JP2012234827A - 粒子光学部品 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数の一次電子ビームレットの焦点を形成する粒子光学部品605に於いて、第1の多孔プレート613と第2の多孔プレート614の複数の対応する開孔が互いに整列配置されており、第1の開孔615の位置における第1の幅W1を第2の開孔615’の位置における第2の幅W2よりも少なくとも5%大きく形成する。
【選択図】図6
Description
複数の開孔を有する第1の多孔プレートと、複数の開孔を有し、前記第1の多孔プレートとの間に間隙が形成されるように前記第1の多孔プレートから離間した第2の多孔プレートとを備え、
前記第1の多孔プレートの前記複数の開孔は、前記第1の多孔プレートの前記複数の開孔の各開孔が、前記第2の多孔プレートの前記複数の開孔の対応する開孔と整列されるように配置され、
前記第1の多孔プレートの前記複数の開孔の第1の開孔の位置における前記間隙の第1の幅は、前記第1の多孔プレートの前記複数の開孔の第2の開孔の位置における前記間隙の第2の幅よりも少なくとも5%だけ大きいことを特徴とする粒子光学部品を提供する。
尚、本発明の粒子光学部品は、補正装置のみとして用いてもよいし、又は、システム全体における位置や、上流側及び下流側の電場又は磁場の有無及び形態等によっては、同部品のビームレット生成特性及び/又は集束特性と組み合わせて用いてもよい。
式中、
Pは、第1の多孔プレートのピッチ、すなわち、隣接する開孔の中心間の距離をmm単位で示し、
Nは、開孔パターンの中心から数えられ、絶対値が当該中心からの距離が増加するにしたがって増加する開孔数を示しているので、
(P×|N|)は、開孔パターンの中心からの開孔Nの距離をmm単位で示している。
少なくとも1つの開孔を有する検査用開孔プレートを、複数の開孔を含む多孔部品に対して第1の位置に、前記第1の位置において前記検査用開孔プレートの第1の組の開孔が前記多孔の第1の組の開孔と整列されるように配置する工程であって、前記それぞれの組の開孔が、それぞれ少なくとも1つの開孔を有する、工程と、
一組の荷電粒子ビームレットを、前記検査用開孔プレートの前記第1の組の開孔及びそれと整列された前記多孔部品の前記第1の組の開孔に透過させる工程と、
所定の平面における前記透過ビームレットの位置、形状及び寸法、並びに、前記透過ビームレットの合計強度又は個々の強度のうちの少なくとも1つを求める工程と、
前記検査用開孔プレートの前記第1の組の開孔が前記多孔部品の第2の組の開孔と整列されるように、前記検査用開孔プレートを前記多孔部品に対して第2の位置に配置する工程と、
一組の荷電粒子ビームレットを、前記検査用開孔プレートの前記第1の組の開孔及びそれと整列された前記多孔部品の前記第2の組の開孔に透過させる工程と、
前記所定の平面における前記透過ビームレットの位置、形状及び寸法、並びに、前記透過ビームレットの合計強度又は個々の強度のうちの少なくとも1つを求める工程とを含むことを特徴とする方法を提供する。
式中、
Ekinは、多孔プレートにおける荷電粒子の運動エネルギーであり、
qは、荷電粒子の電荷であり、
ΔEは、多孔プレートの上流側の電場と下流側の電場との電場強度の差(E2−E1)を表している。
MLA相当物の集束力に対して、項
ΔUは、第1の多孔プレートに印加される電位(U1)と第2の多孔プレートに印加される電位(U2)との間の差であり、
wは、第1及び第2の多孔プレートのそれぞれの開孔における位置の間の間隙幅である。
荷電粒子ビーム及び複数の荷電粒子ビームレットのうちの少なくとも一方を、それぞれが複数の開孔を有し、中心が距離w0だけ離間した第1の多孔プレート及び第2の多孔プレートに透過させる工程と、
前記第1の多孔プレートに第1の電位U1を印加する工程と、
前記第2の多孔プレートに前記第1の電位とは異なる第2の電位U2を印加する工程と、
前記第1の多孔プレートの上流側において前記ビーム経路が通る電場及び前記第2の多孔プレートの下流側において前記ビーム経路が通る電場のうちの少なくとも一方を生成し、前記第1の多孔プレートの上流側近傍の電場の第1の電場強度E1が、前記第2の多孔プレートの下流側近傍の電場の第2の電場強度E2と、少なくとも約200V/mm、例えば、少なくとも約500V/mm、他の実施の形態においては、少なくとも750V/mm、さらなる例示的な実施の形態においては、少なくとも1000V/mmだけ異なるようにする工程とを含み、
