JP2012219074A - マンデロニトリル化合物の製造方法 - Google Patents
マンデロニトリル化合物の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】溶媒中、下式(1)で示されるベンズアルデヒド化合物と、金属シアン化物及びシアン化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種とを、相間移動触媒の存在下で反応させる工程を含むことを特徴とする下式(2)で示されるマンデロニトリル化合物又はその塩の製造方法。
(式中、Qは、置換基を有していてもよい炭素数1〜14の炭化水素基等を表す。Xは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基又は保護されていてもよい水酸基を表す。Mは、オキシ基(−O−)、チオ基(−S−)、スルフィニル基(−SO−)、スルホニル基(−SO2−)、−NR1−又は単結合を表し、R1は水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜9のアシル基を表す。nは、0、1又は2を表す。)
【選択図】なし
Description
(式中、Qは、置換基を有していてもよい炭素数1〜14の炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12の複素環基、置換基を有していてもよいメチレンアミノ基、置換基を有していてもよい炭素数2〜15のアシル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜14の置換スルホニル基を表す。Xは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基又は保護されていてもよい水酸基を表す。Mは、オキシ基(−O−)、チオ基(−S−)、スルフィニル基(−SO−)、スルホニル基(−SO2−)、−NR1−又は単結合を表し、R1は水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜9のアシル基を表す。nは、0、1又は2を表す。)
で示されるマンデロニトリル化合物は、例えば、医農薬の製造原料又は製造中間体として有用である。
(式中、Qは、置換基を有していてもよい炭素数1〜14の炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12の複素環基、置換基を有していてもよいメチレンアミノ基、置換基を有していてもよい炭素数2〜15のアシル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜14の置換スルホニル基を表す。Xは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基又は保護されていてもよい水酸基を表す。Mは、オキシ基(−O−)、チオ基(−S−)、スルフィニル基(−SO−)、スルホニル基(−SO2−)、−NR1−又は単結合を表し、R1は水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜9のアシル基を表す。nは、0、1又は2を表す。)
で示されるベンズアルデヒド化合物と、金属シアン化物及びシアン化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種とを、相間移動触媒の存在下で反応させる工程を含むことを特徴とする式(2)
(式中、Q、X、M及びnはそれぞれ前記と同じ意味を表す。)
で示されるマンデロニトリル化合物又はその塩の製造方法。
〔3〕 前記溶媒が、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素及びハロゲン化炭化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種と、水と、アルコールとの混合溶媒である前記〔1〕記載の製造方法。
〔4〕 前記溶媒が、pH6〜8に調整されたものである前記〔3〕記載の製造方法。
〔5〕 前記溶媒が、酢酸又は塩酸と混合することによりpH6〜8に調整されたものである前記〔4〕記載の製造方法。
〔7〕 前記相間移動触媒が、臭化テトラn−ブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム及び塩化メチルトリブチルアンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種である前記〔1〕〜〔5〕のいずれか記載の製造方法。
〔8〕 金属シアン化物及びシアン化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種の使用量が、前記式(1)で示されるベンズアルデヒド化合物1モルに対して、1.2モル〜3.0モルの範囲である前記〔1〕〜〔7〕のいずれか記載の製造方法。
〔9〕 Qが置換基を有していてもよいフェニル基であり、Xが水素原子であり、Mがオキシ基(−O−)であり、nが1である前記〔1〕〜〔8〕のいずれか記載の製造方法。
