.8%の光学的ヘイズ値及び約48.5%の光学的透明度を有し、試料R2(大日本印刷株式会社より販売)は約32.2%の光学的ヘイズ値及び約67.2%の光学的透明度を有し、試料R3は約4.7%の光学的ヘイズ値及び約73.3%の光学的透明度を有していた。試料R4はエンボス加工されたポリカーボネートフィルムであり(恵和株式会社(大阪)より販売)、約23.2%の光学的ヘイズ値及び約39.5%の光学的透明度を有していた。
図27は、試料A〜D及びR1〜R4の累積傾き分布率(%)S(θ)である。試料A〜Dのそれぞれが艶消し層140と同様であり、構造化主面120と同様の構造化主面を有していた。図27から明らかなように、試料A〜Dのすべて、又は少なくとも一部の構造化主面の約7%、又は約6.5%、又は約6%、又は約5.5%、又は約5%、又は約4.5%、又は約4%、又は約3.5%、又は約3%以下が約3.5°よりも大きな傾きの大きさを有していた。更に、試料A〜Dのすべて、又は少なくとも一部の構造化主面の約4%、又は約3.5%、又は約3%、又は約2.5%、又は約2%、又は約1.5%、又は約1%、又は約0.9%、又は約0.8%以下が約5°よりも大きな累積の傾きの大きさを有していた。
再び図1を参照すると、液晶ディスプレイにおけるような光学システムで使用される場合、光再偏向フィルム100はディスプレイの光学的及び/又は物理的欠陥を隠す、あるいはマスクし、ディスプレイの輝度を高めることが可能である。ある場合には、光再偏向フィルム100の平均有効透過率は、平滑な第2の主面120を有する以外は光再偏向フィルム100と同じ構造を有する光再偏向フィルムと比較して、約2%以下、又は約1.5%以下、又は約1%以下、又は約0.75%以下、又は約0.5%以下だけ小さい。ある場合には、光再偏向フィルムの平均有効透過率は、平滑な第2の主面を有する以外は同じ構造を有する光再偏向フィルムと比較して、約0.2%、又は約0.3%、又は約0.4%、又は約0.5%、又は約1%、又は約1.5%、又は約2%以上大きい。一例として、光再偏向フィルム100と同様の光再偏向フィルムを作製した。直線プリズム150は約24μmのピッチ、約90°の頂角152、及び約1.65の屈折率を有していた。第2の主面120は、約1.5%の光学的ヘイズ値及び約83%の光学的透明度を有していた。光再偏向フィルムは約1.803の平均有効透過率を有していた。比較として、平滑な第2の主面を有する以外は同じ構造(材料組成を含む)を有する同様の光再偏向フィルムは約1.813の平均有効透過率を有していた。
別の例として、光再偏向フィルム100と同様の光再偏向フィルムを作製した。微小構造160を、カッターチップ1115の半径が約3300μmであるカッター1110と同様のカッターによって切削した工具から複製することによって形成した。直線プリズム150は、約24μmのピッチ、約90°の頂角152、及び約1.567の屈折率を有していた。第2の主面120は、約1.71%の光学的ヘイズ値及び約84.8%の光学的透明度を有していた。光再偏向フィルムは約1.633の平均有効透過率を有していた。比較として、平滑な第2の主面を有する以外は同じ構造(材料組成を含む)を有する同様の光再偏向フィルムは約1.626の平均有効透過率を有していた。したがって、構造化された第2の主面120によって平均有効透過率が約0.43%増大することにより更なる利得が与えられた。
別の例として、光再偏向フィルム100と同様の光再偏向フィルムを作製した。微小構造160を、カッターチップ1115の半径が約4400μmであるカッター1110と同様のカッターによって切削した工具から複製することによって形成した。直線プリズム150は、約24μmのピッチ、約90°の頂角152、及び約1.567の屈折率を有していた。第2の主面120は、約1.49%の光学的ヘイズ値及び約82.7%の光学的透明度を有していた。光再偏向フィルムは約1.583の平均有効透過率を有していた。比較として、平滑な第2の主面を有する以外は同じ構造(材料組成を含む)を有する同様の光再偏向フィルムは約1.578の平均有効透過率を有していた。したがって、構造化された第2の主面120によって平均有効透過率が約0.32%増大することにより更なる利得が与えられた。