電荷qを有し、かつ、前記第1の多孔プレートを通る際に運動エネルギーEkinを有する荷電粒子に対して、以下の関係
荷電粒子ビーム及び複数の荷電粒子ビームレットのうちの少なくとも一方を生成する工程と、
前記荷電粒子ビーム及び前記複数の荷電粒子ビームレットの前記少なくとも一方を、第1の磁場を生成する少なくとも1つの磁気レンズに透過させる工程と、
前記荷電粒子ビーム及び前記複数の荷電粒子ビームレットの前記少なくとも一方を、複数の開孔を有する少なくとも1つの多孔プレートに透過させる工程と、
前記複数の荷電粒子ビームレットが通るコイル装置に所定の電流を印加することによって第2の磁場を生成し、前記第2の磁場が前記第1の磁場を少なくとも部分的に補償し、前記少なくとも1つの多孔プレートにおける磁束密度が実質的にゼロになるようにする工程とを含むことを特徴とする方法も提供する。
少なくとも1つの荷電粒子ビームを生成する工程と、
前記少なくとも1つの荷電粒子ビームを本発明に係る粒子光学部品に透過させる工程と、
前記第1の多孔プレートに所定の第1の電位を印加し、第2の多孔プレートに前記所定の第1の電位とは異なる所定の第2の電位を印加する工程と、
前記粒子光学部品から出射する荷電粒子ビームレットを前記基板上に集束させる工程とを含むことを特徴とする方法が提供される。
基板に、穴のパターンを穴の深さが前記基板の厚さよりも小さくなるように前記基板の前面からエッチングする工程と、
前記基板の背面を、前記基板の前記背面の少なくとも一部が曲面形状を有するように加工する工程と、
前記基板の前記背面を、前記基板の前記前面から前記基板にエッチングされた穴の少なくとも一部が前記基板の厚さ全体を通って延びて開孔を形成するまでエッチングする工程とを含むことを特徴とする方法に関する。
基板に、穴のパターンを前記基板の前面からエッチングする工程と、
前記基板の前記前面を、前記基板の前記前面の少なくとも一部が曲面形状を有するように加工する工程と、
前記基板の前記背面を、前記基板にエッチングされた穴の少なくとも一部が前記基板全体を通って延びて開孔を形成するまで加工及びエッチングの少なくとも一方を行なう工程とを含むことを特徴とする方法が提供される。
開孔パターンを基板にエッチングする工程と、
前記基板の一方の表面を、前記表面が曲面又は曲面を有する少なくとも1つの領域を有するように加工する工程とを含むことを特徴とする方法を提供する。
図2は、試料上に焦点面を結像する際の粒子光学素子によって生じる像面湾曲作用を示し、
図3は、図2に示される像面湾曲を補償するように構成された粒子光学部品の実施の形態の一部を示し、
図4は、本発明の粒子光学部品の第1の実施の形態における、第1の多孔プレートの第2の多孔プレートに対する配置を示し、
図5は、本発明の粒子光学部品の第2の実施の形態における、第1の多孔プレートの第2の多孔プレートに対する配置を示し、
図6は、本発明の粒子光学部品の第3の実施の形態における、第1の多孔プレートの第2の多孔プレートに対する配置を示し、
図7は、本発明の粒子光学部品の第3の実施の形態における像面湾曲の補償効果を概略的に示し、
図8a、図8b、図8c、図8d、図8eは、第1、第2、第3及び第4の電極のうちの少なくとも1つ、並びに、異なる電場構成を有する本発明の粒子光学部品の実施の形態を示し
図9は、第3の多孔プレートを有する本発明の粒子光学部品の実施の形態を示し、
図10a、図10bは、第4の開孔プレートを含む本発明の粒子光学部品の実施の形態、及び本発明の第2の局面に係る多孔部品の動作の実施の形態の工程を示し、
図11は、磁気レンズにおいて用いられている本発明に係る粒子光学部品の実施の形態を示し、
図12aは、コイル装置を含む本発明に係る粒子光学部品及び粒子光学装置の実施の形態を示し、
図12bは、図12aに示される装置の動作中のz方向における磁束密度を示すグラフであり、
図13aは、本発明の第10の局面に係る粒子光学装置の実施の形態の一部を示し、
