JP2015018869A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上にドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜を成膜する処理室と、基板を加熱する加熱部と、基板を回転させる回転機構と、基板の周囲に配置され炭素原子含有ガスと還元ガスとを処理室内へ供給するためのn個(nは3以上の奇数)の第1のガス供給ノズルと、シリコン原子含有ガスを処理室内へ供給するために第1のガス供給ノズルと交互に基板の周囲に配置された(n−1)個の第2のガス供給ノズルと、ドーピングガスを処理室内へ供給するためのドーピングガス供給ノズルと、第1のガス供給ノズルのうち中央のガス供給ノズルの炭素原子含有ガスと還元ガスの流量が、それぞれ、第1のガス供給ノズルのうち端のガス供給ノズルの炭素原子含有ガスと還元ガスの流量よりも大きくなるよう制御する制御部と、を備えるように基板処理装置を構成する。
【選択図】図2
Description
基板上にドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜の成膜処理が行われる処理室と、
前記成膜処理を行う際に前記基板を加熱する加熱部と、
前記成膜処理を行う際に前記基板を回転させる回転機構と、
前記ドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜を形成するための炭素原子含有ガスと還元ガスとを前記処理室内へ供給するガス供給ノズルであって、前記処理室内において前記基板の端の周囲に並ぶように配置された、n個(nは3以上の奇数)の第1のガス供給ノズルと、
前記第1のガス供給ノズルとは別に設けられた、前記ドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜を形成するためのシリコン原子含有ガスを前記処理室内へ供給するガス供給ノズルであって、前記処理室内において前記基板の端の周囲に並ぶように前記第1のガス供給ノズルと交互に配置された、(n−1)個の第2のガス供給ノズルと、
前記ドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜を形成するためのドーピングガスを、前記処理室内へ供給するためのドーピングガス供給ノズルと、
前記第1のガス供給ノズルのうち中央のガス供給ノズルの前記炭素原子含有ガスと前記還元ガスの流量が、それぞれ、前記第1のガス供給ノズルのうち端のガス供給ノズル内の前記炭素原子含有ガスと前記還元ガスの流量よりも大きくなるよう制御する制御部と、
を備える基板処理装置。
まず、本実施形態における基板処理装置の概略構成について図面を参照しながら説明する。本実施形態における基板処理装置は、例えば、半導体基板であるウェハ上にSiCエピタキシャル膜を成膜する半導体製造装置である。
筐体12内の背面側上部には、処理炉40が配置されている。この処理炉40内に複数枚のウェハ14を装填したボート30が搬入され、ボート30に搭載されているウェハ14上にSiCエピタキシャル膜の成膜処理が行われる。
続いて、本実施形態における処理炉の構成について図面を参照しながら説明する。図2は、本実施形態における処理炉40の構成を示す模式図であり、処理炉を側面からみた概略の垂直断面図である。図3は、本実施形態における処理炉を上方からみた水平断面図であるが、説明を分かり易くするため主要な部材のみを記載した模式図となっている。
処理炉40は、処理炉40内に搬入されたボート30上のウェハ14を、成膜処理を行う際などに加熱する被加熱体45、及び電磁場発生部としての誘導コイル50を備えている。主に被加熱体45と誘導コイル50から加熱部が構成される。誘導コイル50は、反応管42の周囲を巻き回すように、コイル支持柱51に取り付けられて設けられる。被加熱体45は、反応管42内に配設され、誘導コイル50により発生する電磁場で誘導加熱されるようになっており、この被加熱体45が発熱することにより、処理室47の内部が加熱されるように構成されている。
被加熱体45は、誘導コイル50により発生する誘導電流(渦電流)により誘導加熱されやすく、且つ、耐熱性に優れた材料、例えば、カーボングラファイト等の材料で構成され、上端が閉塞し下端が開口した円筒形状に形成されている。
