JP2012509572A5 - - Google Patents

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[00043] マスクMAと一致する対物面における照明の非均一性を減少するために、瞳ラスタ素子150に対するフィールドラスタ素子110の割り当ては、180によって図2に示す割り当てとは異なりうる。
[00066] 図4に示すように、ディテクタ301の第1の光学面S1は、中間集光点IFを、PFMフレーム、すなわち第2の光学面S2上に配置される2D PDS325上に結像する複数のミラー320を含む。このようにすると、(コレクタに対する)プラズマXおよびY位置決め、および剛体XおよびY位置決めによって決定される、中間集光点IFにおける光分布のXおよびY位置を測定することが可能となる。中間集光点IF周りの放射源モジュールSOの回転は、この回転下ではミラー320を横断する光線の経路が変化しないので検出されない。結果として、第2の分岐310を用いることによって、剛体XおよびY移動と、剛体RyおよびRx移動とを区別することができる。この第2の分岐310を用いて剛体XおよびY自由度に応じた変位の測定を行うために、1対のミラー‐PSDのみの使用で十分でありうる。ここでは、ミラー‐PSD対とは、ミラーと、その上にミラーが中間集光点IFの像を投影するPSDとから構成される対である。プラズマXおよびY位置も、少なくとも1つの追加のミラー‐PSD対が用いられる場合に求めることができる。この場合、これらの2対は、図6に示すように垂直に向けられることが望ましい。図6は、このような2つのミラー‐PSD対を示し、それぞれ、ミラー320aと2D PSD325a、および、ミラー320bと2D PSD325bから構成される。図6に示すようなディテクタの配置によって、プラズマXおよびY変位を測定する代替の方法を可能にする。
[00073] 2つのセンサが同じ像シフトを検出しない場合、このことはプラズマが移動したことを示す。既知の倍率を用いて、プラズマ移動(方向および大きさ)を計算することができる。この原理を図8a及び図8bに示し、また、この原理は1つのミラー‐PSD対がYZ面内にあり、別のミラー‐PSD対がXZ面にあると想定する。あらゆる他の直交する向きでは、サジタル移動およびメリジオナル移動への同様の分解を行うことができることは理解されよう。図6を参照すると、ミラー320a(簡単にするためだけにレンズとして概略的に示す)および2D PSD325aは共にYZ面内にあるミラー‐PSD対を形成し、また、同様に、対のミラー320b‐2D PSD325bは共にXZ面内にあるミラー‐PSD対を形成する。2D PSD325aはYセンサと呼ばれ、2D PSD325bはXセンサと呼ばれる。図6に加えて、図8は、本発明の一実施形態にしたがって、剛体移動とプラズマ移動とを区別するために2つの直交するセンサ‐ミラー対を用いる検出スキームを概略的に示す。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL2003192A1 (nl) * 2008-07-30 2010-02-02 Asml Netherlands Bv Alignment of collector device in lithographic apparatus.
NL2009372A (en) * 2011-09-28 2013-04-02 Asml Netherlands Bv Methods to control euv exposure dose and euv lithographic methods and apparatus using such methods.
KR20180104022A (ko) * 2016-01-18 2018-09-19 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 빔 측정 시스템, 리소그래피 시스템, 및 방법
DE102017212534A1 (de) * 2017-07-21 2019-01-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System, Lithographieanlage, Verfahren zum Herstellen eines optischen Systems sowie Verfahren zum Austauschen eines Moduls
DE102020200158A1 (de) * 2020-01-09 2021-07-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie
DE102020212229B3 (de) * 2020-09-29 2022-01-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Blenden-Vorrichtung zur Begrenzung eines Strahlengangs zwischen einer Lichtquelle und einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000100685A (ja) * 1998-09-17 2000-04-07 Nikon Corp 露光装置及び該装置を用いた露光方法
WO2004031854A2 (de) * 2002-09-30 2004-04-15 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem für eine wellenlänge ≤ 193 nm mit sensoren zur bestimmung der ausleuchtung
US7113261B2 (en) 2004-06-08 2006-09-26 Asml Netherlands B.V. Radiation system, lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby
US7098466B2 (en) * 2004-06-30 2006-08-29 Intel Corporation Adjustable illumination source
KR101370203B1 (ko) * 2005-11-10 2014-03-05 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 광원의 요동을 측정하기 위한 시스템을 구비한 euv 조명시스템

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