JP2012059815A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】ヒューズの切断状態または非切断状態を正しく判定する半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置は、ヒューズと当該ヒューズに直列に接続された所定抵抗素子とを含むヒューズ抵抗回路と、ヒューズが非切断状態であるときのヒューズ抵抗回路の抵抗値よりも所定の抵抗値だけ大きな抵抗値を有する特定抵抗素子を含む基準抵抗回路と、ヒューズ抵抗回路の抵抗値が、基準抵抗回路の抵抗値よりも大きい場合には、ヒューズの切断を示す切断信号を出力し、ヒューズ抵抗回路の抵抗値が、基準抵抗回路の抵抗値よりも小さい場合には、ヒューズの非切断を示す非切断信号を出力する判定回路と、を含む。
【選択図】図1
【解決手段】半導体装置は、ヒューズと当該ヒューズに直列に接続された所定抵抗素子とを含むヒューズ抵抗回路と、ヒューズが非切断状態であるときのヒューズ抵抗回路の抵抗値よりも所定の抵抗値だけ大きな抵抗値を有する特定抵抗素子を含む基準抵抗回路と、ヒューズ抵抗回路の抵抗値が、基準抵抗回路の抵抗値よりも大きい場合には、ヒューズの切断を示す切断信号を出力し、ヒューズ抵抗回路の抵抗値が、基準抵抗回路の抵抗値よりも小さい場合には、ヒューズの非切断を示す非切断信号を出力する判定回路と、を含む。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体装置に関し、特には、ヒューズを有する半導体装置に関する。
特許文献1には、ヒューズが切断状態か非切断状態かを判定するヒューズオプション回路が記載されている。特許文献1に記載のヒューズオプション回路は、ヒューズと、MOS(Metal Oxide Semiconductor)トランジスタと、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)インバータと、を備えている。MOSトランジスタは、導通(オン)状態のときのオン抵抗値が、非切断状態であるときのヒューズの抵抗値よりも大きく、かつ、不完全にカッティングされたときのヒューズの抵抗値よりも小さい。
特許文献1に記載のヒューズオプション回路では、CMOSインバータの入力端が、ヒューズと、MOSトランジスタのドレインと、に接続されている。
ヒューズに対するカッティングが行われていない状況で、MOSトランジスタが導通状態になると、ヒューズからMOSトランジスタへ電流が流れる。ヒューズからMOSトランジスタへ電流が流れると、ヒューズの抵抗値が、MOSトランジスタのオン抵抗値よりも小さいため、CMOSインバータの入力端がハイレベルとなり、CMOSインバータは、その出力端からロウレベルの信号を出力する。
一方、ヒューズに対するカッティングが不完全な状況で、MOSトランジスタが導通状態になると、ヒューズの抵抗値が、MOSトランジスタのオン抵抗値よりも大きくなるため、CMOSインバータの入力端がロウレベルとなり、CMOSインバータは、その出力端からハイレベルの信号を出力する。
特許文献1に記載のヒューズオプション回路が、出力端から上述のような信号を出力するには、MOSトランジスタのオン抵抗値は、非切断状態であるときのヒューズの抵抗値よりも大きく、かつ、不完全にカッティングされたときのヒューズの抵抗値よりも小さくならなければならない。
しかしながら、MOSトランジスタの製造バラツキによって、MOSトランジスタのオン抵抗値が、非切断状態であるときのヒューズの抵抗値よりも小さくなってしまう場合、または、MOSトランジスタのオン抵抗値が、不完全にカッティングされたときのヒューズの抵抗値よりも大きくなってしまう場合がある。この場合、ヒューズが切断状態か非切断状態かの判定が誤って行われてしまうおそれがあるという問題があった。
本発明の半導体装置は、ヒューズの切断または非切断の判定を行う半導体装置であって、半導体装置であって、前記ヒューズと当該ヒューズに直列に接続された所定抵抗素子とを含むヒューズ抵抗回路と、前記ヒューズが非切断状態であるときの前記ヒューズ抵抗回路の抵抗値よりも所定の抵抗値だけ大きな抵抗値を有する特定抵抗素子を含む基準抵抗回路と、前記ヒューズ抵抗回路の抵抗値が前記基準抵抗回路の抵抗値よりも大きい場合には前記切断を示す切断信号を出力し、前記ヒューズ抵抗回路の抵抗値が前記基準抵抗回路の抵抗値よりも小さい場合には前記非切断を示す非切断信号を出力する判定回路と、を含む。
本発明によれば、半導体装置は、ヒューズとそのヒューズに直列に接続された抵抗素子とを含むヒューズ抵抗回路と、ヒューズが非切断状態であるときのヒューズ抵抗回路の抵抗値よりも所定の抵抗値だけ大きな抵抗値を有する特定抵抗素子を含む基準抵抗回路と、を備え、判定回路は、ヒューズ抵抗回路の抵抗値が、基準抵抗回路の抵抗値よりも大きい場合にはヒューズの切断を示す切断信号を出力し、ヒューズ抵抗回路の抵抗値が、基準抵抗回路の抵抗値よりも小さい場合にはヒューズの非切断を示す非切断信号を出力する。
よって、本発明では、判定回路は、ヒューズ抵抗回路の抵抗値と基準抵抗回路の抵抗値とを比較して、ヒューズが切断状態か非切断状態かを判定する。このため、ヒューズが非切断状態である半導体装置では、判定回路は、基準抵抗回路の抵抗値が、ヒューズ抵抗回路の抵抗値よりも大きいため、ヒューズが非切断状態であると判定する。
一方、ヒューズの切断が不十分である半導体装置では、判定回路は、ヒューズ抵抗回路の抵抗値が、基準抵抗回路の抵抗値よりも大きければ、ヒューズが切断状態であると正しく判定することができる。すなわち、ヒューズ抵抗回路の抵抗値と基準抵抗回路の抵抗値との差分である所定の抵抗値と比較して、不十分な切断により生じるヒューズの抵抗値が大きければ、判定回路は、ヒューズが切断状態であると正しく判定することができる。
したがって、判定回路は、ヒューズ抵抗回路の抵抗値と基準抵抗回路の抵抗値との差分である所定の抵抗値が小さいほど、不十分な切断によって抵抗値が十分に大きくならないヒューズを切断状態であると正しく判定できるようになる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
図1は、本発明の第1の実施形態における半導体装置の構成例を示すブロック図である。
半導体装置1aは、ヒューズ(Fuse)4の切断または非切断の判定(以下「ヒューズ判定」とも称する。)を行い、その判定結果に基づいて半導体装置1aの機能を、予め定められた機能に設定する。
半導体装置1aは、ヒューズ(Fuse)抵抗回路10と、基準抵抗回路20と、判定回路30と、を有する。ヒューズ抵抗回路10と基準抵抗回路20とは、接地電位VSSを供給する接地線82と接続される。判定回路30は、電源電位VDDを供給する電源電位線81と接続される。
ヒューズ抵抗回路10は、ヒューズ4と、抵抗素子Rf1およびRf2と、を含む。抵抗素子Rf1と抵抗素子Rf2とは、それぞれ所定抵抗素子の一例である。抵抗素子Rf1および抵抗素子Rf2は、それぞれ、ヒューズ4と直列に接続される。本実施形態では、ヒューズ4の一端が抵抗素子Rf1と接続され、ヒューズ4の他端が抵抗素子Rf2と接続される。
ヒューズ4は、特性トリミング用のヒューズとして用いられる。なお、ヒューズ4は、アドレス置換用のヒューズとして用いることも可能である。また、ヒューズ4としては、例えば、Metalヒューズまたは溶断(Anti)ヒューズが用いられる。
抵抗素子Rf1およびRf2は、ヒューズ4を介して互いに直列に接続される。よって、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値は、ヒューズ4と抵抗素子Rf1と抵抗素子Rf2との抵抗値の加算値である。
基準抵抗回路20は、抵抗素子Rr1および抵抗素子Rr2を含む。抵抗素子Rr1と抵抗素子Rr2とで、特定抵抗素子が構成される。なお、特定抵抗素子は、1つの抵抗素子で構成されてもよく、3つ以上の抵抗素子で構成されてもよい。
本実施形態では、抵抗素子Rr1およびRr2は、互いに直列に接続される。よって、基準抵抗回路20の抵抗値は、抵抗素子Rr1と抵抗素子Rr2との抵抗値の加算値である。抵抗素子Rr1と抵抗素子Rr2との抵抗値の加算値は、ヒューズ4が非切断状態であるときのヒューズ抵抗回路10の抵抗値よりも所定の抵抗値だけ大きな抵抗値を有する。本実施形態では、所定の抵抗値として、数kΩ(キロオーム)程度の抵抗値が用いられる。
判定回路30は、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値と基準抵抗回路20の抵抗値とを比較して、ヒューズ4の切断または非切断の判定を行う。
本実施形態では、判定回路30は、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値が、基準抵抗回路20の抵抗値よりも大きい場合には、ヒューズ4の切断を示す切断信号を出力する。一方、判定回路30は、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値が、基準抵抗回路20の抵抗値よりも小さい場合には、ヒューズ4の非切断を示す非切断信号を出力する。
判定回路30は、制御回路31と判定保持回路32とを有する。判定保持回路32は、レベル判定回路320とラッチ回路340とを有する。
制御回路31は、判定保持回路32によるヒューズ判定のタイミングを制御する。制御回路31は、プリチャージ回路310と電源制御回路330とを有する。
プリチャージ回路310は、電源電位線81と接続される。プリチャージ回路310は、レベル判定回路320へのプリチャージを指示する判定準備信号を受け付けると、電源電位線81(電位VDD)とレベル判定回路320の接続端子91との間を接続するとともに、電源電位線81(電位VDD)とレベル判定回路320の接続端子92との間を接続する。また、電源制御回路330は、判定準備信号を受け付けると、レベル判定回路320の接続端子93とヒューズ抵抗回路10との間を切断するとともに、レベル判定回路320の接続端子94と基準抵抗回路20との間を切断する。このため、判定準備信号が、プリチャージ回路310と電源制御回路330とに入力されることによって、ヒューズ抵抗回路10および基準抵抗回路20のそれぞれに供給するための電荷がレベル判定回路320にプリチャージされる。
プリチャージ回路310は、ヒューズ判定の開始を指示する指示信号(以下「判定開始信号」と称する。)を受け付けると、電源電位線81(電位VDD)とレベル判定回路320の接続端子91との間を切断するとともに、電源電位線81(電位VDD)とレベル判定回路320の接続端子92との間を切断する。このため、判定開始信号が、プリチャージ回路310に入力されることによって、レベル判定回路320へのプリチャージが停止される。
また、半導体装置1aに電源が投入されると、電源電位線81に電位VDDが供給されると共に、プリチャージ回路310に、電源投入に伴ってL(Low)レベルからH(High)レベルに遷移する電位(以下、「電源投入に伴ってHレベルに遷移する電位」と称する。)が供給される。プリチャージ回路310は、電源投入に伴ってHレベルに遷移する電位を受け付けると、ヒューズ抵抗回路10および基準抵抗回路20のそれぞれに供給するための電荷を、レベル判定回路320にチャージする。