図13bは、図13aに示される装置の動作中の異なる開孔の位置におけるz方向の磁束密度を示すグラフであり、
図14は、本発明に係る粒子光学装置のさらなる実施の形態を示し、
図15aは、本発明に係る粒子光学部品の第1及び第2の多孔プレートの整列不良による歪曲収差作用を示し
図15bは、図15aに示される第1及び第2の多孔プレートの整列不良の補償に適したを照射モードを示し、
図16は、図15aの歪曲収差作用を示す、像平面における一次電子ビームレットスポットのアレイの立面図を示し
図17は、本発明の第15の局面に係る成形多孔プレートの製造方法の実施の形態を示し、
図18は、本発明の第13の局面に係る成形多孔プレートの製造方法の実施の形態を示し、
図19は、本発明の第13の局面に係る成形多孔プレートの製造方法の別の実施の形態を示し、
図20は、本発明の第14の局面に係る成形多孔プレートの製造方法の実施の形態を示している。
Claims (70)
- 複数の荷電粒子ビームレットを操作するための粒子光学部品であって、
複数の開孔を有する第1の多孔プレートと、複数の開孔を有し、前記第1の多孔プレートとの間に間隙が形成されるように前記第1の多孔プレートから離間した第2の多孔プレートとを備え、
前記第1の多孔プレートの前記複数の開孔は、前記第1の多孔プレートの前記複数の開孔の各開孔が、前記第2の多孔プレートの前記複数の開孔の対応する開孔と整列されるように配置され、
前記第1の多孔プレートの前記複数の開孔の第1の開孔の位置における前記間隙の第1の幅は、前記第1の多孔プレートの前記複数の開孔の第2の開孔の位置における前記間隙の第2の幅よりも少なくとも5%だけ大きいことを特徴とする粒子光学部品。 - 前記第1の多孔プレートは、前記第2の多孔プレートに対向する第1の面を有し、前記第2の多孔プレートは、前記第1の多孔プレートに対向する第1の面を有し、各第1の面は、前記それぞれの複数の開孔の複数の開孔を含む領域を有し、前記第1の面のうちの少なくとも一方は、前記領域内の平面状の面である、請求項1に記載の粒子光学部品。
- 前記少なくとも一方の第1の面は、前記領域内の曲面である、請求項2に記載の粒子光学部品。
- 前記少なくとも一方の第1の面は、前記領域内の凸面である、請求項2に記載の粒子光学部品。
- 前記少なくとも一方の第1の面は、前記領域内の凹面である、請求項2に記載の粒子光学部品。
- 前記第1の多孔プレートは、前記第2の多孔プレートに対向する第1の面を有し、前記第2の多孔プレートは、前記第1の多孔プレートに対向する第1の面を有し、前記第1の面の形状は、前記第1及び第2の多孔プレートの間に延びる平面に対して、互いに関して対称である、請求項1〜5のいずれかに記載の粒子光学部品。
- 前記第1の多孔プレートは、前記第2の多孔プレートに対向する第1の面を有し、前記第2の多孔プレートは、前記第1の多孔プレートに対向する第1の面を有し、前記第1の面のうちの少なくとも一方の形状は、前記第1及び第2の多孔プレートを横切って延びる軸に対して対称である、請求項1〜6のいずれかに記載の粒子光学部品。
- 前記第2の幅は、前記第2の開孔の直径の約100%〜約1000%の範囲内にある、請求項1〜7のいずれかに記載の粒子光学部品。
- 前記第1の幅は、前記第1の開孔の直径の約150%〜約1500%の範囲内にある、請求項1〜8のいずれかに記載の粒子光学部品。
- 前記第1の多孔プレートの前記複数の開孔の実質的に各開孔に対し、前記第1の多孔プレートの前記複数の開孔の前記開孔の直径は、前記第1の多孔プレートの前記開孔と整列された前記第2の多孔プレートの前記複数の開孔の対応する開孔の直径に実質的に等しい、請求項1〜9のいずれかに記載の粒子光学部品。
- 前記複数の開孔の開孔の直径は、約0.5μm〜約180μmの範囲内にある、請求項1〜10のいずれかに記載の粒子光学部品。
- 前記第1の多孔プレートの前記複数の開孔の隣接する開孔の中心間の距離は、約5μm〜約200μmの範囲内にある、請求項1〜11のいずれかに記載の粒子光学部品。
- 前記第1及び第2の多孔プレートのうちの少なくとも一方はシリコンからなる、請求項1〜12のいずれかに記載の粒子光学部品。
- 前記第1の多孔プレートを前記第2の多孔プレートに対して取り付ける取付構造をさらに備えた、請求項1〜13のいずれかに記載の粒子光学部品。