更に別の例として、光再偏向フィルム100と同様の光再偏向フィルムを作製した。微小構造160を、カッターチップ1115の半径が約3300μmであるカッター1110と同様のカッターによって切削した工具から複製することによって作製した。直線プリズム150は、約24μmのピッチ、約90°の頂角152、及び約1.567の屈折率を有していた。第2の主面120は、約1.35%の光学的ヘイズ値及び約85.7%の光学的透明度を有していた。光再偏向フィルムは約1.631の平均有効透過率を有していた。比較として、平滑な第2の主面を有する以外は同じ構造(材料組成を含む)を有する同様の光再偏向フィルムは約1.593の平均有効透過率を有していた。したがって、構造化された第2の主面120によって平均有効透過率が約2.38%増大することにより更なる利得が与えられた。
基材層170は、誘電体、半導体、又は金属などのある用途に適した任意の材料であるか、あるいはこうした材料を含み得る。例えば、基材層170はガラス、並びにポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート、及びアクリル樹脂などのポリマーを含むか、あるいはこれらで形成することができる。基材170は剛性又は可撓性のものであってよい。基材170は、ある用途において望ましい任意の厚さ及び/又は屈折率を有してよい。例えば、ある場合には、基材層170はPETであってよく、約50μm又は約175μmの厚さを有し得る。
図28は、第2の光再偏向フィルム2855上に配置された第1の光再偏向フィルム2805を有する光学積層体2800の概略側面図である。これらの光再偏向フィルムの一方又は両方を光再偏向フィルム100と同様のものとすることができる。第1の光再偏向フィルム2805は、第1の主面2810及び反対側の第2の主面2815を有している。第1の主面はY方向に沿って延びる第1の複数の微小構造2820を有し、第2の主面は第2の複数の微小構造2825を有している。第2の光再偏向フィルム2855は、第3の主面2860及び反対側の第4の主面2865を有している。第3の主面2860は第1の光再偏向フィルムの第2の主面2815に面し、例えばX方向などのY方向とは異なる方向に沿って延びる第3の複数の微小構造2870を有している。第4の主面2865は第4の複数の微小構造2875を有している。
ある場合には、第1の光再偏向フィルム2805は第2の主面2815を含む艶消し層2880を有する。同様にある場合には、第2の光再偏向フィルム2855は第4の主面2865を含む艶消し層2885を有する。
光学積層体2800が液晶ディスプレイのバックライトに含まれる場合のような、ある場合には、直線状の微小構造2820及び/又は2870によってモアレが生じ得る。ある場合には、これら2つの光再偏向フィルム、特に上側の光再偏向フィルムによって色ムラが生じ得る。色ムラは、光再偏向フィルム100の屈折率分散による。一次色ムラは光再偏向フィルムの視野角限界付近において通常視認され、より高次の色ムラはより大きな角度において通常視認される。主面2815及び2865が充分に低い光学的ヘイズ値及び透明度を有するような、ある場合には、光学積層体はディスプレイの輝度を大幅に低減させることなくモアレ及び色ムラを効果的にマスク又は防止することができる。このような場合では、第2及び第4の主面のそれぞれが、約5%以下、又は4.5約%以下、又は約4%以下、又は約3.5%以下、又は約3%以下、又は約2.5%以下、又は約2%以下、又は約%1.5以下、又は約1%以下の光学的ヘイズ値を有し、更に第2及び第4の主面のそれぞれが、約85%以下、又は約80%以下、又は約75%以下、又は約70%以下、又は約65%以下、又は約%60以下の光学的透明度を有する。
光学積層体2800がディスプレイシステムにおいて輝度を高める目的で使用されるような、ある場合には、光学積層体の平均有効透過率(ETA)は約2.4以上、又は約2.45以上、又は約2.5以上、又は約2.55以上、又は約2.6以上、又は約2.65以上、又は約2.7以上、又は約2.75以上、又は約2.8以上である。ある場合には、光学積層体2800の平均有効透過率は、平滑な第2及び第4の主面を有する以外は同じ構造(材料組成を含む)を有する光学積層体と比較して、約1%、又は約0.75%、又は約0.5%、又は約0.25%以下、又は約0.1%以下だけ小さい。ある場合には、光学積層体2800の平均有効透過率は、平滑な第2及び第4の主面を有する以外は同じ構造を有する光学積層体と比較してその平均有効透過率よりも低くなることはない。ある場合には、光学積層体2800の平均有効透過率は、平滑な第2及び第4の主面を有する以外は同じ構造(材料組成を含む)を有する光学積層体と比較して、少なくとも約0.1%、又は約0.2%、又は約0.3%だけ大きい。一例として、光学積層体2800と同様の、約2.773の平均有効透過率を有する、光学積層体を作製した。それぞれ第2の主面2815及び第4の主面2865はいずれも、約1.5%の光学的ヘイズ値、及び約83%の光学的透明度を有していた。直線プリズムは約1.65の屈折率を有していた。比較として、平滑な第2及び第4の主面を有する以外は同じ構造を有する光学積層体は、約2.763の平均有効透過率を有していた。したがって、構造化された下側の主面2815及び2865によって平均有効透過率が約0.36%増大することにより更なる利得が与えられた。