電源制御回路330は、判定開始信号を受け付けると、判定保持回路32の接続端子93とヒューズ抵抗回路10との間を接続するとともに、判定保持回路32の接続端子94と基準抵抗回路20との間を接続する。このため、判定開始信号が、電源制御回路330に入力されることによって、接続端子91からレベル判定回路320にプリチャージされた電荷が、ヒューズ抵抗回路10に供給され、かつ、接続端子92からレベル判定回路320にプリチャージされた電荷が、基準抵抗回路20に供給される。
電源制御回路330は、電源投入に伴ってHレベルに遷移する電位を受け付けると、判定保持回路32の接続端子93とヒューズ抵抗回路10との間を接続するとともに、判定保持回路32の接続端子94と基準抵抗回路20との間を接続する。このため、電源投入に伴ってHレベルに遷移する電位が、電源制御回路330に入力されることによって、レベル判定回路320にチャージされた電荷が、ヒューズ抵抗回路10に供給され、かつ、レベル判定回路320にチャージされた電荷が、基準抵抗回路20に供給される。
判定保持回路32は、基準抵抗回路20の抵抗値とヒューズ抵抗回路10の抵抗値とを比較する。判定保持回路32は、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値が、基準抵抗回路20の抵抗値よりも大きい場合には、切断信号を出力する。一方、判定保持回路32は、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値が、基準抵抗回路20の抵抗値よりも小さい場合には、非切断信号を出力する。
レベル判定回路320は、電源制御回路330にてヒューズ抵抗回路10と基準抵抗回路20とにそれぞれ接続されると、プリチャージ回路310にて接続端子91からプリチャージまたはチャージされた電荷をヒューズ抵抗回路10に供給し、かつ、プリチャージ回路310にて接続端子92からプリチャージまたはチャージされた電荷を基準抵抗回路20に供給する。
レベル判定回路320は、ヒューズ抵抗回路10と基準抵抗回路20とのそれぞれに電荷を供給すると、ヒューズ抵抗回路10に流れる電流(以下「ヒューズ電流」と称する。)と、基準抵抗回路20に流れる電流(以下「基準電流」と称する。)と、を検出する。
レベル判定回路320は、ヒューズ電流と基準電流とを検出すると、ヒューズ電流が、基準電流よりも小さい場合には、切断信号をラッチ回路340に出力する。一方、レベル判定回路320は、ヒューズ電流が、基準電流よりも大きい場合には、非切断信号をラッチ回路340に出力する。
ラッチ回路340は、レベル判定回路320にて判定された結果を保持する。本実施形態では、ラッチ回路340は、レベル判定回路320から出力される切断信号または非切断信号を保持する。
すなわち、第1の実施形態による半導体装置は、ヒューズ4とヒューズ4に直列に接続された所定抵抗素子(抵抗素子Rf1およびRf2)とを含むヒューズ抵抗回路10と、ヒューズ4が非切断状態であるときのヒューズ抵抗回路10の抵抗値よりも所定の抵抗値だけ大きな抵抗値を有する特定抵抗素子(抵抗素子Rr1およびRr2)を含む基準抵抗回路20と、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値が基準抵抗回路20の抵抗値よりも大きい場合には切断を示す切断信号を出力し、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値が基準抵抗回路20の抵抗値よりも小さい場合には非切断を示す非切断信号を出力する判定回路30と、を含む。
図2は、半導体装置1aの詳細な構成例を示す回路図である。図2では、図1で示した構成と同様の構成については、同一符号を付している。
ヒューズ抵抗回路10は、判定回路30から第1電源電圧を受けると、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値に応じたヒューズ電流を、接地線82(電位VSS)に出力する。第1電源電圧は、本実施形態では、判定回路30を介して電源電位線81(電位VDD)と接地線82(電位VSS)との間に生じる電位差である。
基準抵抗回路20は、判定回路30から、第1電源電圧と同じ第2電源電圧を受けると、基準抵抗回路20の抵抗値に応じた基準電流を、接地線82(電位VSS)に出力する。第2電源電圧は、本実施形態では、判定回路30を介して電源電位線81(電位VDD)と接地線82(電位VSS)との間に生じる電位差である。
判定回路30は、ヒューズ抵抗回路10に生じるヒューズ電流のレベルが、基準抵抗回路20に生じる基準電流のレベルよりも小さい場合には切断信号を出力し、ヒューズ電流のレベルが、基準電流のレベルよりも大きい場合には非切断信号を出力する。
判定保持回路32は、ヒューズ判定の際に電源電位VDDをヒューズ抵抗回路10および基準抵抗回路20にそれぞれ供給する第1端子および第2端子を有する。本実施形態では、第2端子が出力線(FuseOut)に相当し、第1端子が相補線(/FuseOut)に相当する。
制御回路31は、電源電位線81(電位VDD)から、第1電源電圧と第2電源電圧とを受けると、第1電源電圧を第1端子に、第2電源電圧を第2端子に供給し、その後、ヒューズ判定の開始を指示する判定開始信号を受け付けると、判定保持回路32内の第1端子に保持された第1電源電圧を、ヒューズ抵抗回路10に供給し、かつ、判定保持回路32内の第2端子に保持された第2電源電圧を、基準抵抗回路20に供給する。
制御回路31は、判定準備信号を受け付けると、判定保持回路32内の第1端子に第1電源電圧を供給し、かつ、判定保持回路32内の第2端子に第2電源電圧を供給する。また、制御回路31は、判定開始信号を受け付けると、判定保持回路32内の第1端子に保持された電圧を、ヒューズ抵抗回路10に供給し、かつ、判定保持回路32内の第2端子に保持された電圧を、基準抵抗回路20に供給する。
プリチャージ回路310は、ヒューズ判定のタイミングを制御するための第1制御線(/FuseStart)と接続される。プリチャージ回路310は、電源電位VDDが供給される電源電位線81と接続される。また、電源制御回路330は、ヒューズ判定のタイミングを制御するための第2制御線(/FuseStart)と接続される。なお、第1制御線および第2制御線には、互いに同じ信号が供給される。本実施形態では、第1制御線および第2制御線に、Lレベルの判定準備信号と、Hレベルの判定開始信号と、が供給される。
プリチャージ回路310は、第1制御線(/FuseStart)を介して判定準備信号を受け付けると、判定保持回路32内の第1端子および第2端子に、電源電位線81から電源電位VDDを供給する。また、電源制御回路330は、第2制御線(/FuseStart)を介して判定準備信号を受け付けると、判定保持回路32内の第1端子とヒューズ抵抗回路10との間を切断するとともに、判定保持回路32内の第2端子と基準抵抗回路20との間を切断する。よって、出力線(FuseOut)および相補線(/FuseOut)に、電荷がプリチャージされる。
プリチャージ回路310は、第1制御線(/FuseStart)を介して判定開始信号を受け付けると、判定保持回路32内の第1端子および第2端子への電源電位VDDの供給を停止する。よって、出力線(FuseOut)および相補線(/FuseOut)へのプリチャージが停止される。
本実施形態では、プリチャージ回路310は、pチャネルMOSトランジスタ3−1および3−2を有する。
電源制御回路330は、第2制御線(/FuseStart)を介して判定開始信号を受け付けると、判定保持回路32内の第1端子とヒューズ抵抗回路10との間を接続するとともに、判定保持回路32内の第2端子と基準抵抗回路20との間を接続する。また、電源制御回路330は、第2制御線(/FuseStart)を介して、電源投入に伴ってHレベルに遷移する電位を受け付けると、判定保持回路32内の第1端子とヒューズ抵抗回路10との間を接続し、判定保持回路32内の第2端子と基準抵抗回路20との間を接続する。
本実施形態では、電源制御回路330は、nチャネルMOSトランジスタ3−7および3−8を有する。
判定保持回路32は、ヒューズ抵抗回路10に流れるヒューズ電流のレベルが、基準抵抗回路20に流れる基準電流のレベルよりも小さい場合には切断信号を出力し、ヒューズ電流のレベルが、基準電流のレベルよりも大きい場合には非切断信号を出力する。
本実施形態では、判定保持回路32は、pチャネルMOSトランジスタ3−3および3−4と、nチャネルMOSトランジスタ3−5および3−6と、を有する。判定保持回路32は、出力線(FuseOut)と、相補線(/FuseOut)と、を有する。
半導体装置1aにおいて、電源電位線81(電位VDD)が、pチャネルMOSトランジスタ3−1〜3−4のそれぞれのソース端子に接続される。プリチャージ回路310と接続される第1制御線(/FuseStart)は、pチャネルMOSトランジスタ3−1および3−2のそれぞれのゲート端子に接続される。
判定保持回路32が有する出力線(FuseOut)は、pチャネルMOSトランジスタ3−1のドレイン端子と、pチャネルMOSトランジスタ3−3のゲート端子と、nチャネルMOSトランジスタ3−5のゲート端子と、pチャネルMOSトランジスタ3−4のドレイン端子と、nチャネルMOSトランジスタ3−6のドレイン端子と、に接続される。
判定保持回路32が有する相補線(/FuseOut)は、pチャネルMOSトランジスタ3−2のドレイン端子と、pチャネルMOSトランジスタ3−4のゲート端子と、nチャネルMOSトランジスタ3−6のゲート端子と、pチャネルMOSトランジスタ3−3のドレイン端子と、nチャネルMOSトランジスタ3−5のドレイン端子と、に接続される。
電源制御回路330と接続される第2制御線(/FuseStart)は、nチャネルMOSトランジスタ3−7および3−8のそれぞれのゲート端子に接続される。nチャネルMOSトランジスタ3−7のドレイン端子が、nチャネルMOSトランジスタ3−5のソース端子に接続され、nチャネルMOSトランジスタ3−7のソース端子が、抵抗素子Rf1の一端と接続される。抵抗素子Rf1の他端はヒューズ4の一端に接続され、ヒューズ4の他端は、抵抗素子Rf2の一端に接続される。
nチャネルMOSトランジスタ3−8のドレイン端子は、nチャネルMOSトランジスタ3−6のソース端子に接続され、nチャネルMOSトランジスタ3−8のソース端子が、抵抗素子Rr1の一端と接続される。抵抗素子Rr1の他端は、抵抗素子Rr2の一端に接続される。接地線82(電位VSS)は、抵抗素子Rf2の他端と、抵抗素子Rr2の他端と、に接続される。
また、判定保持回路32では、半導体装置1aの電源が停止されると、出力線(FuseOut)および相補線(/FuseOut)はLレベルの電位となる。よって、pチャネルMOSトランジスタ3−3および3−4は導通状態となる。
その後、半導体装置1aに電源が投入されると、プリチャージ回路310は、電源電位線81から、電位VDDに遷移する電源電位を受けると共に、第1制御線(/FuseStart)から、電源投入に伴ってHレベルに遷移する電位を受け付ける。