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の低級アルキル基; エテニル基、2−プロペニル基、クロチル等の低級アルケニル基; エチニル基、プロパルギル基、ブチニル基等の低級アルキニル基; シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の低級シクロアルキル基; メトキシメチル基、エトキシメチル基、2−メトキシエチル基等の、低級アルコキシ基を有する低級アルキル基; シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の低級シクロアルケニル基; アセチル基、プロピオニル基、イソブチリル基等の低級アルカノイル基; トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリブチルシリル基等のトリ−低級アルキルシリル基; ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、2−ブロモエチル基、2,3−ジクロロプロピル等のハロ低級アルキル基; ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジ−低級アルキルアミノ基; フェニル基; ベンジル基、フェネチル基等の、フェニル基を有する低級アルキル基; スチリル基、シンナミル基等の、フェニル基を有する低級アルケニル基; 3−フリルメチル基、2−フリルエチル基等の、フリル基を有する低級アルキル基; 3−フリルビニル基、2−フリルアリル基等のフリル基を有する低級アルケニル基; フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子; ニトロ基; シアノ基; メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基等の低級アルキルチオ基; メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基等の低級アルコキシカルボニル基; ホルミル基; ホルミル基等で保護されていてもよいアミノ基; メチルアミノ基、エチルアミノ基等のモノ−低級アルキルアミノ基; メチルカルボニルアミノ基等の低級アルキルカルボニル基でモノ置換されているアミノ基; −ORで示される基(Rは、水素原子又は以下の群P2から選ばれる基を表す。) 並びに −CH2−G−R’[Gは、オキシ基(−O−)、チオ基(−S−)又は−NR’’−(ここで、R’’は水素原子又は低級アルキル基を表す)を表し、R’は、フェニル基;2−クロロフェニル基、4−フルオロフェニル基等のハロフェニル基;2−メトキシフェニル基、4−エトキシフェニル基等の低級アルコキシフェニル基;ピリジル基又はピリミジニル基を表す。]
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の低級アルキル基; エテニル基、2−プロペニル基、クロチル基等の低級アルケニル基; エチニル基、2−プロピニル基、3−ブチニル基等の低級アルキニル基; ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、2−ブロモエチル基、2,3−ジクロロプロピル基等のハロ低級アルキル基; アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基等の低級アルカノイル基; フェニル基等のアリール基; 3−メトキシフェニル、4−エトキシフェニル等の低級アルコキシフェニル基; 3−ニトロフェニル基、4−ニトロフェニル基等のニトロフェニル基; ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等の、フェニル基を有する低級アルキル基; 3−シアノフェニルメチル基、4−シアノフェニルエチル基等の、シアノフェニル基を有する低級アルキル基; ベンゾイル基; テトラヒドロピラニル基; ピリジル基; トリフルオロメチルピリジル基; ピリミジニル基; ベンゾチアゾリル基; キノリル基; ベンゾイルメチル基、ベンゾイルエチル基等の、ベンゾイル基を有する低級アルキル基 並びに ベンゼンスルホニル基、トルエンスルホニル基等の、低級アルキル基を有するベンゼンスルホニル基
(式中、U、V及びWはそれぞれ独立に、水素原子又は上述の群P1から選ばれる基である。)
で表される基である。式(3)において、U、V及びWはそれぞれ独立に、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、低級アルコキシ基を有する低級アルキル基、−ORで示される基、低級アルキルチオ基、保護されていてもよいアミノ基又はモノ−低級アルキルアミノ基又はジ−低級アルキルアミノ基である。
(式中、R4及びR5はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、アシル基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、保護されていてもよいアミノ基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基を表すか、或いはR4とR5とが結合してヘテロ原子を含んでいてもよい単環若しくは多環を形成する。)で示される基が挙げられる。
R4又はR5で表されるアシル基としては、例えば、低級アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基等が挙げられる。該低級アルキルカルボニル基としては、例えば、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基が挙げられる。該アリールカルボニル基としては、例えば、ベンゾイル基、ナフトイル基等の炭素数7〜15のアリールカルボニル基が挙げられる。
R4又はR5で表される低級アルキルチオ基、保護されていてもよいアミノ基としては、それぞれU、V及びWにおいて例示した低級アルキルチオ基と同様の基、保護されていてもよいアミノ基と同様の基が挙げられる。
R4又はR5で表される低級アルキルスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基等が挙げられ、好ましくは、メチルスルホニル基である。
R4又はR5で表されるシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の炭素数3〜7のシクロアルキル基が挙げられ、好ましくは、炭素数5〜6のシクロアルキル基が挙げられる。