別の例として、光学積層体2800と同様の、約2.556の平均有効透過率を有する光学積層体を作製した。それぞれ第2主面2815及び第4の主面2865はいずれも、約1.29%の光学的ヘイズ値、及び約86.4%の光学的透明度を有していた。直線プリズムは約24μmのピッチ、約90°の頂角152、及び約1.567の屈折率を有していた。比較として、平滑な第2及び第4の主面を有する以外は同じ構造を有する同様の光学積層体は、約2.552の平均有効透過率を有していた。したがって、構造化された下側の主面2815及び2865によって平均有効透過率が約0.16%増大することにより更なる利得が与えられた。
更に別の例として、光学積層体2800と同様の、約2.415の平均有効透過率を有する光学積層体を作製した。それぞれの第2の主面2815及び第4の主面2865はいずれも、約1.32%の光学的ヘイズ値、及び約84.8%の光学的透明度を有していた。直線プリズムは約24μmのピッチ、約90°の頂角152、及び約1.567の屈折率を有していた。比較として、平滑な第2及び第4の主面を有する以外は同じ構造を有する光学積層体は、約2.404の平均有効透過率を有していた。したがって、構造化された下側の主面2815及び2865によって平均有効透過率が約0.46%増大することにより更なる利得が与えられた。
図29は、観測者2999に対して情報を表示するためのディスプレイシステム2900の概略側面図である。ディスプレイシステムは、バックライト2920上に配置され、バックライト2920によって照明される液晶パネル2910を有している。液晶パネル2910は、直線状の光吸収偏光子2935と2940との間に配置された液晶セル2930を有している。ディスプレイシステム2900が観測者2999に対して画像を表示する場合のような、ある場合には、液晶パネル2910はピクセル化することができる。
バックライト2920は、サイドリフレクタ2995内に収容されたランプ2990からライトガイドのエッジを通じて光を受光するライトガイド2970、バックリフレクタに入射する光を観測者2999の方向に反射するためのバックリフレクタ2980、ライトガイドの発光面2975から出射する光2985を均質化するための光学的ディフューザ2960、及び、光学的ディフューザと反射偏光子2950との間に配置された図28の光学積層体2800を有している。
光学積層体2800は光再偏向フィルム2805及び2855を有している。ある場合には、2つの光再偏向フィルムの直線プリズムは互いに対して直角な方向に向けられる。例えば、直線プリズム2820がY方向に沿って延び、直線プリズム2870がX方向に沿った方向に向くようにすることができる。微小構造2825及び2875はライトガイド2970に面しており、プリズム状の微小構造2820及び2870はライトガイドから遠ざかる方向に面している。
光学積層体2800によって、ディスプレイシステムの例えば軸上輝度などの輝度が高められる。同時に、光学積層体の第2の主面2815及び第4の主面2865はいずれも、スクラッチなどの物理的欠陥をマスクし、かつ/又はモアレ及び色ムラなどの光学的欠陥を隠すうえで充分に低い光学的透明度を有している。
反射偏光子2950は、2つの偏光状態が互いに直交している場合、第1の偏光状態を有する光をほぼ反射し、第2の偏光状態を有する光をほぼ透過する。例えば、可視光領域で反射偏光子によってほぼ反射される偏光状態における反射偏光子2950の平均反射率は、少なくとも約50%、又は少なくとも約60%、又は少なくとも約70%、又は少なくとも約80%、又は少なくとも約90%、又は少なくとも約95%である。別の例として、可視光領域で反射偏光子によってほぼ透過される偏光状態における反射偏光子2950の平均反射率は、少なくとも約50%、又は少なくとも約60%、又は少なくとも約70%、又は少なくとも約80%、又は少なくとも約90%、又は少なくとも約95%、又は少なくとも約97%、又は少なくとも約98%、又は少なくとも約99%である。ある場合には、反射偏光子2950は第1の直線偏光状態(例えばX方向に沿った)を有する光をほぼ反射し、第2の直線偏光状態(例えばY方向に沿った)を有する光をほぼ透過する。