図3に示すように、処理室47内へ処理ガスを供給するための複数のガス供給ノズル61〜65が、処理室47内に設けられている。ガス供給ノズル61〜65は、処理室47内にガスを供給するガス供給孔を少なくとも1つ以上有するガス配管である。ガス供給ノズル61〜65は、例えば表面をSiCコーティングされた筒状のカーボングラファイトで構成される。ガス供給ノズル61〜65は、図2に示すように、マニホールド71を水平方向に貫通するようにマニホールド71に取り付けられ、直角に屈曲されて、鉛直方向に延びている。つまり、ガス供給ノズル61〜65は、処理室47内を鉛直方向(縦方向)に延伸した状態で設置される。なお、図2においては、図を簡明にするためガス供給ノズル62のみを示すが、ガス供給ノズル61,63〜65も、ガス供給ノズル62と同様の構造である(図4参照)。
詳しくは、ガス供給管81から処理室47内へ供給するC3H8ガス、H2ガス、N2ガスのそれぞれの供給流量を制御することができ、ガス供給管82から処理室47内へ供給するC3H8ガス、H2ガス、N2ガスのそれぞれの供給流量を制御することができ、ガス供給管83から処理室47内へ供給するC3H8ガス、H2ガス、N2ガスのそれぞれの供給流量を制御することができる。
また、ガス供給管84から処理室47内へ供給するSiCl4ガス、Arガス、N2ガスのそれぞれの供給流量を制御することができ、ガス供給管85から処理室47内へ供給するSiCl4ガス、Arガス、N2ガスのそれぞれの供給流量を制御することができる。
とはいえ、ドーピングガス供給ノズルを用いず、ドーピングガスをガス供給ノズル61〜65からのみ処理室47内へ供給することが好ましく、このように構成すると、ガス供給ノズル数を低減できるとともに、形成されるドープトSiCエピタキシャル膜のドーピング濃度を適切な値に制御することが容易となる。
図2に示すように、マニホールド71には、例えばステンレス製の排気管72が、マニホールド71を水平方向に貫通するように設けられている。排気管72は、縦切断面が略円形であり、上面視においてガス供給ノズル61〜65に対して対向面に位置するように配置されている。排気管72には、排気の上流から順に、圧力検出器(不図示)と、圧力調整器としてのAPC(Auto Pressure Controller)バルブ73と、真空ポンプなどから構成される真空排気装置74とが接続されている。主に、排気管72と圧力検出器とAPCバルブ73とから、排気部が構成される。なお、必要に応じて真空排気装置74を排気部に加えてもよい。
圧力検出器及びAPCバルブ73は、後述する圧力制御部104に電気的に接続されており、圧力制御部104は、圧力検出器により検出された圧力に基づいて、APCバルブ73の開度を調整することにより、処理室47内の圧力が所定のタイミングにて所定の圧力になるよう制御する。
次に、本実施形態における基板処理装置の制御部の構成について、図面を参照しながら説明する。図5は、本実施形態における基板処理装置を制御する制御部(コントローラ)の構成を示すブロック図である。図5に示すように、制御部100は、主制御部101、温度制御部102、ガス流量制御部103、圧力制御部104、および、駆動制御部105を備えている。主制御部101は、温度制御部102、ガス流量制御部103、圧力制御部104、および、駆動制御部105と電気的に接続されており、温度制御部102、ガス流量制御部103、圧力制御部104、および、駆動制御部105を制御するように構成されている。さらに主制御部101は、図示しない操作部を備えており、操作員からの各種指示を受け付ける。
次に、本実施形態において基板上に均一なSiCエピタキシャル膜を成膜するためのガス流量の設定方法について、図面を参照しながら説明する。図6は、本実施形態における面内分布調整ツール図である。この面内分布調整ツール図は、次のように導き出したものである。すなわち、図2及び図3に示すようにガス供給ノズル61〜65を構成し、さらに、炭素原子含有ガスを供給する炭素原子含有ガス供給ノズル61〜63のうち、外側のガス供給ノズル61,63内の各ガスの流量を同流量とする。また、ガス供給ノズル61〜65内のドーピングガス(N2ガス)を互いに同流量とする。そして、この条件下において、中央のガス供給ノズル62内の炭素原子含有ガス(C3H8ガス)の流量の、外側のガス供給ノズル61,63内の炭素原子含有ガス(C3H8ガス)の流量に対する比率と、中央のガス供給ノズル62内の還元ガス(H2ガス)の流量の、外側のガス供給ノズル61,63内の還元ガス(H2ガス)の流量に対する比率とを変化させ、該変化させた場合における、ウェハ14面内の膜厚の凸度とドーパント濃度(本実施形態ではN濃度)の凸度とを、実験結果及びシミュレーションにより導き出したものである。