- 前記取付構造は、前記第1の多孔プレートの位置を前記第2の多孔プレートに対して調整するための少なくとも1つのアクチュエータを含む、請求項14に記載の粒子光学部品。
- 複数の開孔を有する第3の多孔プレートであって、前記第1の多孔プレートが前記第3の多孔プレートと前記第2の多孔プレートとの間に配置されるように配置された第3の多孔プレートをさらに備え、前記第3の多孔プレートの前記複数の開孔は、前記第3の多孔プレートの前記複数の開孔の各開孔が前記第1の多孔プレートの前記複数の開孔の対応する開孔と整列されるように配置されている、請求項1〜15のいずれかに記載の粒子光学部品。
- 前記第3の多孔プレートの開孔の直径は、前記第3の多孔プレートの前記開孔と整列された前記第1の多孔プレートの対応する開孔の直径よりも小さい、請求項16に記載の粒子光学部品。
- 前記第3の多孔プレートの開孔の直径は、前記第3の多孔プレートの前記開孔と整列された前記第1の多孔プレートの対応する開孔の直径の99%以下である、請求項16に記載の粒子光学部品。
- 前記第3の多孔プレートを前記第1の多孔プレートに対して取り付ける取付構造をさらに備えた、請求項16〜18のいずれかに記載の粒子光学部品。
- 前記取付構造は、前記第3の多孔プレートの位置を前記第1の多孔プレートに対して調整するための少なくとも1つのアクチュエータを含む、請求項19に記載の粒子光学部品。
- 少なくとも1つの開孔を有する第4の開孔プレートであって、前記第1の多孔プレートが前記第4の開孔プレートと前記第2の多孔プレートとの間に配置される第4の開孔プレートをさらに備え、第1の位置において、前記第4の開孔プレートの前記少なくとも1つの開孔の1つの開孔が前記第1の多孔プレートの第1の開孔と整列され、かつ、前記第1の位置とは異なる第2の位置において、前記1つの開孔が前記第1の多孔プレートの第2の開孔と整列されるように、前記第4の開孔プレートを前記第1の多孔プレートに対してずらすための少なくとも1つのアクチュエータを含む取付構造をさらに備えた、請求項1〜20のいずれかに記載の粒子光学部品。
- 粒子光学システムの動作方法であって、
少なくとも1つの開孔を有する検査用開孔プレートを、複数の開孔を含む多孔部品に対して第1の位置に、前記第1の位置において前記検査用開孔プレートの第1の組の開孔が前記多孔部品の第1の組の開孔と整列されるように配置する工程であって、前記それぞれの組の開孔が、それぞれ少なくとも1つの開孔を有する、工程と、
一組の荷電粒子ビームレットを、前記検査用開孔プレートの前記第1の組の開孔及びそれと整列された前記多孔部品の前記第1の組の開孔に透過させる工程と、
所定の平面における前記透過ビームレットの位置、形状及び寸法、並びに、前記透過ビームレットの合計強度又は個々の強度のうちの少なくとも1つを求める工程と、
前記検査用開孔プレートの前記第1の組の開孔が前記多孔部品の第2の組の開孔と整列されるように、前記検査用開孔プレートを前記多孔部品に対して第2の位置に配置する工程と、
一組の荷電粒子ビームレットを、前記検査用開孔プレートの前記第1の組の開孔及びそれと整列された前記多孔部品の前記第2の組の開孔に透過させる工程と、
前記所定の平面における前記透過ビームレットの位置、形状及び寸法、並びに、前記透過ビームレットの合計強度又は個々の強度のうちの少なくとも1つを求める工程とを含むことを特徴とする方法。 - 前記所定の平面における前記透過ビームレットの位置、形状及び寸法、並びに、前記透過ビームレットの前記合計強度又は個々の強度のうちの前記少なくとも1つに基づいて、前記多孔部品の光学特性及び位置のうちの少なくとも1つを調整する工程、並びに、前記粒子光学システムの光学特性を調整する工程のうちの少なくとも1つをさらに含む、請求項22に記載の方法。
- 少なくとも1つの荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子源と、
前記第1の多孔プレートの下流側において前記荷電粒子のビーム経路が前記第2の多孔プレートを通るように配置された、少なくとも1つの請求項1〜21のいずれかに記載の粒子光学部品とを備えたことを特徴とする粒子光学装置。 - 前記第1及び第2の多孔プレートに異なる電位を印加するように構成された電圧源システムをさらに備えた、請求項24に記載の粒子光学装置。
