JP2012069635A - 成膜装置、ウェハホルダ及び成膜方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数のウェハ(14)を保持するボート(30)と、ボートに保持された複数のウェハの側面から反応ガスを供給する反応ガス供給部とを有する成膜装置に用いられるウェハホルダであって、ウェハホルダは、ボートに保持された際にウェハの上面を覆うように載置され、ウェハの裏面への反応ガスの流入を抑止するようにウェハの周囲を囲うように設けられたガス流入抑止部を有するウェハホルダ上(100)を具備するウェハホルダを提供することで上記課題を解決する。
【選択図】図3
Description
始めに、図1乃至図3を参照して、本発明の第1実施形態に係るSiC成膜装置の構成について一部その動作を交えて説明する。ここに、図1は、本発明の第1実施形態に係るSiC成膜装置の構成を示す斜視図である。
次に、図4乃至図6を参照しながら第2実施形態に係るウェハホルダについて説明する。ここに、図4は、本発明の第2実施形態に係るウェハ14及びウェハホルダの構成を示す分解斜視図であり、図5は、本発明の第2実施形態に係るウェハ14及びウェハホルダの拡大詳細図であり、図6は、本発明の第2実施形態に係るウェハホルダ下の拡大詳細図である。なお、図4乃至図6において、図3と重複する箇所には同一の符合を付してその説明を適宜省略することとする。
次に、図7を参照しながら、本発明の第3実施形態について説明する。図7は、本発明の第3実施形態に係るウェハ14及びウェハホルダの拡大詳細図である。同図において、図6と重複する箇所には同一の符合を付してその説明を適宜省略することとする。
以下に、本実施形態に係る好ましい態様を付記する。
複数のウェハを保持するボートと、前記ボートに保持された前記複数のウェハの側面から反応ガスを供給する反応ガス供給部とを有する成膜装置に用いられるウェハホルダであって、前記ウェハホルダは、前記ボートに保持された際に前記ウェハの上面を覆うように載置され、前記ウェハの裏面への前記反応ガスの流入を抑止するように前記ウェハの周囲を囲うように設けられたガス流入抑止部を有するウェハホルダ上を具備するウェハホルダ。
付記1において、前記ガス流入抑止部は、前記ウェハにより支持されるウェハホルダ。
付記2において、前記ウェハホルダ上は、ウェハホルダ上の外周部がウェハホルダ上の内周部より厚い凹型をしており、前記ウェハホルダ上の内周部の上面から前記ウェハホルだの外周部の先端面までの高さは、前記ウェハの厚さより小さく、前記ウェハホルダ上の内周部が前記ウェハに接触することによりガス流入抑止部を形成するウェハホルダ。
付記2において、前記ウェハホルダは、前記ウェハを保持するウェハホルダ下を更に有し、前記ウェハホルダ下が前記ボートに支持されるウェハホルダ。
付記4において、前記ウェハホルダ上は、ウェハホルダ上の外周部がウェハホルダ上の内周部より薄い凸型をしており、前記ウェハホルダ下は、ウェハホルダ下の外周部がウェハホルダ下の内周部より厚い円環状の凹型をしており、前記ウェハホルダ上と前記ウェハホルダ下が組み合わされた際に、前記ウェハホルダの上の内周部の先端面が前記ウェハホルダ下の外周部の先端面より下に位置するウェハホルダ。
付記5において、前記ウェハホルダ上と前記ウェハホルダ下が組み合わされた際に、前記ウェハホルダ上の内周部の先端面が、前記ウェハホルダ下に保持されたウェハの裏面に接触することにより前記ガス流入抑止部を形成するウェハホルダ。
付記4において、前記ウェハホルダ下の下面は、前記ウェハホルダ下の中心部に向かって薄くなるウェハホルダ。
付記4において、前記ウェハホルダ上は、ウェハホルダ上の外周部より厚く、かつ、ウェハホルダ上の中心部より厚いリング状の突出部を有し、前記ウェハホルダ上と前記ウェハホルダ下が組み合わされた際に、前記リング状の突出部がウェハの裏面と接触することにより前記ガス流入抑止部を形成するウェハホルダ。
付記1において、前記ウェハホルダは、前記ボートに支持されると共に前記ウェハを保持するウェハホルダ下を更に有し、前記ウェハホルダ上の外周部と前記ウェハホルダ下の外周部とが接触することにより前記ガス流入抑止部を形成するウェハホルダ。
処理されるべきウェハを保持した、付記1〜9のいずれか一つに記載のウェハホルダを複数保持するボートと、前記ボートに保持された前記複数のウェハの側面から反応ガスを供給する反応ガス供給部とを有する成膜装置。
ウェハの裏面への反応ガスの流入を抑止するようにウェハの周囲を囲うように設けられたガス流入抑止部を有するウェハホルダ上をウェハの上面を覆うように載置するウェハホルダ載置工程と、前記ウェハホルダ上が載置された状態でボート移載に移載工程と、前記ボートを反応室内に移動するボートローディング工程と、反応ガスを供給し、前記ウェハの下面に膜を形成する成膜工程とを有する成膜方法。
12 筐体
14 ウェハ
16 ポッド
30 ボート
40 処理炉
42 反応管
44 処理室
46 被加熱体
48 磁気コイル
50 断熱部
56 外側断熱壁
60 第1のガス供給口
62 第1の排気口
100 ウェハホルダ上
102 外周部
104 内周部
106 突出部
110 ウェハホルダ下
112 外周部
114 内周部
116 中心部
120 中空部
Claims (2)
- ウェハが載置された状態の複数のウェハホルダを保持するボートと、前記ボートに保持された前記複数のウェハの側面から反応ガスを供給する反応ガス供給部とを有し、
前記ウェハホルダは、前記ボートに保持された際に前記ウェハの上面を覆うように載置され、前記ウェハの裏面への前記反応ガスの流入を抑止するように前記ウェハの周囲を囲うように設けられたガス流入抑止部を有するウェハホルダ上を具備する成膜装置。 - ウェハの裏面への反応ガスの流入を抑止するようにウェハの周囲を囲うように設けられたガス流入抑止部を有するウェハホルダ上をウェハの上面を覆うように載置するウェハホルダ載置工程と、
前記ウェハホルダ上が載置された状態でボート移載に移載工程と、
前記ボートを反応室内に移動するボートローディング工程と、
反応ガスを供給し、前記ウェハの下面に膜を形成する成膜工程とを有する成膜方法。
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