JP2011530819A - 放射源、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図5
Description
[0001] 本出願は、2008年8月14日に出願された米国仮出願第61/136,144号の利益を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
ここで、λは、使用される放射の波長であり、NAPSは、パターンを印刷するために使用される投影システムの開口数である。k1は、レイリー定数とも呼ばれるプロセス依存調整係数であり、CDは、印刷されたフィーチャのフィーチャサイズ(またはクリティカルディメンジョン)である。式(1)から、フィーチャの最小印刷可能サイズの縮小は、3つの方法、すなわち露光波長λを短くすること、開口数NAPSを大きくすること、またはk1の値を小さくすること、によって達成可能であるということになる。
Claims (15)
- 極端紫外線を生成する放射源を含み、
前記放射源は、
プラズマが生成されるチャンバと、
前記プラズマによって放出された放射を反射する集光ミラーと、
デブリ軽減システムと
を含み、
前記デブリ軽減システムは、
前記プラズマによって生成されたデブリを熱化するために選択される第1ガス流を前記プラズマに向かって供給するガス供給システムと、
前記集光ミラーに近接する位置に配置される複数のガスマニホルドであって、前記ガスマニホルドは前記チャンバ内に第2ガス流を供給するように構成され、前記第2ガス流は、熱化デブリが前記集光ミラー上に堆積するのを防止するように前記プラズマに向かって誘導される複数のガスマニホルドと、
を含むリソグラフィ装置。 - 前記デブリはペクレ効果を用いて抑制される、請求項1に記載の装置。
- 前記放射源は、レーザ生成プラズマ源または放電生成プラズマ源である、請求項1に記載の装置。
- 前記チャンバは水素を収容する、請求項1に記載の装置。
- 水素の圧力は約100Paである、請求項4に記載の装置。
- 前記第2ガス流のガスは水素である、請求項1に記載の装置。
- 前記ガスマニホルドは、複数のガスアウトレットを含む、請求項1に記載の装置。
- 前記第1ガス流のガスはアルゴンである、請求項1に記載の装置。
- 前記第1ガス流のガスは、前記第2ガス流のガスより低い圧力を有する、請求項1に記載の装置。
- 前記第1ガス流は、前記プラズマの周囲にガスカーテンを形成する、請求項1に記載の装置。
- 前記第1ガス流は超音波である、請求項1に記載の装置。
- 前記ガス供給システムは、前記集光ミラーに近接して配置される1つ以上のアウトレットを含む、請求項1に記載の装置。
- 極端紫外線を生成する放射源であって、
プラズマが生成されるチャンバと、
前記プラズマによって放出された放射を反射する集光ミラーと、
デブリ軽減システムと、
を含み、
前記デブリ軽減システムは、
前記プラズマによって生成されたデブリを熱化するために選択される第1ガス流を前記プラズマに向かって供給するガス供給システムと、
前記集光ミラーに近接する位置に配置される複数のガスマニホルドであって、前記ガスマニホルドは前記チャンバ内に第2ガス流を供給するように構成され、前記第2ガス流は、熱化デブリが前記集光ミラー上に堆積するのを防止するように前記プラズマに向かって誘導される複数のガスマニホルドと、
を含む放射源。 - リソグラフィ装置において、プラズマによって生成されたデブリがプラズマ放射源の集光ミラー上に堆積するのを防止する方法であって、
前記プラズマによって生成されたデブリを熱化する第1ガス流を前記プラズマに向かって供給することと、
前記プラズマによって生成された熱化デブリが前記集光ミラー上に堆積するのを防止するように第2ガス流を前記プラズマに向かって供給することであって、前記第2ガス流は前記集光ミラーに近接して配置された複数のガスマニホルドで供給されることと、
含む、方法。 - 極端紫外線を放出するプラズマを生成することと、
集光ミラーで前記極端紫外線を集光することと、
前記極端紫外線を放射ビームに変換することと、
前記放射ビームにパターン付けをすることと、
前記放射ビームを基板のターゲット部分上に投影することと、
前記プラズマによって生成されたデブリが前記集光ミラー上に堆積するのを防止することと、
を含み、
前記防止することは、
前記プラズマによって生成されたデブリを熱化する第1ガス流を前記プラズマに向かって供給することと、
前記プラズマによって生成された熱化デブリが前記集光ミラー上に堆積するのを防止するように第2ガス流を前記プラズマに向かって供給することであって、前記第2ガス流は前記集光ミラーに近接して配置された複数のガスマニホルドで供給されることと、
を含む、デバイス製造方法。
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