(式中、R2及びR3はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、アシル基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、保護されていてもよいアミノ基、低級シクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基を表すか、或いはR2とR3とが結合してヘテロ原子を含んでいてもよい単環若しくは多環を形成する。)で表される基である。R2又はR3で表される置換基を有していてもよい低級アルキル基、アシル基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、保護されていてもよいアミノ基、低級シクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基、R2とR3とが結合して形成されるヘテロ原子を含んでいてもよい単環若しくは多環は、それぞれ、上述のR4又はR5で表される置換基を有していてもよい低級アルキル基、アシル基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、保護されていてもよいアミノ基、低級シクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基、R2とR3とが結合して形成されるヘテロ原子を含んでいてもよい単環若しくは多環と同様のものが挙げられる。
有機溶媒の使用量は、化合物(1)1重量部に対して、例えば0.5重量部〜10重量部の範囲であり、好ましくは1重量部〜5重量部の範囲である。水の使用量は、化合物(1)1重量部に対して、例えば0.3重量部〜5重量部の範囲であり、好ましくは0.5重量部〜2重量部の範囲である。
(a)有機溶媒、水、相間移動触媒及び化合物(1)の混合物に、シアノ化剤の水溶液を加え、そこへ、酸を一括添加又は滴下する方法;
(b)有機溶媒、水、相間移動触媒及び化合物(1)の混合物に、シアノ化剤の水溶液と酸とを並行して添加する方法;
(c)有機溶媒、水、相間移動触媒及び化合物(1)の混合物に、酸を加え、そこへ、シアノ化剤の水溶液を一括添加又は滴下する方法;
(d)シアノ化剤の水溶液、酸及び相間移動触媒の混合物に、有機溶媒に溶解させた化合物(1)を加える方法。
本反応は、好ましくは、本反応中における水のpHを好ましい範囲に調整する点で、(a)に記載される方法又は(b)に記載される方法により行われる。シアノ化剤の水溶液及び/又は酸を滴下する場合、滴下時間は、例えば0.5時間〜20時間の範囲であり、好ましくは1時間〜10時間の範囲である。
実施例1
200mLフラスコに、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒド10.02g(含量94.6重量%、0.039モル)、キシレン20.05g、メタノール14.26g、水3.87g及びTBAB0.26g(含量98.0重量%、0.0008モル)を入れて混合した後、撹拌しながら10℃に冷却した。続いて、該混合物に、シアン化ナトリウム2.98g(含量97.0重量%、0.059モル(2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒド1モルに対して1.5モル))を水8.70gに溶解させた水溶液を加え、酢酸3.68g(含量99.7重量%、0.061モル)を水0.42gに溶解させた水溶液を0.5時間で滴下した。滴下後の水層のpHは7.76であり、酢酸0.26gを加えpH調整を行いpH7.37とした。pH調整後、反応混合物を10℃で3時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒドの転化率は95.9%、残存率は4.1%であり、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)マンデロニトリルの収率は95.9%であった。
200mLフラスコに、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒド20.03g(含量94.6重量%、0.079モル)、キシレン40.01g、メタノール28.38g、水7.01g及びTBAB0.52g(含量98.0重量%、0.002モル)を入れて混合した後、撹拌しながら10℃に冷却した。続いて、該混合物に、シアン化ナトリウム5.58g(含量97.0重量%、0.11モル(2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒド1モルに対して1.4モル))を水16.25gに溶解させた水溶液を加え、酢酸6.89g(含量99.7重量%、0.11モル)を水0.77gに溶解させた水溶液を0.5時間で滴下した。滴下後の水層のpHは7.86であり、酢酸0.43gを加えpH調整を行いpH7.38とした。pH調整後、反応混合物を10℃で3時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒドの転化率は95.6%、残存率は4.4%であり、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)マンデロニトリルの収率は95.6%であった。