例えば多層光学フィルム(MOF)型反射偏光子、スリー・エム社(3M Company)(ミネソタ州セントポール)より販売されるVikuiti(商標)Diffuse Reflective Polarizerフィルム(「DRPF」)などの連続層及び分散層を有する拡散反射性偏光フィルム(DRPF)、例えば米国特許第6,719,426号に述べられるワイアグリッド反射偏光子、又はコレステリック反射偏光子などの、任意の適当な種類の反射偏光子を反射偏光層2950において使用することが可能である。
例えばある場合には、反射偏光子2950は、異なるポリマー材料の交互の層で形成されたMOF反射偏光子であるか、又はこれを含んだものでよく、ただし、交互の層の組の1層は複屈折材料で形成され、異なる材料の屈折率が1つの直線偏光状態で偏光された光に対して一致させられ、直交する直線偏光状態の光に対しては一致させられていない。このような場合、一致させられた偏光状態にある入射光は反射偏光子2950をほぼ透過し、一致させられていない偏光状態にある入射光は反射偏光子2950によってほぼ反射される。ある場合には、MOF反射偏光子2950は無機誘電体層の積層体を含んでもよい。
別の例として、反射偏光子2950は、透過状態において中間的な軸上平均反射率を有する部分反射層であるか、又はこれを含んでもよい。例えば、部分反射層は例えばXY平面などの第1の平面内に偏光された可視光線に対して少なくとも約90%の軸上平均反射率を、第1の平面に垂直な例えばXZ平面などの第2の平面内に偏光された可視光線に対して約25%〜約90%の範囲の軸上平均反射率を有し得る。このような部分反射層は、例えば米国特許出願公開第2008/064133号に述べられており、その開示内容をその全容にわたって本明細書に援用するものである。
ある場合には、反射偏光子2950は円形反射偏光子であるか、又はこれを含んでもよく、時計回り又は反時計回りの方向であってよい一方向に円偏光(右又は左円偏光とも呼ばれる)された光を選択的に透過し、逆方向に偏光された光を選択的に反射する。円偏光子の1つのタイプとして、コレステリック液晶偏光子がある。
ある場合には、反射偏光子2950は、例えば、いずれも本明細書にその全容を援用する、2009年11月19日出願の米国仮特許出願第61/116132号、2008年11月19日出願の米国仮特許出願第61/116291号、2008年11月19日出願の米国仮特許出願第61/116294号、2008年11月19日出願の米国仮特許出願第61/116295号、2008年11月19日出願の米国仮特許出願第61/116295号、及び、200年4月15日出願の米国仮特許出願第60/939085号に基づく優先権を主張する2008年5月19日出願の国際特許出願第PCT/US 2008/060311号に述べられるものなどの、光学的干渉によって光を反射又は透過する多層光学フィルムであってよい。
光学的ディフューザ2960は、ランプ2990を隠す、あるいはマスクし、ライトガイド2970によって放射された光2985を均質化するという、主たる機能を有する。光学的ディフューザ2960は、高い光学的ヘイズ値及び/又は高い光学的拡散反射率を有する。例えばある場合には、光学的ディフューザの光学的ヘイズ値は、約40%以上、又は約50%以上、又は約60%以上、又は約70%以上、又は約80%以上、又は約85%以上、又は約90%以上、又は約95%以上である。別の例として、光学的ディフューザの光学的拡散反射率は、約30%以上、又は約40%以上、又は約50%以上、又は約60%以上である。
光学的ディフューザ2960はある用途において望ましい、かつ/又は利用可能な任意の光学的ディフューザであるか、又はこれを含むものでよい。例えば光学的ディフューザ2960は、表面ディフューザ、容積ディフューザ、又はこれらの組み合わせであるか、又はこれらを含むものでよい。例えば光学的ディフューザ2960は、異なる屈折率nを有する結合剤又はホスト媒質中に分散された第1の屈折率nを有する複数の粒子を含んでもよく、その場合、2つの屈折率の差は少なくとも約0.01、又は少なくとも約0.02、又は少なくとも約0.03、又は少なくとも約0.04、又は少なくとも約0.05である。
バックリフレクタ2980は、負のZ方向に沿って観測者2999から遠ざかる方向にライトガイドによって放射される光を受光し、受光した光を観測者の方向に反射する。ランプ2990がライトガイドのエッジに沿って配置されたディスプレイシステム2900のようなディスプレイシステムは、一般的にエッジライト型又はバックライト型ディスプレイ又は光学システムと呼ばれる。ある場合には、バックリフレクタは部分的に反射性かつ部分的に透過性であってよい。ある場合には、バックリフレクタは例えば構造化表面を有するように構造化することができる。