プリチャージ回路310は、電源電位線81から電位VDDに遷移する電源電位を受けると共に、電源投入に伴ってHレベルに遷移する電位を受け付けると、pチャネルMOSトランジスタ3−1ないし3−4を介して出力線および相補線のそれぞれに電荷をチャージする。電荷がチャージされたことによって出力線および相補線の電位が一定の電位レベルになると、pチャネルMOSトランジスタ3−3および3−4が非導通状態となり、チャージが停止されるとともに、nチャネルMOSトランジスタ3−5および3−6が導通状態となる。
nチャネルMOSトランジスタ3−5および3−6が導通状態となると、電源制御回路330は、相補線とヒューズ抵抗回路10との間を接続し、出力線と基準抵抗回路20との間を接続する。よって、判定保持回路32は、ヒューズ判定(以下「電源投入時に行うヒューズ判定」とも称する)を行うことが可能となる。
すなわち、第1の実施形態による半導体装置では、ヒューズ抵抗回路10が、第1電源電圧を受けると、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値に応じたヒューズ電流を出力し、基準抵抗回路20が、第1電源電圧と同じ電圧値の第2電源電圧を受けると、基準抵抗回路20の抵抗値に応じた基準電流を出力する。そして、判定回路30は、ヒューズ電流のレベルが、基準電流のレベルよりも小さい場合には切断信号を出力し、ヒューズ電流のレベルが、基準電流のレベルよりも大きい場合には非切断信号を出力する。
また、第1の実施形態による半導体装置は、判定回路30が、第1端子(/FuseOut)と第2端子(FuseOut)とを有する判定保持回路32と、制御回路31と、を含む。そして、制御回路31は、第1電源電圧と第2電源電圧とを受けると、第1電源電圧を第1端子(/FuseOut)に、第2電源電圧を第2端子(FuseOut)に供給し、その後、判定の開始を指示する指示信号を受け付けると、第1端子(/FuseOut)に保持された第1電源電圧をヒューズ抵抗回路10に供給し、かつ、第2端子(FuseOut)に保持された第2電源電圧を基準抵抗回路10に供給し、判定保持回路32は、ヒューズ電流のレベルが、基準電流のレベルよりも小さい場合には切断信号を出力し、ヒューズ電流のレベルが、基準電流のレベルよりも大きい場合には非切断信号を出力する。
次に半導体装置1aの動作について説明する。
制御回路31において、判定準備信号が第1制御線および第2制御線に供給され、その後、判定開始信号が供給されたときの半導体装置1aの動作について説明する。
まず、プリチャージ回路310の第1制御線と電源制御回路330の第2制御線とに、判定準備信号としてLレベルの電位が供給されると、pチャネルMOSトランジスタ3−1および3−2が導通状態となり、nチャネルMOSトランジスタ3−7および3−8が非導通状態となる。このため、出力線(FuseOut)と相補線(/FuseOut)とに電荷がプリチャージされ、出力線(FuseOut)と相補線(/FuseOut)との電位が、Hレベル(VDD)となる。そして、nチャネルMOSトランジスタ3−5および3−6が導通状態となる。
その後、第1制御線および第2制御線に、判定開始信号としてHレベルの電位が供給されると、pチャネルMOSトランジスタ3−1および3−2が非導通状態となり、nチャネルMOSトランジスタ3−7および3−8が導通状態となる。よって、電荷がプリチャージされた相補線(/FuseOut)からヒューズ抵抗回路10に電流が流れるとともに、電荷がプリチャージされた出力線(FuseOut)から基準抵抗回路20に電流が流れる。
ヒューズ4が非切断状態では、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値が、基準抵抗回路20の抵抗値よりも小さいため、判定開始信号としてHレベルの電位が供給されると、ヒューズ抵抗回路10に流れるヒューズ電流は、基準抵抗回路20に流れる基準電流よりも大きくなる。
このため、相補線(/FuseOut)の電位が、出力線(FuseOut)の電位よりも速く低下し、nチャネルMOSトランジスタ3−6が非導通状態となるとともに、pチャネルMOSトランジスタ3−4が導通状態となって、出力線(FuseOut)の電位がHレベルとなる。よって、判定保持回路32は、出力線(FuseOut)から、非切断信号として、Hレベルの電位を出力する。
一方、ヒューズ4が切断状態では、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値が、基準抵抗回路20の抵抗値よりも大きいため、判定開始信号としてHレベルの電位が供給されると、ヒューズ抵抗回路10に流れるヒューズ電流は、基準抵抗回路20に流れる基準電流よりも小さくなる。
次に、制御回路31において、電源投入に伴ってHレベルに遷移する電位が、第1制御線および第2制御線に供給されたときの半導体装置1aの動作について説明する。
まず、半導体装置1aの電源が停止された(OFF)状態では、出力線(FuseOut)と相補線(/FuseOut)との電位は、それぞれLレベルである。
半導体装置1aの電源が投入される(ON)と、電源電位線81に供給される電源電位と共にLレベルからHレベルに遷移する電位が、第1制御線および第2制御線に供給される。また、出力線(FuseOut)と相補線(/FuseOut)との電位はLレベルであるため、pチャネルMOSトランジスタ3−3および3−4は導通状態である。
このため、電源電位線81から、pチャネルMOSトランジスタ3−1ないし3−4を介して相補線(/FuseOut)と出力線(FuseOut)とにそれぞれ電荷が供給される。よって、相補線(/FuseOut)および出力線(FuseOut)には、同じ電位値の電位が供給され、相補線からヒューズ判定回路10に電流が流れ、出力線から基準抵抗回路20に電流が流れる。
ヒューズ4が非切断状態では、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値が、基準抵抗回路20の抵抗値よりも小さいため、電源投入に伴ってHレベルに遷移する電位が供給されると、ヒューズ抵抗回路10に流れるヒューズ電流は、基準抵抗回路20に流れる基準電流よりも大きくなる。
このため、相補線(/FuseOut)の電位が、出力線(FuseOut)の電位よりも速く低下し、nチャネルMOSトランジスタ3−6が非導通状態となるとともに、pチャネルMOSトランジスタ3−4が導通状態となって、出力線(FuseOut)の電位がHレベルとなる。よって、判定保持回路32は、出力線(FuseOut)から、非切断信号として、Hレベルの電位を出力する。
一方、ヒューズ4が切断状態では、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値が、基準抵抗回路20の抵抗値よりも大きいため、電源投入に伴ってHレベルに遷移する電位が供給されると、ヒューズ抵抗回路10に流れるヒューズ電流は、基準抵抗回路20に流れる基準電流よりも小さくなる。
このため、出力線(FuseOut)の電位が、相補線(/FuseOut)の電位よりも速く低下し、判定保持回路32は、出力線(FuseOut)から、切断信号として、Lレベルの電位を出力する。
よって、電源投入時に行うヒューズ判定では、半導体装置1aに電源が投入されると、出力線と相補線とにそれぞれ電荷が蓄積され、電源投入に伴ってHレベルに遷移する電位が、プリチャージ回路310と電源制御回路330とに供給されているので、出力線に蓄積された電荷が基準抵抗回路20に供給され、かつ、相補線に蓄積された電荷がヒューズ判定回路10に供給される。このため、判定保持回路32は、ヒューズ判定を行うことが可能となる。
ここで、電源投入に伴ってHレベルに遷移する電位を用いたヒューズ判定の利点について説明する。
一般に、ヒューズ判定を行うには1ショット信号が用いられることが多い。1ショット信号は、Lレベルの判定準備信号と、その後のHレベルの判定開始信号と、で構成される。
1ショット信号を用いて行われるヒューズ判定としては、電源投入直後に行われる判定(以下「電源投入信号によるヒューズ判定」と称する。)と、電源電位VDDが安定した後に行われるヒューズ判定(以下「ヒューズ判定信号によるヒューズ判定」と称する。)と、がある。
電源投入信号による判定では、電源投入による電源電位の立ち上がりが、トランジスタの有する閾値電圧を基準に検出され、立ち上がりの電位値が閾値電圧を超えると、1ショット信号が生成される。このため、トランジスタの製造バラツキにより、例えば、電源投入が行われても、立ち上がりの電位値が閾値電圧を超えず、1ショット信号が生成されないことがある。
また、ヒューズ判定信号による判定では、ヒューズ判定の開始から半導体装置による所定処理が開始されるまでの時間が短いので、ヒューズ判定での判定結果が生成される前に、所定処理が開始されてしまうことがある。
このため、電源投入信号による判定とヒューズ判定信号による判定とでは、ヒューズ判定が適切に行われない恐れがある。
一方、半導体装置1aでは、電源投入信号による判定とヒューズ判定信号による判定とは異なり、1ショット信号の生成を行うことなく、電源投入に伴ってHレベルに遷移する電位のみでヒューズ判定を行うことができる。よって、半導体装置1aでは、電源投入信号による判定とヒューズ判定信号による判定とに比べて、確実にヒューズ判定を行うことが可能となる。
図3は、ヒューズ4が切断状態のときの半導体装置1aの動作を示すタイミングチャートである。
図3(a)は、出力線と相補線とに生じる電位の変動を示す図である。図3(b)は、基準抵抗回路20とヒューズ4とに生じる電流の変動を示す図である。図3(a)および図3(b)の横軸は、共通の時間軸である。また、図3(a)に示したFuseStat信号の反転信号が、第1制御線および第2制御線(/FuseStart)にそれぞれ供給される。
まず、第1制御線および第2制御線(/FuseStart)の電位が、Hレベルに設定され、出力線(FuseOut)と相補線(/FuseOut)との電位が、それぞれLレベルに設定される。
時刻t1で、第1制御線および第2制御線の電位がLレベルになると、pチャネルMOSトランジスタ3−1および3−2が導通状態となり、nチャネルMOSトランジスタ3−7および3−8が非導通状態となる。このため、出力線と相補線とに電荷がプリチャージされて(電源電位VDDが供給されて)、出力線と相補線との電位が、それぞれHレベル(VDD)になる。よって、nチャネルMOSトランジスタ3−5および3−6は導通状態となる。
時刻t2で、第1制御線および第2制御線の電位がHレベルになると、pチャネルMOSトランジスタ3−1および3−2が非導通状態となり、nチャネルMOSトランジスタ3−7および3−8が導通状態となる。よって、出力線が基準抵抗回路20と接続されるとともに、相補線がヒューズ抵抗回路10と接続される。このため、出力線から基準抵抗回路20に電流が流れるとともに、相補線からヒューズ4に電流が流れる。
このとき、ヒューズ4は切断状態であり、基準抵抗回路20の抵抗値よりもヒューズ抵抗回路10の抵抗値が大きいため、図3(b)に示すように、基準抵抗御回路10に流れる基準電流よりもヒューズ4に流れるヒューズ電流が小さくなる。よって、出力線の電位がLレベルまで低下するにつれて、相補線の電位がHレベルまで上昇する。
次に、電源投入時に行うヒューズ判定のシミュレーションの結果について説明する。
図4は、ヒューズ4が切断状態のときの半導体装置1aが電源投入時に行うヒューズ判定の動作を示すタイミングチャートである。