200mLフラスコに、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒド10.03g(含量98.2重量%、0.040モル)、キシレン20.64g、メタノール14.83g及び塩化ベンジルトリエチルアンモニウム0.22g(含量98.0重量%、0.001モル)を入れて混合した後、撹拌しながら10℃に冷却した。続いて、シアン化ナトリウム3.11g(含量97.0重量%、0.062モル(2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒド1モルに対して1.5モル))を水9.06gに溶解させた水溶液と、酢酸3.84g(含量99.7重量%、0.064モル)を水4.42gに溶解させた水溶液とを、該混合物にpH6〜8に保ちながら0.5時間で並行して滴下した。滴下後の水層のpHは7.61であり、酢酸0.25gを加えpH調整を行いpH7.12とした。pH調整後、反応混合物を10℃で7時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒドの転化率は96.4%、残存率は3.6%であり、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)マンデロニトリルの収率は96.4%であった。
200mLフラスコに、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒド20.03g(含量94.6重量%、0.079モル)、キシレン39.78g、メタノール28.38g、水7.70g及びAliquat(登録商標)175 0.50g(含量75重量%、0.002モル)を入れて混合した後、撹拌しながら10℃に冷却した。続いて、該混合物に、シアン化ナトリウム5.97g(含量97.0重量%、0.12モル(2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒド1モルに対して1.5モル))を水17.40gに溶解させた水溶液を加え、酢酸7.37g(含量99.7重量%、0.12モル)を水0.83gに溶解させた水溶液を0.5時間で滴下した。滴下後の水層のpHは7.96であり、酢酸0.60gを加えpH調整を行いpH7.39とした。pH調整後、反応混合物を10℃で4時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒドの転化率は96.2%、残存率は3.8%であり、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)マンデロニトリルの収率は96.2%であった。
200mlフラスコに、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒド10.01g(含量94.6重量%、0.039モル)、キシレン20.00g、メタノール14.18g、水3.08g及びTBAB0.26g(含量98.0重量%、0.0008モル)を入れて混合した後、撹拌しながら10℃に冷却した。続いて、該混合物に、シアン化ナトリウム2.40g(含量97.0重量%、0.048モル(2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒド1モルに対して1.2モル))を水7.00gに溶解させた水溶液を加え、酢酸2.96g(含量99.7重量%、0.049モル)を水0.34gに溶解させた水溶液を0.5時間で滴下した。滴下後の水層のpHは7.39であり、反応混合物を10℃で7時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒドの転化率は92.4%、残存率は7.6%であり、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)マンデロニトリルの収率は92.4%であった。
200mlフラスコに、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒド10.01g(含量98.2重量%、0.039モル)、キシレン20.67g、メタノール15.00gおよびTBAB0.14g(含量98.0重量%、0.0004モル)を入れて混合した後、撹拌しながら10℃に冷却した。続いて、シアン化ナトリウム3.10g(含量97.0重量%、0.061モル(2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒド1モルに対して1.5モル))を水9.08gに溶解させた水溶液と、酢酸3.82g(含量99.7重量%、0.063モル)を水4.44gに溶解させた水溶液とを、該混合物にpH6〜8に保ちながら0.5時間で並行して滴下した。滴下後の水層のpHは7.73であり、酢酸0.20gを加えpH調整を行いpH7.20とした。pH調整後、反応混合物を10℃で6時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒドの転化率は95.6%、残存率は4.4%であり、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)マンデロニトリルの収率は95.6%であった。
200mLフラスコに、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒド15.00g(含量94.6重量%、0.059モル)、メチルtert−ブチルエーテル46.47g及び水5.81gを入れて混合した後、撹拌しながら10℃に冷却した。続いて、該混合物に、シアン化ナトリウム4.47g(含量97.0重量%、0.089モル(2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒド1モルに対して1.5モル))を水13.03gに溶解させた水溶液を加え、酢酸5.53g(含量99.7重量%、0.092モル)を水0.62gに溶解させた水溶液を0.5時間で滴下した。滴下後の水層のpHは7.73であり、酢酸0.16gを加えpH調整を行いpH7.39とした。pH調整後、反応混合物を10℃で4時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒドの転化率は40.2%、残存率は59.8%であり、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)マンデロニトリルの収率は40.2%であった。