バックリフレクタ2980は、ある適用において望ましい、かつ/又は実用的な任意の種類のリフレクタであってよい。例えばバックリフレクタは、いずれも本明細書にその全容を援用する、2007年5月20日出願の米国仮特許出願第60/939085号に基づく優先権を主張する2008年5月19日出願の国際特許出願第PCT/US 2008/064115号に開示されるような鏡面反射リフレクタ、半鏡面反射リフレクタ若しくは半拡散リフレクタ、又は拡散リフレクタであってよい。例えばリフレクタは、アルミニウム化フィルム、又は高鏡面反射リフレクタ(ESR)フィルム(スリー・エム社(3M Company)(ミネソタ州セントポール))などの多層ポリマー反射フィルムであってよい。別の例として、バックリフレクタ2980は白い外観を有する拡散リフレクタとすることができる。
本明細書で使用するところの「垂直」、「水平」、「上方」、「下方」、「左」、「右」、「上側」及び「下側」、「時計回り」及び「反時計回り」などの用語、並びに他の同様の用語は、図に示される相対的な位置を示す。一般的には、物理的な実施形態は異なる向きを有し得るものであり、その場合、上記の用語は、装置の実際の向きに修正された相対位置を示すものである。例えば図1の画像が図の向きと比較して反転されたとしても、第1の主面110は依然、上側の主面とみなされる。
上記に引用したすべての特許、特許出願及び他の刊行物を、それらがあたかも完全に再現されたものとして本明細書に援用するものである。本発明の異なる態様の説明を助けるため、本発明の具体的な実施例を上記に詳しく述べたが、その意図するところは、本発明を実施例の細部に限定しようとするものではない点は理解されるべきである。むしろその意図するところは、添付の「特許請求の範囲」によって規定されるように、本発明の趣旨及び範囲に含まれるすべての変形例、実施形態及び代替例を網羅しようとするものである。

Claims (81)

  1. 第1の方向に沿って延びる複数の第1の微小構造を有する第1の主面と、
    複数の第2の微小構造を有する、第1の主面とは反対側の第2の主面であって、約3%以下の光学的ヘイズ値、及び約85%以下の光学的透明度を有する第2の主面と、を備え、約1.75以上の平均有効透過率を有する光再偏向フィルム。
  2. 前記複数の第1の微小構造が、前記第1の方向に沿って延びる複数の直線プリズムを含む、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  3. 前記複数の第1の微小構造のうちのある微小構造の最大の高さが、該複数の第1の微小構造のうちの別の微小構造の最大の高さと異なる、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  4. 前記複数の第1の微小構造のうちの、ある微小構造の高さが前記第1の方向に沿って変化する、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  5. 前記複数の第2の微小構造が複数の突起部を含む、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  6. 前記複数の第2の微小構造が複数の凹部を含む、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  7. 前記複数の第2の微小構造が前記第2の主面の少なくとも約80%を覆う、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  8. 前記複数の第2の微小構造が前記第2の主面の少なくとも約85%を覆う、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  9. 前記複数の第2の微小構造が前記第2の主面の少なくとも約90%を覆う、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  10. 前記複数の第2の微小構造が前記第2の主面の少なくとも約95%を覆う、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  11. 前記複数の第2の微小構造が規則的なパターンを形成する、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  12. 