- 前記粒子光学部品の下流側の複数の荷電粒子ビームレットの合計ビーム電流に基づいて前記電圧源システムを制御するように構成された第1の制御部を有する制御器をさらに備えた、請求項25に記載の粒子光学装置。
- 前記複数の荷電粒子ビームレットの前記合計ビーム電流を検出するための電流検出器をさらに備えた、請求項26に記載の粒子光学装置。
- 前記制御器は、前記複数の荷電粒子ビームレットのビーム電流を調整するための第2の制御部を有し、前記第1の制御部は、前記第2の制御部の設定に対して応答性を有する、請求項26又は27に記載の粒子光学装置。
- 前記第1の多孔プレートの上流側において前記荷電粒子の前記ビーム経路が通る第1の電極と、前記第2の多孔プレートの下流側において前記荷電粒子の前記ビーム経路が通る第2の電極と、前記第1及び第2の多孔プレート、並びに、前記第1及び第2の電極に異なる電位を印加するように構成された電圧源システムとをさらに備えた、請求項24に記載の粒子光学装置。
- 前記電圧源システムは、前記第1の多孔プレートの上流側において該プレートの近傍に生成される電場が前記荷電粒子ビームの前記荷電粒子に対する減速電場となるような電圧を前記第1の電極及び前記第1の多孔プレートに印加するように構成されている、請求項29に記載の粒子光学装置。
- 前記電圧源システムは、前記第1の多孔プレートの上流側において該プレートの近傍に生成される電場が前記荷電粒子ビームの前記荷電粒子に対する加速電場となるような電圧を前記第1の電極及び前記第1の多孔プレートに印加するように構成されている、請求項29に記載の粒子光学装置。
- 前記電圧源システムは、前記第2の多孔プレートの下流側において該プレートの近傍に生成される電場が前記荷電粒子ビームの前記荷電粒子に対する加速電場となるような電圧を前記第2の電極及び前記第2の多孔プレートに印加するように構成されている、請求項29に記載の粒子光学装置。
- 前記電圧源システムは、前記第2の多孔プレートの下流側において該プレートの近傍に生成される電場が前記荷電粒子ビームの前記荷電粒子に対する減速電場となるような電圧を前記第2の電極及び前記第2の多孔プレートに印加するように構成されている、請求項29に記載の粒子光学装置。
- 前記第1の電極と前記第1の多孔プレートとの間において前記荷電粒子の前記ビーム経路が通る第3の電極をさらに備え、前記電圧源システムは、前記第3の電極に電位を印加するようにさらに構成されている、請求項29に記載の粒子光学装置。
- 前記第2の多孔プレートと前記第2の電極との間において前記荷電粒子の前記ビーム経路が通る第4の電極をさらに備え、前記電圧源システムは、前記第4の電極に電位を印加するようにさらに構成されている、請求項29に記載の粒子光学装置。
- 前記荷電粒子ビームの前記ビーム経路に配置された少なくとも1つの集束粒子光学レンズをさらに備えた、請求項24に記載の粒子光学装置。
- 前記第1及び第2の多孔プレートに異なる電位を印加して、前記少なくとも1つの集束粒子光学レンズの少なくとも1つの粒子光学収差を補償するように構成された電圧源システムをさらに備えた、請求項36に記載の粒子光学装置。
- 前記少なくとも1つの粒子光学収差は、像面湾曲及び球面収差のうちの少なくとも1つである、請求項37に記載の粒子光学装置。
- 前記電圧源システムは、前記第1の多孔プレートの上流側において第1の電場が生成され、前記第2の多孔プレートの下流側において前記第1の電場とは異なる第2の電場が生成されるような電位を前記第1及び第2の電極に印加するように構成され、
前記荷電粒子の前記ビーム経路において前記第2の多孔プレートの下流側に配置された少なくとも1つの集束粒子光学レンズをさらに備え、
前記電圧源システムは、前記第1及び第2の多孔プレートに異なる電位を印加して、前記少なくとも1つの集束粒子光学レンズの少なくとも1つの粒子光学収差を補償するようにさらに構成されている、請求項29に記載の粒子光学装置。 - 請求項1〜21のいずれかに記載の粒子光学部品を備えたことを特徴とするマルチビーム電子検査システム。