図6において右下方向に伸びる線(Tx)は、面内膜厚凸度が一定の線であり、右上方向に動くように、H2ガス流量とC3H8ガス流量の少なくとも一方を調整することで、膜厚分布を凸方向に調整できる。例えば、Tx0.9は、面内膜厚凸度が90%の線である。各線の間隔は5%の凸度の差を示している。Txの数値が大きいほど、ウェハ14の中央部の膜厚が周縁部に比べ厚いことを示す。
また、図6において右上方向に伸びる線(Nd)は、面内N濃度凸度が一定の線を示し、右下方向に動くように、H2ガス流量とC3H8ガス流量の少なくとも一方を調整することで、N濃度分布を凸方向へ調整できる。例えば、Nd0.6は、面内N濃度凸度が60%の線である。各線の間隔は20%の凸度の差を示している。Ndの数値が大きいほど、ウェハ14の中央部のN濃度が周縁部に比べ高いことを示す。
SiCエピタキシャルプロセスでは、SiCエピタキシャル膜の電気抵抗率を制御するため、n型であればN(窒素)原子を含むガス(N2等)、p型であればAl(アルミニウム)を含むガス(TMAトリメチルアルミニウム等)を原料ガスに添加し、SiCエピタキシャル膜中にNやAlを不純物として取り込ませる。膜の電気抵抗率は、例えばn型であれば膜中のN濃度に依存する。
不純物原子がSiC結晶に取り込まれるとき、不純物原子は、SiC表面におけるC原子サイトかSi原子サイトのどちらかに取り込まれることが一般的に知られており、N原子の場合は、SiC表面サイトに吸着しSiC結晶に取り込まれようとするC原子と置き換わることで、N原子が膜中に取り込まれ、n型のSiCエピタキシャル膜が得られる。Al原子の場合は、SiC表面サイトに吸着しSiC結晶に取り込まれようとするSi原子と置き換わることで、Al原子が膜中に取り込まれ、p型のSiCエピタキシャル膜が得られる。これをサイトコンペティション技術と云う。
以上のことから、ウェハ面内において膜中N濃度を均一にするためには、C原料ガスとSi原料ガスの比率(C/Si)を、ウェハ面内のどの位置においても一定とする工夫が必要となる。
中央のガス供給ノズル62内のH2ガス流量の、外側のガス供給ノズル61,63内のH2ガス流量に対する比率を1.09とし、中央のガス供給ノズル62内のC3H8ガス流量の、外側のガス供給ノズル61,63内のC3H8ガス流量に対する比率を2.00とした場合、ウェハ面内における膜厚分布とN濃度分布がともに凹分布(膜厚凸度が93%、N濃度凸度が84%)となり、面内均一性(σ/mean)については、膜厚均一性が3.91%、N濃度均一性が11.26%と、思わしくない結果であった。σは標準偏差、meanは算術平均である。
しかし、中央のガス供給ノズル62内のH2ガス流量の、外側のガス供給ノズル61,63内のH2ガス流量に対する比率を1.12と大きくし(1.09→1.12)、中央のガス供給ノズル62内のC3H8ガス流量の、外側のガス供給ノズル61,63内のC3H8ガス流量に対する比率を1.95と小さくした(2.00→1.95)場合、ウェハ面内における膜厚凸度が98%に上昇し、N濃度凸度が97%に上昇して改善され、面内均一性(σ/mean)については、膜厚均一性が1.94%、N濃度均一性が6.45%と、共に改善された。
次に、上述したように構成された基板処理装置10を用いて、SiCで構成されるウェハ14等の基板表面に、不純物を含むドープトSiCエピタキシャル膜を成長させて形成する方法について説明する。なお、以下の説明において、基板処理装置10を構成する各部の動作は、制御部100により制御される。
まず、ポッドステージ18に複数枚のウェハ14を収容したポッド16がセットされると、ポッド搬送装置20により、ポッド16をポッドステージ18からポッド収容棚22へ搬送し、ポッド収容棚22にストックする。次に、ポッド搬送装置20により、ポッド収容棚22にストックされたポッド16をポッドオープナ24に搬送してセットし、ポッドオープナ24によりポッド16の蓋を開き、基板枚数検知器26によりポッド16に収容されているウェハ14の枚数を検知する。
複数枚のウェハ14がボート30に搭載されると、複数枚のウェハ14を保持したボート30は、昇降モータ(不図示)による上昇動作により処理室47内に搬入(ボートローディング)される。この状態で、シールキャップ91はOリングを介してマニホールド71の下端をシールした状態となる。
また、ボート回転機構92により、ボート30が所定の回転速度で回転されることで、ウェハ14が所定の回転速度で周方向に水平回転される。
本実施形態によれば、少なくとも次の効果を得ることができる。
(a)炭素原子含有ガスと還元ガスを供給するn個(nは3以上の奇数)の第1のガス供給ノズルと、シリコン原子含有ガスを供給する(n−1)個の第2のガス供給ノズルとを交互に配置するようにしたので、第1及び第2のガス供給ノズルから供給されるガスの混合を促進することができる。