前記複数の第2の微小構造が不規則なパターンを形成する、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  13. 前記第2の主面の約7%以下が、約3.5°よりも大きい傾きの大きさを有する、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  14. 前記第2の主面の約5%以下が、約3.5°よりも大きい傾きの大きさを有する、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  15. 前記第2の主面の約3%以下が、約3.5°よりも大きい傾きの大きさを有する、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  16. 前記第2の主面の約4%以下が、約5°よりも大きい傾きの大きさを有する、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  17. 前記第2の主面の約2%以下が、約5°よりも大きい傾きの大きさを有する、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  18. 前記第2の主面の約1%以下が、約5°よりも大きい傾きの大きさを有する、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  19. 前記第2の主面が約2.5%以下の光学的ヘイズ値を有する、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  20. 前記第2の主面が約2%以下の光学的ヘイズ値を有する、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  21. 前記第2の主面が約1.5%以下の光学的ヘイズ値を有する、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  22. 前記第2の主面が約1%以下の光学的ヘイズ値を有する、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  23. 前記第2の主面が約80%以下の光学的透明度を有する、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  24. 前記第2の主面が約75%以下の光学的透明度を有する、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  25. 前記第2の主面が約70%以下の光学的透明度を有する、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  26. 光再偏向フィルムの前記平均有効透過率が約1.80以上である、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  27. 光再偏向フィルムの前記平均有効透過率が約1.85以上である、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  28. 前記第2の微小構造の相当の割合が、約0.5μmよりも大きい平均サイズを有する粒子上に配置されていない、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  29. 約0.5μmよりも大きい平均サイズを有する粒子を含まない、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  30. 約0.2μm以下の平均サイズを有する複数の粒子を含む、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  31. 約0.1μm以下の平均サイズを有する複数の粒子を含む、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  32. 前記複数の第2の微小構造の平均の高さが約3μm以下である、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  33. 前記複数の第2の微小構造の平均の高さが約2μm以下である、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  34. 