- 前記粒子光学部品は、前記システムの一次電子ビーム経路に配置されている、請求項40に記載のマルチビーム電子検査システム。
- 一次電子の少なくとも1つのビームを生成するための電子源と、
被検査試料のための台と、
前記電子源の下流側において前記少なくとも1つの電子ビームのビーム経路に配置された請求項1〜21のいずれかに記載の粒子光学部品と、
前記粒子光学部品の前記第1及び第2の多孔プレートに電位を印加するための電圧源システムと、
前記粒子光学部品の下流側において前記少なくとも1つの電子ビームの前記ビーム経路に配置された少なくとも1つの集束粒子光学レンズと、
二次粒子のうちの少なくとも1つ、及び前記電子に露光されたことによって前記試料から発せられる放射を検出するための検出器装置とを備えたことを特徴とするマルチビーム電子検査システム。 - 荷電粒子ビームレットの操作方法であって、
荷電粒子ビーム及び複数の荷電粒子ビームレットのうちの少なくとも一方を生成する工程と、
前記荷電粒子ビーム及び前記複数の荷電粒子ビームレットの前記少なくとも一方を、請求項1〜21のいずれかに記載の粒子光学部品に透過させる工程と、
前記第1の多孔プレートに所定の第1の電位を印加し、第2の多孔プレートに前記所定の第1の電位とは異なる所定の第2の電位を印加する工程と、
前記荷電粒子ビーム及び前記複数の荷電粒子ビームレットの前記少なくとも一方を、少なくとも1つの集束粒子光学レンズに透過させる工程とを含むことを特徴とする方法。 - 前記所定の電位は、0〜約5000Vの範囲内にある、請求項43に記載の方法。
- 前記印加される所定の電位は、前記少なくとも1つの集束粒子光学レンズの少なくとも1つの粒子光学収差が少なくとも低減されるように選択される、請求項43又は44に記載の方法。
- 曲面を有する少なくとも1つの領域を有する多孔プレートの製造方法であって、
基板に、穴のパターンを前記基板の前面からエッチングする工程と、
前記基板の背面を、前記基板の前記背面の少なくとも一部が曲面形状を有するように加工する工程と、
前記基板の前記背面を、前記基板にエッチングされた穴の少なくとも一部が前記基板全体を通って延びて開孔を形成するまでエッチングする工程とを含むことを特徴とする方法。 - 前記基板の前記背面を加工する前記工程は、前記基板に前記基板の前記前面から前記穴のパターンをエッチングする前記工程の前に行なわれる、請求項46に記載の方法。
- 曲面を有する少なくとも1つの領域を有する多孔プレートの製造方法であって、
基板に、穴のパターンを前記基板の前面からエッチングする工程と、
前記基板の前記前面を、前記基板の前記前面の少なくとも一部が曲面形状を有するように加工する工程と、
前記基板の前記背面を、前記基板にエッチングされた穴の少なくとも一部が前記基板全体を通って延びて開孔を形成するまで加工及びエッチングの少なくとも一方を行なう工程とを含むことを鍍朽ち様とする方法。 - 前記それぞれの表面を加工して曲面を形成する前記工程の前に、前記穴を少なくとも部分的に充填剤で充填する工程をさらに含む、請求項46又は48に記載の方法。
- 曲面を有する少なくとも1つの領域を有する多孔プレートの製造方法であって、
開孔パターンを基板にエッチングする工程と、
前記基板の一方の表面を、前記表面が曲面を有するように加工する工程とを含むことを特徴とする方法。 - 前記基板の一方の表面を加工する前記工程の前に、前記エッチングされた開孔パターンの開孔を少なくとも部分的に充填剤で充填する工程をさらに含む、請求項50に記載の方法。
- 前記加工工程は、機械研磨によって前記基板の前記表面から材料を除去する工程を含む、請求項46、48又は50のいずれかに記載の方法。
- 前記穴又は開孔をエッチングする前記工程は、それぞれ、反応性イオンエッチングを含む、請求項46、48又は50のいずれかに記載の方法。
- 前記穴又は開孔をエッチングする前記工程は、それぞれ、深い反応性イオンエッチングを含む、請求項53に記載の方法。
- 少なくとも1つの荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子源と、
前記少なくとも1つのビームの経路において第1の磁場を生成するように構成された少なくとも1つの磁気レンズと、