(b)上記第1のガス供給ノズルのうち中央のガス供給ノズル内の炭素原子含有ガスと還元ガスの流量が、それぞれ、上記第1のガス供給ノズルのうち端のガス供給ノズル内の炭素原子含有ガスと還元ガスの流量よりも大きくなるようにしたので、形成されるドープトSiCエピタキシャル膜の膜厚凸度とドーピング濃度凸度とを適切な値に制御することができる。
(c)上記第1のガス供給ノズルのうち中央のガス供給ノズル内の炭素原子含有ガスの流量の、端のガス供給ノズル内の炭素原子含有ガスの流量に対する比率を小さくすると、ウェハ14上に成膜されるドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜の膜厚凸度を小さくし、ドーパント濃度凸度を大きくすることができる。また、上記第1のガス供給ノズルのうち中央のガス供給ノズル内の還元ガスの流量の、端のガス供給ノズル内の還元ガスの流量に対する比率を大きくすると、ウェハ14上に成膜されるドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜の膜厚凸度及びドーパント濃度凸度を大きくすることができる。
(d)上記第1及び第2のガス供給ノズルの両方からドーピングガスを供給するように構成したので、形成されるドープトSiCエピタキシャル膜のドーピング濃度を適切な値に制御することが容易となる。
(e)上記第1のガス供給ノズルのうち両端のガス供給ノズル内の炭素原子含有ガスと還元ガスの流量が、互いに同量であるように構成したので、形成されるドープトSiCエピタキシャル膜の膜厚凸度とドーピング濃度凸度とを適切な値に制御することが容易となる。
(f)上記第1のガス供給ノズルが3個であり、上記第2のガス供給ノズルが2個であるように構成した場合は、より多数のガス供給ノズルを使用する場合に比べ、装置構成を簡素化することができる。
(g)上記第1及び第2のガス供給ノズルから流出するガスが基板表面上を流れるように整流する整流体が配置されるように構成した場合は、第1及び第2のガス供給ノズルから供給されるガスの量を節約できるとともに、第1及び第2のガス供給ノズルから供給されるガスの混合をさらに促進することができる。
<付記1>
基板上にドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜の成膜処理が行われる処理室と、
前記成膜処理を行う際に前記基板を加熱する加熱部と、
前記成膜処理を行う際に前記基板を回転させる回転機構と、
前記ドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜を形成するための炭素原子含有ガスと還元ガスとを前記処理室内へ供給するガス供給ノズルであって、前記処理室内において前記基板の端の周囲に並ぶように配置された、n個(nは3以上の奇数)の第1のガス供給ノズルと、
前記第1のガス供給ノズルとは別に設けられた、前記ドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜を形成するためのシリコン原子含有ガスを前記処理室内へ供給するガス供給ノズルであって、前記処理室内において前記基板の端の周囲に並ぶように前記第1のガス供給ノズルと交互に配置された、(n−1)個の第2のガス供給ノズルと、
前記ドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜を形成するためのドーピングガスを、前記処理室内へ供給するためのドーピングガス供給ノズルと、
前記第1のガス供給ノズルのうち中央のガス供給ノズルの前記炭素原子含有ガスと前記還元ガスの流量が、それぞれ、前記第1のガス供給ノズルのうち端のガス供給ノズルの前記炭素原子含有ガスと前記還元ガスの流量よりも大きくなるよう制御する制御部と、
を備える基板処理装置。
付記1の基板処理装置であって、
前記制御部が、前記第1のガス供給ノズルのうち中央のガス供給ノズルの前記炭素原子含有ガスの流量の、前記第1のガス供給ノズルのうち端のガス供給ノズルの前記炭素原子含有ガスの流量に対する比率を小さくすると、前記基板上に成膜されるドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜の膜厚凸度が小さくなるとともにドーパント濃度凸度が大きくなり、前記第1のガス供給ノズルのうち中央のガス供給ノズルの前記還元ガスの流量の、前記第1のガス供給ノズルのうち端のガス供給ノズルの前記還元ガスの流量に対する比率を大きくすると、前記基板上に成膜されるドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜の膜厚凸度及びドーパント濃度凸度が大きくなる基板処理装置。