前記複数の第2の微小構造の平均の高さが約1μm以下である、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  35. 前記複数の第2の微小構造の微小構造が、約6°以下の半値半幅(HWHM)を有する傾き分布を有する、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  36. 前記複数の第2の微小構造の微小構造が、約5°以下の半値半幅(HWHM)を有する傾き分布を有する、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  37. 前記複数の第2の微小構造の微小構造が、約4°以下の半値半幅(HWHM)を有する傾き分布を有する、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  38. 互いに反対側となる第1及び第2の主面を有する基材層と、
    前記基材層の前記第1の主面上に配置され、前記光再偏向フィルムの前記第1の主面を含む第1の層と、
    前記基材層の前記第2の主面上に配置され、前記光再偏向フィルムの前記第2の主面を含む艶消し層と、を備える、請求項1に記載の光再偏向フィルム。
  39. 前記第1の層が約1.5以上の屈折率を有する、請求項38に記載の光再偏向フィルム。
  40. 前記第1の層が約1.55以上の屈折率を有する、請求項38に記載の光再偏向フィルム。
  41. 前記第1の層が約1.6以上の屈折率を有する、請求項38に記載の光再偏向フィルム。
  42. 前記第1の層が約1.65以上の屈折率を有する、請求項38に記載の光再偏向フィルム。
  43. 前記第1の層が約1.7以上の屈折率を有する、請求項38に記載の光再偏向フィルム。
  44. 前記第1の層が約1.5〜約1.8の範囲の屈折率を有する、請求項38に記載の光再偏向フィルム。
  45. 前記艶消し層が約1.4以上の屈折率を有する、請求項38に記載の光再偏向フィルム。
  46. 前記艶消し層が約1.5以上の屈折率を有する、請求項38に記載の光再偏向フィルム。
  47. 前記艶消し層が約1.4〜約1.6の範囲の屈折率を有する、請求項38に記載の光再偏向フィルム。
  48. 前記艶消し層が、前記複数の第2の微小構造の平均サイズよりも少なくとも5倍小さい平均サイズを有する複数の粒子を含む、請求項38に記載の光再偏向フィルム。
  49. 前記複数の粒子が、前記複数の第2の微小構造の平均サイズよりも少なくとも10倍小さい平均サイズを有する、請求項48に記載の光再偏向フィルム。
  50. 前記艶消し層が粒子を含む場合、前記艶消し層の平均の厚さが前記粒子の平均サイズよりも少なくとも2μm大きい、請求項38に記載の光再偏向フィルム。
  51. 前記艶消し層が粒子を含む場合、艶消し層の平均の厚さが前記粒子の平均サイズよりも少なくとも2倍大きい、請求項38に記載の光再偏向フィルム。
  52. 前記第2の主面が第2の主面を横切るある傾き分布を有し、該傾き分布が約4°以下の半値半幅(HWHM)を有する、請求項38に記載の光再偏向フィルム。
  53. 前記HWHMが約3.5°以下である、請求項52に記載の光再偏向フィルム。
  54. 前記HWHMが約3°以下である、請求項52に記載の光再偏向フィルム。
  55. 前記HWHMが約2.5°以下である、請求項52に記載の光再偏向フィルム。
  56. 前記HWHMが約2°以下である、請求項52に記載の光再偏向フィルム。
  57. 光源と、
    前記光源からの光を受光する請求項1に記載の第1の光再偏向フィルムと、
    前記第1の光再偏向フィルム上に配置された請求項1に記載の第2の光再偏向フィルムと、を備え、前記第1の光再偏向フィルムの前記第1の方向が前記第2の光再偏向フィルムの前記第1の方向と異なる、バックライト。
  58. 前記第1及び第2の光再偏向フィルムのそれぞれの第2の主面が前記光源に面し、前記第1及び第2の光再偏向フィルムのそれぞれの第1の主面が前記光源から遠ざかる方向に面している、請求項57に記載のバックライト。
  59. 光再偏向フィルムであって、
    複数の直線状微小構造を有する第1の主面と、
    複数の第2の微小構造を有する、前記第1の主面と反対側の第2の主面であって、約3%以下の光学的ヘイズ値及び約85%以下の光学的透明度を有する第2の主面と、を備え、前記光再偏向フィルムの平均有効透過率が、平滑な第2の主面を有する以外は同じ構造を有する光再偏向フィルムと比較してその平均有効透過率以上であるか、又はその平均有効透過率よりも約1.5%以下だけ小さい、光再偏向フィルム。