図4は、出力線と相補線と第1および第2制御線に生じる電位の変動を示す図である。図4では、横軸が時間軸であり、縦軸は電位である。
時刻T0では、半導体装置1aの電源が投入される(ON)。このとき、出力線(FuseOut)と相補線(/FuseOut)との電位はLレベルであるため、pチャネルMOSトランジスタ3−3および3−4は導通状態である。
電源が投入されると、電源電位線81に供給される電源電位VDDと共に、第1および第2制御線(/FuseStart)に供給される電位がLレベルからHレベルに遷移していく。第1および第2制御線(/FuseStart)に供給される電位がLレベルのときは、pチャネルMOSトランジスタ3−1および3−2は導通状態であり、nチャネルMOSトランジスタ3−7および3−8は非導通状態である。
このため、電源電位線81から、pチャネルMOSトランジスタ3−1ないし3−4を介して相補線(/FuseOut)と出力線(FuseOut)とにそれぞれ電荷が供給される。
時刻T1では、相補線(/FuseOut)および出力線(FuseOut)は、同じ電位まで上昇し、これにより、pチャネルMOSトランジスタ3−3および3−4が非導通状態となると共に、nチャネルMOSトランジスタ3−5および3−6が導通状態となる。よって、相補線(/FuseOut)からヒューズ判定回路10に電流が流れ、出力線(FuseOut)から基準抵抗回路20に電流が流れる。
図4では、ヒューズ4が切断状態であり、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値が、基準抵抗回路20の抵抗値よりも大きいため、ヒューズ抵抗回路10に流れるヒューズ電流は、基準抵抗回路20に流れる基準電流よりも小さくなる。
このため、出力線(FuseOut)の電位が、相補線(/FuseOut)の電位よりも速く低下し、判定保持回路32は、出力線(FuseOut)から、切断信号として、Lレベルの電位を出力する。なお、第1および第2制御線(/FuseStart)の電位は、相補線(/FuseOut)の電位と共に上昇していく。
その後、時刻T2では、図3で示した時刻t1と同様に、第1制御線および第2制御線(/FuseStart)に対し、Lレベルの判定準備信号が供給され、出力線(FuseOut)と相補線(/FuseOut)との電位が、それぞれHレベル(VDD)となる。
時刻T3では、図3で示した時刻t2と同様に、第1制御線および第2制御線(/FuseStart)に対し、Hレベルの判定開始信号が供給されてヒューズ判定が行われ、判定保持回路32は、出力線(FuseOut)から、切断信号として、Lレベルの電位を出力する。
図4に示すように、半導体装置1aは、判定開始信号を用いたヒューズ判定の前に、電源投入時に行うヒューズ判定によって、ヒューズ判定を正しく行うことができる。
図5は、ヒューズ4が非切断状態のときの半導体装置1aが電源投入時に行うヒューズ判定の動作を示すタイミングチャートである。図5は、出力線と相補線と第1および第2制御線に生じる電位の変動を示す図である。
時刻T0では、半導体装置1aの電源が投入される(ON)。このとき、出力線(FuseOut)と相補線(/FuseOut)との電位はLレベルであるため、pチャネルMOSトランジスタ3−3および3−4は導通状態である。
電源が投入されると、電源電位線81に供給される電源電位VDDと共に、第1および第2制御線(/FuseStart)に供給される電位がLレベルからHレベルに遷移していく。第1および第2制御線(/FuseStart)に供給される電位がLレベルのときは、pチャネルMOSトランジスタ3−1および3−2は導通状態であり、nチャネルMOSトランジスタ3−7および3−8は非導通状態である。
このため、電源電位線81から、pチャネルMOSトランジスタ3−1ないし3−4を介して相補線(/FuseOut)と出力線(FuseOut)とにそれぞれ電荷が供給される。
時刻T1では、相補線(/FuseOut)および出力線(FuseOut)は、同じ電位まで上昇し、これにより、pチャネルMOSトランジスタ3−3および3−4が非導通状態となると共に、nチャネルMOSトランジスタ3−5および3−6が導通状態となる。よって、相補線(/FuseOut)からヒューズ判定回路10に電流が流れ、出力線(FuseOut)から基準抵抗回路20に電流が流れる。
図5では、ヒューズ4が非切断状態であり、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値が、基準抵抗回路20の抵抗値よりも小さいため、ヒューズ抵抗回路10に流れるヒューズ電流は、基準抵抗回路20に流れる基準電流よりも大きくなる。
このため、相補線(/FuseOut)の電位が、出力線(FuseOut)の電位よりも速く低下し、nチャネルMOSトランジスタ3−6が非導通状態となるとともに、pチャネルMOSトランジスタ3−4が導通状態となって、出力線(FuseOut)の電位がHレベルとなる。よって、判定保持回路32は、出力線(FuseOut)から、非切断信号として、Hレベルの電位を出力する。
その後、時刻T2では、第1制御線および第2制御線(/FuseStart)に対し、Lレベルの判定準備信号が供給され、出力線(FuseOut)と相補線(/FuseOut)との電位が、それぞれHレベルとなる。
時刻T3では、第1制御線および第2制御線(/FuseStart)に対し、Hレベルの判定開始信号が供給されてヒューズ判定が行われ、判定保持回路32は、出力線(FuseOut)から、非切断信号として、Hレベルの電位を出力する。
図5に示すように、半導体装置1aは、判定開始信号を用いたヒューズ判定の前に、電源投入時に行うヒューズ判定によって、ヒューズ判定を正しく行うことができる。
次に、出力線(FuseOut)に出力インバータを接続する構成において、電源投入時に行うヒューズ判定をより正確に行うための半導体装置の構成例を図6に示す。
図6は、出力線に出力インバータを接続する半導体装置1Aの構成例を示す回路図である。図6では、図2で示した構成と同様の構成について、同一符号を付している。
半導体装置1Aは、図2に示した半導体装置1aの構成に加えて、出力インバータ4−1とインバータ4−2とを有する。
出力インバータ4−1は、出力線から出力される信号を、出力先の回路(不図示)で使用される信号に変換するために用いられる。出力インバータ4−1は、その入力端が出力線(FuseOut)と接続され、出力インバータ4−1の出力端が、出力線9aと接続される。出力インバータ4−1は、出力線(FuseOut)からHレベルの電位が供給されると、Lレベルの電位を出力線9aに供給し、出力線(FuseOut)からLレベルの電位が供給されると、Hレベルの電位を出力線9aに供給する。
インバータ4−2は、その入力端が相補線(/FuseOut)と、pチャネルMOSトランジスタ3−3のドレイン端子と、nチャネルMOSトランジスタ3−5のドレイン端子と、に接続される。また、インバータ4−2の出力端は開放状態である。
半導体装置1Aでは、出力線(FuseOut)から出力される信号を、出力先の回路で使用される信号に変換するために、出力線が出力インバータ4−1と接続されることにより、出力線の有する容量成分が増加する。よって、出力インバータ4−1と同じインバータ4−2を相補線(/FuseOut)に接続することにより、出力線(FuseOut)の有する容量成分と、相補線(/FuseOut)の有する容量成分とが同等となる。
よって、電源電位線81から、出力線(FuseOut)と相補線(/FuseOut)とに電荷が供給されるときに両者の容量成分の違いによって、出力線(FuseOut)と相補線(/FuseOut)との電位値に差が生じることを抑制することができる。
さらに、出力線(FuseOut)から基準抵抗回路20に電荷が供給され、かつ、相補線(/FuseOut)からヒューズ抵抗回路10に電荷が供給されるときに、基準抵抗回路20とヒューズ抵抗回路10とのそれぞれに流れる電流量の差が、両者の容量成分の違いによって、本来の電流量の差と異なる値になることを抑制することができる。
このため、出力線(FuseOut)に出力インバータ4−1を接続する半導体装置1Aは、相補線(/FuseOut)にインバータ4−2を接続することにより、電源投入時に行うヒューズ判定を精度よく行うことが可能となる。
したがって、半導体装置1Aは、電源投入時に行うヒューズ判定の判定精度を低下させることなく、出力先の回路に対し判定結果を出力することが可能となる。
第1の実施形態によれば、半導体装置1aは、ヒューズ4とヒューズ4に直列に接続された所定抵抗素子(抵抗素子Rf1およびRf2)を含むヒューズ抵抗回路10と、非切断状態であるときのヒューズ抵抗回路10の抵抗値よりも所定の抵抗値だけ大きな抵抗値を有する特定抵抗素子(抵抗素子Rr1およびRr2)を含む基準抵抗回路20と、を備え、判定回路30が、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値が基準抵抗回路20の抵抗値よりも大きい場合にはヒューズ4の切断を示す所定信号を出力し、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値が基準抵抗回路20の抵抗値よりも小さい場合にはヒューズ4の非切断を示す特定信号を出力する。
よって、判定回路30は、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値と基準抵抗回路20の抵抗値とを比較して、ヒューズ4が切断状態か非切断状態かを判定することができる。このため、ヒューズ4が非切断状態である半導体装置1aでは、判定回路30は、基準抵抗回路20の抵抗値が、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値よりも大きいため、ヒューズ4が非切断状態であると判定する。
一方、ヒューズ4の切断が不十分な半導体装置1aでは、判定回路30は、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値が、基準抵抗回路20の抵抗値よりも大きければ、ヒューズ4が切断状態であると正しく判定することができる。すなわち、ヒューズ抵抗回路10と基準抵抗回路20との抵抗値の差分である所定の抵抗値と比較して、不十分な切断により生じるヒューズの抵抗値が大きければ、判定回路30は、ヒューズ4が切断状態であると正しく判定することができる。
したがって、判定回路30は、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値と基準抵抗回路20の抵抗値との差分である所定の抵抗値が小さいほど、不十分な切断により抵抗値が十分に大きくならないヒューズ4を切断状態であると正しく判定できるようになる。よって、判定回路30は、切断が不十分なヒューズ4を切断状態であると判定するのに最低限必要となるヒューズの抵抗値を大幅に下げることが可能になる。
例えば、判定回路30は、切断の不十分なヒューズ4の抵抗値が10kΩ(キロオーム)程度でも、ヒューズ4が切断状態であると判定することができる。これに対し、一般的な判定回路では、切断が不十分なヒューズでもヒューズの抵抗値が500kΩ程度有していないと、ヒューズが切断状態であると正しく判定することが困難になる。このため、本実施形態では、一般的な判定回路に比べて、ヒューズの切断が不十分な状況でも、判定回路30が切断状態であると判定するのに最低限必要となるヒューズの抵抗値を大幅に低下させることができる。