付記1〜付記2のいずれかの基板処理装置であって、
前記ドーピングガス供給ノズルが、前記第1及び第2のガス供給ノズルである基板処理装置。
付記1〜付記3のいずれかの基板処理装置であって、
前記第1のガス供給ノズルのうち両端のガス供給ノズルの前記炭素原子含有ガスと前記還元ガスの流量は、互いに同量である基板処理装置。
付記1〜付記4のいずれかの基板処理装置であって、
前記第1のガス供給ノズルが3個であり、前記第2のガス供給ノズルが2個である基板処理装置。
付記1〜付記5のいずれかの基板処理装置であって、
前記炭素原子含有ガスがC3H8ガスであり、前記還元ガスがH2ガスであり、前記シリコン原子含有ガスがSiCl4ガスであり、前記ドーピングガスがN2ガスである基板処理装置。
付記1〜付記6のいずれかの基板処理装置であって、
前記処理室内において前記成膜処理される前記基板の周囲には、前記第1及び第2のガス供給ノズルから流出するガスが前記基板表面上を流れるようにする整流体が配置されている基板処理装置。
付記1〜付記7のいずれかの基板処理装置であって、
前記処理室は、縦方向に所定の間隔で多段に配置された水平姿勢の複数の基板に対して成膜処理が行われる基板処理装置。
基板上に炭化ケイ素エピタキシャル膜の成膜処理が行われる処理室と、
前記成膜処理を行う際に前記基板を加熱する加熱部と、
前記成膜処理を行う際に前記基板を回転させる回転機構と、
前記炭化ケイ素エピタキシャル膜を形成するための炭素原子含有ガスと還元ガスとを前記処理室内へ供給するガス供給ノズルであって、前記処理室内において前記基板の端の周囲に並ぶように配置された、n個(nは3以上の奇数)の第1のガス供給ノズルと、
前記第1のガス供給ノズルとは別に設けられた、前記炭化ケイ素エピタキシャル膜を形成するためのシリコン原子含有ガスを前記処理室内へ供給するガス供給ノズルであって、前記処理室内において前記基板の端の周囲に並ぶように前記第1のガス供給ノズルと交互に配置された、(n−1)個の第2のガス供給ノズルと、
前記第1のガス供給ノズルのうち中央のガス供給ノズルの前記炭素原子含有ガスと前記還元ガスの流量が、それぞれ、前記第1のガス供給ノズルのうち端のガス供給ノズルの前記炭素原子含有ガスと前記還元ガスの流量よりも大きくなるよう制御する制御部と、
を備える基板処理装置。
基板上にドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜の成膜処理が行われる処理室内において、前記ドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜を形成するための炭素原子含有ガスと還元ガスとを供給する第1のガス供給ノズルが、前記基板の端の周囲に並ぶようにn個(nは3以上の奇数)配置され、前記ドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜を形成するためのシリコン原子含有ガスを供給する(n−1)個の第2のガス供給ノズルが、前記第1のガス供給ノズルと交互に配置された基板処理装置における基板処理方法であって、
前記処理室内へ基板を搬入する搬入工程と、
前記処理室内へ搬入した基板を加熱する加熱工程と、
前記処理室内へ搬入した基板を水平回転させる回転工程と、
前記第1及び第2のガス供給ノズルから前記炭素原子含有ガスと前記還元ガスと前記シリコン原子含有ガスとを供給し、前記第1のガス供給ノズル又は第2のガス供給ノズル若しくは前記第1及び第2のガス供給ノズル以外の第3のガス供給ノズルのうち少なくともいずれかのガス供給ノズルから前記ドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜を形成するためのドーピングガスを供給し、前記加熱工程により加熱され前記回転工程により回転中の基板上にドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜を成膜する処理工程と、
前記処理工程で成膜処理した基板を、前記処理室内から搬出する搬出工程と、を備え、
前記処理工程において、前記第1のガス供給ノズルのうち中央のガス供給ノズルの前記炭素原子含有ガスと前記還元ガスの流量を、それぞれ、前記第1のガス供給ノズルのうち端のガス供給ノズルの前記炭素原子含有ガスと前記還元ガスの流量より大きくする基板処理方法。