複数の開孔を有する少なくとも1つの第1の多孔プレートであって、前記少なくとも1つの荷電粒子ビームのビーム経路が通るように配置された第1の多孔プレートと、
前記少なくとも1つの第1の多孔プレートにおける磁束密度が実質的にゼロとなるような第2の磁場を生成するように構成された少なくとも1つのコイル装置とを備えたことを特徴とする粒子光学装置。 - 複数の開孔を有する第2の多孔プレートであって、前記第1の多孔プレートとの間に間隙が形成されるように前記第1の多孔プレートから離間した第2の多孔プレートをさらに備え、
前記第1の多孔プレートの前記複数の開孔は、前記第1の多孔プレートの各開孔が、前記第2の多孔プレートの前記複数の開孔の対応する開孔と整列されるように配置され、
前記第1の多孔プレートの前記複数の開孔の第1の開孔の位置における前記間隙の第1の幅は、前記第1の多孔プレートの前記複数の開孔の第2の開孔の位置における前記間隙の第2の幅よりも少なくとも5%だけ大きい、請求項55に記載の粒子光学装置。 - 前記第1の多孔プレートは、前記第2の多孔プレートに対向する第1の面を有し、前記第2の多孔プレートは、前記第1の多孔プレートに対向する第1の面を有し、各第1の面は、前記それぞれの複数の開孔の複数の開孔を含む領域を有し、前記第1の面のうちの少なくとも一方は、前記領域内の曲面である、請求項56に記載の粒子光学装置。
- 荷電粒子ビームレットの操作方法であって、
荷電粒子ビーム及び複数の荷電粒子ビームレットのうちの少なくとも一方を生成する工程と、
前記荷電粒子ビーム及び前記複数の荷電粒子ビームレットの前記少なくとも一方を、第1の磁場を生成する少なくとも1つの磁気レンズに透過させる工程と、
前記荷電粒子ビーム及び前記複数の荷電粒子ビームレットの前記少なくとも一方を、複数の開孔を有する少なくとも1つの多孔プレートに透過させる工程と、
前記複数の荷電粒子ビームレットが通るコイル装置に所定の電流を印加することによって第2の磁場を生成し、前記第2の磁場が前記第1の磁場を少なくとも部分的に補償し、前記少なくとも1つの多孔プレートにおける磁束密度が実質的にゼロになるようにする工程とを含むことを特徴とする方法。 - 複数の荷電粒子ビームレットの集束方法であって、
荷電粒子ビーム及び複数の荷電粒子ビームレットのうちの少なくとも一方を、それぞれが複数の開孔を有し、中心が距離w0だけ離間した第1の多孔プレート及び第2の多孔プレートに透過させる工程と、
前記第1の多孔プレートに第1の電位U1を印加する工程と、
前記第2の多孔プレートに前記第1の電位とは異なる第2の電位U2を印加する工程と、
前記第1の多孔プレートの上流側において前記ビーム経路が通る電場及び前記第2の多孔プレートの下流側において前記ビーム経路が通る電場のうちの少なくとも一方を生成し、前記第1の多孔プレートの上流側近傍の電場の第1の電場強度E1が、前記第2の多孔プレートの下流側近傍の電場の第2の電場強度E2と、少なくとも約200V/mmだけ異なるようにする工程とを含み、
電荷qを有し、かつ、前記第1の多孔プレートを通る際に運動エネルギーEkinを有する荷電粒子に対して、以下の関係
- 前記第1及び第2の多孔プレート間の距離は、それらの中心からの距離が増加するにしたがって増加し、前記第1及び第2の多孔プレート間に前記第1及び第2の電位U1及びU2を印加することによって生成された電場の電場強度は、前記中心からの距離が増加するにしたがって減少する、請求項59に記載の方法。
- 請求項1〜21のいずれかに記載の粒子光学部品と、
第1の磁極片、第2の磁極片、並びに、前記第1及び第2の磁極片に磁束を誘導するためのコイルを含む磁気レンズ装置とを備え、
前記第1の多孔プレートは、前記磁気レンズ装置の前記第1の磁極片と磁気的に結合されるか又は一体的に形成され、前記第2の多孔プレートは、前記磁気レンズ装置の前記第2の磁極片と磁気的に結合されるか又は一体的に形成されていることを特徴とする粒子光学装置。 - 基板上にパターンを描画するための荷電粒子マルチビームレットリソグラフィシステムであって、
前記基板を載置するための台と、
少なくとも1つの荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子源と、