また、第1の実施形態では、ヒューズ抵抗回路10が、第1電源電圧を受けると、ヒューズ抵抗回路10の抵抗値に応じたヒューズ電流を出力し、基準抵抗回路20が、第1電源電圧と同じ第2電源電圧を受けると、基準抵抗回路20の抵抗値に応じた基準電流を出力する。そして、判定回路30は、そのヒューズ電流のレベルが、基準電流のレベルよりも小さい場合には切断信号を出力し、ヒューズ電流のレベルが、基準電流のレベルよりも大きい場合には非切断信号を出力する。
このとき、ヒューズ抵抗回路10にはヒューズ4と直列に接続された所定抵抗素子(抵抗素子Rf1およびRf2)が設けられ、かつ、基準抵抗回路には特定抵抗素子(抵抗素子Rr1およびRr2)が設けられている。このため、半導体装置1aは、ヒューズ4が切断状態か非切断状態かを判定する際に、ヒューズ抵抗回路10および基準抵抗回路20のそれぞれに流れる電流(貫通電流)の大きさを低減することができる。
また、第1の実施形態では、判定回路30は、制御回路31と、第1端子および第2端子を有する判定保持回路32と、を含み、制御回路31が、第1電源電圧と第2電源電圧とを受けると、その第1電源電圧を第1端子に、その第2電源電圧を第2端子に供給し、その後、判ヒューズ判定の開始を指示する指示信号を受け付けると、第1端子に保持された第1電源電圧をヒューズ抵抗回路10に供給し、かつ、第2端子に保持された第2電源電圧を基準抵抗回路20に供給する。そして、判定保持回路32は、ヒューズ電流のレベルが、基準電流のレベルよりも小さい場合には切断信号を出力し、ヒューズ電流のレベルが、基準電流のレベルよりも大きい場合には非切断信号を出力する。
よって、第1の実施形態では、ヒューズ4が切断状態か非切断状態かを判定する場合に限り、ヒューズ抵抗回路10と基準抵抗回路20とにそれぞれ第1電源電圧と第2電源電圧とを供給することになる。このため、ヒューズ判定の際にヒューズ抵抗回路10および基準抵抗回路20で消費される電気エネルギーを低減するこができ、半導体装置1aの消費電力を低減することができる。
また、半導体装置1aでは、基準抵抗回路20内の特定抵抗素子と、ヒューズ抵抗回路10内の所定抵抗素子と、の製造バラツキが小さい。このため、半導体装置1aは、ヒューズが接続状態か否かを設計どおりに判定することが容易である。さらに、半導体装置1aでは、基準抵抗回路20と接続抵抗回20とに接続される電源電位線81(電位VDD)を共用することによって、電源電圧がドロップしてしまう状況や、接地線82(電位VSS)が浮いてしまう状況でも、正確にヒューズ4の切断の有無を判定することができる。
なお、第1の実施形態では、半導体装置として、半導体装置1aが有するpチャネルMOSトランジスタをnチャネルMOSトランジスタに交換し、半導体装置1aが有するnチャネルMOSトランジスタをpチャネルMOSトランジスタに交換した半導体装置1bが用いられても良い。
図7は、本発明の第1の実施形態における半導体装置1bの構成例を示す回路図である。
半導体装置1bは、ヒューズ抵抗回路11と、基準抵抗回路21と、プリチャージ回路311と、判定保持回路321と、電源制御回路331と、を有する。
ヒューズ抵抗回路11は、図2に示したヒューズ抵抗回路10に対応する。ヒューズ抵抗回路11は、抵抗素子Rf1およびRf2と、ヒューズ4と、を有する。
基準抵抗回路21は、図2に示した基準抵抗回路20に対応する。基準抵抗回路21は、抵抗素子Rr1およびRf2を有する。
プリチャージ回路311は、図2に示したプリチャージ回路310に対応する。プリチャージ回路311は、nチャネルMOSトランジスタ7−1および7−2を有する。
判定保持回路321は、図2に示した判定保持回路32に対応する。判定保持回路321は、nチャネルMOSトランジスタ7−3および7−4と、pチャネルMOSトランジスタ7−5および7−6と、を有する。
電源制御回路331は、図2に示した電源制御回路330に対応する。電源制御回路331は、pチャネルMOSトランジスタ7−7および7−8を有する。
半導体装置1bにおいて、電源電位線81(電位VDD)は、抵抗素子Rr2の一端と、抵抗素子Rf2の一端と、に接続される。抵抗素子Rf2の他端がヒューズ4の一端に接続され、ヒューズ4の他端が抵抗素子Rf1の一端に接続される。また、抵抗素子Rr2の他端が、抵抗素子Rr1の一端に接続される。
電源制御回路331の第2制御線(FuseStart)は、pチャネルMOSトランジスタ7−7および7−8のそれぞれのゲート端子に接続される。pチャネルMOSトランジスタ7−7のソース端子が、抵抗素子Rf1の他端と接続され、pチャネルMOSトランジスタ7−7のドレイン端子が、pチャネルMOSトランジスタ7−5のソース端子に接続される。
pチャネルMOSトランジスタ7−8のソース端子が、抵抗素子Rr1の他端と接続され、pチャネルMOSトランジスタ7−8のドレイン端子が、pチャネルMOSトランジスタ7−6のソース端子に接続される。
判定保持回路321の出力線(FuseOut)は、nチャネルMOSトランジスタ7−1のドレイン端子と、nチャネルMOSトランジスタ7−3のゲート端子と、pチャネルMOSトランジスタ7−5のゲート端子と、nチャネルMOSトランジスタ7−4のドレイン端子と、pチャネルMOSトランジスタ7−6のドレイン端子と、に接続される。
判定保持回路321の相補線(/FuseOut)は、nチャネルMOSトランジスタ7−2のドレイン端子と、nチャネルMOSトランジスタ7−4のゲート端子と、pチャネルMOSトランジスタ7−6のゲート端子と、nチャネルMOSトランジスタ7−3のドレイン端子と、pチャネルMOSトランジスタ7−5のドレイン端子と、に接続される。
プリチャージ回路311の第1制御線(FuseStart)は、nチャネルMOSトランジスタ7−1および7−2のそれぞれのゲート端子に接続される。接地線82(電位VSS)は、nチャネルMOSトランジスタ7−1〜7−4のそれぞれのソース端子に接続される。
図8は、出力線に出力インバータを接続する半導体装置1Bの構成例を示す回路図である。図8では、図7で示した構成と同様の構成については、同一符号を付している。
半導体装置1Bは、図7に示した半導体装置1bの構成に加えて、出力インバータ4−3とインバータ4−4とを有する。
出力インバータ4−3は、出力線から出力される信号を、出力先の回路(不図示)で使用される信号に変換するために用いられる。出力インバータ4−3は、その入力端が出力線(FuseOut)と接続され、出力インバータ4−3の出力端が、出力線9bと接続される。出力インバータ4−3は、出力線(FuseOut)からHレベルの電位が供給されると、Lレベルの電位を出力線9bに供給し、出力線(FuseOut)からLレベルの電位が供給されると、Hレベルの電位を出力線9bに供給する。
インバータ4−4は、その入力端が相補線(/FuseOut)と、nチャネルMOSトランジスタ7−3のドレイン端子と、nチャネルMOSトランジスタ7−5のドレイン端子と、に接続されている。また、インバータ4−4の出力端は開放状態である。
半導体装置1Bでは、出力線(FuseOut)から出力される信号を、出力先の回路で使用される信号に変換するために出力線が出力インバータ4−3に接続され、出力インバータ4−3と同じインバータ4−4が相補線(/FuseOut)に接続されることにより、出力線の有する容量成分と相補線)の有する容量成分とが同等となる。
このため、出力線(FuseOut)に出力インバータ4−3を接続する半導体装置1Bは、相補線(/FuseOut)にインバータ4−4を接続することにより、電源投入時に行うヒューズ判定を精度よく行うことが可能となる。
したがって、半導体装置1Bは、電源投入時に行うヒューズ判定の判定精度を低下させることなく、出力先の回路に対し判定結果を出力することが可能となる。
次に本発明の第2の実施形態について説明する。
図9は、本発明の第2の実施形態における半導体装置2aを示す回路図である。
半導体装置2aは、ヒューズ抵抗回路12と、基準抵抗回路22と、プリチャージ回路312と、判定保持回路322と、を有する。
ヒューズ抵抗回路12は、図1に示したヒューズ抵抗回路10に対応する。
ヒューズ抵抗回路12は、その一端が第1電源線83と接続され、その他端が第1接地線84と接続される。第1電源線83は、第1電源電位VDDをヒューズ抵抗回路12の一端に供給し、第1接地線84は、第1電源電位VDDから第1電源電圧だけ小さな電位値の第1接地電位VSSを、ヒューズ抵抗回路12の他端に供給する。
ヒューズ抵抗回路12は、抵抗素子Rf1およびRf2とヒューズ4とに加えて、特定の抵抗値を有する抵抗素子Rf3をさらに含む。抵抗素子Rf1と抵抗素子Rf2とは、それぞれ所定抵抗素子の一例である。抵抗素子Rf1および抵抗素子Rf2は、それぞれ、ヒューズ4と直列に接続される。抵抗素子Rf1は、第1所定抵抗素子の一例であり、抵抗素子Rf2は、第2所定抵抗素子の一例である。抵抗素子Rf3は、所定検出素子の一例である。
本実施形態では、抵抗素子Rf3の一端が第1電源線83(電位VDD)と接続され、抵抗素子Rf3の他端が抵抗素子Rf1の一端と接続される。ヒューズ4の一端が抵抗素子Rf1の他端と接続され、ヒューズ4の他端が抵抗素子Rf2の一端と接続され、抵抗素子Rf2の他端は、第1接地線84(電位VSS)と接続される。
よって、ヒューズ抵抗回路12の抵抗値は、抵抗素子Rf1とヒューズ4と抵抗素子Rf2と抵抗素子Rf3との抵抗値の加算値となる。なお、抵抗素子Rf1〜Rf3のそれぞれの抵抗値は、ヒューズ抵抗回路12に流れる貫通電流を抑制するために、例えば、100kΩ(キロオーム)程度の抵抗値となるように抵抗素子Rf1〜Rf3のそれぞれが設計される。
基準抵抗回路22は、図1に示した基準抵抗回路20に対応する。
基準抵抗回路22は、その一端が第2電源線85(電位VDD)と接続され、その他端が第2接地線86(電位VSS)と接続される。第2電源線85は、第1電源電位VDDと同じ電位値の第2電源電位VDDを、基準抵抗回路22の一端に供給し、第2接地線86は、第2電源電位VDDから第2電源電圧だけ小さな電位値の第2接地電位VSSを、基準抵抗回路22の他端に供給する。
基準抵抗回路22は、抵抗素子Rr1およびRr2に加えて、特定の抵抗値と同じ抵抗値を有する抵抗素子Rr3をさらに含む。抵抗素子Rr1と抵抗素子Rr2とで特定抵抗素子が構成される。抵抗素子Rr1は、第1特定抵抗素子の一例であり、抵抗素子Rr2は、第2特定抵抗素子の一例である。抵抗素子Rr3は、特定検出素子の一例である。
本実施形態では、抵抗素子Rr3の一端が第2電源線85(電位VDD)と接続され、抵抗素子Rr3の他端が抵抗素子Rr1の一端と接続される。抵抗素子Rr1の他端が抵抗素子Rr2の一端と接続され、抵抗素子Rr2の他端は第2接地線86(電位VSS)と接続される。
よって、基準抵抗回路22の抵抗値は、抵抗素子Rr1と抵抗素子Rr2と抵抗素子Rr3との抵抗値の加算値となる。なお、抵抗素子Rr3は、抵抗素子Rf3と同じ抵抗値を有する。また、抵抗素子Rf1〜Rf3およびRr1〜Rr3のそれぞれの抵抗値は、基準抵抗回路21に流れる貫通電流を抑制するため、例えば、100kΩ程度の抵抗値となるように抵抗素子Rf1〜Rf3およびRr1〜Rr3のそれぞれが設計される。