  60. 平滑な第2の主面を有する以外は同じ構造を有する光再偏向フィルムと比較してその平均有効透過率よりも約1%以下だけ小さい平均有効透過率を有する、請求項59に記載の光再偏向フィルム。
  61. 前記複数の第2の微小構造が幾何学的対称性及び非対称的な傾き分布を有する、請求項59に記載の光再偏向フィルム。
  62. 前記複数の第2の微小構造が幾何学的非対称性及び対称的な傾き分布を有する、請求項59に記載の光再偏向フィルム。
  63. 光学積層体であって、
    第1の主面と、反対側の第2の主面と、を有する第1の光再偏向フィルムであって、前記第1の主面が第1の方向に沿って延びる第1の複数の微小構造を有し、前記第2の主面が第2の複数の微小構造を有する、第1の光再偏向フィルムと、
    第3の主面と、反対側の第4の主面と、を有する第2の光再偏向フィルムであって、前記第3の主面が前記第1の光再偏向フィルムの前記第2の主面に面するとともに前記第1の方向と異なる第2の方向に沿って延びる第3の複数の微小構造を有し、前記第4の主面が第4の複数の微小構造を有する、第2の光再偏向フィルムと、を備え、
    前記第2及び第4の主面のそれぞれが、約3%以下の光学的ヘイズ値及び約85%以下の光学的透明度を有する、光学積層体。
  64. 前記第2及び第4の主面のそれぞれが約2.5%以下の光学的ヘイズ値を有する、請求項63に記載の光学積層体。
  65. 前記第2及び第4の主面のそれぞれが約2%以下の光学的ヘイズ値を有する、請求項63に記載の光学積層体。
  66. 前記第2及び第4の主面のそれぞれが約1.5%以下の光学的ヘイズ値を有する、請求項63に記載の光学積層体。
  67. 前記第2及び第4の主面のそれぞれが約1%以下の光学的ヘイズ値を有する、請求項63に記載の光学積層体。
  68. 前記第2及び第4の主面のそれぞれが約80%以下の光学的透明度を有する、請求項63に記載の光学積層体。
  69. 前記第2及び第4の主面のそれぞれが約75%以下の光学的透明度を有する、請求項63に記載の光学積層体。
  70. 前記第2及び第4の主面のそれぞれが約70%以下の光学的透明度を有する、請求項63に記載の光学積層体。
  71. 約2.5以上の平均有効透過率を有する、請求項63に記載の光学積層体。
  72. 約2.6以上の平均有効透過率を有する、請求項63に記載の光学積層体。
  73. 約2.7以上の平均有効透過率を有する、請求項63に記載の光学積層体。
  74. 光学積層体であって、
    第1の主面と、反対側の第2の主面と、を有する第1の光再偏向フィルムであって、前記第1の主面が第1の方向に沿って延びる第1の複数の微小構造を有する、第1の光再偏向フィルムと、
    第3の主面と、反対側の第4の主面とを有する第2の光再偏向フィルムであって、前記第3の主面が前記第1の光再偏向フィルムの前記第2の主面に面するとともに前記第1の方向と異なる第2の方向に沿って延びる第3の複数の微小構造を有する第2の光再偏向フィルムと、を備え、前記第2及び第4の主面のそれぞれが、約3%以下の光学的ヘイズ値及び約85%以下の光学的透明度を有し、光学積層体の平均有効透過率が、平滑な第2及び第4の主面を有する以外は同じ構造を有する光学積層体と比較してその平均有効透過率以上であるか、又はその平均有効透過率よりも約1%以下だけ小さい、光学積層体。
  75. 平滑な第2及び第4の主面を有する以外は同じ構造を有する光学積層体と比較してその平均有効透過率よりも約0.5%以下だけ小さい平均有効透過率を有する、請求項74に記載の光学積層体。
  76. 平滑な第2及び第4の主面を有する以外は同じ構造を有する光学積層体と比較してその平均有効透過率よりも約0.25%以下だけ小さい平均有効透過率を有する、請求項74に記載の光学積層体。
  77. 平滑な第2及び第4の主面を有する以外は同じ構造を有する光学積層体と比較してその平均有効透過率以上である平均有効透過率を有する、請求項74に記載の光学積層体。
  78. 幾何学的対称性及び非対称的な傾き分布を有する構造化主面を有する光学フィルム。
  79. 約3%以下の光学的ヘイズ値及び約85%以下の光学的透明度を有する、請求項78に記載の光学フィルム。
  80. 幾何学的非対称性及び対称的な傾き分布を有する構造化主面を有する光学フィルム。
  81. 約3%以下の光学的ヘイズ値及び約85%以下の光学的透明度を有する、請求項80に記載の光学フィルム。
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