JP2012080004A5 - 露光装置、露光方法、基板、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、露光装置、露光方法、基板、及びデバイス製造方法に関する。
Claims (16)
- マスクレス方式の露光装置であって、
基板本体の表面から裏面へ貫通して設けられたアライメントマークを有する基板を保持するステージと、
投影光学系を介して前記基板の表面及び裏面にパターンの像を示す露光光をそれぞれ露光するパターン生成部と、
前記表面及び前記裏面の両面において前記露光の位置基準となる前記アライメントマークを、前記投影光学系を介して検出するアライメント系と、
前記アライメント系の検出結果に基づいて前記投影光学系に対する前記基板の相対位置を管理する制御部と、
を備える露光装置。 - 前記アライメント系は、
前記露光の位置基準を検出するために前記アライメントマークに対して検出光を射出するアライメント用光源と、
前記投影光学系及び前記アライメントマークを介した前記検出光を検出する検出部と、
を備える、請求項1に記載の露光装置。 - 前記アライメント系は、前記アライメントマークを介した前記検出光を反射する反射部を備える、
請求項2に記載の露光装置。 - 前記露光光を反射し前記検出光を透過させる第1の光学部品と、
前記検出光の一部を反射して前記検出光の他の一部を透過させる第2の光学部品と、
を備える、
請求項2又は3に記載の露光装置。 - 露光対象の基板に回路パターンを露光する露光部と、
前記基板を貫通して設けられ、前記露光の位置基準となるアライメントマークに光を通して前記基板の位置を検出するアライメント系を備える、露光装置。 - 前記アライメント系は、前記光を射出する光学部材と、前記光学部材から射出されて前記アライメントマークを通った前記光を反射させる反射部とを備える、
請求項5に記載の露光装置。 - 前記反射部は、前記光を前記アライメントマークに向けて折り返す、
請求項6に記載の露光装置。 - 前記アライメント系は、反射部の反射面が前記光学部材の光軸に直交し、前記反射部で反射して前記光学部材を経由した前記光を検出する検出部をさらに備える、
請求項6または請求項7に記載の露光装置。 - 前記基板は裏面に回路パターンを備え、前記アライメント系の検出情報に基づいて、前記裏面の回路パターンの位置情報を検出可能である、
請求項5から請求項8のいずれか一項に記載の露光装置。 - 請求項1〜9のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板に露光することと、
露光された前記基板を現像することとを含んでいる、デバイス製造方法。 - 基板本体を貫通する3以上のアライメントマークを有する、デバイス製造用の基板。
- 前記アライメントマークの1以上が前記基板本体の外周に設けられている、
請求項11に記載の基板。 - 前記アライメントマークの1以上が前記基板本体の外周から離れた位置に設けられている、
請求項11又は12に記載の基板。 - 基板本体の表面から裏面へ貫通して設けられ、前記表面及び前記裏面の両面において露光の位置基準となるアライメントマークを有する基板を保持することと、
投影光学系を介して前記基板の表面及び裏面にパターンの像を示す露光光をそれぞれ露光することと、
前記基板の表面に前記露光光を露光するときに、前記表面を前記投影光学系に向けて前記基板を保持させた後、前記投影光学系を介して前記アライメントマークを含む前記表面に検出光を入射させて前記投影光学系に再度入射した前記検出光を検出することと、
前記基板の裏面に前記露光光を露光するときに、前記裏面を前記投影光学系に向けて前記基板を保持させた後、前記投影光学系を介して前記アライメントマークを含む前記裏面に前記検出光を入射させて前記投影光学系に再度入射した前記検出光を検出することと、
を含む露光方法。 - 前記検出光の検出結果に基づいて前記投影光学系に対する前記基板の相対位置を管理すること、を含む、
請求項14に記載の露光方法。 - 請求項14又は請求項15に記載の露光方法を含む、デバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010225759A JP5609513B2 (ja) | 2010-10-05 | 2010-10-05 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010225759A JP5609513B2 (ja) | 2010-10-05 | 2010-10-05 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012080004A JP2012080004A (ja) | 2012-04-19 |
JP2012080004A5 true JP2012080004A5 (ja) | 2014-01-09 |
JP5609513B2 JP5609513B2 (ja) | 2014-10-22 |
Family
ID=46239882
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010225759A Active JP5609513B2 (ja) | 2010-10-05 | 2010-10-05 | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5609513B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6200224B2 (ja) * | 2012-09-13 | 2017-09-20 | 日本メクトロン株式会社 | フォトマスク、フォトマスク組、露光装置および露光方法 |
JP6127834B2 (ja) * | 2013-08-27 | 2017-05-17 | トヨタ自動車株式会社 | アライメント方法及びパターニング用マスク |
CN103633067B (zh) * | 2013-11-04 | 2016-04-13 | 中国航天科技集团公司第九研究院第七七一研究所 | 基于tsv立体集成工艺的十字环形对准标记 |
JP6440416B2 (ja) * | 2014-08-29 | 2018-12-19 | キヤノン株式会社 | 処理装置、処理方法及びデバイスの製造方法 |
EP3040779A1 (en) * | 2014-12-30 | 2016-07-06 | Visitech As | A maskless exposure apparatus with alignment |
JP6723648B2 (ja) * | 2016-07-27 | 2020-07-15 | 住友重機械工業株式会社 | 位置検出装置及び位置検出方法 |
JP6384647B1 (ja) * | 2017-02-23 | 2018-09-05 | 株式会社村田製作所 | 電子部品、電子機器および電子部品の実装方法 |
WO2020256132A1 (ja) * | 2019-06-21 | 2020-12-24 | ユナイテッド・プレシジョン・テクノロジーズ株式会社 | 金属製品の微細加工装置、金属製品の微細加工方法 |
JP2021193429A (ja) * | 2020-06-08 | 2021-12-23 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 露光用の光源装置、照明装置、露光装置、及び露光方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61185930A (ja) * | 1985-02-13 | 1986-08-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 両面マスク合せ用アラインメントマ−クを有する半導体基板およびその製法 |
JPS6324617A (ja) * | 1986-07-17 | 1988-02-02 | Yokogawa Electric Corp | ウエハの両面露光法 |
JP3795820B2 (ja) * | 2002-03-27 | 2006-07-12 | 株式会社東芝 | 基板のアライメント装置 |
JP2004303951A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP4348474B2 (ja) * | 2003-06-23 | 2009-10-21 | 株式会社オーク製作所 | 基板方向検出方法および描画システム |
JP2006259715A (ja) * | 2005-02-21 | 2006-09-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 描画方法、描画装置、描画システムおよび補正方法 |
JP2007240676A (ja) * | 2006-03-07 | 2007-09-20 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | アライメント方法 |
JP2008242218A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Fujifilm Corp | 描画装置及び描画方法 |
JP2009223262A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-01 | Orc Mfg Co Ltd | 露光システムおよび露光方法 |
JP2010103155A (ja) * | 2008-10-21 | 2010-05-06 | Fujinon Corp | パターニング方法 |
JP2010219232A (ja) * | 2009-03-16 | 2010-09-30 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
-
2010
- 2010-10-05 JP JP2010225759A patent/JP5609513B2/ja active Active
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