プリチャージ回路312は、図1に示したプリチャージ回路310に対応する。プリチャージ回路312は、pチャネルMOSトランジスタ5−1および5−2を有する。
判定保持回路322は、図1に示した判定保持回路32に対応する。
判定保持回路322は、ヒューズ抵抗回路12の抵抗値に応じたヒューズ電流によって抵抗素子Rf3の他端に生じる電位(以下「ヒューズ電位」と称する。)と、基準抵抗回路22の抵抗値に応じた基準電流によって抵抗素子Rr3の他端に生じる電位(以下「基準電位」と称する。)と、を検出する。本実施形態では、ヒューズ電位が、ノードNfに生じる電位であり、基準電位が、ノードNrに生じる電位である。
判定保持回路322は、ヒューズ電位のレベルが、基準電位のレベルよりも大きい場合には切断信号を出力し、ヒューズ電位のレベルが、基準電位のレベルよりも小さい場合には非切断信号を出力する。
本実施形態では、判定保持回路322は、pチャネルMOSトランジスタ5−3〜5−6と、nチャネルMOSトランジスタ5−7〜5−10と、を有する。
半導体装置2aにおいて、電源電位線81(電位VDD)は、pチャネルMOSトランジスタ5−1〜5−4のそれぞれのソース端子に接続される。プリチャージ回路312の制御線(/FuseStart)は、pチャネルMOSトランジスタ5−1および5−2のそれぞれのゲート端子に接続される。
判定保持回路322の出力線(FuseOut)は、pチャネルMOSトランジスタ5−2のドレイン端子と、pチャネルMOSトランジスタ5−5のゲート端子と、nチャネルMOSトランジスタ5−7のゲート端子と、pチャネルMOSトランジスタ5−6のドレイン端子と、nチャネルMOSトランジスタ5−8のドレイン端子と、に接続される。
さらに、pチャネルMOSトランジスタ5−6のソース端子が、pチャネルMOSトランジスタ5−4のドレイン端子に接続される。また、nチャネルMOSトランジスタ5−8のソース端子は、nチャネルMOSトランジスタ5−10のドレイン端子に接続される。
判定保持回路322の相補線(/FuseOut)は、pチャネルMOSトランジスタ5−1のドレイン端子と、pチャネルMOSトランジスタ5−6のゲート端子と、nチャネルMOSトランジスタ5−8のゲート端子と、pチャネルMOSトランジスタ5−5のドレイン端子と、nチャネルMOSトランジスタ5−7のドレイン端子と、に接続される。
さらに、pチャネルMOSトランジスタ5−5のソース端子が、pチャネルMOSトランジスタ5−3のドレイン端子に接続される。また、nチャネルMOSトランジスタ5−7のソース端子は、nチャネルMOSトランジスタ5−9のドレイン端子に接続される。
接地線82(電位VSS)は、nチャネルMOSトランジスタ5−9および5−10のそれぞれのソース端子に接続される。
ノードNfは、pチャネルMOSトランジスタ5−3のゲート端子と、nチャネルMOSトランジスタ5−9のゲート端子と、抵抗素子Rf1の一端と、抵抗素子Rf3の他端と、に接続される。ノードNrは、pチャネルMOSトランジスタ5−4のゲート端子と、nチャネルMOSトランジスタ5−10のゲート端子と、抵抗素子Rr1の一端と、抵抗素子Rr3の他端と、に接続される。
すなわち、第2の実施形態による半導体装置は、第1電源電位VDDを供給する第1電源線83と、第1電源電位VDDから第1電源電圧だけ小さな電位値の第1接地電位VSSを供給する第1接地線84と、第1電源電位VDDと同じ電位値の第2電源電位VDDを供給する第2電源線85と、第2電源電位VDDから第2電源電圧だけ小さな電位値の第2接地電位VSSを供給する第2接地線86と、をさらに含み、ヒューズ抵抗回路12が、特定の抵抗値を有する所定検出素子Rf3をさらに含み、所定抵抗素子は、第1所定抵抗素子Rf1と第2所定抵抗素子Rf2とを有し、所定検出素子Rf3の一端が第1電源線83(電位VDD)と接続され、所定検出素子Rf3の他端が第1所定抵抗素子Rr1の一端と接続され、ヒューズ4の一端が第1所定抵抗素子Rf1の他端と接続され、ヒューズ4の他端が第2所定抵抗素子Rf2の一端と接続され、第2所定抵抗素子Rf2の他端は、第1接地線84(電位VSS)と接続される。また、基準抵抗回路22は、特定の抵抗値と同じ抵抗値を有する特定検出素子Rr3をさらに含み、特定抵抗素子は、第1特定抵抗素子Rr1と第2特定抵抗素子Rr2とを有し、特定検出素子Rr3の一端が第2電源線85(電位VDD)と接続され、特定検出素子Rr3の他端が第1特定抵抗素子Rr1の一端と接続され、第2特定抵抗素子Rr2の一端が第1特定抵抗素子Rr1の他端と接続され、第2特定抵抗素子Rr2の他端は第2接地線86(電位VSS)と接続される。そして、判定回路としての判定保持回路322は、ヒューズ電流により所定検出素子Rf3の他端に生じるヒューズ電位と、基準電流により特定検出素子Rr3の他端に生じる基準電位と、を検出し、ヒューズ電位のレベルが、基準電位のレベルよりも大きい場合には切断信号を出力し、ヒューズ電位のレベルが、基準電位のレベルよりも小さい場合には非切断信号を出力する。
次に半導体装置2aの動作について説明する。
プリチャージ回路312において、判定準備信号が制御線(/FuseStart)に供給され、その後に判定開始信号が供給されたときの半導体装置2aの動作について説明する。
まず、プリチャージ回路312の制御線から判定準備信号としてLレベルの電位が供給されると、pチャネルMOSトランジスタ5−1および5−2が導通状態となり、出力線(FuseOut)と相補線(/FuseOut)とに電源電位VDDが供給され、出力線と相補線とに電荷がプリチャージされて、出力線と相補線との電位が、Hレベル(VDD)となる。このとき、nチャネルMOSトランジスタ5−7および5−8は導通状態となる。
その後、プリチャージ回路312の制御線から判定開始信号としてHレベルの電位が供給されると、pチャネルMOSトランジスタ5−1および5−2が非導通状態となる。pチャネルMOSトランジスタ5−1および5−2が非導通状態となると、電荷がプリチャージされた出力線(FuseOut)から、nチャネルMOSトランジスタ5−10を介して接地線82(電位VSS)に電流が流れるとともに、電荷がプリチャージされた相補線(/FuseOut)から、nチャネルMOSトランジスタ5−9を介して接地線82(電位VSS)に電流が流れる。
ヒューズ4が非切断状態では、基準抵抗回路22の抵抗値が、ヒューズ抵抗回路12の抵抗値よりも大きいため、ノードNrの電位は、ノードNfの電位よりも高くなる。よって、pチャネルMOSトランジスタ5−1および5−2が非導通状態となると、出力線(FuseOut)から、nチャネルMOSトランジスタ5−10を介して接地線82(電位VSS)に流れる電流が、相補線(/FuseOut)から、nチャネルMOSトランジスタ5−9を介して接地線82(電位VSS)に流れる電流よりも大きくなる。
このため、出力線(FuseOut)の電位が、相補線(/FuseOut)の電位よりも速く低下し、判定保持回路322は、出力線(FuseOut)から、非切断信号として、Lレベルの電位を出力する。
一方、ヒューズ4が切断状態では、基準抵抗回路22の抵抗値が、ヒューズ抵抗回路12の抵抗値よりも小さいため、ノードNrの電位は、ノードNfの電位よりも低くなる。よって、pチャネルMOSトランジスタ5−1および5−2が非導通状態となると、出力線(FuseOut)から、nチャネルMOSトランジスタ5−10を介して接地線82(電位VSS)に流れる電流が、相補線(/FuseOut)から、nチャネルMOSトランジスタ5−9を介して接地線82(電位VSS)に流れる電流よりも小さくなる。
このため、相補線(/FuseOut)の電位が、出力線(FuseOut)の電位よりも速く低下し、nチャネルMOSトランジスタ5−8が非導通状態となるとともに、pチャネルMOSトランジスタ5−6が導通状態となる。そして、pチャネルMOSトランジスタ5−4を介して出力線(FuseOut)に電流が供給され、出力線の電位はHレベルとなる。よって、判定保持回路322は、出力線(FuseOut)から、切断信号として、Hレベルの電位を出力する。
次に、プリチャージ回路312において、電源投入に伴ってHレベルに遷移した電位が、制御線(/FuseStart)に供給されたときの半導体装置2aの動作について説明する。
まず、半導体装置2aの電源が投入されていない(OFF)状態では、出力線(FuseOut)と相補線(/FuseOut)との電位は、それぞれLレベルである。
半導体装置2aの電源が投入される(ON)と、電源電位線81に電源電位VDDが供給されるとともに、電源投入に伴ってHレベルに遷移する電位が制御線(/FuseStart)に供給される。また、出力線(FuseOut)と相補線(/FuseOut)との電位はLレベルであるため、pチャネルMOSトランジスタ5−3および5−4が導通状態となる。
このため、電源電位線81から、pチャネルMOSトランジスタ5−1ないし5−4を介して相補線(/FuseOut)と出力線(FuseOut)とにそれぞれ電荷が供給される。よって、相補線(/FuseOut)および出力線(FuseOut)には、同じ電位値の電位が供給され、相補線(/FuseOut)および出力線(FuseOut)は、Hレベルとなる。このため、pチャネルMOSトランジスタ5−3および5−4が非導通状態となり、かつ、nチャネルMOSトランジスタ5−7および5−8が導通状態となる。
nチャネルMOSトランジスタ5−7および5−8が導通状態となると、電荷がチャージされた出力線(FuseOut)から、nチャネルMOSトランジスタ5−10を介して接地線82に電流が流れるとともに、電荷がチャージされた相補線(/FuseOut)から、nチャネルMOSトランジスタ5−9を介して接地線82に電流が流れる。
ヒューズ4が非切断状態では、基準抵抗回路22の抵抗値が、ヒューズ抵抗回路12の抵抗値よりも大きいため、ノードNrの電位は、ノードNfの電位よりも高くなる。よって、pチャネルMOSトランジスタ5−1および5−2が非導通状態となると、出力線(FuseOut)から、nチャネルMOSトランジスタ5−10を介して接地線82に流れる電流が、相補線(/FuseOut)から、nチャネルMOSトランジスタ5−9を介して接地線82(電位VSS)に流れる電流よりも大きくなる。
このため、出力線(FuseOut)の電位が、相補線(/FuseOut)の電位よりも速く低下し、判定保持回路322は、出力線(FuseOut)から、非切断信号として、Lレベルの電位を出力する。
一方、ヒューズ4が切断状態では、基準抵抗回路22の抵抗値が、ヒューズ抵抗回路12の抵抗値よりも小さいため、ノードNrの電位は、ノードNfの電位よりも低くなる。よって、pチャネルMOSトランジスタ5−1および5−2が非導通状態となると、出力線(FuseOut)から、nチャネルMOSトランジスタ5−10を介して接地線82(電位VSS)に流れる電流が、相補線(/FuseOut)から、nチャネルMOSトランジスタ5−9を介して接地線82(電位VSS)に流れる電流よりも小さくなる。
このため、相補線(/FuseOut)の電位が、出力線(FuseOut)の電位よりも速く低下し、nチャネルMOSトランジスタ5−8が非導通状態となるとともに、pチャネルMOSトランジスタ5−6が導通状態となる。そして、pチャネルMOSトランジスタ5−4を介して出力線(FuseOut)に電流が供給され、出力線の電位はHレベルとなる。よって、判定保持回路32は、出力線(FuseOut)から、切断信号として、Hレベルの電位を出力する。