基板上にドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜の成膜処理が行われる処理室内において、前記ドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜を形成するための炭素原子含有ガスと還元ガスとを供給する第1のガス供給ノズルが、前記基板の端の周囲に並ぶようにn個(nは3以上の奇数)配置され、前記ドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜を形成するためのシリコン原子含有ガスを供給する(n−1)個の第2のガス供給ノズルが、前記第1のガス供給ノズルと交互に配置された基板処理装置における半導体装置の製造方法であって、
前記処理室内へ基板を搬入する搬入工程と、
前記処理室内へ搬入した基板を加熱する加熱工程と、
前記処理室内へ搬入した基板を水平回転させる回転工程と、
前記第1及び第2のガス供給ノズルから前記炭素原子含有ガスと前記還元ガスと前記シリコン原子含有ガスとを供給し、前記第1のガス供給ノズル又は第2のガス供給ノズル若しくは前記第1及び第2のガス供給ノズル以外の第3のガス供給ノズルのうち少なくともいずれかのガス供給ノズルから前記ドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜を形成するためのドーピングガスを供給し、前記加熱工程により加熱され前記回転工程により回転中の基板上にドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜を成膜する処理工程と、
前記処理工程で成膜処理した基板を、前記処理室内から搬出する搬出工程と、を備え、
前記処理工程において、前記第1のガス供給ノズルのうち中央のガス供給ノズルの前記炭素原子含有ガスと前記還元ガスの流量を、それぞれ、前記第1のガス供給ノズルのうち端のガス供給ノズルの前記炭素原子含有ガスと前記還元ガスの流量より大きくする半導体装置の製造方法。
付記10の半導体装置の製造方法であって、
前記処理工程において、前記第1のガス供給ノズルのうち中央のガス供給ノズル内の前記炭素原子含有ガスの流量の、前記第1のガス供給ノズルのうち端のガス供給ノズル内の前記炭素原子含有ガスの流量に対する比率を小さくすると、前記基板上に成膜されるドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜の膜厚凸度が小さくなるとともにドーパント濃度凸度が大きくなり、前記第1のガス供給ノズルのうち中央のガス供給ノズル内の前記還元ガスの流量の、前記第1のガス供給ノズルのうち端のガス供給ノズルの前記還元ガスの流量に対する比率を大きくすると、前記基板上に成膜されるドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜の膜厚凸度及びドーパント濃度凸度が大きくなる半導体装置の製造方法。
Claims (1)
- 基板上にドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜の成膜処理が行われる処理室と、
前記成膜処理を行う際に前記基板を加熱する加熱部と、
前記成膜処理を行う際に前記基板を回転させる回転機構と、
前記ドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜を形成するための炭素原子含有ガスと還元ガスとを前記処理室内へ供給するガス供給ノズルであって、前記処理室内において前記基板の端の周囲に並ぶように配置された、n個(nは3以上の奇数)の第1のガス供給ノズルと、
前記第1のガス供給ノズルとは別に設けられた、前記ドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜を形成するためのシリコン原子含有ガスを前記処理室内へ供給するガス供給ノズルであって、前記処理室内において前記基板の端の周囲に並ぶように前記第1のガス供給ノズルと交互に配置された、(n−1)個の第2のガス供給ノズルと、
前記ドープト炭化ケイ素エピタキシャル膜を形成するためのドーピングガスを、前記処理室内へ供給するためのドーピングガス供給ノズルと、
前記第1のガス供給ノズルのうち中央のガス供給ノズルの前記炭素原子含有ガスと前記還元ガスの流量が、それぞれ、前記第1のガス供給ノズルのうち端のガス供給ノズルの前記炭素原子含有ガスと前記還元ガスの流量よりも大きくなるよう制御する制御部と、
を備える基板処理装置。
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