200mLフラスコに、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒド10.03g(含量94.6重量%、0.040モル)及びメタノール47.30gを入れて室温にて混合した。続いて、該混合物に、シアン化ナトリウム2.99g(含量97.0重量%、0.059モル(2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒド1モルに対して1.5モル))を加え、飽和亜硫酸水素ナトリウム9.87g(0.095モル)を水23.50gに溶解させた水溶液を0.5時間で滴下した。滴下後の水層のpHは7.03であった。反応混合物を室温で7時間撹拌し、この反応混合物を分析したところ、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒドの転化率は84.4%、残存率は15.6%であり、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)マンデロニトリルの収率は84.4%であった。
200mLフラスコに、シアン化ナトリウム5.57g(含量97.0重量%、0.11モル(2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒド1モルに対して1.4モル))を水16.22gに溶解させた水溶液を加え、続いて2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒド20.04g(含量94.6重量%、0.079モル)、キシレン39.86g及びTBAB0.52g(含量98.0重量%、0.002モル)を入れて室温にて混合した。続いて、35%塩酸11.97g(含量35重量%、0.11モル)を0.5時間で滴下した。滴下後のpHは0.33であり、このときの2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒドの転化率は85.3%、残存率は14.7%であった。反応系内に27%水酸化ナトリウム水溶液を0.56g加えpH調整を行いpH7.19とした。pH調整後、反応混合物を室温で7時間撹拌した。この反応混合物を分析したところ、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)ベンズアルデヒドの転化率は91.9%、残存率は8.1%であり、2−(2,5−ジメチルフェノキシメチル)マンデロニトリルの収率は91.9%であった。
Claims (9)
- 溶媒中、式(1)
(式中、Qは、置換基を有していてもよい炭素数1〜14の炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数3〜12の複素環基、置換基を有していてもよいメチレンアミノ基、置換基を有していてもよい炭素数2〜15のアシル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜14の置換スルホニル基を表す。Xは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜8のアルキル基又は保護されていてもよい水酸基を表す。Mは、オキシ基(−O−)、チオ基(−S−)、スルフィニル基(−SO−)、スルホニル基(−SO2−)、−NR1−又は単結合を表し、R1は水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜9のアシル基を表す。nは、0、1又は2を表す。)
で示されるベンズアルデヒド化合物と、金属シアン化物及びシアン化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種とを、相間移動触媒の存在下で反応させる工程を含むことを特徴とする式(2)
(式中、Q、X、M及びnはそれぞれ前記と同じ意味を表す。)
で示されるマンデロニトリル化合物又はその塩の製造方法。 - 前記溶媒が、アルコールを含む請求項1記載の製造方法。
- 前記溶媒が、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素及びハロゲン化炭化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種と、水と、アルコールとの混合溶媒である請求項1記載の製造方法。
- 前記溶媒が、pH6〜8に調整されたものである請求項3記載の製造方法。
- 前記溶媒が、酢酸又は塩酸と混合することによりpH6〜8に調整されたものである請求項4記載の製造方法。
- 前記相間移動触媒が、四級アンモニウム塩、四級ホスホニウム塩又はクラウンエーテルである請求項1〜5のいずれか記載の製造方法。
- 前記相間移動触媒が、臭化テトラn−ブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム及び塩化メチルトリブチルアンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種である請求項1〜5のいずれか記載の製造方法。
- 金属シアン化物及びシアン化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種の使用量が、前記式(1)で示されるベンズアルデヒド化合物1モルに対して、1.2モル〜3.0モルの範囲である請求項1〜7のいずれか記載の製造方法。
- Qが置換基を有していてもよいフェニル基であり、Xが水素原子であり、Mがオキシ基(−O−)であり、nが1である請求項1〜8のいずれか記載の製造方法。
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