よって、半導体装置2aに電源が投入されると、出力線と相補線との電位がそれぞれHレベルに遷移して、ヒューズ判定を行うことが可能となる。
図10は、ヒューズ4が切断状態のときの半導体装置2aの動作を示すタイミングチャートである。
図10(a)は、出力線と相補線とに生じる電位の変動を示す図である。図10(b)は、電源電位線81(電位VDD)から接地線82(電位VSS)に流れる電流の総和の変動を示す図である。図10(a)および図10(b)の横軸は、共通の時間軸である。また、図10(a)に示したFuseStat信号の反転信号が、プリチャージ回路312の制御線(/FuseStart)に供給される。
まず、制御線(/FuseStart)の電位がHレベルに、出力線(FuseOut)と相補線(/FuseOut)との電位がそれぞれLレベルに設定される。また、ヒューズ4は切断状態であるため、ノードNfの電位は、ノードNrの電位よりも高くなる。
時刻t1で、制御線の電位がLレベルになると、pチャネルMOSトランジスタ5−1および5−2が導通状態となり、出力線と相補線とに電源電位VDDが供給され、出力線と相補線との電位が、それぞれHレベルになる。
時刻t2で、制御線の電位がHレベルになると、pチャネルMOSトランジスタ5−1および5−2が非導通状態となる。そして、図10(b)に示すように、出力線から、nチャネルMOSトランジスタ5−10を介して接地線82に電流が流れるとともに、相補線から、nチャネルMOSトランジスタ5−9を介して接地線82に電流が流れる。
ヒューズ4は切断状態であることから、ノードNfの電位が、ノードNrの電位よりも高いため、出力線から、nチャネルMOSトランジスタ5−10を介して接地線82に流れる電流が、相補線から、nチャネルMOSトランジスタ5−9を介して接地線82に流れる電流よりも小さくなる。よって、相補線の電位がLレベルまで低下するにつれて、出力線の電位がHレベルまで上昇する。
第2の実施形態によれば、半導体装置2aは、ヒューズ抵抗回路12では、特定の抵抗値を有する所定検出素子Rf3の一端が、第1電源電位VDDを供給する第1電源線83と接続され、所定検出素子Rf3の他端が第1所定抵抗素子Rf1の一端と接続され、第1所定抵抗素子Rf1の他端がヒューズ4の一端と接続され、ヒューズ4の他端が第2所定抵抗素子Rf2の一端と接続され、第2所定抵抗素子Rf2の他端は、第1電源電位VDDから第1電源電圧だけ小さな電位値の第1接地電位VSSを供給する第1接地線84と接続される。一方、基準抵抗回路22では、特定の抵抗値と同じ抵抗値を有する特定検出素子Rr3の一端が、第1電源電位VDDと同じ電位値の第2電源電位VDDを供給する第2電源線85と接続され、特定検出素子Rr3の他端が第1特定抵抗素子Rr1の一端と接続され、第1特定抵抗素子Rr1の他端が第2特定抵抗素子Rr2の一端と接続され、第2特定抵抗素子Rr2の他端は、第2電源電位VDDから第2電源電圧だけ小さな電位値の第2接地電位VSSを供給する第2接地線86と接続される。そして、判定保持322回路が、ヒューズ電流により所定検出素子Rf3の他端に生じるヒューズ電位と、基準電流により特定検出素子Rr3の他端に生じる基準電位と、を検出し、ヒューズ電位のレベルが、基準電位のレベルよりも大きい場合には切断信号を出力し、ヒューズ電位のレベルが、基準電位のレベルよりも小さい場合には非切断信号を出力する。
このため、判定保持回路322は、ヒューズ抵抗回路12内の所定検出抵抗素子Rf3の他端と、基準抵抗回路22内の特定検出抵抗素子Rr3の他端とにそれぞれ生じるヒューズ電位と基準電位とに基づいて、ヒューズ抵抗回路12の抵抗値と基準抵抗回路22の抵抗値とを比較することができる。
なお、第2の実施形態では、半導体装置として、半導体装置2aが有するpチャネルMOSトランジスタをnチャネルMOSトランジスタに交換し、半導体装置2aが有するnチャネルMOSトランジスタをpチャネルMOSトランジスタに交換した半導体装置2bが用いられても良い。
図11は、本発明の第2の実施形態における半導体装置2bの構成例を示す回路図である。
半導体装置2bは、ヒューズ抵抗回路13と、基準抵抗回路23と、判定回路と、を有する。判定回路は、プリチャージ回路313と、判定保持回路323と、を有する。
ヒューズ抵抗回路13は、図9に示したヒューズ抵抗回路12に対応する。
ヒューズ抵抗回路13は、その一端が第1電源線83と接続され、その他端が第1接地線84と接続される。第1電源線83は、第1電源電位VDDを、ヒューズ抵抗回路13の一端に供給し、第1接地線84は、第1電源電位VDDから第1電源電圧だけ小さな電位値の第2接地電位VSSを、ヒューズ抵抗回路13の他端に供給する。
ヒューズ抵抗回路13は、抵抗素子Rf1およびRf2とヒューズ4との加えて、特定の抵抗値を有する抵抗素子Rf3をさらに含む。抵抗素子Rf1と抵抗素子Rf2とは、所定抵抗素子の一例である。抵抗素子Rf1および抵抗素子Rf2は、それぞれ、ヒューズ4と直列に接続される。抵抗素子Rf1は、第1所定抵抗素子の一例であり、抵抗素子Rf2は、第2所定抵抗素子の一例である。抵抗素子Rf3は、所定検出素子の一例である。
本実施形態では、抵抗素子Rf2の一端が第1電源線83と接続され、抵抗素子Rf2の他端がヒューズ4の一端に接続される。抵抗素子Rf1の一端がヒューズ4の他端と接続され、抵抗素子Rf1の他端が抵抗素子Rf3の一端に接続され、抵抗素子Rf3の他端は、第1接地線84と接続される。
基準抵抗回路23は、図9に示した基準抵抗回路22に対応する。
基準抵抗回路23は、その一端が第2電源線85と接続され、その他端が第2接地線86と接続される。第2電源線85は、第1電源電位VDDと同じ電位値の第2電源電位VDDを、基準抵抗回路23の一端に供給し、第2接地線86は、第2電源電位VDDから第2電源電圧だけ小さな電位値の第2接地電位VSSを、基準抵抗回路23の他端に供給する。
基準抵抗回路23は、抵抗素子Rr1およびRr2に加えて、特定の抵抗値と同じ抵抗値を有する抵抗素子Rr3をさらに含む。抵抗素子Rr1と抵抗素子Rr2とで特定抵抗素子が構成される。抵抗素子Rr1は、第1特定抵抗素子の一例であり、抵抗素子Rr2は、第2特定抵抗素子の一例である。抵抗素子Rr3は、特定検出素子の一例である。
本実施形態では、抵抗素子Rr2の一端が第2電源線85(電位VDD)と接続され、抵抗素子Rr2の他端が抵抗素子Rr1の一端に接続され、抵抗素子Rr1の他端が抵抗素子Rr3の一端と接続され、抵抗素子Rr3の他端は第2接地線86(電位VSS)と接続される。
プリチャージ回路313は、図9に示したプリチャージ回路312に対応する。プリチャージ回路313は、nチャネルMOSトランジスタ8−1および8−2を有する。
判定保持回路323は、図9に示した判定保持回路322に対応する。
判定保持回路323は、ヒューズ抵抗回路13の抵抗値に応じたヒューズ電流によって抵抗素子Rf3の一端に生じるヒューズ電位と、基準抵抗回路23の抵抗値に応じた基準電流によって抵抗素子Rr3の一端に生じる基準電位と、を検出する。本実施形態では、ヒューズ電位が、ノードNfに生じる電位であり、基準電位が、ノードNrに生じる電位である。
判定保持回路322は、ヒューズ電位のレベルが、基準電位のレベルよりも小さい場合には切断信号を出力し、ヒューズ電位のレベルが、基準電位のレベルよりも大きい場合には非切断信号を出力する。
本実施形態では、判定保持回路323は、nチャネルMOSトランジスタ8−3〜8−6と、pチャネルMOSトランジスタ8−7〜8−10と、を有する。
半導体装置2bにおいて、接地線82(電位VSS)は、nチャネルMOSトランジスタ8−1〜8−4のそれぞれのソース端子に接続される。プリチャージ回路313の制御線(FuseStart)は、pチャネルMOSトランジスタ8−1および8−2のそれぞれのゲート端子に接続される。
判定保持回路323の出力線(FuseOut)は、nチャネルMOSトランジスタ8−2のドレイン端子と、pチャネルMOSトランジスタ8−7のゲート端子と、nチャネルMOSトランジスタ8−5のゲート端子と、pチャネルMOSトランジスタ8−8のドレイン端子と、nチャネルMOSトランジスタ8−6のドレイン端子と、に接続される。
さらに、nチャネルMOSトランジスタ8−6のソース端子が、nチャネルMOSトランジスタ8−4のドレイン端子に接続される。また、pチャネルMOSトランジスタ8−8のソース端子は、pチャネルMOSトランジスタ8−10のドレイン端子に接続される。
判定保持回路323の相補線(/FuseOut)は、nチャネルMOSトランジスタ8−1のドレイン端子と、pチャネルMOSトランジスタ8−8のゲート端子と、nチャネルMOSトランジスタ8−6のゲート端子と、pチャネルMOSトランジスタ8−7のドレイン端子と、nチャネルMOSトランジスタ8−5のドレイン端子と、に接続される。
さらに、nチャネルMOSトランジスタ8−5のソース端子が、nチャネルMOSトランジスタ8−3のドレイン端子に接続される。また、pチャネルMOSトランジスタ8−7のソース端子は、pチャネルMOSトランジスタ8−9のドレイン端子に接続される。
電源電位線81(電位VDD)は、pチャネルMOSトランジスタ8−9および8−10のそれぞれのソース端子に接続される。
ノードNfは、nチャネルMOSトランジスタ8−3のゲート端子と、pチャネルMOSトランジスタ8−9のゲート端子と、抵抗素子Rf1の他端と、抵抗素子Rf3の一端と、に接続される。ノードNrは、nチャネルMOSトランジスタ8−4のゲート端子と、pチャネルMOSトランジスタ8−10のゲート端子と、抵抗素子Rr1の他端と、抵抗素子Rr3の一端と、に接続される。
すなわち、第2の実施形態における半導体装置の変形例は、第1電源電位VDDを供給する第1電源線83と、第1電源電位VDDから第1電源電圧だけ小さな電位値の第1接地電位VSSを供給する第1接地線84と、第1電源電位VDDと同じ電位値の第2電源電位VDDを供給する第2電源線85と、第2電源電位VDDから第2電源電圧だけ小さな電位値の第2接地電位VSSを供給する第2接地線86と、をさらに含み、ヒューズ抵抗回路13は、特定の抵抗値を有する所定検出素子Rf3をさらに含み、所定抵抗素子は、第1所定抵抗素子Rf1と第2所定抵抗素子Rf2とを有し、第2所定抵抗素子Rf2の一端が第1電源線83(電位VDD)と接続され、第2所定抵抗素子Rf2の他端がヒューズ4の一端に接続され、ヒューズ4の他端が第1所定抵抗素子Rf1の一端と接続され、第1所定抵抗素子Rf1の他端が所定検出素子Rf3の一端に接続され、所定検出素子Rf3の他端は、第1接地線84(電位VSS)と接続される。また、基準抵抗回路23は、特定の抵抗値と同じ抵抗値を有する特定検出素子Rr3をさらに含み、特定抵抗素子は、第1特定抵抗素子Rr1と第2特定抵抗素子Rr2とを有し、第2特定抵抗素子Rr2の一端が第2電源線85(電位VDD)と接続され、第2特定抵抗素子Rr2の他端が第1特定抵抗素子Rr1の一端に接続され、第1特定抵抗素子Rr1の他端が特定検出素子Rr3の一端と接続され、特定検出素子Rr3の他端は第2接地線86(電位VSS)と接続される。そして、判定回路としての判定保持回路323は、ヒューズ電流により所定検出素子Rf3の一端に生じるヒューズ電位と、基準電流により特定検出素子Rr3の一端に生じる基準電位と、を検出し、ヒューズ電位のレベルが、基準電位のレベルよりも小さい場合には切断信号を出力し、ヒューズ電位のレベルが、基準電位のレベルよりも大きい場合には非切断信号を出力する。