請求項1〜21のいずれかに記載の粒子光学部品と、
前記荷電粒子ビームレットを前記基板上に集束させるための対物レンズとを備えたことを特徴とするシステム。 - 基板上にパターンを描画する方法であって、
少なくとも1つの荷電粒子ビームを生成する工程と、
前記少なくとも1つの荷電粒子ビームを請求項1〜21のいずれかに記載の粒子光学部品に透過させる工程と、
前記第1の多孔プレートに所定の第1の電位を印加し、第2の多孔プレートに前記所定の第1の電位とは異なる所定の第2の電位を印加する工程と、
前記粒子光学部品から出射する荷電粒子ビームレットを前記基板上に集束させる工程とを含むことを特徴とする方法。 - 複数の荷電粒子ビームレットの集束方法であって、
複数の開孔を有する第1の多孔プレートと前記第1の多孔プレートから少なくとも1mmの距離だけ離間した第1の電極との間に、前記第1の多孔プレートが第1の集束力(focusing power)F1を有するように最大で5000V/mmの電場を生成する工程と、
荷電粒子ビーム及び複数の荷電粒子ビームレットのうちの少なくとも一方を、前記電場、前記第1の多孔プレートの前記複数の開孔及び前記第1の電極に透過させる工程と、
前記荷電粒子ビーム及び前記複数の荷電粒子ビームレットの前記少なくとも一方を、複数の開孔を有する少なくとも1つの第2の多孔プレートを備えた粒子光学部品であって、第2の集束力F2を与えるように構成及び動作される粒子光学部品の開孔に透過させる工程とを含み、
前記粒子光学部品の前記第2の集束力F2は、前記第1の集束力F1の5分の1以下であることを特徴とする方法。 - 複数の開孔を有する第1の多孔プレートと、
少なくとも1つの開孔を有する第4の開孔プレートと、
前記第4の開孔プレートを、前記第1の多孔プレート対して第1の位置及び前記第1の位置とは異なる第2の位置にずらすための少なくとも1つのアクチュエータを含む取付構造とを備えたことを特徴とする粒子光学部品。 - 前記第4の開孔プレートの前記少なくとも1つの開孔のうちの1つの開孔は、前記第1の位置において前記第1の多孔プレートの第1の開孔と整列され、前記1つの開孔は、前記第2の位置において前記第1の多孔プレートの第2の開孔と整列されている、請求項65に記載の粒子光学部品。
- 複数の開孔を有する第2の多孔プレートであって、前記第1の多孔プレートとの間に間隙が形成されるように前記第1の多孔プレートから離間した第2の多孔プレートをさらに備え、
前記第1の多孔プレートの前記複数の開孔は、前記第1の多孔プレートの前記複数の開孔の各開孔が、前記第2の多孔プレートの前記複数の開孔の対応する開孔と整列されるように配置され、前記第1の多孔プレートは、前記第4の開孔プレートと前記第2の多孔プレートとの間に配置されている、請求項65又は66に記載の粒子光学部品。 - 複数の開孔を有する第1の多孔プレートと、
複数の開孔を有する第3の多孔プレートであって、前記第3の多孔プレートの前記複数の開孔は、前記第3の多孔プレートの前記複数の開孔の各開孔が、前記第1の多孔プレートの前記複数の開孔の対応する開孔と整列されるように配置され、前記第3の多孔プレートの開孔の直径は、前記第3の多孔プレートの前記開孔と整列された前記第1の多孔プレートの対応する開孔の直径よりも小さい、第3の多孔プレートとを備えたことを特徴とする粒子光学部品。 - 複数の開孔を有する第2の多孔プレートであって、前記第1の多孔プレートとの間に間隙が形成されるように前記第1の多孔プレートから離間した第2の多孔プレートをさらに備え、前記第1の多孔プレートの前記複数の開孔は、前記第1の多孔プレートの前記複数の開孔の各開孔が、前記第2の多孔プレートの前記複数の開孔の対応する開孔と整列されるように配置され、前記第3の多孔プレートは、前記第1の多孔プレートが、前記第3の多孔プレートと前記第2の多孔プレートとの間に配置されるように配置されている、請求項68に記載の粒子光学部品。
- 前記第3の多孔プレートの開孔の直径は、前記第3の多孔プレートの前記開孔と整列された前記第1の多孔プレートの対応する開孔の直径の99%未満である、請求項68又は69に記載の粒子光学部品。
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