第2の実施形態の半導体装置2bによれば、ヒューズ抵抗回路13では、第2所定抵抗素子Rf2の一端が、第1電源電位VDDを供給する第1電源線83と接続され、第2所定抵抗素子Rf2の他端がヒューズ4の一端に接続され、ヒューズ4の他端が第1所定抵抗素子Rf1の一端と接続され、第1所定抵抗素子Rf1の他端が、特定の抵抗値を有する所定検出素子Rf3の一端に接続され、所定検出素子Rf3の他端が、第1電源電位VDDから第1電源電圧だけ小さな電位値の第1接地電位VSSを供給する第1接地線84と接続される。一方、基準抵抗回路23では、第2特定抵抗素子Rr2の一端が、第1電源電位VDDと同じ電位値の第2電源電位VDDを供給する第2電源線85と接続され、第2特定抵抗素子Rr2の他端が第1特定抵抗素子Rr1の一端に接続され、特定の抵抗値と同じ抵抗値を有する特定検出素子Rr3の一端が第1特定抵抗素子Rr1の他端と接続され、特定検出素子Rr3の他端が、第2電源電位VDDから第2電源電圧だけ小さな電位値の第2接地電位VSSを供給す第2接地線86と接続される。そして、保持判定回路323が、ヒューズ電流により所定検出素子Rf3の一端に生じるヒューズ電位と、基準電流により特定検出素子Rr3の一端に生じる基準電位と、を検出し、ヒューズ電位のレベルが、基準電位のレベルよりも小さい場合には切断信号を出力し、ヒューズ電位のレベルが、基準電位のレベルよりも大きい場合には非切断信号を出力する。
このため、判定保持回路323は、ヒューズ抵抗回路13内の所定検出抵抗素子Rf3の一端と、基準抵抗回路23内の特定検出抵抗素子Rr3の一端とにそれぞれ生じるヒューズ電位と基準電位とに基づいて、ヒューズ抵抗回路13の抵抗値と基準抵抗回路23の抵抗値とを比較することができる。
なお、各実施形態における半導体装置は、特に、特性トリミング用ヒューズの判定に適用することができる。
以上説明した実施形態において、図示した構成は単なる一例であって、本発明はその構成に限定されるものではない。
1a、1A、1b、1B、2a、2b 半導体装置
3−1〜4、5−1〜6、7−5〜8、8−7〜10 pチャネルMOSトランジスタ
3−5〜8、5−7〜10、7−1〜4、8−1〜6 nチャネルMOSトランジスタ
4 ヒューズ
4−1、4−3 出力インバータ
4−2、4−4 インバータ
10〜13 ヒューズ抵抗回路
20〜23 基準抵抗回路
30 判定回路
310〜313 プリチャージ回路
320 レベル判定回路
330、331 電源制御回路
340 ラッチ回路
32、32a、321、321a、322、323 判定保持回路
Rr1〜Rr3、Rf1〜Rf3 抵抗素子
3−1〜4、5−1〜6、7−5〜8、8−7〜10 pチャネルMOSトランジスタ
3−5〜8、5−7〜10、7−1〜4、8−1〜6 nチャネルMOSトランジスタ
4 ヒューズ
4−1、4−3 出力インバータ
4−2、4−4 インバータ
10〜13 ヒューズ抵抗回路
20〜23 基準抵抗回路
30 判定回路
310〜313 プリチャージ回路
320 レベル判定回路
330、331 電源制御回路
340 ラッチ回路
32、32a、321、321a、322、323 判定保持回路
Rr1〜Rr3、Rf1〜Rf3 抵抗素子
Claims (5)
- ヒューズの切断または非切断の判定を行う半導体装置であって、
前記ヒューズと当該ヒューズに直列に接続された所定抵抗素子とを含むヒューズ抵抗回路と、
前記ヒューズが非切断状態であるときの前記ヒューズ抵抗回路の抵抗値よりも所定の抵抗値だけ大きな抵抗値を有する特定抵抗素子を含む基準抵抗回路と、
前記ヒューズ抵抗回路の抵抗値が前記基準抵抗回路の抵抗値よりも大きい場合には前記切断を示す切断信号を出力し、前記ヒューズ抵抗回路の抵抗値が前記基準抵抗回路の抵抗値よりも小さい場合には前記非切断を示す非切断信号を出力する判定回路と、を含む半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置において、
前記ヒューズ抵抗回路は、第1電源電圧を受けると、当該ヒューズ抵抗回路の抵抗値に応じたヒューズ電流を出力し、
前記基準抵抗回路は、前記第1電源電圧と同じ電圧値の第2電源電圧を受けると、当該基準抵抗回路の抵抗値に応じた基準電流を出力し、
前記判定回路は、前記ヒューズ電流のレベルが、前記基準電流のレベルよりも小さい場合には前記切断信号を出力し、前記ヒューズ電流のレベルが、前記基準電流のレベルよりも大きい場合には前記非切断信号を出力する、半導体装置。 - 請求項2に記載の半導体装置において、
前記判定回路は、第1端子と第2端子とを有する判定保持回路と、制御回路と、を含み、
前記制御回路は、前記第1電源電圧と前記第2電源電圧とを受けると、当該第1電源電圧を前記第1端子に、当該第2電源電圧を前記第2端子に供給し、その後、前記判定の開始を指示する指示信号を受け付けると、前記第1端子に保持された第1電源電圧を前記ヒューズ抵抗回路に供給し、かつ、前記第2端子に保持された第2電源電圧を前記基準抵抗回路に供給し、
前記判定保持回路は、前記ヒューズ電流のレベルが、前記基準電流のレベルよりも小さい場合には前記切断信号を出力し、前記ヒューズ電流のレベルが、前記基準電流のレベルよりも大きい場合には前記非切断信号を出力する、半導体装置。 - 請求項2に記載の半導体装置において、
第1電源電位を供給する第1電源線と、
前記第1電源電位から前記第1電源電圧だけ小さな電位値の第1接地電位を供給する第1接地線と、
前記第1電源電位と同じ電位値の第2電源電位を供給する第2電源線と、
前記第2電源電位から前記第2電源電圧だけ小さな電位値の第2接地電位を供給する第2接地線と、をさらに含み、
前記ヒューズ抵抗回路は、特定の抵抗値を有する所定検出素子をさらに含み、
前記所定抵抗素子は、第1所定抵抗素子と第2所定抵抗素子とを有し、
前記所定検出素子の一端が前記第1電源線と接続され、当該所定検出素子の他端が前記第1所定抵抗素子の一端と接続され、
前記ヒューズの一端が前記第1所定抵抗素子の他端と接続され、当該ヒューズの他端が前記第2所定抵抗素子の一端と接続され、
前記第2所定抵抗素子の他端は、前記第1接地線と接続され、
前記基準抵抗回路は、前記特定の抵抗値と同じ抵抗値を有する特定検出素子をさらに含み、
前記特定抵抗素子は、第1特定抵抗素子と第2特定抵抗素子とを有し、
前記特定検出素子の一端が前記第2電源線と接続され、当該特定検出素子の他端が前記第1特定抵抗素子の一端と接続され、
前記第2特定抵抗素子の一端が前記第1特定抵抗素子の他端と接続され、当該第2特定抵抗素子の他端が前記第2接地線と接続され、
前記判定回路は、前記ヒューズ電流により前記所定検出素子の他端に生じるヒューズ電位と、前記基準電流により前記特定検出素子の他端に生じる基準電位と、を検出し、当該ヒューズ電位のレベルが、前記基準電位のレベルよりも大きい場合には前記切断信号を出力し、前記ヒューズ電位のレベルが、前記基準電位のレベルよりも小さい場合には前記非切断信号を出力する、半導体装置。 - 請求項2に記載の半導体装置において、
第1電源電位を供給する第1電源線と、
前記第1電源電位から前記第1電源電圧だけ小さな電位値の第1接地電位を供給する第1接地線と、
前記第1電源電位と同じ電位値の第2電源電位を供給する第2電源線と、
前記第2電源電位から前記第2電源電圧だけ小さな電位値の第2接地電位を供給する第2接地線と、をさらに含み、
前記ヒューズ抵抗回路は、特定の抵抗値を有する所定検出素子をさらに含み、
前記所定抵抗素子は、第1所定抵抗素子と第2所定抵抗素子とを有し、
前記第2所定抵抗素子の一端が前記第1電源線と接続され、当該第2所定抵抗素子の他端が前記ヒューズの一端に接続され、
前記第1所定抵抗素子の一端が前記ヒューズの他端と接続され、当該第1所定抵抗素子の他端が前記所定検出素子の一端に接続され、
前記所定検出素子の他端は、前記第1接地線と接続され、
前記基準抵抗回路は、前記特定の抵抗値と同じ抵抗値を有する特定検出素子をさらに含み、
前記特定抵抗素子は、第1特定抵抗素子と第2特定抵抗素子とを有し、
前記第2特定抵抗素子の一端が前記第2電源線と接続され、当該第2特定抵抗素子の他端が前記第1特定抵抗素子の一端に接続され、
前記特定検出素子の一端が前記第1特定抵抗素子の他端と接続され、当該特定検出素子の他端が前記第2接地線と接続され、
前記判定回路は、前記ヒューズ電流により前記所定検出素子の一端に生じるヒューズ電位と、前記基準電流により前記特定検出素子の一端に生じる基準電位と、を検出し、当該ヒューズ電位のレベルが、前記基準電位のレベルよりも小さい場合には前記切断信号を出力し、前記ヒューズ電位のレベルが、前記基準電位のレベルよりも大きい場合には前記非切断信号を出力する、半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010199817A JP2012059815A (ja) | 2010-09-07 | 2010-09-07 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010199817A JP2012059815A (ja) | 2010-09-07 | 2010-09-07 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012059815A true JP2012059815A (ja) | 2012-03-22 |
Family
ID=46056595
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010199817A Pending JP2012059815A (ja) | 2010-09-07 | 2010-09-07 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2012059815A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20130204003A1 (en) * | 2011-08-18 | 2013-08-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Carbazole compound, light-emitting element, light-emitting device, electronic device, and lighting device |
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WO2022019565A1 (ko) * | 2020-07-20 | 2022-01-27 | 주식회사 엘지에너지솔루션 | 전류 측정 장치 |
-
2010
- 2010-09-07 JP JP2010199817A patent/JP2012059815A/ja active Pending
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